CN101535428A - 含有防雾组分的组合物 - Google Patents

含有防雾组分的组合物 Download PDF

Info

Publication number
CN101535428A
CN101535428A CNA200780041017XA CN200780041017A CN101535428A CN 101535428 A CN101535428 A CN 101535428A CN A200780041017X A CNA200780041017X A CN A200780041017XA CN 200780041017 A CN200780041017 A CN 200780041017A CN 101535428 A CN101535428 A CN 101535428A
Authority
CN
China
Prior art keywords
component
condition
per molecule
mist
functional group
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA200780041017XA
Other languages
English (en)
Other versions
CN101535428B (zh
Inventor
戴维·S·施利策
约翰·P·贝尼维西厄斯
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
General Electric Co
Original Assignee
General Electric Co
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by General Electric Co filed Critical General Electric Co
Publication of CN101535428A publication Critical patent/CN101535428A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101535428B publication Critical patent/CN101535428B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Classifications

    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
    • C09D183/00—Coating compositions based on macromolecular compounds obtained by reactions forming in the main chain of the macromolecule a linkage containing silicon, with or without sulfur, nitrogen, oxygen, or carbon only; Coating compositions based on derivatives of such polymers
    • C09D183/04—Polysiloxanes
    • Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y10—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC
    • Y10T—TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER US CLASSIFICATION
    • Y10T428/00—Stock material or miscellaneous articles
    • Y10T428/31504—Composite [nonstructural laminate]
    • Y10T428/31652—Of asbestos
    • Y10T428/31663—As siloxane, silicone or silane

Abstract

本发明涉及涂料制剂，所述涂料制剂包含(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，以及(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团，条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量等于或低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量，以及(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。本发明还涉及用上述涂料制剂涂布基底的方法，以及通过使所涂布的基底进行一次或多次固化步骤获得的硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜。

