CN101438626A - 具有发光图案的有机发光器件、制备该器件的方法和设备 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种制备有机发光器件的方法、采用所述方法制备的有机发光器件以及在所述方法中使用的设备。所述方法包括:制备第一电极、在所述第一电极上形成一层或多层有机材料层并在所述有机材料层上形成第二电极,其中,所述方法包括改变一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能。

Description

具有发光图案的有机发光器件、制备该器件的方法和设备
技术领域
本发明涉及一种有机发光器件以及制备该器件的方法和设备。更具体而言,本发明涉及一种具有发光图案的有机发光器件以及制备该器件的方法和设备。
本申请要求分别于2006年5月4日和2006年10月17日在KIPO提交的申请号为10-2006-0040640和10-2006-0100783的韩国专利申请的优先权,在此将其公开内容以引用方式完整并入。
背景技术
有机发光器件包括两个电极和设置在这两个电极间的有机材料层,并且电子和空穴从两个电极注入到有机材料层,从而使电流转化为可见光而发光。
图1为常规有机发光器件的剖视图。参照该附图,有机发光器件包括设置在如阳极电极20和阴极电极70的两个电极间的发光层50。两个电极中的任一个,例如,阳极电极20设置在透明基板10上,并且从发光层50发出的光透过该透明基板。为提高性能,该有机发光器件可进一步包括选自电子注入层65、电子传输层60、空穴传输层45和空穴注入层40中的一层或多层。
有机发光器件可进一步包括具有预定图案的绝缘层30,该绝缘层位于透明基板10上的电极上以分离发光区域A)和非发光区域B)。
发明内容
技术问题
本发明的一个目的为提供一种容易地制备具有发光图案的有机发光器件的方法以及采用该方法制备的有机发光器件,所述方法包括改变一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的部分或全部功能。
本发明的另一目的为提供一种容易地制备具有发光图案的有机发光器件的方法以及采用该方法制备的有机发光器件和在该方法中使用的设备,所述方法包括采用DLP(数字光处理)改变一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的部分或全部功能。
技术方案
为实现上述目的,本发明提供了一种制备有机发光器件的方法,其包括下面的步骤:制备第一电极;在所述第一电极上形成一层或多层有机材料层;以及在所述有机材料层上形成第二电极,其中,所述方法包括改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域功能的步骤。
根据本发明的一个实施方案,可以采用DLP(数字光处理)改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能。
并且,本发明提供了一种有机发光器件,其包括第一电极;设置在所述第一电极上的一层或多层有机材料层;以及设置在所述有机材料层上的第二电极,其中,所述一层或多层有机材料层和电极为其预定图案区域的功能被改变的层。
此外,本发明提供了一种用于向有机发光器件提供发光图案的设备,其包括,(a)系统控制单元,其产生图形图像(patterning image)并控制系统,(b)UV提供单元,(c)DLP系统,其通过使用从系统控制单元接收的图形图像信号和从UV提供单元接收的UV来形成图案化的UV图像,然后将该图案化的UV图像照射出来,以及(d)样品单元,在其上安放样品,将从所述DLP系统发射的图案化的UV图像照射在该样品上。
有益效果
一种有机发光器件包括具有在与预定图案相对应的区域内被部分或全部改变了功能的层。因此,有可能容易地制备出以预定图案发光的有机发光器件。不必使用另外的器件来以该图案发光,制备方法可以是简单的,并且具有成本方面的优势。尤其是,与制备采用光掩膜等来按预定图案发光的有机发光器件的情况相比,当采用DLP改变所述功能时,可以更容易地实现灰度并更精细和准确地调节灰度。
附图说明
图1为包括图案化的绝缘层的常规有机发光器件的剖视图;
图2为显示根据本发明的实施方案由曝光引起的对特定的有机材料层的预定图案区域进行功能改变的剖视图;
