CN101441419B - 衬底传送方法、传送系统和光刻投影设备 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及一种衬底传送方法，传送系统和光刻投影设备。该衬底传送方法通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器(例如预对准单元)传送至第二衬底保持器(例如光刻设备中的衬底台)的方法。首先，在第一衬底保持器上提供衬底，接着，测量衬底的位置误差并在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据。然后，根据位置调整数据，相对于参考位置移动第二衬底保持器。最后，根据传送数据将衬底通过传送单元从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并放置到已移动的第二衬底保持器上。

Description

衬底传送方法、传送系统和光刻投影设备
技术领域
本发明涉及一种通过采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法以及使其能够执行前述方法的用计算机可执行代码编码的计算机可读介质。本发明还涉及一种用于基于传送数据的传送衬底的传送系统、一种包括该传送系统的光刻投影设备、一种采用该光刻投影设备制造器件的方法以及使其能够执行上述器件制造方法的用计算机可执行代码编码的计算机可读介质。
背景技术
光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版(reticle)的图案形成装置用于生成在所述IC的单层上待形成的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单独的衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将全部图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印(imprinting)到所述衬底上，将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。
在采用光刻设备的器件制造方法中，生产中的一个重要因素，即已正确制造器件的百分比，是被印刷的层和与之相关的先前形成的层之间的准确度。已知的重叠以及重叠误差预计通常是10nm或者以下。为了达到这样的准确度，衬底应当在很高的准确度下对准将被转移的掩模图案。
为了得到很好的图像清晰度以及层的重叠精度，衬底的被辐射表面应当准确的放置在支撑面(即衬底保持器)上，并且在曝光的过程中尽可能的保持其在衬底保持器上的平坦和平稳。通常，为了实现上述目的，衬底保持器包括具有多个凸出物的平板，凸出物也指节块或突起。在这种衬底保持器上，衬底可以被放置以使其背面与全部位于明确定义的平面上的节块形成接触。通过与真空产生装置连接的衬底保持器上的连接孔，衬底背面可以相对于节块被牢固的夹住。采用这种方式的节块可以确保仅仅一部分背面区域事实上相对于固体表面而被压住；这样，晶片背面上的任何微粒污染物的形变效应都被最小化，因为该污染物更有可能处在节块之间的空隙而不是被压在节块的上表面。
但是，如果衬底如上所描述的那样被固定在衬底台上，则衬底将在节块上弯曲。其结果是在衬底上曝光的图像将局部的偏移。当显影后的衬底再一次被放置在衬底台上进行第二次曝光时，因为相对于节块的位置的不同，第二次曝光期间的局部图像的偏移将不同于第一次曝光期间的局部图像的偏移。因此，重叠误差被引入。
由于对更小的图案成像从而制造具有更高密度的器件的持续需求，迫切需要减小重叠误差，这便带来了在具有节块的衬底台上对衬底的放置方式进行改进的要求。
发明内容
旨在提供一种比已知技术具有更高定位准确度的衬底传送方法和传送系统。为此，本发明提供了一种通过采用基于有效传送数据的传送单元将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法，该方法包括：