Description

含有防雾组分的组合物
技术领域
本发明涉及含有抑雾剂组合物的组合物(compositions containing mistsuppressant compositions)以及它们在期望降低成雾(misting)或气雾化(aerosoling)水平的涂布方法中的具体用途。
背景技术
众所周知的是，在对硅氧烷基纸张剥离涂布制剂(silicone-based paperrelease coating formulations)进行足够高的旋转或平移(translational)运动的操作中，例如对挠性载体(flexible support)和纸张进行高速辊涂(rollcoating)的操作中，成雾和/或气雾化可变成显著的问题。当以接近1000ft/min的辊涂速度应用这些剥离涂布时，这些问题变得特别显著，而在纸张涂层工业(paper coating industry)中使用超过1500ft/min，例如2000-3000ft/min的速度是一种趋势。除了对制造业操作产生有害的影响之外，这些雾和气雾化粒子对在涂布设备附近操作或工作的人员带来了工业卫生和安全性问题。
通常称为“抑雾剂”的专门化学制剂通常用于减少在所述操作中的雾形成。例如，美国专利6,805,914和6,489,407(以下简称为专利′914和′407)披露了硅氧烷抑雾剂组合物，所述组合物是由过量的至少一种有机氢化硅氧烷(organohydrogensilicone)(组分(a))与至少一种化合物(组分(b))反应而获得的，至少一种有机氢化硅氧烷(组分(a))在每分子中含有至少三个硅键合的氢基团(silicon-bonded hydrogen group)，所述至少一种化合物(组分(b))在每分子中含有至少两个烯基，其中组分(a)中硅键合的氢原子数目与组分(b)中烯基数目的比例为至少4.6:1，以及更优选为4.6:1至500:1。
美国专利6,586,535基本上披露了专利′914和′407的相反方面，即硅氧烷抑雾剂组合物是从至少一种含有至少两个硅键合的氢基的有机氢化硅化合物与过量的至少一种含有至少三个与硅键合的烯基的有机烯基硅氧烷化合物反应得到的，其中组分(a)中硅键合的氢原子数目与组分(b)中烯基数目的比例小于或等于1:4.6，以及优选为1:4.6至1:500。
美国专利6,764,717和6,956,096披露了从两步方法得到的硅基抑雾剂组合物(silicone-based mist suppressant compositions)，所述方法包括：(a)使含有至少三个脂肪族双键的烃与化学计量过量的含有末端硅键合的氢原子(terminal silicon-bonded hydrogen atoms)的有机硅氧烷化合物反应，其中硅键合的氢与脂肪族双键的比例为1.3至10，以及优选为1.5至5；以及(b)使形成的含有硅键合的氢原子的烃-硅氧烷共聚物与化学计量过量的α，ω-二烯基硅氧烷聚合物反应，其中α，ω-二烯基硅氧烷聚合物中脂肪族双键与在第一步中获得的烃-硅氧烷共聚物中硅键合的氢的比例为1.2至10，优选为1.5至5.0。
美国专利6,887,949、6,774,201和6,727,338披露了作为防雾添加剂(anti-mist additive)的硅氧烷聚合物，其中在所述硅氧烷聚合物的合成中包括不饱和的烃化合物。
美国专利5,625,023披露了一种抑雾剂组合物，其是通过使有机硅化合物、含有氧化烯的化合物(oxyalkylene-containing compound)和催化剂反应而得到的。
美国专利5,399,614披露了含有烯基封端的聚二有机硅氧烷(alkenyl-terminated polydiorganosiloxane)和硅氢化物(silylhydride)封端的有机氢化聚硅氧烷(silylhydride-terminated organohydrogenpolysiloxane)的粘合剂组合物。
然而，仍然需要涂布组合物(coating composition)，特别是纸剥离组合物(paper release composition)，其在产生雾的方法，特别是高速涂布方法中使用时，具有降低的成雾水平，同时提供了其它益处，例如节约成本、易于生产和易于使用。
发明内容
首先通过提供下述组合物(即涂料制剂)实现了这些和其它目的，所述组合物包含：
(i)基于硅氧烷的涂布组分(silicone-based coating component)，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾(susceptible to misting)；以及
(ii)防雾量(anti-misting amount)的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含：
(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件(hydrosilylation condition)下与含硅氢基的化合物(silylhydride-containingcompound)进行硅氢化反应(hydrosilylation reaction)；以及
(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团(silylhydride functional group)；
条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)当组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，以及组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团时，则组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量等于或低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；以及(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
在一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(6-s):1或1:(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数。
在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):1或1:(1+s)的范围内，其中s表示大于0并且小于3.6的数。
在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.25-s):1或1:(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于3.25的数，以及t表示大于0并且等于或小于3.25的数。
在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约4.5:1至约2:1的范围内。
在具体的实施方案中，组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中具有至少四个，或至少六个，或至少八个，或更高数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中两个或三个官能团，且前者的摩尔量低于后者的摩尔量。
本发明还涉及涂布方法，所述方法包括在形成雾的条件下将上文所述的涂料制剂涂布至基底。当经受这些形成雾的条件时，所述涂料制剂与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
本发明还涉及通过对如上所述的用涂料制剂涂布的基底进行一次或多次固化步骤(curing steps)生产的硬化的硅氧烷基涂层或薄膜(hardenedsilicone-based coating or film)。
本发明有利地提供了含有新颖的支化聚硅氧烷抑雾剂的纸张剥离或防粘(paper release)、粘合剂和相关的涂布组合物。含有这些抑雾剂的组合物能够显著降低高速涂布操作过程中的成雾，同时提供了额外的益处，即经济、容易使用和制造。
具体实施方式
本发明的组合物最少含有两种组分：(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分(防雾组分)。