图3为显示对区域曝光进行单独控制来改变特定有机材料层的预定图案区域的功能的剖视图;
图4显示了在实施例1中制备的器件的发光图案;
图5为显示采用DLP而对区域曝光进行单独控制来根据数字图形图像的形状改变有机材料层的功能的剖视图;
图6为显示微镜操作的照片,所述微镜构成DMD(数字微镜器件),其用于通过使用显微镜进行DLP;
图7为显示采用DLP的设备的示意图;
图8为显示采用DLP的设备的细节图;
图9为显示采用DLP的设备的工作机制的示意图;以及
图10为显示随UV照射程度有机材料层的功能改变程度的图。
10:基板,
20:第一电极,
30:绝缘层,
50:发光层,
40、45、60、65:除发光层外的有机材料层,
70:第二电极。
实施方式
在下文中,将更详细地描述本发明。
根据本发明制备有机发光器件的方法包括,改变所述有机发光器件中的一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能以使该有机发光器件能够以预定图案发光。
具体而言,改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能的步骤可为这样的步骤:向具有改变了功能的区域提供另外的功能以使该区域与有机发光器件的发光区相对应或者除去该区域的功能以使该区域与非发光区域相对应。
在本发明中,进行上述步骤从而使构成有机发光器件的一层或多层中的预定图案区域与其他区域的功能彼此不同,并且包含具有不同功能的区域的层影响了该有机发光器件的发光图案而迫使该有机发光器件以预定图案发光。
具体而言,在本发明中,所述预定图案区域的功能被改变的层可选自有机材料层或电极。在本发明中,当所述预定图案区域的功能被改变的层为电荷传输层,例如,注入和/或传输空穴的层或者注入和/或传输电子的层时,由于在上述步骤中改变了该层的预定图案区域的功能,所以预定图案区域与其他区域的电荷传输效率彼此不同。由于进入发光层的电荷传输效率不同,根据与电荷传输层的预定图案区域相对应的发光图案从发光层发光。
此外,当其中预定图案区域的功能被改变的层为有机材料层的发光层时,发光层的改变了功能的区域和未改变功能的区域具有不同的发光效率,因此,根据发光效率的不同形成发光图案。当其中预定图案区域的功能被改变的层为电极时,其机理相似。
在相关技术中,为制备具有发光图案的有机发光器件,除了构成有机发光器件的层之外,必须形成另外的层,例如,绝缘层,以便获得预定的图案。然而,在本发明中,与已知方法不同,由于包括上述步骤,因此不必形成另外的层或在该层上形成图案,并且相对于构成有机发光器件的一层或多层只需改变预定图形区域的功能就能够容易地制备具有发光图案的有机发光器件。因此,在本发明中,可显著减少加工步骤来增加加工效率并可降低材料和加工的成本。
除了所述方法的上述优点外,还可获得下面的优点。由于除构成有机发光器件的层以外,采用根据本发明制备有机发光器件的方法制备的有机发光器件不包括其他的层,因此可防止当象已知方法那样提供除构成有机发光器件的层以外的层时可能出现的问题,例如,层间界面性能的劣化和发光效率的降低。
此外,在采用图案化绝缘层的常规方法中,在形成绝缘层的部分和未形成绝缘层的另一部分处的光发射分别为0%和100%。具体而言,仅通过开/关形式而获得发光图案。然而,在本发明中,控制构成有机发光器件的一层或多层的预定图案区域的功能改变程度以形成具有其中光发射从高发光部分经过中度发光部分逐渐变为低发光部分的灰度,即所需梯度的发光图案以及开/关类型的发光图案。
另外,在本发明中,因为可选择不同类型的方法作为改变所述层的预定图案区域功能的方法,所以与其中需要使用掩膜来形成图案化的绝缘层的常规方法不同,可以不使用掩膜制备具有发光图案的有机发光器件。
如上所述,在本发明中,其中预定图案区域的功能被改变的层可为有机材料层中的一层或多层。当根据本发明的有机发光器件包括具有多层结构的有机材料层时,其中预定图案区域的功能被改变的有机材料层可为选自空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层中的一层或多层,或者为具有上述层的功能中的两种或多种功能的层。可选择地,根据本发明的目的,所述有机材料层可为另外形成的不提供上述功能但形成发光图案的层。然而,考虑到发光效率,更优选所述有机材料层为进行电荷传输,例如,空穴注入、空穴传输、电子传输或电子注入的层。此外,在本发明中,其中预定图案区域的功能被改变的层可为电极。在此种情况下,所述电极可被用作阳极、阴极或者阳极和阴极两者。
