CN101515074B - 测试液晶面板光学特性的阵列基板电路及其实现方法 - Google Patents

Abstract

本发明公开了一种测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，包括数据线引线主线和栅线引线主线，该阵列基板电路还包括：与栅极引线主线一一对应电连接的栅极引线支线，栅线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域；以及，与数据线引线主线一一对应电连接的数据线引线支线，数据线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域。本发明同时还公开了一种测试液晶面板光学特性的阵列基板电路的实现方法，本发明的阵列基板电路可用来测试液晶显示面板的光学特性，以提高液晶显示器面板的光学测试效率，降低相关测试成本。

Description

测试液晶面板光学特性的阵列基板电路及其实现方法

技术领域

本发明涉及液晶显示器，特别涉及用于测试薄膜晶体管液晶面板光学特性的阵列基板电路及其实现方法。

背景技术

目前，在薄膜晶体管液晶显示器(TFT-LCD)的液晶产品研发过程中，需要在“成盒(panel)阶段”，即TFT基板与彩膜(Color Filter)结合以后，安装控制电路印刷电路板(PCB)和背光源等外部组件之前的这个阶段，对液晶面板进行初步的光学特性测试和分析，根据得出的各项参数对前期的基板和彩膜的设计及工艺进行相关分析。此时成盒阶段的液晶面板还没有加入周边电路、控制电路PCB以及背光源部分，因此需要先将外部电学信号引入到面板中，驱动液晶面板进行显示，然后才能利用相关设备实现对其进行基本的光学测试。

如图1所示，为现有阵列(Array)基板及绑定区域(Pad)结构及光学测试方法示意图。在液晶面板上部边缘，数据线引线是分批排布的，每一组称作一个Pad，例如某个尺寸的面板共有1000条数据线引线，则其分布可以如图1所示，共有四个数据线引线绑定区域2，每个数据线引线绑定区域2有250条数据线引线。栅线引线也可分成两个栅线引线绑定区域3。实际上，图1中TFT-LCD基板1以外的部分，包括PCB 4，在成盒阶段是不存在的，仅为便于理解而将其画出。

假设对TFT-LCD基板1的显示区域5的区域C进行光学测试时，因为没有PCB 4的存在，只能借由接触导电的方式通过外围区域6的数据线引线和栅线引线对显示区域5内的数据线和栅线施加电压，也即需在区域A、B两处的阴影区都涂满导电介质，通过导电介质将测试点与设备探针连接起来。但是， 若有一根线未涂上导电介质就会导致测试区域出现亮线或其它不良现象，从而导致整个测试工作的彻底失败。并且，由于操作误差的存在，导电介质涂敷的均匀程度是无法保证的，而测试信号往往先施加在涂敷区域的一点上，再从这点传输到整个区域，这就对测试结果的精确性产生了很大影响，涂敷导电介质的区域越大，影响就越大。

另外，涂敷导电介质这一准备工作不仅耗时长，而且对操作细节要求较高，由于液晶面板上的电路分布密度较高，在绑定区域的两侧就是公共电极(COM)，因此涂敷区域过大就有可能使其它线路与目标电路发生短路。而且，这种导电介质如银胶都需要一定的时间来凝结，从开始的液态转化为固态，从而发挥导电媒介的作用，因此如果在银胶凝结后才发现信号输入不正确，则需要将其去除，再进行重复操作，增加工作量的同时又大大降低测试效率。还有，通常导电介质的主要成分是贵重金属，涂敷区域面积较大会导致产品开发成本的大幅上升。

发明内容

有鉴于此，本发明的主要目的在于提供一种用于测试液晶面板光学特性的阵列基板电路及其实现方法，以提高液晶面板的光学测试效率，降低相关测试成本，并提高相关测试设备的使用效率和测试工作的可操作性及可靠性。

为达到上述目的，本发明的技术方案是这样实现的：

一种测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，该阵列基板电路包括栅线引线主线和数据线引线主线，该阵列基板电路还包括：与栅极引线主线一一对应电连接的栅极引线支线，栅线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域；以及，与数据线引线主线一一对应电连接的数据线引线支线，数据线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域。

其中，数据线引线支线设置于栅金属层，并与其对应的数据线引线主线呈不同方向排布，各数据线引线主线及数据线引线支线处留有过孔，数据线引线主线和数据线引线支线通过涂敷在所述数据线引线主线和数据线引线支线的过孔处的透明导电涂层实现所述的电连接；

