CN101452250A

CN101452250A - 全息图记录介质的间隙层用膜及全息图用记录介质

Info

Publication number: CN101452250A
Application number: CNA2008101786995A
Authority: CN
Inventors: 常守秀幸
Original assignee: Teijin Chemicals Ltd
Current assignee: Teijin Ltd
Priority date: 2007-12-03
Filing date: 2008-12-02
Publication date: 2009-06-10
Also published as: JP2009139396A

Abstract

本发明的目的是提供一种由具有高耐热性的聚碳酸酯共聚物构成的全息图记录介质用的膜。即，本发明提供一种全息图记录介质的间隙层用膜及具有该膜的全息图记录介质，该膜由聚碳酸酯共聚物构成，该聚碳酸酯共聚物由结构单元(A)与结构单元(B)构成，在全部结构单元中，结构单元(A)的比例为20～90摩尔％，其中，结构单元(A)用上式[1]表示，(式中，R¹～R⁴分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳原子数1～9的烃基或卤原子)，结构单元(B)用上式[2]表示。

Description

全息图记录介质的间隙层用膜及全息图用记录介质

技术领域

本发明涉及全息图记录介质的间隙层用膜以及全息图用记录介质。

背景技术

能够进行三维信息记录的全息图记录介质，与光磁记录介质或相变化光记录介质等相比，是一种可实现大容量·高速传送的光记录技术。

全息图的记录再生方式如下所示，作为二维图像而照射赋予信息的信息光与参照光并使其发生干涉，利用形成的干涉图案使在记录层内部产生折射率等的光学特性分布，由此记录信息。再生时，通过仅照射参照光，使具有对应记录的干涉图案的光学特性分布的再生光在记录层上照出。

作为该全息图记录介质的记录层，已知，通常，在自由基聚合性化合物及光自由基聚合引发剂之外，还具有三维交联聚合物基体(例如，专利文献1)。三维交联聚合物基体，具有抑制自由基聚合性化合物的过量移动，从而抑制记录层中相当于亮部的位置及相当于暗部的位置的体积变化的功能。作为三维交联聚合物基体材料，可以举出环氧化合物、来自阳离子聚合性单体的反应固化物等(例如，专利文献2)。

另外，作为全息图记录介质的结构，已经进行了各种研究，提出了如图1所示的全息图记录介质(例如，专利文献3、4、5)。在支撑体第二基板1表面上设置伺服凹坑图案8，在该伺服凹坑图案8表面上层积由金属反射膜构成的反射层2。进一步，在反射层2与过滤器层4之间，设置为了使第二基板1平坦化的间隙层3。即，在过滤器层4上，依次层积保护层5、记录层6、透光性第一基板7，从而制成。

作为构成全息图记录介质的间隙层3上使用的基材，提出了从双酚A得到的聚碳酸酯树脂(下面标记为PC—A)形成的光学膜。该膜透明性、尺寸稳定性、耐加水分解性优异，因此被作为位相差膜、光盘用罩膜(cover film)等的光学用基材而被广泛应用。

但是，在上述全息图记录介质中，在使用由PC-A构成的光学膜用于间隙层3的情形，在间隙层3上使用粘结剂或粘接剂等以寻求第二基板1的表面平坦性，但由于在间隙层3上层积过滤器层4等或层积记录层时产生的热，间隙层3发生变形，从而使层积的过滤器层4上发生皲裂等的缺陷等。另外，由于发生变形，间隙层3的厚度变的不均一，因此，破坏第二基板1的表面平坦性，因而成为问题。

因此，对于间隙层中使用的光学膜，需要寻求其具有耐热性。

(专利文献1)JP特开平11—161137号公报

(专利文献2)JP特开2005—107312号公报

(专利文献3)JP特开2004—265472号公报

(专利文献4)JP特开2007—93799号公报

(专利文献5)JP特开2007—79164号公报

发明内容

本发明的目的是提供一种全息图记录介质的间隙层用膜，该膜由耐热性优异并且透明性、光学特性优异的聚碳酸酯树脂构成。另外，本发明的目的是提供一种全息图记录介质，其不会由于在层积过滤器层时或层积记录层时的热而引起间隙层变形，在层积的过滤器层上不会产生皲裂等的缺陷。

为了解决上述课题，本发明提供下述方案。

1.一种全息图记录介质的间隙层用膜，其由聚碳酸酯共聚物构成，该聚碳酸酯共聚物由结构单元(A)与结构单元(B)构成，在全部结构单元中，结构单元(A)的比例为20～90摩尔％，其中，

结构单元(A)用下式[1]表示，

(式中，R¹～R⁴分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳原子数1～9的烃基或卤原子)

结构单元(B)用下式[2]表示，

2.按照上述1所述的膜，其中，聚碳酸酯共聚物的全部结构单元中的结构单元(A)的比例为30～80摩尔％。

3.按照上述1或2所述的膜，其中，聚碳酸酯共聚物的玻璃化转变温度为180℃以上。

4.按照上述1～3中任一项所述的膜，其中，厚度为20～200μm，并且厚度不匀值为±5％以下。

5.按照上述1～4中任一项所述的膜，其中，在160℃下加热处理1小时后的热尺寸变化率为0.08％以下，并且表面的微小突起数为20个/mm²以下。

6.按照上述1～5中任一项所述的膜，其中，面内迟延为20nm以下，厚度方向的迟延为60nm以下。

7.按照上述1～6中任一项所述的膜，其中，中心线平均表面粗糙度为5nm以下。

8.一种全息图记录介质，该全息图记录介质将作为二维图像被赋予了信息的信息光和能够干涉信息光的参照光进行重合，并利用全息图来记录信息，该全息图记录介质由作为支撑体的第二基板、反射层、间隙层、保护层、过滤器层、记录层以及透光性的第一基板构成，其特征在于，该间隙层为上述1～7所述的膜。

9.按照上述8所述的全息图记录介质，其中，使信息光的光轴与参照光的光轴同轴来照射信息光及参照光。

10.按照上述8或9所述的全息图记录介质，其中，第二基板具有为了检出伺服信息而形成的伺服凹坑图案。

11.按照上述8～10中任一项所述的全息图记录介质，其中，第二基板在伺服凹坑图案上形成反射膜。

12.按照上述8～11中任一项所述的全息图记录介质，其中，反射层为金属反射膜。

13.按照上述8～12中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层与反射膜之间设置间隙层，并使第二基板表面平坦化。

14.按照上述8～13中任一项所述的全息图记录介质，其中，间隙层是通过贴合光学用膜而形成。

15.按照上述8～14中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层是由分色镜形成的层或胆甾型液晶形成的层，该过滤器层具有波长选择性能。