在本发明中,只要能实现所述目的,并不限制改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的方法。例如,可以通过光学处理(optical process),例如采用UV、激光或电子束的处理来进行所述方法。
尤其是,当将DLP用作改变一层或多层有机材料层或电极的预定图形区域的功能的方法时,可以精细地改变预定图形区域的功能。
DLP的原理如下所述。DLP是数字光处理的缩写,在1987年由德州仪器有限公司(Texas Instruments Inc.)的研究者们开发。在DLP中,采用DMD(数字微镜器件)处理图像。DMD可包括750,000或更多个微镜。由于采用反射镜来显示图像,其优点在于光效率极佳并能够获得精细的图像。
与模拟结构相比,数字结构的优点在于能够以高可靠性精确地获得所需的图像,并且产品尺寸小且重量轻。数字图像是许多0和1信号的组合。可根据数字信号的组合来操纵作为DLP技术核心的DMD模块。具体而言,通过操纵构成DMD的微镜来表达从视频存储器或视频处理器传输来的数字图像的组合。
例如,所述DMD模块的各个微镜可具有大小为16微米×16微米的正方形形状,且微镜间的间隔可小于1微米,并且可以非常密集地设置微镜。通过使用0和1的数字信号移动包含在用于进行DLP的DMD模块中的各个微镜的两个边缘来表达数字图像信号。各个微镜可以向右或向左旋转例如0~10°,而保存在视频存储器中的数字图像信号被传输至微镜的驱动设备来操纵微镜。这些镜片的旋转由精细像素来表达,并基于上述原理表达出像素的明暗。图6中显示了构成用于进行DLP的DMD模块的微镜。为举例说明给出了微镜的尺寸和旋转角度,但并不意欲限制本发明的范围。
根据类似于体育馆中的拼图的机理进行DLP。在拼图中,利用板的移动来呈现整个图像。在DMD中,板由镜片形成,并且当光线从光源以预定方向照射到预定位置上时,通过反射镜的移动来反射光线,并且光线能透过的透镜部分与光线不能透过的其他部分形成了单一的图像。
当形成黑白图像时,除了白色和黑色外,需要表达出灰色调的色彩感觉。在DMD中,采用每秒钟变换数千次的0和1的拼图原理可以表达出该色彩感觉。例如,当要在单位时间内将DMD镜片移动1000次时,如果采用镜片来精细控制0和1的频率,就有可能非常精确地调控像素的色调。DMD微镜的移动速度可以设定为每秒500,000或更多次。从而通过采用数字结构来表达黑色和白色的明暗并可以输出灰度图像。
因此,在DLP中,可将电源选择性地施加在有机材料层或电极上,从而选择性地改变有机材料层或电极的预定图案区域的功能。
例如,采用上述光学方法能改变其功能的有机材料层可为包括由通式1表示的化合物的层。通式1的化合物在有机发光器件中可起到注入和/或传输空穴的作用,但被上述光学处理过的区域的注入和/或传输功能可以部分或全部除去。图10为显示随UV的照射,包含通式1的化合物的有机材料层的功能变化的图。
[通式1]
Figure A200780016199D00141
其中,R1~R6各自选自氢、卤素原子、腈基(-CN)、硝基(-NO2)、磺酰基(-SO2R)、亚砜基(-SOR)、磺酰胺基(-SO2NR)、磺酸酯基(-SO3R)、三氟甲基(-CF3)、酯基(-COOR)、酰胺基(-CONHR或-CONRR')、取代或未取代的直链或支链C1~C12烷氧基、取代或未取代的直链或支链C1~C12烷基、取代或未取代的芳香或非芳香性杂环基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的单或双芳基胺基和取代或未取代的芳烷基胺基中,以及R和R'各自选自取代或未取代的C1~C60烷基、取代或未取代的芳基和取代或未取代的5~7元杂环基中。
通式1的化合物可选自由化学式1-1至化学式1-6表示的化合物中。
[化学式1-1]
Figure A200780016199D00151
[化学式1-2]
Figure A200780016199D00152
[化学式1-3]
Figure A200780016199D00161
[[化学式1-4]
