CN101484822A - 磁共振成像磁体系统的无源匀场 - Google Patents

磁共振成像磁体系统的无源匀场 Download PDF

Info

Publication number
CN101484822A
CN101484822A CNA2007800247267A CN200780024726A CN101484822A CN 101484822 A CN101484822 A CN 101484822A CN A2007800247267 A CNA2007800247267 A CN A2007800247267A CN 200780024726 A CN200780024726 A CN 200780024726A CN 101484822 A CN101484822 A CN 101484822A
Authority
CN
China
Prior art keywords
shim
material sheet
shim material
layout
pipe
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
CNA2007800247267A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101484822B (zh
Inventor
蒂莫西·巴尼斯
本杰明·J·凯特马尔
约翰·H·托耶
伊恩·威尔金森
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Siemens PLC
Original Assignee
Siemens Magnet Technology Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Siemens Magnet Technology Ltd filed Critical Siemens Magnet Technology Ltd
Publication of CN101484822A publication Critical patent/CN101484822A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101484822B publication Critical patent/CN101484822B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G01—MEASURING; TESTING
    • G01R—MEASURING ELECTRIC VARIABLES; MEASURING MAGNETIC VARIABLES
    • G01R33/00—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables
    • G01R33/20—Arrangements or instruments for measuring magnetic variables involving magnetic resonance
    • G01R33/28—Details of apparatus provided for in groups G01R33/44 - G01R33/64
    • G01R33/38—Systems for generation, homogenisation or stabilisation of the main or gradient magnetic field
    • G01R33/387—Compensation of inhomogeneities
    • G01R33/3873—Compensation of inhomogeneities using ferromagnetic bodies ; Passive shimming

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Magnetic Resonance Imaging Apparatus (AREA)

Abstract

本发明提供一种用于圆柱形磁体系统的无源匀场的布置，其包括位于所述圆柱形磁体的开口孔径内的梯度线圈组件(20)，所述梯度线圈组件包括在平行于所述圆柱形磁体的轴线的方向上定向的复数个管(22)，所述管用于容纳匀场体材料片(10)。所述匀场体10材料片(10)为大致平面的，且堆叠到所述管(22)中，使得这些匀场体材料片大致垂直于所述圆柱形磁体的轴线而放置。