在第一衬底保持器上提供衬底；
测量衬底的位置误差；
在已测量的位置误差的基础上计算位置调整数据；
根据位置调整数据相对于参考位置移动第二衬底保持器；
根据传送数据并通过传送单元将衬底从第一衬底保持器传送到第二衬底保持器，并放置衬底至已移动的第二衬底保持器上。
在一个实施例中，本发明提供了一种用计算机可执行代码编码的计算机可读介质，当该介质被加载到计算机组件上时，可使计算机组件控制上面所描述的传送方法。
另外，在一个实施例中，本发明还提供了一种基于有效传送数据来传送衬底的传送系统，该传送系统包括：
第一衬底保持器，其被配置用作保持衬底；
位置传感器，其被配置用作测量位于第一衬底保持器上的衬底的位置误差；
第二衬底保持器，其被配置用作保持衬底；
传送单元，其被配置为根据传送数据将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器；
处理器，其通信连接到位置传感器，并被配置为在已测量的位置误差的基础上来计算位置调整数据；
控制单元，其通信连接到处理器，并被配置为根据已计算的位置调整数据而相对于参考位置移动第二衬底保持器。
此外，在一个实施例中，本发明还提供了一种光刻投影设备，包括：
照射系统，其被配置用作提供辐射束；
支撑结构，其被配置用作支撑图案形成装置，该图案形成装置用作将图案在辐射束的截面上赋予辐射束；
衬底台，其被配置用作保持衬底；
投影系统，其被配置为将已图案化的辐射束曝光到衬底上；
其中，光刻设备还包括上面所描述的传送系统，而衬底台正是第二衬底保持器。
在一个实施例中，本发明还提供了一种包括如上面所描述的采用光刻投影设备将已图案化的辐射束投影到衬底上来制造器件的方法。
最后，在一个实施例中，本发明提供了一种用计算机可执行代码编码的计算机可读介质，当该计算机可读介质被加载到计算机组件中时，其能够使计算机组件控制上面所描述的制造器件的方法。
附图说明
现在仅通过举例并参考所附示意图来描述本发明的实施例，附图中相应的附图标记表示相应的部分，且其中：
图1描述了根据本发明的一个实施例的光刻设备；
图2a-2c示意性的描述了本领域所公知的在衬底台上衬底的放置形式；
图2d示意性的描述了如图2c所示的在衬底台上放置的衬底的细节；
图3示意性的描述了一种可以在本发明实施列中使用的传送系统；
图4示意性的描述了一种根据本发明实施例的将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法；
图5示意性的描述了一种可用于本发明实施例的计算机组件的实施例。
具体实施方式
图1示意性地示出根据本发明的一个实施例的光刻设备。所述设备包括：
照射系统(照射器)IL，配置用于调节辐射束B(例如，紫外(UV)辐射或极紫外(EUV)辐射)；
支撑结构(例如掩模台)MT，配置用于支撑图案形成装置(例如掩模)MA并与配置用于根据确定的参数精确地定位图案形成装置的第一定位装置PM相连；
衬底保持器，例如衬底台(例如晶片台)WT，配置用于保持衬底(例如涂覆有抗蚀剂的晶片)W，并与配置用于根据确定的参数精确地定位衬底的第二定位装置PW相连；以及
投影系统(例如折射式投影透镜系统)PS，所述投影系统PS配置用于将由图案形成装置MA赋予辐射束B的图案投影到衬底W的目标部分C(例如包括一根或多根管芯)上。
所述照射系统可以包括各种类型的光学部件，例如折射型、反射型、磁性型、电磁型、静电型或其它类型的光学部件、或其任意组合，以引导、成形、或控制辐射。
支撑结构支撑，即承受图案形成装置的重量。支撑结构以依赖于图案形成装置的取向、光刻设备的设计以及诸如图案形成装置是否保持在真空环境中等其他条件的方式保持图案形成装置。所述支撑结构可以采用机械的、真空的、静电的或其他夹持技术保持图案形成装置。所述支撑结构可以是框架或台，例如，其可以根据需要成为固定的或可移动的。所述支撑结构可以确保图案形成装置位于所需的位置上(例如相对于投影系统)。在这里任何使用的术语“掩模版”或“掩模”都可以认为与更上位的术语“图案形成装置”同义。