基于硅氧烷的涂布组分必须具有如此的可流动稠度(flowableconsistency)，从而可将其通过例如辊涂、喷涂(spray)等方式涂布到基底上作为涂层。例如，所述基于硅氧烷的涂布组分可以是未固化的或部分固化的液体，其具有足够低的粘度以便容易涂布到基底上作为涂层。通常地，所述基于硅氧烷的涂布组分的粘度低于1,500厘泊(cPs)，更通常地在50至1,000cPs的范围内，甚至更通常地在50至500cPs的范围内，其中1厘泊(cPs)＝1毫帕斯卡-秒(mPa.s)。
所述基于硅氧烷的涂布组分可涉及基于硅氧烷的涂料(silicone-basedcoating)用作例如剥离剂(release agent)、润滑剂、保护基、粘合剂等等的任何应用。一类特别合适的基于硅氧烷的涂布组分包括公知类型的压敏粘合剂(pressure-sensitive adhesive)，所述压敏粘合剂具有以下的性质：与表面粘附并且易于从表面除去，同时不将大于痕量的粘合剂转移至基底表面。
例如，所述基于硅氧烷的涂布组分可以是本领域已知的任何可固化硅氧烷涂料或纸张剥离组合物(paper release composition)。可固化硅氧烷涂布组合物的类型的一些实例是可通过硅氢化反应交联、过氧化物固化、光固化(例如，紫外光固化)和电子束固化方法可固化的组合物。
在一个实施方案中，所述基于硅氧烷的涂布组分包括能够在硅氢化反应条件下(例如，在下文进一步讨论的硅氢化催化剂存在下)进行交联的组分。能够在硅氢化反应条件下进行交联的组分包括(i)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，以及(ii)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团。组分(i)的不饱和烃基的一些实例包括乙烯基、烯丙基、3-丁烯基、4-戊烯基、5-己烯基、6-庚烯基、7-辛烯基、8-壬烯基、9-癸烯基、10-十一碳烯基、4，7-辛二烯基、5，8-壬二烯基等等。
组分(i)的不饱和有机硅化合物和组分(ii)的含硅氢基的化合物可以独立为，例如低分子量硅烷、二硅烷(disilane)、三硅烷(trisilane)、硅氧烷、二硅氧烷(disiloxane)、三硅氧烷(trisiloxane)、环三硅氧烷(cyclotrisiloxane)或环四硅氧烷(cyclotetrasiloxane)化合物等等，其具有：至少两个不饱和烃基(就组分(i)而言)，或至少两个硅氢基官能团(就组分(ii)而言)。在本说明书中稍后给出的实例对于用于防雾组分的每种这些类型的组合物而言也同样适用。
可供选择地，组分(i)和/或(ii)可以是具有M、D、T和Q基团的任何两种或多种组合的任何线性、支化和/或交联聚合物，其中，如本领域已知的是，M基团表示式R3SiO1/2的单官能团，D基团表示式R2SiO2/2的双官能团，T基团表示式RSiO3/2的三官能团，以及Q基团表示式SiO4/2的四官能团，其中R基团可以是任何合适基团，包括氢、烃基(例如，C1-C6)、卤素、烷氧基和/或氨基，以及其中上述硅氧烷中的至少两个R基团为：至少两个不饱和烃基(就组分(i)而言)，或至少两个硅氢基官能团(就组分(ii)而言)。适用于基于硅氧烷的涂布组分的聚硅氧烷的类型的一些实例包括MDM、TD、MT、MDT、MDTQ、MQ、MDQ和MTQ类型的聚硅氧烷，及其组合，所述实例具有：至少两个不饱和烃基(就组分(i)而言)，或至少两个硅氢基官能团(就组分(ii)而言)。
例如，所述基于硅氧烷的涂布组分可为标准的硅氧烷纸张剥离制剂，其含有按重量计90-99％的乙烯化聚二甲基硅氧烷聚合物(vinylatedpolydimethylsiloxane polymer)和按重量计1-10％的硅氢基官能化的基于硅氧烷的化合物或聚合物，基于所述基于硅氧烷的涂布组分的总重量，其中每种含乙烯基的组分和含硅氢基的组分通常具有约20-500cPs的粘度。
通常地，为了防止催化剂在加工过程中固化或延展制剂在贮藏过程中的浴寿命(bath life)或稳定性，在涂料制剂中包括催化剂抑制剂(catalystinhibitor)。催化剂抑制剂可以是本领域已知的任何化学品，所述化学品可抑制催化剂在涂布过程中固化同时在期望固化时不会阻止固化。例如，催化剂抑制剂可以是下述化学品，所述化学品可以在应用涂料制剂过程中在室温充分抑制催化剂固化，但是当期望固化时在经受升高的温度时丧失其抑制作用。在所述组合物中包括的抑制剂的量通常为组合物的约5至约15重量％。催化剂抑制剂的一些实例包括马来酸盐或酯、富马酸盐或酯、不饱和酰胺、炔属化合物(acetylenic compound)、不饱和异氰酸酯、不饱和烃二酯、氢过氧化物(hydroperoxide)、腈和二氮丙啶(diaziridines)。
防雾组分(即，支化聚硅氧烷组分)以防雾量(anti-misting amount)包括在本发明的组合物(即，涂料制剂)中。防雾量(雾抑制量)是当本发明的组合物在通常引起组合物成雾或气雾化的方法中使用时，引起成雾或气雾化减少的量。通常地，在涂料制剂包括的防雾组分的量占涂料制剂的约0.1至约15wt％，以及更通常地占涂料制剂的约0.5至约5wt％。
所述防雾组分是在硅氢化反应条件下，对一种或多种有机硅化合物(所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团)即组分(a)，与一种或多种含硅氢基的化合物(所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团)即组分(b)共聚而形成的。
组分(a)的有机硅化合物包括任何低分子量化合物，以及较高分子量低聚物和共聚物，所述有机硅化合物含有一个或多个硅原子并具有至少两个不饱和烃官能团。组分(a)的有机硅化合物的类型的一些实例包括有机硅烷(即，含有硅-碳键而不含硅-氧键)、硅氧烷和硅氮烷(silazane)，这些物质含有至少两个不饱和烃基。
组分(a)的有机硅化合物中的不饱和烃基包括能够在硅氢化条件下与硅烷基反应、且具有至少一个碳-碳双键或三键的任何直链、支链或环状烃基。更典型地，所述不饱和烃基含有二至六个碳原子。不饱和烃基的一些实例包括取代的或未取代的乙烯基、烯丙基、丁烯基、丁二烯基、4-戊烯基、2，4-戊二烯基、5-己烯基、环丁烯基、环己烯基、丙烯酰基(acryloyl)和甲基丙烯酰基(methacryloyl)。
组分(a)的低分子量有机硅烷化合物的一些实例包括二乙烯基二甲基硅烷、二乙烯基二氯硅烷、二乙烯基甲基丙基硅烷、二乙烯基二丙基硅烷、二乙烯基二异丙基硅烷、二乙烯基二苯基硅烷、二乙烯基苯基丙基硅烷、三乙烯基甲基硅烷、三乙烯基乙氧基硅烷、三乙烯基氯硅烷、三乙烯基苯基硅烷、二烯丙基二甲基硅烷、二烯丙基二氯硅烷、烯丙基乙烯基二甲基硅烷、三乙烯基苯基硅烷、1，3-二乙烯基四甲基二甲硅烷基甲烷、1，4-二乙烯基四甲基二甲硅烷基乙烷、1，1-二乙烯基四甲基二甲硅烷基乙烷、1，1，4-三乙烯基三甲基二甲硅烷基乙烷、1，1，1-三乙烯基三甲基二甲硅烷基乙烷、1，1，4，4-四乙烯基二甲基二甲硅烷基乙烷、1，1，1，4-四乙烯基二甲基二甲硅烷基乙烷、1，1，1，4，4，4-六乙烯基二甲硅烷基乙烷、1，3-二乙烯基四苯基二甲硅烷基甲烷、1，4-二乙烯基四苯基二甲硅烷基乙烷、1，1-二乙烯基四苯基二甲硅烷基乙烷、1，1，4-三乙烯基三苯基二甲硅烷基乙烷、1，1，1-三乙烯基三苯基二甲硅烷基乙烷、1，1，4，4-四乙烯基二苯基二甲硅烷基乙烷和1，1，1，4-四乙烯基二苯基二甲硅烷基乙烷。
组分(a)的低分子量硅氧烷化合物的一些实例包括二乙烯基二甲氧基硅烷、二乙烯基二乙氧基硅烷、三乙烯基乙氧基硅烷、二烯丙基二乙氧基硅烷、三烯丙基乙氧基硅烷、乙烯基二甲基甲硅烷氧基乙烯基二甲基甲醇(CH2＝CH2-C(CH3)2-O-Si(CH3)2(CH2＝CH2)、1，3-二乙烯基四甲基二硅氧烷、1，3-二乙烯基四乙基二硅氧烷、1，1-二乙烯基四甲基二硅氧烷、1，1，3-三乙烯基三甲基二硅氧烷、1，1，1-三乙烯基三甲基二硅氧烷、1，1，3，3-四乙烯基二甲基二硅氧烷、1，1，1，3-四乙烯基二甲基二硅氧烷、1，3-二乙烯基四苯基二硅氧烷、1，1-二乙烯基四苯基二硅氧烷、1，1，3-三乙烯基三苯基二硅氧烷、1，1，1-三乙烯基三苯基二硅氧烷、1，1，3，3-四乙烯基二苯基二硅氧烷、1，1，1，3-四乙烯基二苯基二硅氧烷、六乙烯基二硅氧烷、三(乙烯基二甲基甲硅烷氧基)甲基硅烷、三(乙烯基二甲基甲硅烷氧基)甲氧基硅烷、三(乙烯基二甲基甲硅烷氧基)苯基硅烷和四(乙烯基二甲基甲硅烷氧基)硅烷。