Description

磁共振成像磁体系统的无源匀场
例如磁共振成像(MRI)或核磁共振(NMR)成像等应用需要具有高强度和非常高均匀性的磁场。此类磁场通常由包括布置成固定布置的许多超导或电阻性线圈的电磁体提供。
如此项技术中众所周知的，对磁体系统的设计投入了大量精力以使得其能够产生高强度均匀场。然而，仍无法设计出一种将在实际应用中产生其所设计均匀性的磁体。制造公差不可避免地使线圈从其设计位置偏移，且所使用的电线的特性可能不同于设计过程中所假定的特性。此外，当磁体安装在操作场所时，其可产生的磁场将受到周围环境的影响。举例来说，在医院环境中，建筑物的结构将通常含有结构钢，且附近的其它设备将影响磁体系统最终产生的场。出于这些原因，使用匀场(shimming)来校正实际场与设计场的偏差，改进实际场，以便实际场更紧密接近设计场。已知两种类型的匀场：有源匀场涉及控制穿过出于此目的而添加到磁体系统中的匀场体线圈(shim coil)的电流。穿过每一线圈的电流经调节以使得其产生整体上影响磁体系统的场的磁场。另一方面，无源匀场涉及在磁场内放置多片磁性材料(通常是钢)以使实际磁场变形，使得其更紧密类似于所设计的磁场。
本发明致力于用于成像的磁体系统中的无源匀场布置。
在用于成像的磁体系统中，许多线圈携载电流以产生高强度且相对均匀的磁场。此场可称为主场或背景场。另外，需要梯度场。梯度场沿着主场的轴线强度有所变化，而并非是均匀的。在中空圆柱形磁体系统中，产生主场的线圈轴向对准。通常，梯度线圈布置在主场线圈的径向内部的管状空间中。在典型的布置中，梯度线圈包括嵌入在铸封材料(例如树脂)中的电阻性电线。
已知的无源匀场布置采用匀场体盘(shim tray)，通常是具有矩形横截面的长方体盘，其在使用中在平行于磁体轴线的方向上容置于梯度线圈的铸封材料中所形成的狭槽中。匀场体盘沿着其长度包括许多凹穴(pocket)。匀场体片通常为扁平正方形或矩形钢片，其放置在所述凹穴内，且接着将匀场体盘引入梯度线圈中。通过提供布置在梯度线圈周围的许多匀场体盘，在多种径向和圆周位置中提供许多匀场体凹穴。举例来说，可采用12个盘，其每一者具有15个凹穴，从而给出总共180个匀场体凹穴。每一匀场体凹穴可含有许多匀场体片；每一匀场体片可具有多种厚度中的一种。通常使用计算机模拟来计算应放置在每一匀场体凹穴中的匀场体片的数目。每一凹穴中的匀场体材料量可通过添加恰当量的相同匀场体片来调节，或可使用具有不同厚度的匀场体片。
当前的匀场计算技术由在经布置穿过磁体开口孔径的凹穴阵列中布置正方形匀场体构成。匀场体经“堆叠”以使得对于任何给定的匀场体凹穴，堆叠高度在磁场的径向上，同时匀场体的晶粒取向(易磁化轴线)与轴向磁场对准。实际上，这导致凹穴内匀场体的厚度与对磁体系统体积的影响之间的近似线性关系。这允许使用多种优化技术来解决磁场污染的可测设置。
当前布置通常使用正方形或矩形的晶粒取向硅铁板作为匀场体材料。这些板具有经布置为平行于主磁体轴线的易磁化轴线，且其在径向方向上堆叠在所述凹穴中。由于匀场体物质与B0漂移(因此而得的图像质量)及安装时间两者之间的直接关系，所以减少所使用的匀场体物质的量的匀场方案对于减小匀场布置的大小、减小B0漂移以及改进用以在磁体中加载匀场体材料的准确度和时间方面将是有利的。
第2003/0206018号美国专利申请案描述用于在磁共振设备中定位匀场体材料的布置，以及可装配有匀场体元件的载体装置(例如匀场体盘)。如所引用的美国专利申请案中所描述，图5展示放置在梯度线圈110的矩形截面狭槽120中的匀场体片160的实例。
本发明解决此类用于磁体系统的无源匀场的常规布置所具有的若干技术问题，所述磁体系统例如为用于核磁共振或磁共振成像系统的超导电磁体或永久磁体。
明确地说，本发明解决以下问题中的一者或一者以上。
现有匀场体盘导致匀场材料在用于匀场的梯度线圈中所留出的空间中占有较低体积分数。这部分是由于需要在所有凹穴中提供充足空间以用于某一最大数目的匀场体，且部分是由于需要容纳匀场体盘本身。已作出估计，在通常经匀场的磁体系统中，实际上在留出用于匀场的体积中仅约35％由匀场材料占据。剩余65％实际上是浪费的空间。由于此类磁体系统的设计者设法优化空间使用，以便缩短或加宽中空圆柱形磁体的开口孔径，所以需要避免此类空间浪费。为了最小化所浪费空间，可限制匀场体盘的每一凹穴的容量。然而，这又不仅限制了可加载的匀场体材料的体积，而且还意味着最敏感区附近(通常朝向磁体中心)的匀场体凹穴被快速填满，从而迫使将任何另外需要的匀场体材料填入欠敏感区中，因而增加实现所需匀场效应所需要的匀场体材料的质量。