16.按照上述8～15中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层含有颜料以及染料中至少任意之一的着色材料。

17.按照上述8～16中任一项所述的全息图记录介质，其中，在过滤器层上形成保护层、记录层、透光性第一基板。

18.按照上述8～17中任一项所述的全息图记录介质，其中，第一基板以及第二基板是聚碳酸酯树脂或玻璃。

19.按照上述8～18中任一项所述的全息图记录介质，采用通过照射信息光和参照光并使其干涉而形成的干涉图案在记录层上记录信息的方式，其中，采用下述方式，即照射与信息光及参照光不同波长的伺服用光，通过该伺服用光的焦点距离检测出记录的干涉图案的位置信息。

附图说明

图1是表示直线式使用的全息图记录介质、其信息光及参照光的概要图。

其中，附图标记说明如下：

1 第二基板 2 反射层

3 间隙层 4 过滤器层

5 保护层 6 记录层

7 第一基板 8 伺服凹坑图案

9 伺服用光(红色激光) 10 信息光/参照光(绿色或蓝色激光)

具体实施方式

以下，详细说明本发明。

<聚碳酸酯共聚物>

对构成全息图记录介质的间隙层进行了悉心研究，其结果是发现，通过使用由聚碳酸酯共聚物构成的光学膜，能够显示出比现有技术的PC-A更高的耐热性，该聚碳酸酯共聚物由结构单元(A)与结构单元(B)构成，结构单元(A)由用上式[1]表示的二元酚衍生，结构单元(B)由用上式[2]表示的二元酚衍生。

由上述研究结果可知，在全部结构单元中结构单元(A)的比例为20～90摩尔％的聚碳酸酯共聚物满足上述课题。即，其是具有高的耐热性的聚碳酸酯共聚物，并且由该聚碳酸酯共聚物构成的光学膜用于构成上述全息图记录介质的间隙层，在层积过滤器层时或层积记录层时产生的热不会引起间隙层变形，并且，在过滤器层上不会产生皲裂等的缺陷。

该结构单元(A)，可举出下式[1]。

(式中，R¹～R⁴分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳原子数1～9的烃基或卤原子，进一步优选的，R¹、R²、R³、R⁴相同或不同，表示氢原子、碳原子数1～3的烷基或苯基，特别优选为氢原子或碳原子数为1～3的烷基)。

作为该结构单元(A)的优选的具体例子，例如，可以举出由9，9-双(4-羟基苯基)芴、9，9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴、9，9-双(4-羟基-3-乙基苯基)芴以及9，9-双(4-羟基-2-甲基苯基)芴等衍生的具有碳酸酯键的结构单元。

接下来，结构单元(B)，可举出下式[2]。

其中，特别优选，结构单元(A)成分，是由9，9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴衍生的，且结构单元(B)是由2，2’-双(4-羟基苯基)丙烷衍生的，具有碳酸酯键的结构单元。

另外，全部结构单元中的结构单元(A)的比例优选为20～90摩尔％，更优选为30～80摩尔％。全部结构单元中的结构单元(B)的比例优选为80～10摩尔％，更优选为70～20摩尔％。另外，通过将其用作光学膜，能够得到耐热性极高的光学膜，该光学膜可用于构成全息图记录介质的间隙层。

结构单元(A)的摩尔比不足20摩尔％的情形，因为耐热性不足，而不优选。另外，结构单元(A)的摩尔比超过90摩尔％情形，耐热性变高，含有芴环的二价酚成分变多，光学膜脆化，层积间隙层时光学膜产生皲裂等的缺陷，因而不优选。

<聚碳酸酯树脂的制造方法>

通过溶液聚合法或熔融聚合法，使衍生结构单元(A)的二元酚以及衍生结构单元(B)的二元苯酚和碳酸酯前躯体反应，能够制造上述聚碳酸酯共聚物。更优选的聚碳酸酯共聚物，是通过溶液聚合法也即界面聚合法来制造。该二种二元酚可与碳酸酯前躯体同时反应也可将每一种类按顺序反应。

界面聚合法的反应，通常是二元酚与光气的反应，其在酸结合剂以及有机溶剂的存在下发生反应。作为酸结合剂，例如，可使用氢氧化钠、氢氧化钾等的碱金属氢氧化物或吡啶等的胺化合物。作为有机溶剂，例如可使用二氯甲烷、氯苯等的卤化烃。另外，为了促进反应，例如，可以使用三乙基胺、四正丁基溴化铵、四正丁基溴化鏻等的叔胺、季铵化合物、季鏻化合物等的催化剂。另外，优选反应温度通常为0～40℃、反应时间为10分钟～5小时左右、反应时的pH值保存在9以上。

另外，在该聚合反应中，通常使用末端停止剂。作为该末端停止剂可使用单官能酚类。单官能酚类，其作为末端停止剂通常用于调节分子量，另外，得到的聚碳酸酯树脂，其末端通过基于单官能酚类的基团而被封端，与不进行该封端的产物相比，热稳定性优异。作为该单官能酚类，通常为苯酚或低级烷基取代酚，可示出用下式[3]表示的单官能酚类。

(式中，A是氢原子或碳原子数1～9的直链或支链的烷基或苯基取代烷基；r为1～5，优选为1～3的整数。)

作为上述单官能酚类的具体例子，可以举出，苯酚、苯基苯酚、对叔丁基苯酚、对枯基苯酚、叔辛基苯酚以及异辛基苯酚。

另外，作为其他的单官能酚类，可使用作为取代基而具有长链的烷基或脂肪族酯基的酚类或安息香酸氯化物类，或长链的烷基羧酸氯化物类。

这些末端停止剂，相对于得到的聚碳酸酯共聚物的全部末端导入到至少5摩尔％的末端、优选至少10摩尔％的末端，更优选为导入到80摩尔％以上的末端。另外，末端停止剂为单独使用或2种以上混合使用。

熔融聚合法的反应，通常以二元苯酚与碳酸酯的酯交换反应为代表，其通过以下方法来进行，即在惰性气体的存在下，在加热二元酚与碳酸酯的同时将其混合，蒸馏出生成的醇或酚。反应温度，根据生成的醇或酚的沸点等而不同，通常为120～350℃的范围。在反应后期，将体系减压至1300Pa～13Pa(10～0.1Torr)左右，从而使生成的醇或酚容易馏出。反应时间通常为1～4小时左右。