组分(a)的线性硅氧烷低聚物的一些实例包括1，5-二乙烯基六甲基三硅氧烷、1，3-二乙烯基六甲基三硅氧烷、1，1-二乙烯基六甲基三硅氧烷、3，3-二乙烯基六甲基三硅氧烷、1，5-二乙烯基六苯基三硅氧烷、1，3-二乙烯基六苯基三硅氧烷、1，1-二乙烯基六苯基三硅氧烷、3，3-二乙烯基六苯基三硅氧烷、1，1，1-三乙烯基五甲基三硅氧烷、1，3，5-三乙烯基五甲基三硅氧烷、1，1，1-三乙烯基五苯基三硅氧烷、1，3，5-三乙烯基五苯基三硅氧烷、1，1，3，3-四乙烯基四甲基三硅氧烷、1，1，5，5-四乙烯基四甲基三硅氧烷、1，1，3，3-四乙烯基四苯基三硅氧烷、1，1，5，5-四乙烯基四苯基三硅氧烷、1，1，1，3，3-五乙烯基三甲基三硅氧烷、1，1，3，5，5-五乙烯基三甲基三硅氧烷、1，1，3，3，5，5-六乙烯基二甲基三硅氧烷、1，1，1，5，5，5-六乙烯基二甲基三硅氧烷、1，1，1，5，5，5-六乙烯基二苯基三硅氧烷、1，1，1，5，5，5-六乙烯基二甲氧基三硅氧烷、1，7-二乙烯基八甲基四硅氧烷、1，3，5，7-四乙烯基六甲基四硅氧烷和1，1，7，7-四乙烯基六甲基四硅氧烷。
组分(a)的环状硅氧烷低聚物的一些实例包括1，3-二乙烯基四甲基环三硅氧烷、1，3，5-三乙烯基三甲基环三硅氧烷、1，3-二乙烯基四苯基环三硅氧烷、1，3，5-三乙烯基三苯基环三硅氧烷、1，3-二乙烯基六甲基环四硅氧烷、1，3，5-三乙烯基五甲基环四硅氧烷和1，3，5，7-四乙烯基四甲基环四硅氧烷。
组分(a)的硅氮烷的一些实例包括1，3-二乙烯基四甲基二硅氮烷、1，3-二乙烯基-1，3-二苯基-1，3-二甲基二硅氮烷、1，3，5-三乙烯基三甲基环三硅氮烷、1，3，5-三乙烯基三苯基环三硅氮烷、1，3，5-三乙烯基五甲基环四硅氮烷和1，3，5，7-四乙烯基四甲基环四硅氮烷。
组分(a)的聚合硅氧烷(聚硅氧烷)包括具有M、D、T和Q基团的任何两种或多种组合的线性、支化和/或交联聚合物，其中，如本领域已知的是，M基团表示式R3SiO1/2的单官能团，D基团表示式R2SiO2/2的双官能团，T基团表示式RSiO3/2的三官能团，以及Q基团表示式SiO4/2的四官能团，以及其中至少两个R基团为不饱和烃基，其余的R基团可以是任何合适的基团，包括烃基(例如，C1-C6)、卤素、烷氧基和/或氨基。
适于组分(a)的聚硅氧烷的类型的一些实例包括具有至少两个不饱和烃基的MDM、TD、MT、MDT、MDTQ、MQ、MDQ和MTQ类型的聚硅氧烷，及其组合。
在一个具体的实施方案中，组分(a)为具有一个或多个M和/或Mvi基团以及一个或多个D和/或Dvi基团的MD型聚硅氧烷，其中M表示Si(CH3)3O-，Mvi表示(CH2＝CH2)Si(CH3)2O-，D表示-Si(CH3)2O-，以及Dvi表示-Si(CH2＝CH2)(CH3)O-，“vi”为“乙烯基”的缩写，其中MD型聚硅氧烷含有至少两个乙烯基。
组分(a)的合适的MD型聚硅氧烷的一些实例包括MviDnMvi、MviDvi nM、MviDvi nDmM、MviDvi nMvi、MviDvi nDmMvi、MDvi nM和MDvi nDmM类型的MD型聚硅氧烷，其中m和n各自表示至少1。前述类型的MD聚硅氧烷中的任何一种或其组合可用于组分(a)。在各种实施方案中，m和n可独立表示例如范围1-10、11-20、50-100、101-200、201-500、501-1500中的数以及更高的数。
也可将Dvi基团随机引入(即，不是作为嵌段)到D基团中。例如，MviDvi nDmM可表示下述的聚合物，其中n表示5-20，以及m表示50-1500，以及其中5-20个Dvi随机引入到50-1500个D基团中。
在其它实施方案中，所述Mvi和Dvi基团可各自独立包括较多数目的不饱和官能团，例如就Mvi而言为(CH2＝CH2)2(CH3)SiO-和(CH2＝CH2)3SiO-基团，或就Dvi而言为-Si(CH2＝CH2)2O-。
组分(b)的一种或多种含硅氢基的化合物包括在每分子中含有至少两个硅氢基官能团的任何低分子量化合物、低聚物或聚合物。组分(b)的含硅氢基的化合物的类型的一些实例包括含有至少两个硅氢基官能团的有机硅烷、硅氧烷和硅氮烷。
组分(b)的低分子量化合物的一些实例包括二甲基硅烷、二乙基硅烷、二正丙基硅烷、二异丙基硅烷、二苯基硅烷、甲基氯硅烷、二氯硅烷、1，3-二硅杂丙烷(1，3-disilapropane)、1，3-二硅杂丁烷(1，3-disilabutane)、1，4-二硅杂丁烷(1，4-disilabutane)、1，3-二硅杂戊烷(1，3-disilapentane)、1，4-二硅杂戊烷(1，4-disilapentane)、1，5-二硅杂戊烷(1，5-disilapentane)、1，6-二硅杂己烷(1，6-disilahexane)、二-1，2-(二甲基甲硅烷基)乙烷、二-1，3-(二甲基甲硅烷基)丙烷、1，2，3-三甲硅烷基丙烷、1，4-二甲硅烷基苯、1，2-二甲基二硅烷、1，1，2，2-四甲基二硅烷、1，2-二苯基二硅烷、1，1，2，2-四苯基二硅烷、1，1，3，3-四甲基二硅氧烷、1，1，3，3-四苯基二硅氧烷、1，1，3，3，5，5-六甲基三硅氧烷、1，1，1，5，5，5-六甲基三硅氧烷、1，3，5-三甲基环三硅氧烷、1，3，5，7-四甲基环四硅氧烷和1，3，5，7-四苯基环四硅氧烷。
组分(b)的含硅氢基的硅氮烷的一些实例包括1，1，3，3-四甲基二硅氮烷(1，1，3，3-tetramethyldisilazane)、1，3，5-三乙基-2，4，6-三甲基环三硅氮烷(1，3，5-triethyl-2，4，6-trimethylcyclotrisilazane)、1，2，3，4，5，6-六甲基环三硅氮烷(1，2，3，4，5，6-hexamethylcyclotrisilazane)和1，2，3，4，5，6，7，8-八甲基环四硅氮烷(1，2，3，4，5，6，7，8-octamethylcyclotetrasilazane)。
组分(b)的含硅氢基的低聚物和聚合物的一些实例包括任何线性、支化和/或交联聚合物，在所述低聚物或聚合物中具有任何两种或多种如上所述的M、D、T和Q基团的组合，并且具有至少两个硅氢基官能团。
在一个具体的实施方案中，组分(b)为具有一个或多个M和/或MH基团以及一个或多个D和/或DH基团的MD型聚硅氧烷，其中M表示Si(CH3)3O-，MH表示HSi(CH3)2O-，D表示-Si(CH3)2O-，以及DH表示-Si(H)(CH3)O-，其中MD型聚硅氧烷含有至少两个硅氢基团。
合适的组分(b)的MD型聚硅氧烷的一些实例包括MHDnMH、MHDH nM、MHDH nDmM、MHDH nMH、MHDH nDmMH、MDH nM和MDH nDmM类型的MD型聚硅氧烷，及其组合，其中m和n各自表示至少1，并且可具有如上所述的任何数值。
也可将DH基团随机引入(即，不是作为嵌段)到D基团中。例如，MHDH nDmM可表示下述的聚合物，其中n表示5-20，以及m表示50-1500，以及其中5-20个DH随机引入到50-1500个D基团中。
在其它实施方案中，MH和DH可独立含有较多数目的硅氢基官能团，例如就MH而言为H2Si(CH3)O-以及就DH而言为H3SiO-基团。
根据本发明，组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团。例如，组分(a)或(b)中的一种在每分子中可含有三个官能团，而组分(a)或(b)中的另一种在每分子中含有两个官能团；或组分(a)和(b)中的每种在每分子中都可各自含有三个官能团；组分(a)或(b)中的一种在每分子中可含有三个官能团，而组分(a)或(b)中的另一种在每分子中含有四个官能团；或组分(a)和(b)中的每种在每分子中都可各自含有四个官能团；等等。
在一个实施方案中，组分(a)和(b)含有相等数目的官能团，互相以任何摩尔比(包括相等或相似的摩尔量)存在。在另一个实施方案中，组分(a)或(b)中的一种组分含有较多数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种含有较少数目的官能团，且前者的摩尔量比后者的摩尔量低。
在另一个实施方案中，所述支化聚硅氧烷遵循与星形聚合物(starpolymer)类似的支化图案(branching pattern)，其中组分(a)或(b)中含有较多数目的官能团的任一种分子(即交联剂)的摩尔量低于组分(a)或(b)中含有较少数目的官能团的另一种分子(即增链剂(extender))的摩尔量。上述的星形聚合物图形不同于支化占优势的树枝状图形(dendritic pattern)。
例如，组分(a)或(b)中的一种组分可含有至少四个、五个、六个、七个、八个、九个、十个或更高数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分含有两个或三个官能团，且前者的摩尔量低于后者的摩尔量。
组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团可以以任何合适的摩尔比存在，例如，100:1、50:1、25:1、20:1、10:1、1:10、1:20、1:25、1:50、1:100以及其间任何范围的比例。