现有匀场体盘和梯度线圈中的相应狭槽具有矩形横截面。这导致应力集中于狭槽的角隅处，这往往会削弱梯度线圈的结构完整性。
放置在梯度线圈中狭槽内的匀场体材料往往会在向磁体供能时变热。此温度变化导致匀场体材料的磁性性质的变化。虽然匀场体材料可有效地在特定温度下提供特定等级的磁场均匀性，但匀场体材料的温度变化将造成所得磁场的均匀性发生变化。此效应是众所周知的，且通常称为B0漂移。
以已知布置提供匀场体通常涉及在磁体不起作用时在每一匀场体盘的恰当凹穴中手动放置匀场体片以及手动放置和取出匀场体盘。此工艺是耗时的、劳动密集型的，且容易出错。已发现该工艺难以自动化。
现有匀场软件(即，计算待放置匀场体材料的量和位置的软件)假设匀场体材料(例如铁)的磁化方向平行于主场的方向；不允许具有磁化向量的任何径向分量，但此类径向分量实际上可能存在于所使用的匀场体材料中。
本发明因此提供如所附权利要求书中所陈述的方法和设备。
通过结合附图考虑以下对某些实施例的描述，将更容易明白本发明的以上和另外目的、特性和优点，其中：
图1说明根据本发明实施例特征的安装在载体上的匀场体片的细节；
图2说明根据本发明实施例特征的位于梯度线圈组件中的管的布置，其经布置以容纳匀场体材料；
图3A到3B说明用于模拟匀场体材料的径向和轴向磁效应的方法的各方面；
图4说明本发明所提供的匀场体优化方法的概述；且
图5说明现有技术的匀场体布置的横截面。
根据本发明的一方面，免除了匀场体盘。此外，复数个大致平面的匀场体片经布置为垂直于中空圆柱形磁体的轴线。优选地，匀场体片为平面的，且更优选为圆形的，并且梯度线圈组件具备许多圆柱形匀场体管以用于容纳匀场体片。优选地，提供用于现场冷却匀场体片的布置。
仅以实例方式，在图1和图2中示意性展示本发明的某些实施例的几何形状。
图1展示根据本发明的一方面的匀场体布置的细节。根据本发明的此实施例，匀场材料盘10布置在为此目的而提供的梯度线圈组件20(图2)内，梯度线圈组件20位于具有互补横截面的管(tube)22中。在所说明的实施例中，盘10是圆形的，且管22具有圆形横截面。在替代实施例中，盘10可为椭圆形的，且管22可具有椭圆形横截面。在这些实施例中，有可能将匀场体片布置为整体上相对于梯度线圈组件具有一个确定的定向，这将难以用圆形盘10进行布置。在另外替代性布置中，盘10可为三角形、正方形、矩形、六边形或几乎任何平面形状。实施例可甚至提供大致平面的匀场体片，其仍具有互补的上表面和下表面特征，所述特征可紧密堆叠在管22内。这些布置可允许匀场体片相对于彼此具有一个确定的定向。
根据所说明实施例的特征，匀场材料盘10具备通孔12。在使用中，通过使携载杆14穿过每个盘10中的通孔12来将盘10安装在携载杆14上。
类似于已知的匀场方法，使用计算机化优化程序来计算匀场材料盘10在每个管22内的所需定位。在不需要匀场盘10的位置中使用非磁性间隔盘16，以便确保匀场材料盘10在其既定位置中的正确定位和保持。一旦计算机程序已针对每个管22计算了所需匀场体位置，便以相应的正确顺序将匀场材料盘10和非磁性间隔盘16加载到相应携载杆14上。接着将每个具有匀场材料盘和非磁性间隔盘的携载杆加载到相应的管22中。优选地，在每个管22处或每个管22的每一开放端处提供端支撑插塞18，以防止具有匀场材料盘和非磁性间隔盘的携载杆移动。每个端支撑插塞18可具备一个通孔，携载杆14可穿过该通孔。或者，端支撑插塞可能不具备通孔，而每一携载杆14可整体保持在其管22内。
非磁性间隔盘支撑匀场材料盘，且允许建立一种大致改进主磁场均匀性的匀场材料分布。支撑杆的每一端处的锥形插塞将杆(和匀场体)牢固地保持在梯度线圈中。梯度线圈中的匀场体管的轴线和管内的盘的轴线重合并平行于主磁体轴线(z轴线)。
在本发明的优选实施例中，携载杆14可提供为一种中空管，冷却流体(例如水)可经布置以穿过所述中空管。在此类布置中，匀场体片10保持在相对恒定的温度，且将减少由于匀场体的温度变化而引起的匀场效应变化，而匀场效应变化会造成B0漂移。
在优选实施例中，使用多种匀场体片10，其具有不同的轴向范围，所述轴向范围可视为每一匀场体片的厚度。不同的轴向范围意味着某些匀场体片含有比其它匀场体片多的匀场体材料，且因此具有不同的匀场效应。在此实施例中，所有匀场体优选地在轴向平面中具有相同尺寸和形状，所述尺寸和形状大致对应于相应的管22的横截面。在替代实施例中，可使用具有不同尺寸和/或形状的匀场体片10。不同尺寸和/或形状意味着某些匀场体片含有比其它匀场体片多的匀场体材料，且因此具有不同的匀场效应。可结合不同轴向范围(厚度)来使用不同尺寸和/或形状，以提供各种各样的具有不同匀场效应的匀场体。