作为碳酸酯，可举出可以具有取代基的碳原子数为6～10的芳基、芳烷基或碳原子数1～4的烷基等的酯。具体地，可举出二苯基碳酸酯、二甲苯基碳酸酯、双(氯苯基)碳酸酯、间甲苯碳酸酯、二萘基碳酸酯、双(二苯基)碳酸酯、二甲基碳酸酯、二乙基碳酸酯、二丁基碳酸酯等，其中，优选二苯基碳酸酯。

另外，为了提高聚合速度，可使用聚合催化剂。作为聚合催化剂，例如，可以使用氢氧化钠或氢氧化钾等的碱金属或碱土类金属的氢氧化物、硼或铝的氢氧化物、碱金属盐、碱土类金属盐、季铵盐、碱金属或碱土类金属烷氧化物、碱金属或碱土类金属的有机酸盐、锌化合物、硼化合物、硅化合物、锗化合物、有机锡化合物、铅化合物、锑化合物、锰化合物、钛化合物、锆化合物等的通常酯化反应或酯交换反应中使用的催化剂。催化剂可单独使用，也可组合两种以上使用。这些聚合催化剂的使用量，相对于原料的二元酚1摩尔，优选为1×10^-9～1×10^-5当量、更优选为1×10^-8～5×10^-6当量的范围。

另外，在该聚合反应中，为了减少酚性末端基，优选在缩聚反应后期或终了后添加例如2-氯苯基苯基碳酸酯、2-甲氧基羰基苯基苯基碳酸酯以及2-乙氧基羰基苯基苯基碳酸酯，特别优选2-乙氧基羰基苯基苯基碳酸酯。

进一步，熔融酯交换法中，优选使用中和催化剂活性的失活剂。作为该失活剂的量，优选相对于残余的催化剂1摩尔，使用0.5～50摩尔的比例。另外，相对于聚合后的聚碳酸酯共聚物，使用0.01～500ppm的比例，更优选使用0.01～300ppm，特别优选使用0.01～100ppm的比例。作为失活剂，可优选举出，十二烷基苯磺酸四丁基鏻盐等的鏻盐、四乙基铵十二烷基苄基硫酸盐等的铵盐等。

对于上述以外的反应形式的详细记载，已通过各种文献及专利公报等公知。

(比粘度)

本发明中，聚碳酸酯共聚物的比粘度，优选为0.20～1.00的范围，更优选为0.25～0.90的范围。具有该比粘度的聚碳酸酯共聚物，作为光学膜能够得到的充分的强度。比粘度小于0.20时，强度不足，因而不优选。比粘度比1.00大时，熔融挤出时，熔融粘度高，制膜困难，另外，由于溶液制膜时溶液粘度过高，熔融制膜操作变困难，因而不优选。另外，本发明中的比粘度，可根据下述方法算出，即，从在20℃下将0.7g聚碳酸酯树脂溶解在100ml二氯甲烷而得到的溶液，求出极限粘度，然后通过下式求出比粘度(η_sp)：

η_sp/c＝[η]+0.45×[η]²c

η_sp：比粘度

η：极限粘度

c：常数(＝0.7)。

(玻璃化转变温度)

优选聚碳酸酯共聚物的玻璃化转变温度为180℃以上，更优选为190℃以上，最优选为200℃以上。本发明中的玻璃化转变温度，是使用示差扫描量热分析装置(DSC)，在根据JIS K7121的升温速度20℃/分钟的条件下进行测定所得到的数值。

<光学膜的制造方法>

下面，对使用聚碳酸酯共聚物制造全息图间隙层用膜的方法进行具体说明。本发明的光学用膜的制造方法没有特别的限定，例如，可以举出溶液制膜法、熔融挤出法等，从易于制得位相差低、光学各向同性的膜的方面考虑，优选溶液制膜法。溶液制膜法，单从下述方面来考虑也是非常合适的，即，其膜中的杂质少，容易获得低位相差的膜，而且膜的表面性良好，厚度偏差少，能够得到极平坦的膜。下面，对该溶液制膜法进行详细描述。

(溶剂)

能够用于溶液制膜法的溶剂，可以从公知的溶解溶剂中选择，其中，二氯甲烷或1，3-二氧杂戊环以及其混合物等是合适的溶剂。另外，也可少量混合乙醇或二甲苯等的聚碳酸酯的非溶剂作为副溶剂使用。

(聚合物浓度)

作为用于溶液制膜法中的溶液的聚合物浓度，优选10～40％(重量％，下面相同)的范围。溶液中的上述聚碳酸酯的浓度过低时，可挥发的溶剂量变多而变得无效率。另外，溶液粘度过小，不能得到均匀的膜。另一方面，溶液中的聚碳酸酯浓度过高时，溶液粘度变高，均匀的流动变得困难，并且，溶液易于产生凝胶化，有时会成为膜中的异物的原因，因而不优选。溶液流动前，通过平均开孔为1～10μm左右的过滤器，可使溶液中的异物或胶凝物不能混入膜中，因而优选。

(溶液制膜的支撑体)

在溶液制膜法中，作为铸造上述溶液的支撑体，可使用公知的支撑体。例如，可举出聚酯膜或具有极高研磨的面的钢带。在本发明的膜中，为了以超平坦的状态得到表面，特别优选使用后者。用支撑体表面的Ra(中心线平均表面粗糙度)表示的表面性，优选为5nm以下，更优选为3nm以下。

(膜的厚度及厚度不匀)

膜的厚度，作为全息图记录介质的间隙层用时，为了具有防止多重记录性能的降低的功能，其厚度优选为20～200μm的范围。在不足20μm时，伺服信号光与全息图信号光混合，全息图信号光的S/N比降低，出错率变高，因而不优选。另外，若超过200μm，则盘的总厚度增加，盘的重量变大，因而不优选。

优选的厚度为30～150μm，更优选为50～100μm。

另外，厚度不匀越小越优选。厚度不匀根据膜的厚度而变化，但是相对于厚度，厚度不匀的范围优选为5％以下，更优选为3％以下，进一步优选为1％以下。这里，作为5％，是指在厚度100μm的膜中，厚度的最大值与最小值的差为5μm。厚度不匀大于5％，则表面平滑性受损，因而不优选。

膜整幅的厚度不匀的测定方法，例如，可使用连续厚度计(フイルムシツクネステスタ—，型号KG601A，アンリツ(株)制造)进行测定。

(光学膜的全光线透过率)

全光线透过率，优选为高的值，优选为80％以上，更优选为85％以上，进一步优选为89％以上。全光线透过率过低，则难以作为全息图记录介质的间隙层使用。

(膜的雾度值)