这里所使用的术语“图案形成装置”应该被广义地理解为表示能够用于将图案在辐射束的横截面上赋予辐射束、以便在衬底的目标部分上形成图案的任何装置。应当注意，被赋予辐射束的图案可能不与在衬底的目标部分上所需的图案完全相符(例如如果该图案包括相移特征或所谓辅助特征)。通常，被赋予辐射束的图案将与在目标部分上形成的器件中的特定的功能层相对应，例如集成电路。
图案形成装置可以是透射式的或反射式的。图案形成装置的示例包括掩模、可编程反射镜阵列以及可编程液晶显示(LCD)面板。掩模在光刻中是公知的，并且包括诸如二元掩模类型、交替型相移掩模类型、衰减型相移掩模类型和各种混合掩模类型之类的掩模类型。可编程反射镜阵列的示例采用小反射镜的矩阵布置，可以独立地倾斜每一个小反射镜，以便沿不同方向反射入射的辐射束。所述已倾斜的反射镜将图案赋予由所述反射镜矩阵反射的辐射束。
应该将这里使用的术语“投影系统”广义地解释为包括任意类型的投影系统，包括折射型、反射型、反射折射型、磁性型、电磁型和静电型光学系统、或其任意组合，如对于所使用的曝光辐射所适合的、或对于诸如使用浸没液或使用真空之类的其他因素所适合的。这里使用的任何术语“投影透镜”可以认为是与更上位的术语“投影系统”同义。
如这里所示的，所述设备是透射型的(例如，采用透射式掩模)。替代地，所述设备可以是反射型的(例如，采用如上所述类型的可编程反射镜阵列，或采用反射式掩模)。
所述光刻设备可以是具有两个(双台)或更多衬底台(和/或两个或更多的支撑结构，例如掩模台)的类型。在这种“多台”机器中，可以并行地使用附加的台和/或支撑结构，或可以在将一个或更多个其它台和/或支撑结构用于曝光的同时，在一个或更多个台上执行预备步骤。
光刻设备也可以是以下类型的，其中衬底的至少一部分被具有相对高折射率的液体，例如水，所覆盖，以填充投影系统和衬底之间的空间。浸没液也可以用于光刻设备中的其他空间，例如用于掩模和投影系统之间。浸没技术是本领域中所公知的增加投影系统数值孔径的技术。本文中所使用的术语“浸没”并不意味着例如衬底的结构必须浸没在液体中，而仅仅意味着在曝光期间液体处于投影系统和衬底之间。
参照图1，所述照射器IL接收从辐射源SO发出的辐射束。该源和所述光刻设备可以是分立的实体(例如当该源为准分子激光器时)。在这种情况下，不会将该源考虑成光刻设备的组成部分，并且通过包括例如合适的定向反射镜和/或扩束器的束传递系统BD的帮助，将所述辐射束从所述源SO传到所述照射器IL。在其他情况下，所述源可以是所述光刻设备的组成部分(例如当所述源是汞灯时)。可以将所述源SO和所述照射器IL、以及如果需要时的所述束传递系统BD一起称作辐射系统。
所述照射器IL可以包括用于调整所述辐射束的角强度分布的调整器AD。通常，可以对所述照射器的光瞳平面中的强度分布的至少所述外部和/或内部径向范围(一般分别称为σ-外部和σ-内部)进行调整。此外，所述照射器IL可以包括各种其它部件，例如积分器IN和聚光器CO。可以将所述照射器用于调节所述辐射束，以在其横截面中具有所需的均匀性和强度分布。
所述辐射束B入射到保持在支撑结构(例如，掩模台MT)上的所述图案形成装置(例如，掩模MA)上，并且通过所述图案形成装置来形成图案。已经穿过图案形成装置MA之后，所述辐射束B通过投影系统PS，所述PS将辐射束聚焦到所述衬底W的目标部分C上。通过第二定位装置PW和位置传感器IF(例如，干涉仪器件、线性编码器或电容传感器)的帮助，可以精确地移动所述衬底台WT，例如以便将不同的目标部分C定位于所述辐射束B的路径中。类似地，例如在从掩模库的机械获取之后，或在扫描期间，可以将所述第一定位装置PM和另一个位置传感器(图1中未明确示出)用于将图案形成装置MA相对于所述辐射束B的路径精确地定位。通常，可以通过形成所述第一定位装置PM的一部分的长行程台模块(粗定位)和短行程台模块(精定位)的帮助来实现掩模台MT的移动。类似地，可以采用形成所述第二定位装置PW的一部分的长行程台模块和短行程台模块来实现所述衬底台WT的移动。在步进机的情况下(与扫描器相反)，所述掩模台MT可以仅与短行程致动器相连，或可以是固定的。可以使用图案形成装置对准标记M1、M2和衬底对准标记P1、P2来对准掩模MA和衬底W。尽管所示的衬底对准标记P1、P2占据了专用目标部分，但是他们可以位于目标部分之间的空隙(这些公知为划线对齐标记)上。类似地，在将多于一个的管芯设置在图案形成装置MA上的情况下，所述掩模对准标记可以位于所述管芯之间。