栅线引线支线设置于源漏电极金属层，并与其相对应的栅线引线主线呈不 同方向排布，各栅线引线主线与栅线引线支线处留有过孔，栅线引线主线和栅线引线支线通过涂敷在所述栅线引线主线和栅线引线支线的过孔处的透明导电涂层实现所述的电连接。

优选地，数据线引线主线分批排布成多个数据线引线绑定区域，同一数据线引线绑定区域内所有数据线引线主线对应的所有数据线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域；

栅线引线主线分批排布成多个栅线引线绑定区域，同一栅线引线绑定区域内所有栅线引线主线对应的所有栅线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域。

优选地，数据线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形；栅线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形。

优选地，数据线引线主线和数据线引线支线呈互相垂直的方向排布，栅线引线主线和栅线引线支线呈互相垂直的方向排布。

优选地，各数据线引线支线之间呈等间距状排布；各栅线引线支线之间呈等间距状排布。

一种测试液晶面板光学特性的阵列基板电路的实现方法，包括以下步骤：

(a)设置玻璃基板，在玻璃基板上进行栅金属层的沉积镀膜；

(b)刻蚀栅金属层，在栅金属层上形成栅线引线主线和数据线引线支线，数据线引线支线的一端延伸形成涂敷导电介质用的密集区域；

(c)在栅金属层上依次沉积绝缘层、半导体层以及源漏电极金属层；

(d)刻蚀源漏电极金属层，在源漏电极金属层上形成数据线引线主线和栅线引线支线，栅线引线支线的一端延伸形成涂敷导电介质用的密集区域；

(e)沉积钝化保护层并对其刻蚀，在相应的数据线引线主线和数据线引线支线处分别形成过孔，在相应的栅线引线主线和栅线引线支线处分别形成过孔；

(f)沉积并刻蚀透明像素电极层，同时形成透明导电涂层，通过过孔处涂敷的透明导电涂层分别连接数据线引线主线和数据线引线支线、栅线引线主线和栅线引线支线。

优选地，数据线引线主线分批排布成多个数据线引线绑定区域，同一数据线引线绑定区域内所有数据线引线主线对应的所有数据线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域；

栅线引线主线分批排布成多个栅线引线绑定区域，同一栅线引线绑定区域内所有栅线引线主线对应的所有栅线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域。

优选地，数据线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形；栅线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形。

优选地，数据线引线主线和数据线引线支线呈互相垂直的方向排布；栅线引线主线和栅线引线支线呈互相垂直的方向排布。

优选地，各数据线引线支线之间呈等间距排布；各栅线引线支线之间呈等间距排布。

由以上技术方案可以看出，本发明在尽可能小的区域内将需要施加信号的每组数据线引线和栅线引线集中，大大降低了昂贵的导电介质的使用量，从而节约了产品研发的投入成本和测试成本；同时，涂敷导电介质的区域的缩小极大降低了操作难度，也降低了数据线引线、栅线引线和公共电极线发生短路的概率，提高了作业成功率，进而提高了测试工作的整体效率和可靠性，缩短产品研发周期，提升产品的竞争力。另外，输入信号区域越小，由于均匀性而造成的测试信号在传输过程中的误差就越小，因此本发明在一定程度上提高了测试结果的准确性。

附图说明

图1为现有阵列基板及绑定区域结构及光学测试方法示意图；

图2为本发明改进后的阵列基板电路示意图；

图3为本发明涂敷导电介质区域的放大示意图；

图4为本发明数据线引线主线和数据线引线支线进行连接的示意图；

图5为本发明数据线引线主线和数据线引线支线连接处的横截面示意图。

具体实施方式

本发明的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，包括栅线引线主线和数据线引线主线，还包括：与栅极引线主线一一对应电连接的栅极引线支线，栅线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域；以及，与数据线引线主线一一对应电连接的数据线引线支线，数据线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域。

以下结合附图对本发明的较佳实施例作进一步详细的说明。

如图2所示，为本发明改进后的阵列基板电路示意图。为了区分，将数据线引线原有的部分称为数据线引线主线11，对应每一条数据线引线主线11都引出一条数据线引线支线12，数据线引线支线12的排布和数据线引线主线11的排布不在同一方向，优选两者相互成垂直的方向排布，且各数据线引线支线12之间呈等间距状排布。虽然图中未示出，但数据线引线支线12的排布和数据线引线主线11的排布也可在同一方向上。

通常情况下，TFT基板从下向上主要由栅金属层、绝缘层、半导体层、源漏电极金属层(S/D层)、钝化保护层构成。数据线引线主线11形成在源漏电极金属层，栅线引线主线13形成在栅金属层。