在一个具体的实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(6-s):1或1:(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数。(a)的官能团与(b)的官能团的所述摩尔比的一些实例包括6:1、5.5:1、5:1、4.5:1、4:1、3.5:1、3:1、2.5:1、2:1、1.5:1、1.4:1、1.2:1、1:1.2、1:1.4、1:1.5、1:2、1:2.5、1:3、1:3.5、1:4、1:4.5、1:5、1:5.5和1:6，以及其间任何范围的比例。
例如，在一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):1或1:(1+s)的范围内，其中s表示大于0并且小于3.6的数。在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.25-s):1或1:(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于3.25的数，以及t表示大于0并且等于或小于3.25的数。在另一个实施方案中，组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约4.5:1至约2:1的范围内。
所述支化聚硅氧烷的粘度通常大于1,500厘泊(cPs)，其中1cPs＝1毫帕斯卡-秒(mPa.s)。更通常地，所述支化聚硅氧烷的粘度为约3,000cPs或大于3,000cPs，以及甚至更通常地为约5,000cPs。在其它实施方案中，所述支化聚硅氧烷的粘度可为约10,000cPs、25,000cPs、50,000cPs或大于10,000cPs、25,000cPs、50,000cPs，或为更高的粘度。
在一个实施方案中，四价SiO4/2基团(即，Q基团)不包括在所述的支化聚硅氧烷组合物中。
在另一个实施方案中，不饱和烃化合物例如α-烯烃不包括在生成支化聚硅氧烷的组分混合物中。所述不饱和烃化合物的一些实例包括式CH2＝CHR1的α-烯烃，其中R1选自卤素、氢或未取代的或杂原子取代的具有一至六个碳原子的烃基。一些杂原子包括氧(O)和氮(N)原子。
在另一个实施方案中，氧基取代的烃类化合物，如含有氧化烯和/或含有酯的饱和或不饱和的化合物不包括在所述支化聚硅氧烷组合物中。
所述防雾组分的支化聚硅氧烷是由组分(a)和组分(b)在硅氢化条件下共聚得到的。“硅氢化条件”是指在含有不饱和基团的化合物和含硅氢基的化合物之间发生硅氢化交联的本领域已知条件。
如本领域已知的是，在合适的温度混合各组分期间或混合之后，需要硅氢化催化剂来促进或进行组分(a)和(b)之间的硅氢化反应。硅氢化催化剂通常含有一种或多种铂系元素金属(platinum-group metal)或金属络合物。例如，硅氢化催化剂可以是钌、铑、钯、锇、铱或铂的金属形式或络合物形式。更通常地，所述硅氢化催化剂是铂基的(platinum-based)。铂基催化剂可以是例如铂金属、沉积在载体(例如，二氧化硅、二氧化钛、氧化锆或碳)上的铂金属、氯铂酸(chloroplatinic acid)，或铂与弱结合性配体如二乙烯基四甲基二硅氧烷络合的铂络合物。包含在反应混合物中的铂催化剂的浓度范围可以是例如1-100ppm，但更通常为约5至40ppm。
必要时，助剂和其它组分可包括在本发明的涂料制剂中。助剂组分的一些类型包括催化剂抑制剂(如上文所述)、表面活性剂和稀释剂。稀释剂的一些实例包括烃(例如，戊烷、己烷、庚烷、辛烷)、芳族烃(例如，苯、甲苯和二甲苯)、酮(例如，丙酮、甲乙酮)和卤代烃(例如，三氯乙烯和全氯乙烯)。
在另一个方面，本发明涉及涂布方法，在所述方法中将本发明的涂料制剂在已知所述涂料制剂会发生成雾或气雾化的条件下涂布至基底。在所述形成雾的条件下，本发明的涂料制剂与不含防雾量的支化聚硅氧烷的涂料制剂相比，会显示出降低的成雾。
所述涂料制剂可通过例如辊涂或通过从合适的涂布器(例如，喷嘴)喷涂(其中所述涂布器相对于基底可以是静止的或运动的)来进行涂布。尽管成雾或气雾化通常主要是由涂布器相对于基底运动引起的，但是成雾或气雾化可以由除了涂布器或基底的运动以外的其它因素引起。例如，成雾可部分或主要由涂布方法引起的，而不是涂布器相对于基底的任何运动引起，例如，在静止的或缓慢喷涂的方法中。
本发明的涂布方法特别适用于将涂料制剂涂布至运动状态(其中所述运动是成雾或气雾化的主要原因)的基底的方法。所述运动可以是能够引起成雾或气雾化的任何种类的运动，例如，形成雾水平的平移和/或旋转运动。
所述基底可以是期望在其上涂布上述涂料制剂的任何基底。合适基底的一些实例包括纸、纸板(cardboard)、木材产品、聚合物和塑料产品、玻璃产品和金属产品。
在另一个方面，本发明涉及通过在将上述涂料制剂涂布至基底上之后对所述涂料制剂硬化或固化而获得的硬化(即，固化的)涂层。所述涂料制剂一旦涂布至基底，就可通过本领域已知的任何固化方法进行固化，所述固化方法包括，例如，硅氢化反应交联、过氧化物固化、光固化(例如，紫外光固化)和电子束固化。
在缺少基底的涂层本身是有用的产品，例如用作可涂布薄膜的情况中，期望时，可将硬化涂层从基底移除。为了辅助涂布的硬化薄膜从基底分离，在所述涂料制剂中可包括剥离添加剂(release additive)，或者在基底和涂料制剂之间施加剥离薄膜(release film)。
出于阐明的目的在下文列出了实施例。本发明的范围决不限于本申请所列出的实施例。
实施例1
防雾组分(支化聚硅氧烷)的合成
在该实施例中，称为组分A的组分是市售的式MviD110Mvi的二官能乙烯基封端的聚硅氧烷，其粘度为200-300cPs。称为组分B的组分是市售的式MD500DH 6.5M的六官能含硅氢基的聚硅氧烷，其粘度为6,000至15,000cPs，氢化物含量为155至180ppm，其中6.5表示随机引入D基团中的DH基团的平均数。称为组分C的组分是市售的催化剂制剂，其含有按重量计10％的铂。
向装备有置顶式搅拌器(overhead stirrer)、GN2入口、温度计和油浴的1L反应器中加入168.7g(约20.2mmol)组分A和约0.05g组分C。将混合物在环境条件下搅拌一小时。接着，将54.4g(约1.4mmol)组分B单独冷却至4℃，然后在搅拌下加到上述组分中。将混合物在环境条件下搅拌15分钟，然后缓慢加热至90℃。30分钟后，观测到一些胶凝现象。在90℃向反应混合物中加入255.5g组分A。将混合物在90℃搅拌两小时，冷却至室温(约25℃)，然后从釜(kettle)中排出。产物的量为430.9g，这对应90％的收率。在12Hz测量剪切粘度和剪切模量，分别为2.813Pa.s和201.2Pa。
实施例2
含有防雾组分的涂料制剂的合成
向两加仑塑料桶中装入94份(1880g)市售MviD110Mvi溶液(含有100ppmPt和0.4％马来酸二烯丙酯抑制剂)。将防雾添加剂以6份(120g)的量装入桶中，然后用钻杆式搅拌器(drill-mounted agitator)混合。将交联剂即市售氢化物(MD30DH 15M)以5.5份(110g)的量加到桶中。将混合物用钻杆式搅拌器充分混合。
实施例3
含有防雾组分的涂料制剂的合成
向两加仑塑料桶中装入87.8份(1656g)市售MviD100Dvi2.5Mvi溶液(含有100ppm Pt和0.4％马来酸二烯丙酯抑制剂)。将防雾添加剂以6份(113g)的量装入桶中，然后用钻杆式搅拌器混合。将交联剂即市售氢化物(MD30DH 15M)以6.0份(113g)的量加到桶中。将混合物用钻杆式搅拌器充分混合。
实施例4
涂布方法
高速涂布器(pilot coater)用于所有的涂布和成雾研究。五辊涂布器(fiveroll coater)以3,000英尺/分钟操作。基底为18英寸宽的Otis Mill UV350纸。所述涂布器装备有设定至550℉的3-5英尺的空气浮选气体加热干燥器(three-five foot air floatation gas heated dryer)。涂料重量设定至约0.81b/令。在以3,000英尺/分钟涂布纸基底时，使用TSI Incorporated(Shoreview，MN)制造的DUSTTRAK 8520气雾化监测器进行雾测量。测量在内门(innergate)和外门(outergate)辊的上方进行，高度对应于支承辊(back-up roll)和涂布辊(applicator roll)之间的连接点。
由此，尽管已经描述了目前被认为是本发明优选的实施方案，本领域技术人员应该理解，可进行其它和进一步的实施方案而不背离本发明的精神，并且预期进行的所有这些进一步修改和变化包括在本申请列出的权利要求的真实范围内。