可以将所述设备用于以下模式的至少一种：
1.在步进模式中，在将赋予所述辐射束的整个图案一次投影到目标部分C上的同时，将掩模台MT和衬底台WT保持为基本静止(即，单一的静态曝光)。然后将所述衬底台WT沿X和/或Y方向移动，使得可以对不同目标部分C曝光。在步进模式中，曝光场的最大尺寸限制了在单一的静态曝光中成像的所述目标部分C的尺寸。
2.在扫描模式中，在将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上的同时，对掩模台MT和衬底台WT同步地进行扫描(即，单一的动态曝光)。衬底台WT相对于掩模台MT的速度和方向可以通过所述投影系统PS的(缩小)放大率和图像反转特征来确定。在扫描模式中，曝光场的最大尺寸限制了单一的动态曝光中的所述目标部分的宽度(沿非扫描方向)，而所述扫描运动的长度确定了所述目标部分的高度(沿所述扫描方向)。
3.在另一个模式中，将用于保持可编程图案形成装置的掩模台MT保持为基本静止状态，并且在将赋予所述辐射束的图案投影到目标部分C上的同时，对所述衬底台WT进行移动或扫描。在这种模式中，通常采用脉冲辐射源，并且在所述衬底台WT的每一次移动之后、或在扫描期间的连续辐射脉冲之间，根据需要更新所述可编程图案形成装置。这种操作模式可易于应用于利用可编程图案形成装置(例如，如上所述类型的可编程反射镜阵列)的无掩模光刻中。
也可以采用上述使用模式的组合和/或变体，或完全不同的使用模式。
图2a-2c示意性的描述了本领中公知的衬底在衬底台上的放置模式。衬底台WT配备有多个突出物1，也可称为突起或者节块。在本文中，采用节块来表示。
如图2a所示，衬底W向衬底台WT移动，直到衬底与配备在衬底台表面上的多个节块相接触。
衬底W位于衬底台WT上，其背面与衬底台WT表面上的多个节块1相接触，如图2b示意性描述的情况。
在这一阶段，在多个节块之间的空隙中的空气，通过与真空产生装置5相连接的在衬底台WT中的连接孔3被吸走。空气的抽吸在图2c中用箭头示意性的示出。
图2d示意性的描述了一个细节，即如图2c中放置在衬底台WT上的衬底W中的虚线圆圈所示的部分。因为介于衬底W和衬底台WT之间的真空以及由于多个节块1所造成的衬底台WT上的非平坦表面，衬底W局部变形。因此，在衬底W上被曝光的图像将相对于所期望的图案而局部偏移。当显影后的衬底W再次被放置在衬底台WT上进行第二次曝光时，因为相对于多个节块1的位置不同，第二次曝光期间的局部图像的偏移将不同于第一次曝光期间的局部图像的偏移。因此，重叠误差被引入。
图3示意性的描述了本发明一个实施例采用的传送系统。图3中所描述的传送系统适用于光刻投影设备。它被配置为基于有效传送数据来传送衬底。该传送系统包括第一衬底保持器11、位置传感器13、第二衬底保持器15、传送单元17、处理器19以及控制单元21。
第一衬底保持器11被配置用来保持衬底12。在一个实施例中，第一衬底保持器11可围绕其中心旋转，即该衬底被保持所在的表面的中心。因此，旋转轴大致垂直于上述表面。
第二衬底保持器15同样被配置用来在其表面上保持衬底12。第二衬底保持器15的上述表面可装备有多个节块。
如果传送系统用于光刻投影设备，则第二衬底保持器15对应于衬底台WT，而被保持的衬底12对应于衬底W。而且，第一衬底保持器11可以对应于在预对准单元中使用的衬底台。