在透明性方面考虑，与光线透过率关联的是雾度值。本发明的膜的雾度值优选为0.5％以下，更优选为0.3％以下，进一步优选为0.2％以下。

上述的膜的全光线透过率与雾度值的测定方法，例如，是在膜的宽度方向上的3个位置取样。使用日本电色工业(株)制造的色差·浊度测定机COH-300A测定样品的全光线透过率。对各样品测定5点，将宽度方向的3个样品的共15个点的平均值作为全光线透过率。另外，可按照JISK 7105实施该测定。

(膜的表面缺陷点)

将本发明中使用的聚碳酸酯共聚物通过溶液制膜得到的膜，即使是厚度较厚的膜，也几乎不形成表面的微细突起，膜的表面极其平坦。至少一个面的表面的微笑突起数为20个/mm²以下，优选为10个/mm²以下，更优选为5个/mm²以下。在此的该微小突起视作圆形时的大小为直径3μm左右以下。其大小是越小越优选，下限值为约1μm左右。

膜表面的微小突起状的缺陷点的测定方法，例如，是在膜的宽度方向上的3个位置取样，在该样品的两表面上真空蒸镀铝。将其用微分干涉显微镜或激光显微镜进行观察，计数大小为直径为约1～3μm的微小突起的数目。微小突起的发生频率用每一平方毫米发生的数目来表示。

(膜的面内迟延)

本发明的膜，其光学各向同性高。作为用厚度及双折射的积表达的位相差(Re)，使用的激光波长中，优选为20nm以下，更优选为10nm以下，进一步优选为8nm以下，特别优选为5nm以下。该值越接近0越理想。面内迟延超过20nm，则伺服信号的再生信号水平不稳定，S/N比恶化，因而不优选。

面内迟延值(Re)的测定方法，例如，对于宽度方向上样品整幅通过迟延连续测定装置(商品名KOBRA WFD，王子计测机器(株)制造)进行测定。测定波长为589nm。

(膜的厚度方向的迟延)

本发明的膜，在上述特性的基础上，其厚度方向的迟延值(Rth)使用的激光波长为60nm以下，更优选为50nm以下，进一步优选为45nm以下。厚度方向的迟延值超过60nm，则伺服信号的噪音变大，因而不优选。

厚度方向的迟延值(Rth)的测定方法，例如，是将整幅作为样品，将膜的宽度方向5等分。从5等分的样品取出测定样品小片，用自动双折射率测定装置(商品名KOBRA-WR，王子计测机器(株)制造)计测。以迟相轴或进相轴使该膜样品旋转，改变入射角度，测定迟延，从该数据计算折射率nx、ny以及nz。进一步，从这些数值，计算Rth＝((nx+ny)/2-nz)×d(单位：nm)。在此，以d表示测定膜的厚度。

(膜的表面粗糙度)

本发明的膜，表面性优异。用膜的Ra(中心线平均表面粗糙度)表示的表面性，优选为5nm以下，更优选为3nm以下。其表面性良好，因此，适宜作为全息图记录介质用间隙层使用。

膜的中心线平均表面粗糙度(Ra)的测定方法，例如，是用JIS-B0601定义的值，其使用(株)小坂研究所的接触式表面粗糙度计(サ—フコ—ダ—，型号SE-30C)进行测定。Ra测定条件如下所示。触针前端半径：2μm，测定压力：30mg，切断：0.08mm，测定长度：1.0mm。其数据为对同一试样反复测定5次，对其测定值(μm单位至小数点后四位的值)，除去其中一个最大的值，将剩余的4个数据的平均值的小数点以下的第5位进行四舍五入，小数点以下第4位为用nm单位表示。

(膜的热尺寸变化率)

本发明的膜，具有高的热稳定性。作为该高的稳定性的指标，本发明的膜，其在160℃下的热尺寸变化率在通过读取显微镜进行测定时，优选为0.08％以下，更优选为0.05％以下。如果热尺寸变化率超过0.08％，则层积过滤器层或层积记录层时产生的热，会使间隙层变形，在过滤器层上产生皲裂等缺陷，因而不优选。

膜的热尺寸变化率的测定方法，例如，是从膜的宽度方向上3个位置采取样品。采取的测定样品的大小为宽度10mm，测定的方向为150mm。而且测定的方向为膜的运行方向和与运行方向呈直角方向的2个方向。测定的方向上的标记点间隔为100mm，在规定温度(160℃)的恒温槽中无负荷的状态下处理2小时后，取出至室温冷却后进行测定。尺寸的变化，为在恒温恒湿的条件下，23℃、65％RH的条件下，使用读取显微镜进行实施。尺寸的变化率可从热处理前后的尺寸通过下式求出。

热尺寸变化率＝{(处理前的尺寸)-(处理后的尺寸)}/(处理前的尺寸)×100％

<全息图记录介质>

本发明的全息图记录介质，是由作为支撑基板的第二基板、反射层、间隙层、过滤器层、保护层、记录层以及第一基板构成的，根据需要还具有其它层的光记录介质。进一步地，该光记录介质，使用两光的光轴为同轴的方式照射上述信息光及参照光的同轴干涉方式(直线方式)。

(第二基板)

第二基板，位于最外层，形成与向全息图记录介质记录时的信息光及参照光的照射位置有关的信息。另外，是保持全息图记录介质的机械强度的支撑基板。

第二基板，其形状、构成结构、大小等，可根据需要进行适宜的选择。例如，可举出盘形状、卡形状等。另外，优选与第一基板的外形状相同的形状。

作为第二基板的构成材料，通常可使用玻璃、陶瓷、塑料等，从加工性、成本方面考虑，可特别适宜地使用塑料。

作为上述塑料，例如，可举出，聚碳酸酯树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚亚苯醚树脂、聚亚苯基树脂、聚丙炔树脂、聚苯乙烯树脂、丙烯腈-苯乙烯共聚物、聚乳酸树脂、聚乙烯树脂、聚丙烯树脂、氟树脂、ABS树脂、氨基甲酸乙酯树脂等。其中，从成形性、耐热性、光学特性、成本方面考虑，特别优选使用聚碳酸酯树脂。

作为第二基板中的信息光或参照光的照射位置相关的信息，没有特别限制，可根据需要进行适宜地选择。例如，可以举出跟踪信息、聚焦信息、地址信息、盘条件信息等。

上述跟踪信息，例如，可以举出蛇行状(wobble)凹坑、蛇行状沟、跟踪凹坑(tracking pit)等。

上述聚焦(focus)信息，例如，可以举出形成在第二基板表面上的反射膜、聚焦用镜、聚焦用凹坑等。

上述地址信息，例如，可以举出上述蛇行状凹坑上的凹凸、编码过的凹坑列、蛇行状变调信号等。

也可复合形成上述各信息。例如，以规定的角度间隔设置作为在半径方向上绵延的多个位置决定的区域的地址伺服区域，也可将紧挨着的地址伺服区域间的扇形区间作为数据区域。该地址伺服区域中，通过样品伺服方式进行聚焦伺服以及跟踪伺服的信息与地址信息，也可通过预先压纹凹坑(伺服凹坑)等记录伺服凹坑图案而形成。