Claims (28)

1.一种组合物，其包含：
(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及
(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含：
(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；以及
(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团；
条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)当组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，以及组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团时，则组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量等于或低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；以及(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
2.权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(6-s):1或1:(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数。
3.权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):1或1:(1+s)的范围内，其中s表示大于0并且小于3.6的数。
4.权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.25-s):1或1:(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于3.25的数，以及t表示大于0并且等于或小于3.25的数。
5.权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):1的范围内，其中s表示大于0并且小于3.6的数。
6.权利要求1的组合物，其中组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约4.5:1至约2:1的范围内。
7.权利要求1的组合物，其中组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有至少四个官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有两个或三个官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中具有至少四个官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中具有两个或三个官能团的另一种组分的摩尔量。
8.权利要求1的组合物，其中组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有至少六个官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有两个或三个官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中具有至少六个官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中具有两个或三个官能团的另一种组分的摩尔量。
9.一种组合物，其包含：
(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及
(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含：
(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；以及
(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团；
条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；以及(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
10.一种组合物，其包含：
(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及
(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含：
(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；以及
(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团；
条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约(6-s)：1或约1：(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数；(iii)组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；(iv)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
11.一种组合物，其包含：
(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及
(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含：
(a)一种或多种有机硅化合物，所述有机硅化合物在每分子中含有至少两个不饱和烃官能团，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；以及
(b)一种或多种含硅氢基的化合物，所述化合物在每分子中含有至少两个硅氢基官能团；
条件是(i)组分(a)或(b)中的至少一种在每分子中含有至少三个官能团；(ii)组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在式(4.6-s):1或1:(1+s)的范围内，其中s表示大于0并且小于3.6的数；(iii)组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有较多数目的官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有较少数目的官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中含有较多数目官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中含有较少数目官能团的另一种组分的摩尔量；(iv)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
12.一种组合物，其包含：
(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及
(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含：
(a)一种或多种含有不饱和烃官能团的有机硅化合物，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；
以及
(b)一种或多种含硅氢基官能团的化合物；
条件是(i)组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有至少四个官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有两个或三个官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中具有至少四个官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中具有两个或三个官能团的另一种组分的摩尔量；(ii)组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约(6-s):1或约1:(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数；(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
13.一种组合物，其包含：
(i)基于硅氧烷的涂布组分，所述基于硅氧烷的涂布组分在形成雾的条件下易于成雾；以及
(ii)防雾量的支化聚硅氧烷组分，所述支化聚硅氧烷组分是在硅氢化条件下对下述的组分混合物进行共聚而形成的，所述组分混合物包含：
(a)一种或多种含有不饱和烃官能团的有机硅化合物，所述不饱和烃官能团能够在硅氢化条件下与含硅氢基的化合物进行硅氢化反应；
以及
(b)一种或多种含硅氢基官能团的化合物；
条件是(i)组分(a)或(b)中的一种组分在每分子中含有至少六个官能团，组分(a)或(b)中的另一种组分在每分子中含有两个或三个官能团，且组分(a)或(b)中在每分子中具有至少六个官能团的组分的摩尔量低于组分(a)或(b)中在每分子中具有两个或三个官能团的另一种组分的摩尔量；(ii)组分(a)中的不饱和烃官能团与组分(b)中的硅氢基官能团的摩尔比在约(6-s)：1或约1：(1+t)的范围内，其中s表示等于或大于0并且小于5的数，以及t表示大于0并且等于或小于5的数；(iii)所述组分混合物中不包括不饱和烃化合物。
14.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求1的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
15.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求2的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
16.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求3的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
17.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求4的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
18.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求5的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
19.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求6的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
20.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求7的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
21.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求8的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
22.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求9的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
23.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求10的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
24.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求11的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
25.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求12的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
26.一种涂布方法，所述方法包括：在形成雾的条件下将权利要求13的组合物涂布至基底，当经受所述形成雾的条件时，所述组合物与缺少防雾量的支化聚硅氧烷组分的相同组合物相比，显示出降低的成雾。
27.一种硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜，所述硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜是通过对用权利要求1的组合物涂布的基底进行一次或多次固化步骤而产生的。
28.一种硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜，所述硬化的基于硅氧烷的涂层或薄膜是通过对用权利要求10的组合物涂布的基底进行一次或多次固化步骤而产生的。
CN200780041017XA 2006-09-01 2007-08-30 含有防雾组分的组合物 Expired - Fee Related CN101535428B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/515,463 US7560167B2 (en) 2006-09-01 2006-09-01 Composition containing anti-misting component
US11/515,463 2006-09-01
PCT/US2007/019112 WO2008027494A2 (en) 2006-09-01 2007-08-30 Composition containing anti-misting component