位置传感器13被配置用来测量放置在第一衬底保持器11上的衬底12的位置误差。该位置误差对应于第一衬底保持器11上的衬底12的测量位置与第一衬底保持器11上的衬底12的理想位置之间的差值。在图3中，第一衬底保持器11对应于预对准单元中的衬底保持器。这种预对准单元可与光刻投影设备一同使用来对准衬底12，以使得其能够被传送给光刻投影设备中的衬底台WT，并能够被放置在其上的预定区域内。在预对准单元中的位置传感器13可为偏心传感器，更确切的是边缘传感器。通过以衬底12的不同方向测量衬底12的边缘，偏心传感器可确定衬底的偏心。为了能够沿不同方向对衬底实施测量，衬底台通常是可旋转的。
传送单元17被配置用于将衬底12从第一衬底保持器11传送至第二衬底保持器15。该传送根据前述的传送数据来完成。如图3示意性描述的实施例中，传送单元17包括两个子单元，即夹持器单元18以及至少三个可延长的销，所述夹持器单元18被配置为从第一衬底保持器11拾起衬底12并将衬底12向第二衬底保持器15移动，而所述销处于第二衬底台15中，又被称为E-销23。可通过由本地电子设备控制的E-销致动器25(例如洛伦兹电动机)来控制E-销23的位置和移动。当电力故障发生时，作为安全检测，E-销23可被配置为在其重力的作用下而下落到其最低的位置。这可以保证E-销23不被损坏。正如箭头51和52分别示意性描述的那样，传送单元17可用来控制被夹持器单元18所保持的衬底12的移动而与E-销23的移动协同操作。传送单元17可控制夹持器单元18向E-销23的方向移动，在图3中，向左边方向移动，以使得衬底12可放置在E-销23上方的合适位置。然后，传送单元17控制E-销向衬底12的延伸，在图3中向上，直至它们与衬底12接触为止。接着，传送单元17控制衬底12从夹持器单元18的分离，且然后将夹持器单元18从E-销23移开，例如在图3中向右边移动，直至夹持器单元18不再阻挡衬底12向第二衬底保持器15移动为止。最后，传送单元17可以控制E-销23的回缩，直至衬底12被放置在第二衬底保持器15上为止。
处理器19通信连接到位置传感器13。处理器19被配置用于基于由位置传感器13测量并从位置传感器13接收的位置误差(如图中箭头53所示)计算定位调整数据。在一个实施例中，处理器19还被配置为将已测量的位置误差划分为第一部分和第二部分，在传送数据和位置误差的第一部分的基础上计算修正的传送数据以及在已测量的位置误差的第二部分的基础上计算位置调整数据。在该实施例中，通信连接到处理器19的传送单元17被配置为根据上述的修正的传送数据将衬底12从第一衬底保持器11传送至第二衬底保持器15。从处理器19向传送单元17的前述修正的传送数据的通信在图3中以箭头54示意性的示出。
控制单元21通信连接到处理器19。控制单元21被配置为根据由处理器19所计算得出的位置调整数据来相对于参考位置移动第二衬底保持器15。从处理器19向控制单元的位置调整数据的通信在图3中以箭头55示意性的示出。
应该理解的是，尽管在图3中处理器19和控制单元21被描述成分立元件，但是处理器19也可并入控制单元21，例如在参照图5所描述的情况下，控制单元21采取计算机组件的形式。
在光刻投影设备中，衬底台WT的定位通常是通过所谓长行程台模块和所谓短行程台模块来实现的，在图3中分别由附图标记27和29所示出。这两个台模块27、29的联合定位能力可提供准确并且快速的定位。长行程台模块29通常在若干个方向上，通常是3个方向上，为短行程台模块27提供粗糙的定位和移动。短行程台模块27通常以六个自由度来对放置在其上的衬底W进行准确的移动和定位。短行程台模块27可以通过空气轴承31而与长行程台模块29分隔开，并且可以由至少一个的洛伦兹电动机(未示出)驱动。
控制单元21可包括分立的控制模块来控制短行程台模块27和长行程台模块29独立地移动和定位。在本发明实施例所涉及的光刻投影设备中的传送系统中，当涉及配置用于根据用处理器19计算得出的位置调整数据来控制第二衬底保持器15的移动的控制单元21时，事实上，配置用于控制短行程台模块27的移动和定位的控制模块被实现。可选的，同一的控制单元21也可被配置用来控制长行程台模块29和短行程台模块27两者的移动和定位，这种情形在图3中分别以箭头56和57示出。然而，还是在这种情形下，当位置调整数据涉及的是短行程台模块27的移动时将得到更准确的结果。