为了避免主线和支线交叉导致短路，较佳地，数据线引线支线12可设置在栅金属层上。但数据线引线支线12也可设置在其它层上。数据线引线主线11和数据线引线支线12通过表面分别留出的过孔G、H，并在过孔G、H处涂敷的透明导电涂层19进行连接，如图4所示，该透明导电涂层19的材料是和像素电极材料完全相同的氧化铟锡(ITO)。一个数据线引线绑定区域20内的所有数据线引线支线12延伸至该数据线引线绑定区域20旁边，形成密集区域E，鉴于布线的原因，该密集区域E优选为圆形，如图3所示。但实际应用中，所形成的密集区域也可为其它形状，如正方形、长方形等。数据线引线支线12的用料与数据线引线主线11保持一致，而其厚度与数据线引线主线11尽量保持一致，宽度则在不对整体电阻造成过多影响的前提下最大限度地变窄，以保 证数据线引线支线12的密集度。

同样，为了区分，将栅线引线原来的部分称为栅线引线主线13，对应每一条栅线引线主线13都引出一条栅线引线支线14，栅线引线支线14的排布和栅线引线主线13的排布不在同一方向，优选两者成垂直的方向排布，且栅线引线支线14之间呈等间距状排布。虽然图中未示出，但栅线引线支线14的排布和栅线引线主线13的排布也可在同一方向上。

为了避免主线和支线交叉导致短路，较佳地，栅线引线支线14可设置在源漏电极金属层上。但栅线引线支线14也可设置在其它层上。栅线引线主线13和栅线引线支线14通过表面分别留出的过孔，并在过孔处涂敷的透明导电涂层19进行连接。一个栅线引线绑定区域30内的所有栅线引线支线14延伸至该栅线引线绑定区域30旁边，形成密集区域F，其形状也优选为圆形。

这样，只要在进行光学特性测试之前，给例如密集区域E处的数据线引线支线12和密集区域F处的栅线引线支线14留出过孔，使金属接触点袒露出来，再涂上少量导电介质如导电性能良好的银胶，即可将信号输入到指定测试区域，由于此涂敷区域面积小，形状规则，因而方便操作，同时也降低了投入的测试成本。

目前，主流的TFT基板沉淀刻蚀技术是分四次进行，即四次掩膜(mask)技术。本发明的较佳实施例是在不改变原有工艺流程的基础上，只稍微改变掩膜版的刻蚀图样，以实现本发明阵列基板电路的设计。实现本发明阵列基板电路的具体步骤如下：

步骤a：设置玻璃基板15作为液晶面板的载体，根据现有工艺，在玻璃基板15上进行栅金属层的沉积镀膜；

步骤b：根据需要将玻璃基板15上不需要的栅金属层通过曝光刻蚀去除，在形成显示区域栅电极和栅线的同时，在显示区域的周边区域即外围区域预定的栅线引线绑定区域30形成栅线引线主线13；

此步骤中，未增加任何工艺，只稍微改变了原有掩膜版的刻蚀图样，在刻蚀时保留数据线引线绑定区域20原本需要刻蚀掉的一部分的栅金属层，使其成 为数据线引线支线12，其形状如图2所示；

步骤c：在栅金属层上，依次沉积对栅金属层起保护作用的绝缘层16、半导体层17以及源漏电极金属层即S/D层，即图5中所示的数据线引线主线11所在的层；

步骤d：刻蚀源漏电极金属层以及半导体层17，在形成显示区域源漏电极和数据线的同时，在外围区域预定的数据线引线绑定区域20形成数据线引线主线11；

此步骤中，未增加任何工艺只稍微改变原有掩膜版的刻蚀图样，在刻蚀时保留栅线引线绑定区域30处原本需要刻蚀掉的一部分的源漏电极金属层的金属，使其成为栅线引线支线14，其形状如图2所示；

步骤e：沉积钝化保护层18，接着对其进行曝光刻蚀，此时，在原有掩膜版的图样上增加对应过孔的图样，使在钝化保护层18上刻蚀出过孔；

例如：在数据线引线主线11和数据线引线支线12处分别留出过孔G、H，在过孔G处数据线引线主线11袒露，在过孔H处数据线引线支线12袒露，如图4和图5所示；

步骤f：沉积并刻蚀透明像素电极层，在形成显示区域透明像素电极的同时，在外围区域需要电连接的部位，形成透明导电涂层19，即通过过孔处涂敷的透明导电涂层19分别连接数据线引线支线12和数据线引线主线11(如图5所示)、栅线引线支线14和栅线引线主线13。