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101535428A true CN101535428A (zh) 2009-09-16
CN101535428B CN101535428B (zh) 2012-10-10

Family

ID=38983486

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200780041017XA Expired - Fee Related CN101535428B (zh) 2006-09-01 2007-08-30 含有防雾组分的组合物

Country Status (7)

Country Link
US (1) US7560167B2 (zh)
EP (1) EP2057238B1 (zh)
JP (2) JP5737840B2 (zh)
CN (1) CN101535428B (zh)
ES (1) ES2392360T3 (zh)
TW (1) TW200827414A (zh)
WO (1) WO2008027494A2 (zh)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN105568249A (zh) * 2014-11-03 2016-05-11 气体产品与化学公司 硅基薄膜和形成该薄膜的方法
CN110157198A (zh) * 2014-06-23 2019-08-23 信越化学工业株式会社 硅氧烷组合物及其制造方法
CN110582604A (zh) * 2017-02-17 2019-12-17 陶氏东丽株式会社 油雾抑制剂、含有油雾抑制剂的润滑剂及油雾减少方法

Families Citing this family (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7649071B2 (en) * 2006-09-01 2010-01-19 Momentive Performance Materials Inc. Branched polysiloxane composition
US20080281055A1 (en) * 2007-05-09 2008-11-13 Momentive Performance Materials Inc. Branched polysiloxane of reduced molecular weight and viscosity
US20080276836A1 (en) * 2007-05-09 2008-11-13 Momentive Performance Materials Inc. Composition containing anti-misting component of reduced molecular weight and viscosity
US8722153B2 (en) * 2007-05-25 2014-05-13 Dow Corning Corporation Release coating composition and method of forming the same
CN106459416B (zh) * 2014-06-23 2020-05-12 信越化学工业株式会社 有机聚硅氧烷交联物及其制造方法、以及防雾剂和无溶剂型剥离纸用有机硅组合物
JP6330736B2 (ja) 2015-06-11 2018-05-30 信越化学工業株式会社 オルガノポリシロキサン組成物及びその製造方法、ミスト防止剤並びに無溶剤型剥離紙又は剥離フィルム用シリコーン組成物
FR3052784A1 (fr) * 2016-06-21 2017-12-22 Bluestar Silicones France Procede de lutte contre l'apparition de brouillard dans un dispositif a cylindres lors de l'enduction de supports flexibles avec une composition silicone liquide reticulable
US20200347188A1 (en) * 2018-01-25 2020-11-05 Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. Solvent-free silicone release composition, release sheet, and method for producing release sheet
WO2021113058A1 (en) 2019-12-02 2021-06-10 Dow Silicones Corporation Composition for preparing a release coating
EP3867301B1 (en) * 2019-12-02 2022-11-16 Dow Silicones Corporation Composition for preparing a release coating
CN111440320A (zh) * 2020-04-01 2020-07-24 中科院广州化学有限公司 一种防雾添加剂及其制备方法与应用