如图3所描述的那样，第二衬底台15不仅包括短行程台模块27，还包括附加元件33。该附加元件可以配置有用于容纳衬底12的足够大的凹槽区。凹槽的表面可以包括多个节块并且在所述多个节块之间设置有孔，从而建立如图2a-d所述那样的真空环境。在浸没式光刻投影设备中，附加元件33中的凹槽还具有容纳及控制浸没液的目的。
图4示意性的描述了根据本发明实施例的将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法。该传送是由传送单元基于其附有的有效传送数据来实现的。
首先，在步骤61中，衬底被提供到第一衬底保持器上。然后，在步骤63中，通过位置传感器测量得出衬底的位置误差。
在一个实施例中，位置误差就是偏心误差。在该实施例中，该位置传感器包括偏心传感器。
在另一实施例中，位置误差可划分为偏心误差和取向误差。在该实施例中，位置传感器可包括被配置用来测量偏心误差的偏心传感器以及被配置用来测量取向误差的取向传感器，也就是设置在第一衬底台上的衬底的取向与第一衬底台上衬底的理想取向之间的误差。可选的，采用单一传感器，通常为边缘传感器。该边缘传感器可被配置用来将已测量的边缘数据(即对在旋转期间产生凹陷的衬底半径的测量)转换为偏心数据(即表示前述凹陷偏移量的数据)和取向(即衬底中具体元件的位置)。前述凹陷例如是一个缺口。
接着，在步骤65中，计算位置调整数据，该位置调整数据是基于已测量的位置误差。
然后，在步骤67中，第二衬底保持器相对于参考位置移动。本领域技术人员公知的是，通过类似于图3中分别描述的长行程台模块29和短行程台模块27那样来联合控制长行程台模块和短行程台模块的移动，可实现第二衬底保持器的运动，以使第二衬底保持器能放置在前述的参考位置。在图3所示的光刻投影设备的情况下，该参考位置对应于在没有平移偏移量存在的情况下，被放置在e-销顶部并位于大致中心位置的衬底所处的位置。在一个实施例中，相对于参考位置的移动是通过单独控制短行程台模块(例如图3所示的短行程台模块27)的移动来实现的。相对于第二衬底保持器的参考位置的移动是根据计算得出的位置调整数据来实现的。应当理解的是，该移动并不一定限于沿着平行于保持衬底的衬底保持器的表面的方向所进行的平移。在本发明的实施例中，还可以通过旋转移动来实现，例如，用于补偿位于第一衬底台上的衬底的取向误差。
最后，在步骤69中，根据传送数据并利用传送单元将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器并且放置在已移动的第二衬底保持器上。
在一个实施例中，在步骤63中测量位置误差之后，首先，在步骤71中，已测量的位置误差被划分为第一部分和第二部分。在步骤73中，在传送数据和位置误差的第一部分的基础上计算修正的传送数据。接着，在步骤65中，在位置误差的第二部分的基础上计算位置调整数据。进而注意到，在步骤69中将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器，是根据已修正的传送数据进行的。
将位置误差划分为第一部分和第二部分可按如下程序进行。如果该位置误差保持低于预先设定的阈值误差，则将整个位置误差指定为第一部分。否则，也就是如果位置误差超过预先设定的阈值误差，则将预先设定的阈值误差指定为第一部分，并且将整个位置误差与预先设定的阈值误差之间的差值指定为第二部分。
图5示意性的示出了可用于本发明实施例的计算机组件的实施例。这种计算机组件100可以是以控制单元(例如控制单元21)的形式的专用计算机。该计算机组件100可被设置用来加载用计算机可执行代码编码的计算机可读介质。当计算机可读介质上的计算机可执行编码被加载时，这能够使计算机组件100执行实施例中的前述方法，即采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法。额外的或者可选的，当计算机可读介质被加载时，这能够使计算机组件100执行器件的制造方法，即通过包括这种传送系统的光刻投影设备的实施例将衬底的目标部分图案化。