这些匀场体片和每个匀场体管的横截面优选地为圆化的，且更优选地为圆形的。穿过梯度线圈20的圆化(而非矩形横截面管)使得针对留出用于匀场的相同梯度线圈体积能够具有较刚性的梯度线圈结构，因为避免了原来在匀场体盘狭槽的角隅处观测到的应力集中。根据本发明，安装在中心支撑杆14或导管(pipe)上的匀场体材料盘10比加载到现有技术的匀场体盘的凹穴中的板给出匀场体材料在管22中高得多的填充因数。较高的填充因数意味着可将较多匀场体材料放置在最敏感区中，从而减小整体匀场体质量。提供与匀场体材料具有良好热接触的冷却导管，减轻了与匀场体的温度变化相关联的图像质量问题。
最后，将盘加载到杆或螺纹棒或导管上的工艺，比当前将板加载到盘的凹穴中的工艺更易于自动化。自动加载匀场体材料将比在已知方法中更快速且更准确，这不仅加速了匀场迭代，而且还可减少所需迭代的数目。
虽然本发明因此减轻了现有技术的至少一些困难，但已发现产生新的困难。发现具有不同轴向范围的匀场材料盘具有非线性效应。现有技术依赖于改变匀场体在径向方向上的方面，这被认为具有较为线性的效应。
在匀场体材料中存在磁化向量的显著径向分量，这在匀场优化计算中引入另一困难。当前技术依赖于匀场体材料的晶粒取向，以迫使磁场越过匀场体进入轴向方向。本发明的匀场体片布置在径向平面中，这具有径向效应。
与具有现有匀场几何形状的可比较匀场体分布中所使用的板数目相比，极大增加的匀场体盘(可构成具有新几何形状的匀场体分布)数目使优化工艺复杂化。
由于使匀场体布置在径向平面中，必须考虑由匀场体的材料引入的非径向磁化效应。磁场可对在径向(r)和轴向(z)方向上对由于匀场体材料而引起的扭曲较为敏感——这可称为Mr/Mz敏感性。
本发明还提供可用于计算匀场体材料的所需量和位置的方法。这些方法包括以下元素。
匀场体敏感性
可针对具有恒定横截面且Z变化的匀场体，导出公式，其中考虑匀场体横截面上的Mr(径向磁化)和Mz(轴向磁化)中的变化，其中“径向”和“轴向”分别指的是垂直于和平行于磁体系统的主轴线Z的方向。这成为优化方案的基础，以最小化成像系统目标视场上的不匀性(或最大化均匀性)。
图3A-3B说明用于模拟匀场体材料在所得磁场上的径向和轴向磁效应的方法的各方面。磁化向量描述磁场在某一点处的方向，会径向变化，所以需要在匀场体盘的整个表面上评估磁化向量，所述表面根据本发明位于径向平面中。
图3A展示匀场体盘上的选定点的实例，所述选定点可用于评估本发明的匀场体布置中的Mr/Mz敏感性。因为匀场体盘堆叠在每一匀场体管内，所以图3A中的每一点表示在管22中延伸匀场体的长度的一维细丝。在每一点处，可计算点敏感性，且这可计算细丝的长度。为了减少所需计算的数目，仅在可能会需要匀场体的位置处执行对点敏感性的准确计算。可在第一遍匀场优化计算中计算此类位置。可将所得计算点敏感性提供回优化器，以便计算优化的匀场体分布。
在已知的匀场体布置中，例如图5所示，匀场体狭槽的数目可约为16。在本发明实施例中，可采用大约70个匀场体管22。由于用于匀场体盘的可能位置的显著增加(这是由于与现有技术的狭槽相比本发明的管数目的增加以及每个管中可容纳的匀场体片数目的增加)，所以产生优化的匀场体分布所需要的计算总数可变得非常大。
迭代方案
在本发明的实例性实施例中，需要大约70个2.5cm直径的管(见图2)。将这些管划分成具有与常规匀场体盘类似的轴向长度的区给出总共1050(70×15)个优化变量，而较常规为240个变量。此离散化水平向优化器呈现难题，因为数据集相对较大而每一凹穴的效应相对较小。
组合匀场体凹穴
有可能构建在匀场体管内组合凹穴的高度准确模型。相邻盘可通过构建敏感性细丝的复合横截面来组合，见图3A和3B。一旦所述凹穴的横截面已构成，便可将所述结构视为单个变量。
如图3B中所说明，有可能通过组合针对两个或两个以上相邻匀场体管的计算来减少计算数目，而仍实现令人满意的所计算匀场体分布。可向每个管内的相应细丝应用单个计算。
最初可优化所组合横截面凹穴以产生总方案。丢弃匀场体组的空白区域且逐步精练剩余凹穴将汇总到一种方案。
根据本发明的匀场优化应在高度离散化匀场体组中包括以下特征的变化：
·圆柱形匀场体的轴向范围，
·匀场体磁化向量的径向分量。
本发明因此提供用于核磁共振或磁共振成像系统的例如在成像系统中使用的磁体(例如超导电磁体或永久磁体)的无源匀场布置。与现有无源匀场体布置相比，本发明提供：增加的梯度线圈强度；通常在梯度线圈内留出用于匀场的空间的增加的匀场材料填充因数；匀场体的较佳热稳定性；以及经改进的自动化匀场体加载的可能性。