Figure A200780016199D00162
[化学式1-5]
[化学式1-6]
Figure A200780016199D00164
在本发明中,只要在形成其中预定图案区域的功能被改变的层之后,就可以在形成其他有机材料层之后或在形成第二电极之后进行改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能的步骤。然而,优选,在其中预定图案区域的功能要被改变的层形成之后并在其他有机材料层或第二电极形成之前进行所述步骤。
此外,可进行改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能的步骤,从而有机发光器件根据图案区域的位置通过控制功能改变的程度,例如,当采用光学方法时通过控制曝光来实现开/关或者多种类型的发光梯度。例如,改变了预定图案区域的所有功能来形成发光图案,从而在改变了功能的区域和未改变功能的区域通过开/关的形式显示发光强度。此外,可根据图案区域的位置来控制曝光以使功能改变的程度不同,这样形成具有两种不同发光强度的的发光图案。在图2和3中显示了与此相关的实施例。在图2中,将UV照射在非发光区域以完全除去该区域的功能,从而使制得的有机发光器件显示出发光区域A和非发光区域B的两种发光强度,即,开/关强度。在图3中,使用能根据区域的位置控制UV照射的光掩膜。因此,对图案区域的功能改变的程度不同从而使该有机发光器件具有不同类型的发光强度。在图3中,表示发光区域的发光强度的A、A'和A"以及表示非发光区域的发光强度的B可以具有不同程度的亮度。而且,可以通过单阶段或多阶段来进行对图案区域的功能改变步骤从而改变不同图案区域的至少一部分功能。
为确保得到显示出梯度的发光图案,可以使用具有多种类型的材料或厚度的光掩膜或者可以控制曝光以根据区域的类型来调节曝光。例如,为了呈现出具有三种或更多种不同发光强度的图案,可以使用由多种类型的材料形成或者具有不同厚度并且能够根据区域控制光透过的光掩膜,可以使用多个由多种类型的材料形成或具有不同厚度的光掩膜,或者可以使用能根据区域控制光的照射的光源。
图5显示了采用DLP控制的功能改变。基于上述机理进行所述的控制。当使用DLP时,可以改变预定图案区域的所有功能以确保发光图案,在该图案中在改变其功能的区域和未改变其功能的区域内以开/关形式显示发射光的强度。此外,可根据区域的类型来控制曝光以使功能改变的程度不同。这样,可以确保发光图案从而获得两种或更多种不同的发光强度。
除了改变一层或多层构成层的预定图案区域的功能外,根据本发明的有机发光器件可以采用制备有机发光器件的一般方法和一般材料来制备。例如,采用如溅射法或电子束蒸发法的PVD(物理气相沉积)法在基板上沉积金属或具有导电性的金属氧化物或其合金而形成阳极形成包括空穴注入层、空穴传输层、发光层和电子传输层的有机材料层,并沉积能被用于形成阴极的材料来制备根据本发明的有机发光器件。可选择地,为制备具有反向结构的有机发光器件,可以在基板上依次沉积阴极材料、有机材料层材料和阳极材料。
有机材料层可以不通过沉积法,而通过如旋涂法、浸涂法、刮刀涂法、丝网印刷法、喷墨印刷法或热转印法的溶剂法,采用多种类型的聚合物材料来制备以使其包括较少层数。
此外,本发明提供了一种采用所述制备方法制备的有机发光器件。所述有机发光器件包括第一电极、沉积在所述第一电极上的一层或多层有机材料层以及沉积在所述有机材料层上的第二电极,其中,所述一层或多层有机材料层或电极为其中预定图案区域的功能被改变的层。根据本发明的有机发光器件可带有当图案采用绝缘层形成时不能获得的梯度的发光图案。其中预定图案区域的功能被改变的层可为具有另外的功能以与有机发光器件的发光区域相对应的层,或者为从其中除去所述功能以与非发光区域相对应的层。
除了有机发光器件具有其中预定图案区域的至少部分功能被改变的有机材料层外,本发明的有机发光器件可具有一般结构。本发明的有机发光器件的有机材料层可具有包括一层的单层结构或具有包括所述发光层的两层或更多层的多层结构。当本发明的有机发光器件的有机材料层具有多层结构时,该有机材料层可具有包括空穴注入层、空穴传输层、发光层和电子传输层的结构。然而,有机发光器件的结构不限于此,而有机发光器件可包括较少有机材料层数。此外,在本发明中,其中预定图案区域的功能被改变的层可为电极。在此种情况下,该电极可用作阳极、阴极或者阳极和阴极两者。本发明的有机发光器件可为具有正常结构的有机发光器件或为具有反向结构的有机发光器件。另外,根据使用的材料类型,可将根据本发明的有机发光器件分为顶部发光型、底部发光型或双面发光型。