基于上述流程，最后在各数据线引线支线12和栅线引线支线14的涂敷导电介质处，即图2所示的密集区域E、F，将各数据线引线支线12和栅线引线支线14的金属接触点袒露出来，通过导电介质实现相关信号的输入。

以上所述，仅为本发明的较佳实施例而已，并非用于限定本发明的保护范围。

Claims (11)

1.一种测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，所述阵列基板电路包括栅线引线主线和数据线引线主线，其特征在于，

所述阵列基板电路还包括：与栅极引线主线一一对应电连接的栅极引线支线，所述栅线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域；以及，

与数据线引线主线一一对应电连接的数据线引线支线，所述数据线引线支线的一端延伸形成有涂敷导电介质用的密集区域。

2.根据权利要求1所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，其特征在于，

所述数据线引线支线设置于栅金属层，并与其对应的数据线引线主线呈不同方向排布，所述数据线引线主线和数据线引线支线处留有过孔，所述数据线引线主线和数据线引线支线通过涂敷在所述数据线引线主线和数据线引线支线的过孔处的透明导电涂层实现所述的电连接；

所述栅线引线支线设置于源漏电极金属层，并与其相对应的栅线引线主线呈不同方向排布，所述栅线引线主线和栅线引线支线处留有过孔，所述栅线引线主线和栅线引线支线通过涂敷在所述栅线引线主线和栅线引线支线的过孔处的透明导电涂层实现所述的电连接。

3.根据权利要求2所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，其特征在于，所述数据线引线主线分批排布成多个数据线引线绑定区域，同一数据线引线绑定区域内所有数据线引线主线对应的所有数据线引线支线的一端延伸形成所述的涂敷导电介质用的密集区域；

所述栅线引线主线分批排布成多个栅线引线绑定区域，同一栅线引线绑定区域内所有栅线引线主线对应的所有栅线引线支线的一端延伸形成所述的涂敷导电介质用的密集区域。

4.根据权利要求1、2或3所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，其特征在于，所述数据线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形；所述栅 线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形。 

5.根据权利要求2或3所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，其特征在于，所述数据线引线主线和数据线引线支线呈互相垂直的方向排布；所述栅线引线主线和栅线引线支线呈互相垂直的方向排布。 

6.根据权利要求1、2或3所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路，其特征在于，所述各数据线引线支线之间呈等间距状排布；所述各栅线引线支线之间呈等间距状排布。 

7.一种测试液晶面板光学特性的阵列基板电路的实现方法，其特征在于，包括以下步骤： 

(a)设置玻璃基板，在玻璃基板上进行栅金属层的沉积镀膜； 

(b)刻蚀栅金属层，在栅金属层上形成栅线引线主线和数据线引线支线，数据线引线支线的一端延伸形成涂敷导电介质用的密集区域； 

(c)在栅金属层上依次沉积绝缘层、半导体层以及源漏电极金属层； 

(d)刻蚀源漏电极金属层，在源漏电极金属层上形成数据线引线主线和栅线引线支线，栅线引线支线的一端延伸形成涂敷导电介质用的密集区域； 

(e)沉积钝化保护层并对其刻蚀，在相应的数据线引线主线和数据线引线支线处分别形成过孔，在相应的栅线引线主线和栅线引线支线处分别形成过孔； 

(f)沉积并刻蚀透明像素电极层，同时形成透明导电涂层，通过过孔处涂敷的透明导电涂层分别连接数据线引线主线和数据线引线支线、栅线引线主线和栅线引线支线。 

8.根据权利要求7所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路的实现方法，其特征在于，所述数据线引线主线分批排布成多个数据线引线绑定区域，同一数据线引线绑定区域内所有数据线引线主线对应的所有数据线引线支线的一端延伸形成所述的涂敷导电介质用的密集区域； 

所述栅线引线主线分批排布成多个栅线引线绑定区域，同一栅线引线绑定区域内所有栅线引线主线对应的所有栅线引线支线的一端延伸形成所述的涂敷导电介质用的密集区域。 

9.根据权利要求7或8所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路的实现方法，其特征在于，所述数据线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形；所述栅线引线支线延伸形成的密集区域的形状为圆形。 

10.根据权利要求7或8所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路的实现方法，其特征在于，所述数据线引线主线和数据线引线支线呈互相垂直的方向排布；所述栅线引线主线和栅线引线支线呈互相垂直的方向排布。 

11.根据权利要求7或8所述的测试液晶面板光学特性的阵列基板电路的实现方法，其特征在于，所述各数据线引线支线之间呈等间距状排布；所述各栅线引线支线之间呈等间距状排布。 

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