Claims (15)

1.一种用于圆柱形磁体系统无源匀场的布置，所述布置包括一个位于所述圆柱形磁体的开口孔径内的梯度线圈组件(20)，所述梯度线圈组件包括在平行于所述圆柱形磁体轴线的方向上定向的复数个管(22)，所述管(22)用于容纳复数个匀场体材料片(10)，
其特征在于，所述匀场体材料片(10)为大致平面的，且堆叠到所述管(22)中，使得这些匀场体材料片大致垂直于所述圆柱形磁体的轴线放置。
2.根据权利要求1所述的布置，其中所述匀场体材料片(10)为平面的。
3.根据权利要求1或2所述的布置，其中每个管(22)的横截面与所述匀场体材料片(10)的形状互补。
4.根据权利要求3所述的布置，其中所述匀场体材料片(10)是圆形的盘，且所述管(22)具有圆形横截面。
5.根据前述权利要求中任一权利要求所述的布置，进一步包括非磁性间隔件(16)，这些非磁性间隔件(16)经布置以将所述匀场体材料片(10)支撑并保持于恰当位置，且允许建立所需的匀场材料分布。
6.根据权利要求1到5中任一权利要求所述的布置，其中在所述梯度线圈组件(20)的所述管(22)的末端处提供锥形插塞(18)，进而将所述匀场体材料片(10)保持在所述梯度线圈组件(20)的所述管(22)内。
7.根据前述权利要求中任一权利要求所述的布置，其中所述匀场体材料片(10)安装在每个管(22)内的中心杆或导管(14)上。
8.根据权利要求7所述的布置，其中所述匀场体材料片(10)安装在中心导管(14)上，所述导管经布置以在其中承载冷却介质。
9.根据权利要求7到8中任一权利要求所述的布置，其中在所述支撑杆或导管(14)的每一末端处提供锥形插塞(18)，进而支撑所述支撑杆或导管、以及支撑所述梯度线圈组件(20)的管(22)内的所述匀场体材料片(10)。
10.根据前述权利要求中任一权利要求所述的布置，其中所述梯度线圈组件(20)中的所述管(22)的轴线和所述管内的所述匀场体材料片(10)的轴线重合，且平行于所述圆柱形磁体的轴线。
11.根据前述权利要求中任一权利要求所述的布置，其中使用多种匀场体材料片(10)，所述匀场体材料片具有不同的轴向范围。
12.根据前述权利要求中任一权利要求所述的布置，其中所述匀场体材料片(10)在垂直于所述圆柱形磁体轴线的平面中具有相同尺寸和形状，所述尺寸和形状大致对应于相应的管(22)的横截面。
13.根据权利要求11所述的布置，其中所述匀场体材料片(10)在垂直于所述圆柱形磁体轴线的平面中具有一尺寸和形状，采用具有不同尺寸和/或形状的匀场体材料片(10)。
13.根据前述权利要求中任一权利要求所述的布置，其中每个管(22)的横截面和所述匀场体材料片(10)是圆化的。
14.根据前述权利要求中任一权利要求所述的布置，其中每个管(22)的横截面和所述匀场体材料片(10)是圆形的。
CN2007800247267A 2006-07-06 2007-07-05 磁共振成像磁体系统的无源匀场 Expired - Fee Related CN101484822B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
GB0613389A GB2439749B (en) 2006-07-06 2006-07-06 Passive shimming of magnet systems
GB0613389.6 2006-07-06
PCT/GB2007/050381 WO2008004004A1 (en) 2006-07-06 2007-07-05 Passive shimming of mri magnet systems