此外,本发明提供了一种向有机发光器件提供发光图案的设备,该设备包括:(a)系统控制单元,其产生图形图像并控制系统,(b)UV提供单元,(c)DLP系统,其通过使用从系统控制单元接收的图形图像信号和从UV提供单元接收的UV来产生图案化的UV图像,然后将该图案化的UV图像照射出来,以及(d)样品单元,在其上安放样品,将从DLP系统发射出的图案化的UV图像照射在该样品上。
系统控制单元(a)为形成要被图案化的图像并控制整个设备系统的部件,并且可以如图7所示包括计算机。系统控制单元可接收来自样品单元的对准标记信号(alignment key signal)以控制样品单元的对准系统(alignment system)操作从而使图案的形状定位在样品单元的样品上。
UV提供单元(b)为将UV照射到DLP系统上的单元。UV提供单元可包括UV灯和UV灯电源。此外,可以提供对照射到样品上的UV强度的反馈以保持UV的强度。
DLP系统(c)起到如下作用:接收来自系统控制单元(a)的将被图案化的图像信号,使从UV提供单元(b)发射出的未图案化的UV形成图案化的UV图像,并将得到的图案化的UV图像照射到安放在样品单元上的样品上。所述DLP系统可包括上述DMD。
样品单元(d)可包括在安放样品的部位处的真空室。样品单元可包括校准图案的对准系统以确保预定的形状以及用于测量UV强度的传感器。
参照图8将详细描述向所述有机发光器件提供发光图案的设备。然而,描述图8是为了举例说明,不能被理解为限制本发明的范围。
在根据本发明的设备中,UV提供单元(b)可包括UV灯电源和通过由UV灯电源提供的电能而运转的UV灯。
DLP系统(c)可包括:图像处理驱动单元,其接收来自系统控制单元(a)的图形图像信号并将该图形图像信号转化为数字图像信号;DMD模块,其接收来自图像处理驱动单元的图像信号并采用由UV提供单元(b)提供的UV来形成图案化的UV图像;UV投射单元,其将由DMD模块提供的图案化的UV图像照射到样品单元上;设置在UV提供单元(b)和DMD模块间的UV光学透镜;以及设置在DMD模块和UV投射单元间的UV光学透镜。
所述样品单元(d)可包括:样品支撑单元;真空室,其包括设置在与DLP系统(c)的UV投射单元相对应的区域内的UV光学窗;UV强度传感器,其与UV提供单元(b)的UV灯电源连接;以及样品对准系统,其与样品支撑单元和系统控制单元(a)连接。
具体而言,通过下面的方法来运转向根据本发明的有机发光器件提供发光图案的设备。系统控制单元接收用于将图案对准在样品上的对准标记信号而产生图形图像,然后将图形图像传送至图像处理驱动单元。图像处理驱动单元将图形图像信号转化成数字图像信号并将该数字图像信号传送至DMD模块。UV提供单元通过UV光学膜向DMD模块提供具有预定强度的未图案化的UV。DMD模块接收数字图像信号和未图案化的UV,将UV转化为图案化的UV图像,并通过UV光学膜、UV投射单元和UV光学窗将该UV图像照射到安放在包括真空室的样品单元上的样品上。为了将图案对准在样品上,样品单元的样品对准系统接收对准标记信号并将该对准标记信号传送至系统控制单元,以使系统控制单元控制对准系统的驱动。样品单元的UV强度传感器用于测量UV强度并将测得的信号传送至UV电源以控制UV的强度。在图9中显示了向有机发光器件提供发光图案的设备的驱动机制。
具体实施方式
参照下面的实施例将更好地理解本发明,这些实施例是为了举例说明的目的而不应被理解为限制本发明。
实施例1
将涂覆了厚度为
Figure A200780016199D00211
的ITO(氧化铟锡)薄层的玻璃基板浸入其中溶解了清洁剂的蒸馏水中,并用超声波洗涤。洗涤ITO30分钟后,用蒸馏水重复洗涤2次,每次10分钟。完成用蒸馏水的洗涤后,用包括异丙醇、丙酮或甲醇的溶剂进行超声波洗涤,将其干燥并移至等离子体洗涤机中。此外,用氧等离子体洗涤基板5分钟然后将其移至真空沉积机中。
在真空中通过加热将下式的六腈六氮杂苯并菲(HAT)沉积在制得的ITO透明电极上,直至厚度为100
Figure A200780016199D0022091122QIETU