计算机组件100包括处理器101，例如与控制单元21通信的处理器19，计算机组件100还包括存储器105。与处理器101连接的存储器105包括多个存储组件，例如硬盘111、只读存储器(ROM)112、电可擦写可编程只读存储器(EEPROM)113以及随机存取存储器(RAM)114。并不需要引入所有上述的存储组件。此外，上述存储组件在物理上接近处理器101或者它们两两之间物理接近也不是必须的。它们可以相隔一段距离放置。
处理器101也可以连接到某些类型的用户接口，例如键盘115或者鼠标116。也可采用本领域技术人员所公知的触摸屏、轨迹球、语音转换器或者其他接口。
处理器101可连接到用于读出数据的读出单元117，该读出单元117(例如以计算机可执行代码的形式)从计算机可读介质(如软盘118或者CDROM 119)和在某些情况下将数据存储于该上计算机可读介质。也可采用本领域技术人员所公知的DVD或其它计算机可读介质。
处理器101还可以连接到打印机120以将输出数据打印到纸上以及显示到显示器121上，显示器121例如是监视器或LCD(液晶显示器)或者是本领域技术人员所公知的其他类型的显示器。
处理器101可连接到通信网络122，例如通过负责输入/输出(I/O)123的发射机/接收机连接公共交换电话网络(PSTN)、局域网(LAN)、广域网(WAN)等等。处理器101可被设置经由通信网络122来与其他通信系统进行通信。在本发明的一个实施例中，外部计算机(未示出)，例如是操作员的个人计算机，可通过通信网络122登录到处理器101。
处理器101可作为一个独立的系统或作为多个并行运行的处理单元实施，其中每个处理单元被安排用来执行大型程序的子任务。该处理单元还可划分为至少一个具有复数个子处理单元的主处理单元。处理器101的某些处理单元甚至可以位于其他处理单元一段距离以外并通过通信网络122进行通信。
尽管在本文中可以做出具体的参考，将所述光刻设备用于制造IC，但应当理解这里所述的光刻设备可以有其他的应用，例如，集成光学系统、磁畴存储器的引导和检测图案、平板显示器、液晶显示器(LCDs)、薄膜磁头等的制造。本领域技术人员应该理解的是，在这种替代应用的情况中，可以将其中使用的任意术语“晶片”和“管芯”分别认为是与更上位的术语“衬底”或“目标部分”同义。这里所指的衬底可以在曝光之前或之后进行处理，例如在轨道(一种典型地将抗蚀剂层涂到衬底上，并且对已曝光的抗蚀剂进行显影的工具)、量测工具和/或检验工具中。在可应用的情况下，可以将所述公开内容应用于这种和其他衬底处理工具中。另外，所述衬底可以处理一次以上，例如为产生多层IC，使得这里使用的所述术语“衬底”也可以表示已经包含多个已处理层的衬底。
这里使用的术语“辐射”和“束”包含全部类型的电磁辐射，包括：紫外辐射(例如具有约365、355、248、193、157或126nm的波长)。
在上下文允许的情况下，所述术语“透镜”可以表示各种类型的光学部件中的任何一种或它们的组合，包括折射式、反射式、磁性式、电磁式和静电式的光学部件。
尽管以上已经描述了本发明的特定的实施例，但是应该理解的是本发明可以以与上述不同的形式实现。例如，本发明可以采取包含用于描述上述公开的方法的一个或更多个机器可读指令序列的计算机程序的形式，或者采取具有在其中存储的这种计算机程序的数据存储介质的形式(例如，半导体存储器、磁盘或光盘)。
以上的描述是说明性的，而不是限制性的。因此，本领域的技术人员应当理解，在不背离所附的权利要求的保护范围的条件下，可以对本发明进行修改。

Claims (15)

1.一种采用传送单元基于有效传送数据将衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器的方法，该方法包括：
在所述第一衬底保持器上提供所述衬底；
测量所述衬底的位置误差；