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101484822A true CN101484822A (zh) 2009-07-15
CN101484822B CN101484822B (zh) 2012-08-29

Family

ID=36926527

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2007800247267A Expired - Fee Related CN101484822B (zh) 2006-07-06 2007-07-05 磁共振成像磁体系统的无源匀场

Country Status (5)

Country Link
US (2) US20090096453A1 (zh)
JP (1) JP5172834B2 (zh)
CN (1) CN101484822B (zh)
GB (1) GB2439749B (zh)
WO (1) WO2008004004A1 (zh)

Cited By (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102116855A (zh) * 2010-12-31 2011-07-06 奥泰医疗系统有限责任公司 超导磁体无源匀场方法
CN102478647A (zh) * 2010-11-24 2012-05-30 三菱电机株式会社 Mri用超导磁体的调整方法
CN103654783A (zh) * 2012-09-05 2014-03-26 三星电子株式会社 磁共振成像装置及其制造方法
CN105652226A (zh) * 2014-11-28 2016-06-08 西门子公司 用于确定磁共振设备的基本匀场设置的方法
CN106233153A (zh) * 2014-03-24 2016-12-14 西门子医疗有限公司 具有增强冷却的用于磁共振成像装置的匀场设备及用于提供这种设备的方法
CN109549646A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 西门子保健有限责任公司 医学成像设备和用于确定匀场单元的装配的方法