Family Cites Families (34)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US4482670A (en) * 1983-03-14 1984-11-13 Dow Corning Corporation Method of polymerizing polydiorganosiloxane fluid-filler mixture using sulfuric or sulfonic acids
US4554338A (en) * 1984-08-27 1985-11-19 General Electric Company Room temperature vulcanizable organopolysiloxane compositions and method for making
JPS6315849A (ja) * 1986-07-08 1988-01-22 Toshiba Silicone Co Ltd 剥離用組成物
FR2617178B1 (fr) * 1987-06-25 1989-11-17 Rhone Poulenc Chimie Catalyseur a l'etain obtenu a partir de compose b-dicarbonyle et d'un sel d'etain pour composition elastomere silicone
US5286516A (en) * 1987-12-01 1994-02-15 Raychem Corporation Environmental sealing
JPH0655897B2 (ja) * 1988-04-22 1994-07-27 信越化学工業株式会社 シリコーン組成物の製造方法
US5036117A (en) * 1989-11-03 1991-07-30 Dow Corning Corporation Heat-curable silicone compositions having improved bath life
US5213899A (en) * 1990-12-17 1993-05-25 General Electric Company Room temperature vulcanizable silicone compositions
CA2056569A1 (en) * 1990-12-17 1992-06-18 Gary M. Lucas Room temperature vulcanizable silicone compositions
JP3541390B2 (ja) * 1991-02-22 2004-07-07 東レ・ダウコーニング・シリコーン株式会社 グリース状シリコーン組成物およびその製造方法
US5292586A (en) * 1991-03-26 1994-03-08 General Electric Company Solventless or high solids-containing silicone pressure sensitive adhesive compositions
US5625023A (en) * 1994-12-09 1997-04-29 Dow Corning Corporation Aerosol suppressant compositions for silicone coatings
US5618902A (en) * 1995-11-03 1997-04-08 General Electric Company Vapor precipitation of polymers from solvent polymer blends by azeotropic spray drying
US5654362A (en) * 1996-03-20 1997-08-05 Dow Corning Corporation Silicone oils and solvents thickened by silicone elastomers
US5760116A (en) * 1996-09-05 1998-06-02 General Electric Company Elastomer gels containing volatile, low molecular weight silicones
US5880210A (en) * 1997-04-01 1999-03-09 Dow Corning Corporation Silicone fluids and solvents thickened with silicone elastomers
US5977280A (en) * 1997-11-05 1999-11-02 Dow Corning Corporation Terminating post cure with amino acid esters
US5929164A (en) * 1997-11-05 1999-07-27 Dow Corning Corporation Quenching post cure
US5998542A (en) * 1997-12-12 1999-12-07 General Electric Company Processing of an elastomer dispersion
US5929162A (en) * 1997-12-12 1999-07-27 General Electric Company Elastomer dispersion having a unique particle size distribution
US6423322B1 (en) * 1999-05-22 2002-07-23 Wacker Silicones Corporation Organopolysiloxane gels for use in cosmetics
US6489407B1 (en) * 2000-06-22 2002-12-03 Dow Corning Corporation Silicone coatings containing silicone mist suppressant compositions
US6586535B1 (en) * 2000-06-22 2003-07-01 Dow Corning Corporation Coatings containing silicone mist suppressant compositions
US6355724B1 (en) * 2000-12-06 2002-03-12 Clariant Lsm (Florida), Inc. Cosmetic compositions containing silicone gel
GB0112525D0 (en) * 2001-05-23 2001-07-11 Dow Corning Polysiloxanes and gels and pastes containing them
EP1277786B1 (de) * 2001-07-19 2004-09-29 Wacker-Chemie GmbH Verzweigte Organosiloxan(co)polymere und deren Verwendung als Antimisting Additive für Siliconbeschichtungszusammensetzungen
DE10161334A1 (de) * 2001-12-13 2003-07-17 Wacker Chemie Gmbh Alkenylgruppen aufweisende Siloxancopolymere als Antimisting Additive für Siliconbeschichtungszusammensetzungen
DE10210026A1 (de) * 2002-03-07 2003-09-25 Wacker Chemie Gmbh Verzweigte Organosiliciumverbindungen als Antimisting Additive für Siliconbeschichtungszusammensetzungen
DE10232668A1 (de) * 2002-07-18 2004-02-05 Wacker-Chemie Gmbh Verzweigte Alkenylgruppen aufweisende Siloxanpolymere als Antimisting Additive für Siliconbeschichtungszusammensetzungen
US6936686B2 (en) * 2002-12-11 2005-08-30 Nutech Corporation Cross-linked silicone gels; products containing the same; and methods of manufacture thereof
US6727338B1 (en) * 2002-11-15 2004-04-27 General Electric Company Star-branched silicone polymers as anti-mist additives for coating applications
US6887949B2 (en) * 2002-11-15 2005-05-03 General Electric Company Star-branched silicone polymers as anti-mist additives for coating applications
US6774201B2 (en) * 2002-11-15 2004-08-10 General Electric Company Star-branched silicone polymers as anti-mist additives for coating applications
US7649071B2 (en) * 2006-09-01 2010-01-19 Momentive Performance Materials Inc. Branched polysiloxane composition

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN110157198A (zh) * 2014-06-23 2019-08-23 信越化学工业株式会社 硅氧烷组合物及其制造方法
CN105568249A (zh) * 2014-11-03 2016-05-11 气体产品与化学公司 硅基薄膜和形成该薄膜的方法
CN110582604A (zh) * 2017-02-17 2019-12-17 陶氏东丽株式会社 油雾抑制剂、含有油雾抑制剂的润滑剂及油雾减少方法

Also Published As

Publication number Publication date
WO2008027494A2 (en) 2008-03-06
ES2392360T3 (es) 2012-12-10
EP2057238A2 (en) 2009-05-13
CN101535428B (zh) 2012-10-10
JP2014088556A (ja) 2014-05-15
EP2057238B1 (en) 2012-10-10
US7560167B2 (en) 2009-07-14
TW200827414A (en) 2008-07-01
JP5737840B2 (ja) 2015-06-17
US20080058479A1 (en) 2008-03-06
JP2010502778A (ja) 2010-01-28
WO2008027494A3 (en) 2008-04-10

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101535428B (zh) 含有防雾组分的组合物
CN101535427B (zh) 支化聚硅氧烷组合物
JP5475647B2 (ja) 剥離コーティング組成物およびその調製方法
US9926410B2 (en) Organosiloxane compositions and coatings, manufactured articles, methods and uses
US9777203B2 (en) Silicone pressure sensitive adhesive compositions and protective films containing the same
CN106574168B (zh) 离型控制剂、含有该离型控制剂的有机硅离型剂组合物、离型片及叠层体
JP2983610B2 (ja) 硬化性有機ケイ素組成物及びその使用方法
CN101258209A (zh) 具有改进的剥离力特征的剥离涂料组合物
JPH06228501A (ja) シリコーン紙剥離被覆材の剥離力を増す組成物
JP4335370B2 (ja) 剥離調節剤組成物、シリコ−ン剥離被膜用組成物、及び硬化被膜の製造方法
EP0851001A1 (en) Silicone release coating compositions
KR19980064770A (ko) 박리형 실리콘 도료 조성물

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20121010