以形成空穴注入层,用碱石灰制成的图案掩膜覆盖形成的层,用具有1kW电容的高压汞UV灯将UV照射在其上5分钟。
[HAT]
在真空中将用于传输空穴的物质4,4'-双[N-(1-萘基)-N-苯基氨基]联苯(NPB)(400
Figure A200780016199D0022091122QIETU
)沉积在所述空穴注入层上以形成空穴传输层。接着,在真空中将下式的Alq3发光物质沉积在所述空穴传输层上形成发光层。
[Alq3]
在真空中将下面的化合物沉积在所述发光层上直至厚度为200???以形成电子注入和传输层。
Figure A200780016199D00231
将氟化锂(LiF)和铝依次沉积在电子注入和传输层上直至厚度分别为
Figure A200780016199D00232
Figure A200780016199D00233
以形成阴极。
在此种情况下,有机物质的沉积速度保持在0.4~0.7
Figure A200780016199D0022091122QIETU
/sec,阴极的氟化锂的沉积速度保持在0.3
Figure A200780016199D0022091122QIETU
/sec,铝的沉积速度保持在2
Figure A200780016199D0022091122QIETU
/sec,并且在沉积过程中真空度保持在2×10-7至5×10-8托。
当向所述有机发光器件施加5.7V的正向电场以发光时,由于暴露于UV下而使有机物质性能改变的部分改变了发光性能,从而形成预定的图案。这显示在图4中。

Claims (25)

1、一种制备有机发光器件的方法,其包括下列步骤:制备第一电极;在所述第一电极上形成一层或多层有机材料层;以及在所述有机材料层上形成第二电极,其中,所述方法包括改变一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能的步骤。
2、根据权利要求1所述的方法,其中,所述改变一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能包括:向所述区域提供另外的功能以使改变了功能的各区域与有机发光器件的发光区域相对应,或者除去所述区域的功能以使改变了功能的各区域与非发光区域相对应。
3、根据权利要求1所述的方法,其中,所述预定图案区域的功能被改变的层包括有机材料层,该有机材料层具有选自空穴注入、空穴传输、发光、电子传输和电子注入中的一种或多种功能。
4、根据权利要求1所述的方法,其中,所述预定图案区域的功能被改变的层包括含有由通式1表示的化合物的有机材料层:
[通式1]
其中,R1~R6各自选自氢、卤素原子、腈基(-CN)、硝基(-NO2)、磺酰基(-SO2R)、亚砜基(-SOR)、磺酰胺基(-SO2NR)、磺酸酯基(-SO3R)、三氟甲基(-CF3)、酯基(-COOR)、酰胺基(-CONHR或-CONRR′)、取代或未取代的直链或支链C1~C12烷氧基、取代或未取代的直链或支链C1~C12烷基、取代或未取代的芳香或非芳香性杂环基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的单或双芳基胺基和取代或未取代的芳烷基胺基中,以及R和R′各自选自取代或未取代的C1~C60烷基、取代或未取代的芳基和取代或未取代的5~7元杂环基中。
5、根据权利要求1所述的方法,其中,所述预定图案区域的功能被改变的层包括阳极、阴极或者阳极和阴极。
6、根据权利要求1所述的方法,其中,采用光学处理来改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能。
7、根据权利要求6所述的方法,其中,采用UV、激光或电子束照射来改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能。
8、根据权利要求6所述的方法,其中,采用DLP(数字光处理)来改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能。
9、根据权利要求1所述的方法,其中,在所述预定图案区域的功能被改变的层形成之后并在其他层形成之前改变所述一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能。