在所测量的所述位置误差的基础上计算位置调整数据；
根据所述位置调整数据相对于参考位置移动所述第二衬底保持器；
根据所述传送数据并采用所述传送单元将衬底从第一衬底保持器传送到第二衬底保持器，并且将所述衬底放置到已移动的所述第二衬底保持器上。
2.根据权利要求1的方法，其中该方法还包括以下步骤，在所述测量之后：
将所测量的所述位置误差划分为第一部分和第二部分；
在所述传送数据和位置误差的所述第一部分的基础上，计算修正的传送数据；以及
其中，该计算位置调整数据的步骤基于所测量的位置误差的所述第二部分，且所述传送步骤根据所述修正的传送数据来执行。
3.根据权利要求2的方法，其中所述划分步骤通过下述步骤执行：
如果位置误差保持低于预先设定的阈值误差，则将整个位置误差指定为第一部分；以及否则，
将预先设定的阈值误差指定为第一部分并且将整个位置误差与预先设定的阈值误差之间的差值指定为第二部分。
4.根据权利要求1-3中任何一项所述的方法，其中位置误差是通过偏心传感器测量到的偏心误差。
5.根据权利要求1-3中任何一项所述的方法，其中位置误差可划分为通过偏心传感器测量所得的偏心误差和通过取向传感器测量所得的取向误差。
6.一种基于有效传送数据来传送衬底的传送系统，该传送系统包括：
第一衬底保持器，其被配置用作保持衬底；
位置传感器，其被配置用作测量放置在所述第一衬底保持器上的所述衬底的位置误差；
第二衬底保持器，其被配置用作保持衬底；
传送单元，其被配置为根据所述传送数据将所述衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器；
处理器，其与所述位置传感器进行通信，并被配置为在所测量的所述位置误差的基础上来计算位置调整数据；
控制单元，其与所述处理器进行通信，并被配置为根据所计算的所述位置调整数据相对于参考位置移动所述第二衬底保持器。
7.根据权利要求6的传送系统，其中所述第二衬底保持器被放置在第一可移动台模块上，且所述第一可移动台模块被放置在第二可移动台模块上，所述第一和第二可移动台模块与所述控制单元进行通信，控制单元还被配置用来移动所述第二可移动台模块和所述第一可移动台模块，以使得所述第二衬底保持器可以放置在所述参考位置，且控制单元还被配置用来移动所述第一可移动台模块，以使得根据所计算的所述位置调整数据相对于所述参考位置移动所述第二衬底保持器。
8.根据权利要求6或7的传送系统，其中所述处理器还被配置为：
将所测量的位置误差划分为第一部分和第二部分；
在传送数据以及位置误差的第一部分的基础上计算修正的传送数据；以及
在所测量的位置误差的第二部分的基础上计算位置调整数据；以及
其中所述传送单元与所述处理器进行通信，并被配置为根据所述修正的传送数据将所述衬底从第一衬底保持器传送至第二衬底保持器。
9.根据权利要求6的传送系统，其中所述位置传感器包括被配置为用作测量偏心误差的偏心传感器。
10.根据权利要求9的传送系统，其中所述位置传感器还包括被配置用作测量取向误差的取向传感器。
11.根据权利要求6的传送系统，其中所述第一衬底台可围绕其中心旋转。
12.根据权利要求6的传送系统，其中所述传送单元包括至少三个位于所述第二衬底台中的可延伸的销。
13.根据权利要求12的传送系统，其中所述传送系统还包括被配置用来控制所述至少三个可延伸销的延伸的致动器。
14.一种光刻投影设备，包括：
照射系统，其被配置用作提供辐射束；
支撑结构，其被配置用作支撑图案形成装置，该图案形成装置用作将图案在辐射束的横截面上赋予所述辐射束，用于形成图案化的辐射束；
衬底台，其被配置用作保持衬底；
投影系统，其被配置为用于将所述图案化的辐射束曝光在所述衬底上；
其中所述光刻投影设备还包括根据权利要求6-13中任何一项的传送系统，且所述衬底台是第二衬底保持器。
15.一种器件制造方法，包括采用如权利要求14所述的光刻投影设备将已图案化的辐射束投影到衬底上。
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