第二基板的厚度优选为0.1～5mm，更优选为0.3～2mm。上述第二基板的厚度不足0.1mm时，全息图记录介质的机械强度保持困难，当基板厚度超过5mm时，全息图记录介质的重量变大，给主轴电动机施加过剩的负荷，因而不优选。

(反射层)

上述第二基板中的伺服凹坑图案的表面上也可形成作为反射层的反射膜。作为上述反射膜的材料，优选使用相对于信息光或参照光具有高的反射率的材料。例如，优选Al、Al合金、Ag、Ag合金、Au、Cu合金等。作为上述反射膜的形成方法，没有特别限定，可适宜地使用真空蒸镀法、溅射法等的PVD法或CVD法等各种膜形成方法。但是，作为全息图记录介质，为了使不产生在高温高湿的耐环境试验中生成的剥离，优选特别是与基板的密接性大的条件下制作。因此，优选使用溅射法。

反射层的膜厚范围优选为10～500nm，为了抑制反射率的降低而引起的信号特性的降低，更优选30～200nm，特别优选40～100nm。

(间隙层)

间隙层，其是为了平坦化上述第二基板的表面而形成。作为用于间隙层的材料，优选耐热性优异的材料，该材料，即使在间隙层上层积过滤器层其层积时的热也不引起间隙层变形，另外，在过滤器层上层积·固化记录材料时的热或收缩应力下间隙层也不发生变形而在过滤器层上发生皲裂等的缺陷。作为间隙层使用本发明的膜。

(过滤器层)

过滤器层，即使变化入射角选择反射波长中也不产生不吻合，能够防止信息光与参照光引起的全息图记录介质的反射膜的乱反射，能够防止噪音的发生。通过在全息图记录介质上层积上述过滤器层，能够得到高解像度、衍射率优异的全息图记录。

过滤器层的功能，优选透过第一波长的光，反射与该第一波长的光不同的第二波长的光，优选上述着第一波长的光为350～600nm并且第二波长的光为600～900nm。

作为上述过滤器层，没有特别限制，例如，可通过介电体蒸镀层、单层或2层以上的胆甾型层，进一步根据需要，通过其他的层的层积体形成。另外，也可具有色彩含有层。

(保护层)

保护层在过滤器层与记录层之间形成。保护层，用来防止全息图记录介质的记录性能的降低。信息光与参照光的集光位置存在在记录层内，但是在没有保护层的情形，通过过剩曝光产生过剩的光反应，会降低记录性能。即，通过使用保护层，能够抑制集光位置附近的过剩的光反应，能够维持记录性能。

作为保护层中使用的材料，没有特别的限制，可适宜地使用与间隙层同样的透明的塑料膜。例如，优选由聚碳酸酯树脂、聚苯乙烯树脂、聚对苯二甲酸乙二醇酯树脂、聚甲基丙烯酸甲酯、非晶性聚链烯烃树脂形成的塑料膜。从寻求耐热性、光学各向同性方面考虑，更优选聚碳酸酯树脂、非晶性聚链烯烃树脂。

作为保护层的厚度，没有特别的限制。优选为1～200μm，更优选为3～100μm。不足1μm时，全息图记录时的全息图记录层中的单体消耗过大有时会导致灵敏度降低或多重度降低，因而不优选，超过200μm，则焦点位置离记录层变远，导致记录性能的降低，因而不优选。

(记录层)

记录层，是作为二维图像被赋予了信息的信息光和能够干涉信息光的参照光在记录介质的内部进行重合，利用全息图进行记录信息的层。通过照射规定的波长的电磁波(γ射线、x射线、紫外线、可见光线、红外线、电波等)，使用根据其强度而吸光系数或折射率等的光学特性发生变化的材料。作为构成记录层的材料，通常，适宜地使用在自由基聚合性化合物及光自由基聚合引发剂以外还具有三维交联聚合物基体的结构的材料。作为形成基体的三维交联聚合物的化合物，可用环氧化合物。作为环氧化合物，具体的可以举出，1，4—丁二醇二缩水甘油醚、1，6—己二醇二缩水甘油醚、二甘醇二缩水甘油醚、聚乙二醇二缩水甘油醚、聚丙二醇二缩水甘油醚、新戊二醇二缩水甘油醚、二环氧辛烷、间苯二酚二缩水甘油醚、双酚A的二缩水甘油醚、双酚F的二缩水甘油醚、3，4—环氧环己烯基甲基—3’，4’—环氧环己烯羧酸酯、以及环氧丙氧基丙基末端的聚二甲基硅氧烷等。

作为自由基聚合性化合物，可以举出具有乙烯性不饱和双键的化合物。例如，可以举出不饱和羧酸、不饱和羧酸酯、不饱和羧酸酰胺、乙烯基化合物等。更具体的可以举出丙烯酸、丙烯酸甲酯、丙烯酸乙酯、丙烯酸丙酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸异丁酯、丙烯酸2—乙基己酯、丙烯酸辛酯、丙烯酸月桂酯、丙烯酸硬脂酯、丙烯酸环己酯、丙烯酸联环戊烯基酯、丙烯酸苯酯、丙烯酸异冰片基酯、丙烯酸金刚烷基酯、甲基丙烯酸、甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸丁酯、甲基丙烯酸苯酯、苯氧基乙基丙烯酸酯、氯苯基丙烯酸酯、甲基丙烯酸金刚烷基酯、异冰片基甲基丙烯酸酯、N—甲基丙烯酰胺、N，N—二甲基丙烯酰胺、N，N—亚甲基双丙烯酰胺、丙烯酰基吗啉、乙烯基吡啶、苯乙烯、溴苯乙烯、氯苯乙烯、三溴苯基丙烯酸酯、三氯苯基丙烯酸酯、三溴苯基甲基丙烯酸酯、三氯苯基甲基丙烯酸酯、乙烯基苯甲酸酯、3，5—二氯乙烯基苯甲酸酯、乙烯基萘、乙烯基萘甲酸酯、萘基甲基丙烯酸酯、萘基丙烯酸酯、N—苯基甲基丙烯酰胺、N—苯基丙烯酰胺、N—乙烯基吡咯烷酮、N—乙烯基咔唑、1—乙烯基咪唑、联环戊烯基丙烯酸酯、1，6—己二醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、二乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二丙烯酸酯、聚乙二醇二甲基丙烯酸酯、三丙二醇二丙烯酸酯、丙二醇三甲基丙烯酸酯、N—乙烯基咔唑及N—乙烯基吡咯烷酮。