Families Citing this family (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP5199741B2 (ja) * 2008-06-10 2013-05-15 三菱電機株式会社 超電導電磁石装置
JP5349177B2 (ja) * 2009-07-09 2013-11-20 株式会社東芝 磁気共鳴イメージング装置
CA2780181C (en) * 2009-12-02 2019-10-15 Nanalysis Corp. Method and apparatus for producing homogeneous magnetic fields
GB2483854B (en) * 2010-09-21 2014-12-17 Siemens Plc Arrangements and method for shimming a magnetic field
DE102012016402A1 (de) * 2011-11-21 2013-05-23 Krohne Ag Magnetbaugruppe für ein kernmagnetisches Druchflussmessgerät
BR112015031516A2 (pt) * 2013-06-21 2017-07-25 Koninklijke Philips Nv aparelho de ressonância magnética
EP3193184A1 (en) * 2016-01-17 2017-07-19 Eidgenössische Technische Hochschule (ETH) B0 shimming device for mri
CN107402225A (zh) * 2017-07-07 2017-11-28 云南电网有限责任公司大理供电局 射频电磁弛豫特性测量系统
EP3839542A1 (en) * 2019-12-16 2021-06-23 Koninklijke Philips N.V. Optimized orientation of shim elements in an mri system
CN114200366A (zh) * 2021-12-16 2022-03-18 武汉联影生命科学仪器有限公司 匀场装置、磁场组件、磁共振成像系统及匀场方法

Family Cites Families (16)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3540080A1 (de) * 1985-11-12 1987-05-14 Siemens Ag Kernspintomographiegeraet
FR2609206B1 (fr) * 1986-12-30 1992-02-14 Thomson Cgr Dispositif correcteur par elements magnetiques d'inhomogeneites du champ magnetique dans un aimant
FR2623324A1 (fr) * 1987-11-13 1989-05-19 Thomson Cgr Dispositif d'imagerie rmn, procede de correction d'inhomogeneite et procede de realisation d'aimants mis en oeuvre dans le dispositif
US5235284A (en) * 1989-07-07 1993-08-10 Mitsubishi Denki Kabushiki Kaisha Passive shim arrangement for nuclear magnetic resonance
US5003276A (en) * 1989-08-11 1991-03-26 General Atomics Method of site shimming on permanent magnets
JPH04328477A (ja) * 1991-04-30 1992-11-17 Mitsubishi Electric Corp 電磁石装置
JPH04347137A (ja) * 1991-05-27 1992-12-02 Mitsubishi Electric Corp 磁場補正装置
US5635839A (en) * 1994-11-04 1997-06-03 Picker International, Inc. High order passive shimming assembly for MRI magnets
US5786695A (en) * 1997-03-21 1998-07-28 Picker International, Inc. Shim tray with reduced heat conduction and forced cooling
US5999076A (en) * 1998-12-30 1999-12-07 General Electric Company Magnetic resonance imaging passively shimmed superconducting magnet assembly
DE19922652C2 (de) * 1999-05-18 2001-08-02 Bruker Analytik Gmbh Einrichtung zum Homogenisieren eines Magnetfeldes
DE10147984B4 (de) * 2001-09-28 2007-10-11 Siemens Ag Magnetresonanz-Untersuchungsgerät mit einer Einrichtung zur Erzeugung eines homogenen Magnetfeldes und Verfahren zur Verbesserung der Homogenität eines Magnetfeldes
DE10214112B4 (de) * 2002-03-28 2006-01-26 Siemens Ag Shimkasten, Gradientenspulensystem und Magnetresonanzgerät zum Aufnehmen des Shimkastens
DE10219769B3 (de) * 2002-05-02 2004-01-22 Siemens Ag Magnetresonanzgerät und mit Shimelementen bestückbare Trägervorrichtung
US7196520B2 (en) * 2004-10-22 2007-03-27 General Electric Company Method and apparatus for passive shimming of magnets
DE102005020378B4 (de) * 2005-05-02 2010-01-07 Siemens Ag Magnetresonanzgerät mit Gradientenspule mit integrierten passiven Shimvorrichtungen