10、根据权利要求1所述的方法,其中,所述改变一层或多层有机材料层或电极的预定图案区域的功能包括:根据区域的类型控制曝光以调节有机物质或电极材料的功能改变程度,以使所述有机发光器件呈现出两种或更多种发光强度。
11、根据权利要求10所述的方法,其中,采用控制光掩膜的透过的方法或者控制光源的光强的方法来控制曝光。
12、一种有机发光器件,其包括第一电极;设置在所述第一电极上的一层或多层有机材料层;以及设置在所述有机材料层上的第二电极,其中,所述一层或多层有机材料层和电极为其中预定图案区域的功能被改变的层。
13、根据权利要求12所述的有机发光器件,其中,所述其中预定图案区域的功能被改变的各层为向其提供另外的功能从而与所述有机发光器件的发光区域相对应的层,或者为从其中除去功能从而与非发光区域相对应的层。
14、根据权利要求12所述的有机发光器件,其中,所述其中预定图案区域的功能被改变的各层具有选自空穴注入、空穴传输、发光、电子传输和电子注入中的一种或多种功能。
15、根据权利要求14所述的有机发光器件,其中,所述其中预定图案区域的功能被改变的层包括含有由通式1表示的化合物的有机材料层:
[通式1]
Figure A200780016199C00041
其中,R1~R6各自选自氢、卤素原子、腈基(-CN)、硝基(-NO2)、磺酰基(-SO2R)、亚砜基(-SOR)、磺酰胺基(-SO2NR)、磺酸酯基(-SO3R)、三氟甲基(-CF3)、酯基(-COOR)、酰胺基(-CONHR或-CONRR′)、取代或未取代的直链或支链C1~C12烷氧基、取代或未取代的直链或支链C1~C12烷基、取代或未取代的芳香或非芳香性杂环基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的单或双芳基胺基和取代或未取代的芳烷基胺基中,以及R和R′各自选自取代或未取代的C1~C60烷基、取代或未取代的芳基和取代或未取代的5~7元杂环基中。
16、根据权利要求12所述的有机发光器件,其中,所述其中预定图案区域的功能被改变的层包括阳极、阴极或者阳极和阴极。
17、根据权利要求12所述的有机发光器件,其中,所述其中预定图案区域的功能被改变的各层具有采用光学处理而改变的功能。
18、根据权利要求12所述的有机发光器件,其中,所述其中预定图案区域的功能被改变的各层具有采用UV、激光或电子束而改变的功能。
19、根据权利要求12所述的有机发光器件,其中,所述其中预定图案区域的功能被改变的各层具有采用DLP(数字光处理)而改变的功能。
20、根据权利要求12所述的有机发光器件,其中,当改变其中预定图案区域的功能要被改变的层的功能时,根据区域的类型控制曝光以调节有机物质或电极材料的功能改变程度,以使所述有机发光器件呈现出两种或更多种发光强度。
21、一种电子设备,其包括根据权利要求12~20中任一项所述的有机发光器件。
22、一种向有机发光器件提供发光图案的设备,其包括:
(a)系统控制单元,其产生图形图像并控制系统;
(b)UV提供单元;
(c)DLP系统,其采用从系统控制单元接收的图形图像信号和从UV提供单元接收的UV产生图案化的UV图像,然后照射出该图案化的UV图像;以及
(d)样品单元,其上安放样品,由DLP系统发射的图案化的UV图像照射在样品上。
23、根据权利要求22所述的设备,其中,所述UV提供单元(b)包括UV灯电源和UV灯。
24、根据权利要求22所述的设备,其中,所述DLP系统(c)包括:图像处理驱动单元,其接收来自于所述系统控制单元(a)的图形图像信号并将该图形图像信号转化为数字图像信号;DMD模块,其接收来自于图像处理驱动单元的图像信号并且采用UV提供单元(b)提供的UV来形成图案化的UV图像;UV投射单元,其将由DMD模块提供的图案化的UV图像照射在所述样品单元上;设置在UV提供单元(b)和DMD模块之间的UV光学透镜;以及设置在DMD模块和UV投射单元之间的UV光学透镜。
25、根据权利要求22所述的设备,其中,所述样品单元(d)包括:样品支撑单元;真空室,其包括设置在与所述DLP系统(c)的UV透射单元相对应的区域内的UV光学窗;UV强度传感器,其与所述UV提供单元(b)的UV灯电源连接;以及样品对准系统,其与所述样品支撑单元和系统控制单元(a)连接。
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