作为光自由基聚合引发剂，例如，可以举出咪唑衍生物、有机叠氮化合物、二茂钛类、有机过氧化物以及噻吨酮衍生物等。具体的可以举出苄基、苯偶姻、苯偶姻乙醚、苯偶姻异丙醚、苯偶姻丁醚、苯偶姻异丁醚、1—羟基环己基苯基酮、苄基甲基缩酮、苄基乙基缩酮、苄基甲氧基乙基醚、2，2’—二乙基苯乙酮、2，2’—二丙基苯乙酮、2—羟基—2—甲基苯丙酮、对叔丁基三氯苯乙酮、噻吨酮、2—氯噻吨酮、3，3’，4，4’—四(叔丁基过氧羰基)二苯甲酮、2，4，6—三(三氯甲基)1，3，5—三嗪、2—(对甲氧基苯基)—4，6—双(三氯甲基)1，3，5—三嗪、2—[(对—甲氧基苯基)乙烯]—4，6—双(三氯甲基)1，3，5—三嗪、チバスペシヤルテイケミカルズ社(汽巴精化)制造的イルガキユア149、184、369、651、784、819、907、1700、1800、1850等各型号的化合物、二叔丁基过氧化物、二枯烯基过氧化物、叔丁基枯烯基过氧化物、叔丁基过氧化乙酸酯、叔丁基过氧化丁酸酯、叔丁基过氧化苯甲酸酯、乙酰基过氧化物、异丁酰基过氧化物、癸酰基过氧化物、月桂酰基过氧化物、苯甲酰基过氧化物、叔丁基氢过氧化物、枯烯氢过氧化物、甲基乙基酮过氧化物、以及环己酮过氧化物等。

可根据需要添加花青、部花青、呫吨、香豆素、曙红等增敏色素；硅烷偶合剂以及增塑剂等。

在保护层上涂布含上述的三维交联聚合物、自由基聚合性单体、光聚合引发剂的记录层溶液时，可以采用浇铸法或旋转涂布法。也可间隔树脂制造的隔板配置含过滤器层的第二基板与第一基板，在其间隙中注入记录层材料溶液。基体聚合物的三维交联，使用脂肪族伯胺，即使在室温也可以进行，但根据固化剂反应性也可加热至30℃～150℃左右。优选记录层的膜厚在20μm～2mm的范围内。当低于20μm时，难以得到充分的记录容量，当大于2mm时，记录层的灵敏度及衍射效率有可能降低。更优选记录层的膜厚为50μm～1mm。当记录层溶解、侵蚀第一基板时，也可采用溅射等方法在第一基板与记录层之间形成有机或无机系的保护膜。上述保护膜，没有特别限制，例如，也可使用硅膜、硫化锌—硅膜等。此时，保护层的厚度优选为10nm～500nm。

(第一基板)

第一基板，层积在记录层上，优选是透光性基板。对于其形状、结构、大小等，没有特别的限制，可根据需要进行适宜地选择，可使用与第二基板同样的形状、材料。

第一基板的厚度，没有特别的限制，优选为5～1200μm，更优选为100～700μm。上述支撑体厚度为不足5μm，则保护记录层的功能降低，若超过1200μm，则从第一基板表面到记录层、伺服凹坑形成的层的距离变远，记录再生的光的焦点距离过长，因而不优选。

<全息图的记录再生方式>

作为全息图的记录方法，没有特别限制，可根据目的进行适宜选择。例如，作为同轴光束向上述全息图记录介质照射信息光及参照光，通过使信息光与参照光的干涉产生的干涉图案，在记录层中记录信息，即，所谓的直线方式的全息图记录方法。

作为上述再生方法，没有特别限定，可根据目的进行适宜选择，例如，通过上述光记录方法，在记录层中形成的干涉图像照射与参照光相同的光，可再生与该干涉图像对应的记录信息。

作为上述光记录方法及再生方法，可通过作为二维图像被赋予了信息的信息光和与该信息光的强度几乎一定的参照光在记录层的内部进行重合，利用他们形成的干涉图案在记录层内部产生光学特性分布，由此，记录信息。另一方面，再生写入的信息时，以与记录时同样的配置对记录层仅照射参照光，得到具有对应记录层内部形成的光学特性分布的强度分布的再生光。

下面，给出具体例子，更详细地说明本发明。另外，为不使记录层感光，在本实施例中的一系列作业，在将比波长600nm短的光被遮光的室内进行。

实施例

下面举出实施例，对本发明进行了详细地说明，但本发明，只要在不偏离其宗旨的范围内，并不限于此。在实施例及比较例中，“份”表示重量份。评价按下述方法进行。

(1)玻璃化转变温度

使用聚碳酸酯树脂粉末，采用TAインスツルメント社制造的热分析系统DSC—2910，按照JIS K7121，在氮气环境(氮气流量：40ml/min)、升温速度为20℃/min的条件下进行测定。

(2)比粘度

在二氯甲烷100ml中溶解聚碳酸酯树脂粉末0.7g，测定该溶液在20℃的比粘度(η_sp)。

(3)膜的厚度不匀

膜整幅的厚度不匀，使用连续厚度计(フイルムシツクネステスタ—，型号KG601A，アンリツ(株)制造)进行测定。

(4)膜的全光线透过率及雾度值

在膜的宽度方向上的3个位置取样。使用日本电色工业(株)制造的色差·浊度测定机COH-300A测定样品的全光线透过率。对各样品测定5点，将宽度方向的3个样品的共15个点的平均值作为全光线透过率。另外，按照JISK 7105实施该测定。

(5)膜表面的微小突起状缺陷点

在膜的宽度方向上取3个样，在该样品的两表面上真空蒸镀铝。将其用微分干涉显微镜或激光显微镜进行观察，计数大小为直径为约1～3μm的微小突起的数目。微小突起的发生频率为用每一平方毫米发生的数目来表示。

(6)膜的中心线平均表面粗糙度(Ra)的测定

中心线平均表面粗糙度(Ra)的测定方法，是用JIS-B0601定义的值，其使用(株)小坂研究所制造的接触式表面粗糙度计(サ—フコ—ダ—，型号SE-30C)测定。Ra测定条件如下所示。

触针前端半径：2μm，测定压力：30mg，切断：0.08mm，测定长度：1.0mm。

数据为对同一试样反复测定5次，对其测定值(μm单位至小数点后四位的值)，除去其中一个最大的值，将剩余的4个数据的平均值的小数点以下的第5位进行四舍五入，小数点以下第4位为用nm单位表示。