Cited By (12)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102478647A (zh) * 2010-11-24 2012-05-30 三菱电机株式会社 Mri用超导磁体的调整方法
US9013255B2 (en) 2010-11-24 2015-04-21 Mitsubishi Electric Corporation Method for adjusting MRI superconducting magnet
CN102478647B (zh) * 2010-11-24 2015-12-16 三菱电机株式会社 Mri用超导磁体的调整方法
CN102116855A (zh) * 2010-12-31 2011-07-06 奥泰医疗系统有限责任公司 超导磁体无源匀场方法
CN102116855B (zh) * 2010-12-31 2013-10-16 奥泰医疗系统有限责任公司 超导磁体无源匀场方法
CN103654783A (zh) * 2012-09-05 2014-03-26 三星电子株式会社 磁共振成像装置及其制造方法
US9753107B2 (en) 2012-09-05 2017-09-05 Samsung Electronics Co., Ltd. Magnetic resonance imaging (MRI) apparatus and manufacturing method thereof
CN103654783B (zh) * 2012-09-05 2018-05-08 三星电子株式会社 磁共振成像装置及其制造方法
CN106233153A (zh) * 2014-03-24 2016-12-14 西门子医疗有限公司 具有增强冷却的用于磁共振成像装置的匀场设备及用于提供这种设备的方法
CN105652226A (zh) * 2014-11-28 2016-06-08 西门子公司 用于确定磁共振设备的基本匀场设置的方法
CN105652226B (zh) * 2014-11-28 2019-04-05 西门子公司 用于确定磁共振设备的基本匀场设置的方法
CN109549646A (zh) * 2017-09-26 2019-04-02 西门子保健有限责任公司 医学成像设备和用于确定匀场单元的装配的方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20100207630A1 (en) 2010-08-19
US20090096453A1 (en) 2009-04-16
WO2008004004A1 (en) 2008-01-10
JP5172834B2 (ja) 2013-03-27
GB2439749B (en) 2010-03-03
JP2009542277A (ja) 2009-12-03
GB2439749A (en) 2008-01-09
CN101484822B (zh) 2012-08-29
GB0613389D0 (en) 2006-08-16
GB2439749A8 (en) 2008-11-19

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101484822B (zh) 磁共振成像磁体系统的无源匀场
JP2009542277A5 (zh)
CN1798981B (zh) 磁共振成像扫描器及制造磁共振扫描器的方法
US7889034B2 (en) Method of high magnetic field superconducting magnet
CN103442635A (zh) 静磁场均匀度的调整方法、磁共振成像用静磁场产生装置、磁场调整系统、程序
US20110057655A1 (en) Software for adjusting magnetic homogeneity, method for adjusting magnetic homogeneity, magnet device, and magnetic resonance imaging apparatus
CN104459584A (zh) 用于产生均匀磁场的方法和装置
CN111220937A (zh) 具有槽的海尔贝克磁体布置系统
Debray et al. DC high field magnets at the LNCMI
CA3149279A1 (en) Magnet configurations
CN103454605B (zh) 超导磁体的匀场调节装置
CN104135922A (zh) 超导磁体的调整方法
CN115831570A (zh) Halbach构型磁体的匀场方法
US7196520B2 (en) Method and apparatus for passive shimming of magnets
Takrimi et al. A z‐gradient array coil with a dedicated active‐shielded array coil for MRI
US6946940B2 (en) Permanent magnet and shim design
CN102478647A (zh) Mri用超导磁体的调整方法
GB2483854A (en) Shimming a Magnetic Field
CN109712773B (zh) 一种极高场核磁共振超导磁体
US6067001A (en) Method for designing electromagnets having arbitrary geometrical constraints
JP4222840B2 (ja) Ｎｍｒのシム形成方法
Toth et al. Homogeneity study for the NHMFL series connected hybrid magnet system
JPH07250819A (ja) 受動的にシムを施された側方接近画像形成磁石
CN116256680B (zh) 一种磁共振用Halbach磁体的无源匀场结构与方法
CN105652226A (zh) 用于确定磁共振设备的基本匀场设置的方法

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: ENGLAND SIEMENS AG

Free format text: FORMER OWNER: SIEMENS MAGNET TECHNOLOGY LTD.

Effective date: 20091023

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20091023

Address after: Britain's

Applicant after: Siemens PLC

Address before: Oxfordshire

Applicant before: Siemens Magnet Technology Ltd.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20120829

Termination date: 20140705

EXPY Termination of patent right or utility model