(7)膜的热尺寸变化率

从膜的宽度方向上的3个位置采取样品。测定样品的大小，为宽度10mm，测定的方向为150mm。而且测定的方向为膜的运行方向和与运行方向呈直角方向的2个方向。测定的方向上标记点间隔为100mm，在规定温度(160℃)的恒温槽中无负荷的状态下处理2小时后，取出至室温下冷却后进行测定。尺寸的变化，在恒温恒湿的条件下，23℃、65％RH的条件下，使用读取显微镜进行实施。尺寸的变化率可从热处理前后的尺寸通过下式求出。

(8)面内迟延值(Re)的测定

对宽度方向样品整幅通过迟延连续测定装置(商品名KOBRA-WFD，王子计测机器(株)制造)，计测10mm间隔的迟延值。测定波长为589nm。

(9)厚度方向的迟延值(Rth)的测定

与上述的(8)的测定同样地，整幅取样，将膜的宽度方向5等分。从5等分的样品取出测定样品小片，用自动双折射率测定装置(商品名KOBRA-WR，王子计测机器(株)制造)计测。以迟相轴或进相轴使该膜样品旋转，改变入射角度，测定迟延，从该数据计算折射率nx、ny以及nz。进一步从这些数值，计算Rth＝((nx+ny)/2-nz)×d(单位：nm)。在此，以d表示测定膜的厚度。

(10)层积过滤器层时的间隙层的皲裂性评价

作为第二基板，使用聚碳酸酯树脂(パンライトAD-5503，帝人化成(株)制造)，在120℃下干燥5小时后，使用挤出成型机(SD-40E，住友重机械工业制造)，成型出直径120mm、厚度1.1mm的盘基板。在盘基板上作为反射膜通过溅射Ag合金制膜。然后，通过旋转涂覆均匀地涂布粘接剂后，贴合厚度100μm的聚碳酸酯膜。在其上面通过真空蒸镀层积过滤器层(分色镜)。得到的含有过滤器层的第二基板，通过光学显微镜观察过滤器层表面。作为评价基准，通过以下基准进行评价。

○：最大长度20μm以上的皲裂为0个/mm²

△：最大长度20μm以上的皲裂为1个/mm²以上～5个/mm²以下

×：最大长度20μm以上的皲裂为6个/mm²以上

(11)层积记录层时的间隙层的皲裂性评价

作为记录层用的三维交联聚合物，使用1，6-己二醇二缩水甘油醚。另外，作为光聚合性单体使用聚乙二醇二丙烯酸酯。该单体在室温下为液体。在聚乙二醇二丙烯酸酯100重量份中添加作为光聚合引发剂的イルガキユア—784(チバ·スペシヤリテイ·ケミカルズ社制造)3重量份进行混合。相对于全息图记录层溶液的总量，基体材料的比例为67重量％，光聚合性单体的比例为33重量％，在室温下混合，制备全息图记录层。另外，作为第一基板，使用聚碳酸酯树脂(パンライトAD-5503，帝人化成(株)制造)，在120℃下干燥5小时后，使用挤出成型机(SD-40E，住友重机械工业(株)制造)，成型出直径120mm、厚度0.6mm的盘基板。然后，通过旋转涂覆在过滤器层上涂布制备的全息图记录层溶液，在其上面贴合第一基板。将得到的全息图记录介质进行遮光，在80℃下保持5小时，由此，制成具有厚度0.6mm的记录层的全息图记录介质。通过微分干涉光学显微镜观察过滤器层表面。作为评价基准，通过以下基准进行评价。

○：最大长度20μm以上的皲裂为0个/mm²

△：最大长度20μm以上的皲裂为1个/mm²以上～5个/mm²以下

×：最大长度20μm以上的皲裂为6个/mm²以上

(12)全息图记录再生评价

使用PULSTEC公司制造的直线式全息图记录再生试验机SHOT-1000，在上述全息图记录介质中，写入记录全息图的焦点位置中的记录点的大小直径为200μm的一系列的多重全息图，通过在ISOM’04、Th-J-06、pp、184-185中记载的方法，对多重数进行评价。在此，将BER>10^-3的记录全息图数作为多重数。

实施例1

<聚碳酸酯树脂的制造>

在带有温度计、搅拌机及回流冷凝器的反应器中，加入48％氢氧化钠水溶液224.3份以及离子交换水1077.4份，然后在其中溶解9，9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴84.85份、2，2’-双(4-羟基苯基)丙烷136.5份及亚硫酸氢盐0.15份，然后，加入二氯甲烷826.8份，在搅拌下，在15～25℃下花60分钟吹入光气100份。吹入光气结束后，加入48％氢氧化钠水溶液32.0份及对叔丁基苯酚4.49份，再打开搅拌，乳化后，加入三乙基胺0.19份，进一步在28～33℃下搅拌1小时，结束反应。反应结束后，在二氯甲烷中稀释生成物，水洗后，盐酸酸性水洗，进一步反复清洗至水相的导电率与离子交换水的导电率几乎相同为止，得到聚碳酸酯树脂的二氯甲烷溶液。接下来，将该溶液通过开孔0.3μm的过滤器，进一步，滴下至在轴承受部上具有取出口的带隔离室的捏合机中的温水中，在蒸馏二氯甲烷的同时将聚碳酸酯树脂制成片，接下来连续将该含液片粉碎、干燥，得到粉末。使用该粉末，测定其比粘度、玻璃化转变温度，其结果示于表1。在120℃下热风干燥该树脂粉末16小时，接下来，通过减湿空气冷却至30℃。将其溶解在二氯甲烷中制成19重量％的溶液。将该溶液通过平均孔径3微米的过滤器除去异物。接下来，将该溶液导入1500mm宽度的衣架模(coat hanger die，コ—トハンガ—ダイ)中。

<全息图记录介质的制造>

接下来，将其流到镜面研磨过的钢带支撑体上后，通过加热干燥蒸飞溶剂，从支撑体上剥离。接下来，向辊悬垂型的干燥机通过膜，用低搬运张力卷取。测定得到的聚碳酸酯膜的宽度、厚度、厚度不匀、160℃下的热尺寸变化率、全光线透过率、表面粗糙度、表面的微小突起的数目、面内迟延值、厚度方向的迟延值，将其记载于表1。

接下来，作为第二基板用树脂使用聚碳酸酯树脂(商品名パンライトAD-5503，帝人化成(株)制造)，通过光盘用注射成型机(SD-40E，住友重机械工业(株)制造)，成型为外径120mmφ、内径15mmφ、厚度1.1mm的光盘基板。另外，注射成型时，在单面表面上形成记录数据信息的凹坑，为此，使用形成跟踪凹坑0.74μm、沟槽深度为150nm、沟槽幅度为300nm的图案的盖印机。将该光盘基板供给至Blu-ray Disc贴合装置(メビウスF-1，芝浦メカトロニクス(株)制造)。メビウスF-1中，在该磁盘基板以外，反射膜形成用(株)コベルコ科研制Ag合金的磁控管溅射器用靶，作为间隙层用膜，使用上述的聚碳酸酯膜，作为该膜与光盘基板的粘结用树脂，供给大日本油墨化学工业(株)制造的EX-8410。メビウスF-1中，通过溅射器在光盘基板上形成Ag合金的反射膜后，旋转涂布了粘结用树脂。其中，从另外途径供给的间隙层用层积膜辊仅取出聚碳酸酯膜后，制成光盘状，将该制成的间隙层用膜贴合在上述基板上，照射紫外线，形成间隙层。然后，作为过滤器层，通过真空蒸镀法，层积分色镜层。通过光学显微镜观察得到的积层体的过滤器层表面，根据评价标准将皲裂的有无记载于表1。接下来，作为第一基板用树脂，使用聚碳酸酯树脂(商品名パンライトAD-5503，帝人化成(株)制造)，通过光盘用注射成型机(SD-40E，住友重机械工业(株)制造)，形成外径120mmφ、内径15mmφ、厚度0.6mm的光盘基板。另外，注射成型时，使用没有聚焦凹坑图案的镜面盖印机。然后，将制备的全息图记录层溶液，通过旋转涂布机涂布在保护层上，在其上面贴合第一基板。对其进行遮光，通过在80℃下保持5小时，制成具有厚度为0.6mm的记录层的全息图记录介质。通过微分干涉光学显微镜，观察得到的全息图记录介质的过滤器层表面，按照评价标准将皲裂的有无记载于表1中。进一步地，全息图记录介质的记录再生评价中，使用PULSTEC工业制造的全息图评价装置(型号：SHOT-1000)，多重记录13×13＝169的全息图。BER>10^-3的记录全息图数为多重数，示于表1中。

实施例2

除了采用9，9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴141.4份、2，2’-双(4-羟基苯基)丙烷85.3份以外，进行与实施例1相同的操作，将结果示于表1。

实施例3

除了采用9，9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴197.9份、2，2’-双(4-羟基苯基)丙烷51.1份以外，进行与实施例1相同的操作，将结果示于表1。

比较例1

除了采用2，2’-双(4-羟基苯基)丙烷170.5份以外，进行与实施例1相同的操作，将结果示于表1。

比较例2

除了采用9，9-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴282.8份以外，进行与实施例1相同的操作，得到粉末。其中，聚合反应不好，比粘度为0.21的低值。使用该粉末进行与实施例1相同的操作，其膜脆化，制膜时多发生破裂，因此，不能得到间隙层用膜。

表1

^※1Bisphenol-CF：9，9’-双(4-羟基-3-甲基苯基)芴

^※2Bisphenol-A：2，2’-双(4-羟基苯基)丙烷

工业实用性

本发明中，由聚碳酸酯共聚物形成的光学膜，显示出高的耐热性，因此他所起的工业效果特别优异。因此，使用该光学膜作为间隙层的全息图记录介质，能够抑制在层积过滤器层或记录层时的热引起的间隙层的变形，不产生伴随间隙层的变形的过滤器层的皲裂等的缺陷。因而可知，其可有效用作全息图记录介质。

Claims

结构单元(A)用下式[1]表示，

式中，R¹～R⁴分别独立，表示氢原子、含有或不含有芳香族基的碳原子数1～9的烃基或卤原子，

结构单元(B)用下式[2]表示，

2.按照权利要求1所述的膜，其中，聚碳酸酯共聚物的全部结构单元中的结构单元(A)的比例为30～80摩尔％。

3.按照权利要求1或2所述的膜，其中，聚碳酸酯共聚物的玻璃化转变温度为180℃以上。

4.按照权利要求1～3中任一项所述的膜，其中，厚度为20～200μm，并且厚度不匀值为±5％以下。

5.按照权利要求1～4中任一项所述的膜，其中，在160℃下加热处理1小时后的热尺寸变化率为0.08％以下，并且表面的微小突起数为20个/mm²以下。

6.按照权利要求1～5中任一项所述的膜，其中，面内迟延为20nm以下，并且厚度方向的迟延为60nm以下。

7.按照权利要求1～6中任一项所述的膜，其中，中心线平均表面粗糙度为5nm以下。

8.一种全息图记录介质，该全息图记录介质将作为二维图像被赋予了信息的信息光和能够干涉信息光的参照光进行重合，并利用全息图来记录信息，该全息图记录介质由作为支撑体的第二基板、反射层、间隙层、保护层、过滤器层、记录层以及透光性的第一基板构成，其特征在于，该间隙层为权利要求1～7所述的膜。

9.按照权利要求8所述的全息图记录介质，其中，使信息光的光轴与参照光的光轴同轴来照射信息光及参照光。

10.按照权利要求8或9所述的全息图记录介质，其中，第二基板具有为了检出伺服信息而形成的伺服凹坑图案。

11.按照权利要求8～10中任一项所述的全息图记录介质，其中，第二基板在伺服凹坑图案上形成反射膜。

12.按照权利要求8～11中任一项所述的全息图记录介质，其中，反射膜为金属反射膜。

13.按照权利要求8～12中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层与反射层之间设置间隙层，并使第二基板表面平坦化。

14.按照权利要求8～13中任一项所述的全息图记录介质，其中，间隙层是通过贴合光学用膜而形成。

15.按照权利要求8～14中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层是由分色镜形成的层或胆甾型液晶形成的层，该过滤器层具有波长选择性能。

16.按照权利要求8～15中任一项所述的全息图记录介质，其中，过滤器层含有颜料以及染料中至少任意之一的着色材料。

17.按照权利要求8～16中任一项所述的全息图记录介质，其中，在过滤器层上形成保护层、记录层、透光性第一基板。

18.按照权利要求8～17中任一项所述的全息图记录介质，其中，第一基板以及第二基板是聚碳酸酯树脂或玻璃。

19.按照权利要求8～18中任一项所述的全息图记录介质，采用通过照射信息光和参照光并使其干涉而形成的干涉图案在记录层上记录信息的方式，其中，采用下述方式，即照射与信息光及参照光不同波长的伺服用光，通过该伺服用光的焦点距离检测出记录的干涉图案的位置信息。