CN101402447A - 高纯度低露点氢氮混合气体的加工方法 - Google Patents

高纯度低露点氢氮混合气体的加工方法 Download PDF

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Abstract

本发明为高纯度低露点氢氮混合气体的加工方法。通过该方法加工的氢氮混合气体,其产气量稳定,且混合气体的露点低。其特征在于:将液态氨通过过滤器后送入蒸发器,气态氨从蒸发器出来后通过调节阀将压力控制在0.05Mpa,经转子流量计和热交换器吸收高温分解气的热量,得到预热后进入裂解炉,氨气加热到800℃~850℃,在镍催化剂的作用下,分解为氢氮混合气体,然后经热交换器、水冷却器进行冷却后,进入纯化系统,纯化系统中的吸附塔有两组塔并联,每组塔是由两级吸附塔串联,混合气体通过一级吸附塔、二级吸附塔,吸附塔内的分子筛除去水份和残氨。

Description

高纯度低露点氢氮混合气体的加工方法
技术领域
本发明涉及氨分解加工技术领域,具体为高纯度低露点氢氮混合气体的加工方法。
背景技术
在不锈钢加工中,其中一个工艺为对钢管进行固溶处理,而固溶处理中需要对炉内通以氢氮混合气体,以保护钢的氧化。而现有的氢氮混合气体的加工方法为液氨由储存罐内出来后直接进入分解炉,将氨气加热到800摄氏度~850摄氏度时,在镍催化剂作用下,分解为氢氮混合气体后进入纯化系统,而纯化系统由两组吸附塔并联,一组塔工作,另一组再生,吸附塔内的分子筛同时去除掉水份和残氨。上述工艺的缺点就是产气量不稳定,有微量残氨,纯度偏低,气体露点高,而高的露点容易影响到钢的表面光洁度。
发明内容
针对上述缺点,本发明提供了一种高纯度低露点氢氮混合气体的加工方法通过该方法加工的氢氮混合气体,其产气量稳定,且混合气体的露点低。
其通过以下技术方案实现:其特征在于:将液态氨通过过滤器后送入蒸发器,气态氨从蒸发器出来后通过调节阀将压力控制在0.05Mpa,经转子流量计和热交换器吸收高温分解气的热量,得到预热后进入裂解炉,氨气加热到800℃~850℃,在镍催化剂的作用下,分解为氢氮混合气体,然后经热交换器、水冷却器进行冷却后,进入纯化系统,纯化系统中的吸附塔有两组塔并联,每组塔是由两级吸附塔串联,混合气体通过一级吸附塔、二级吸附塔,吸附塔内的分子筛除去水份和残氨。
上述工艺中,采用蒸发器保证液氨的蒸发,原料氨气的供给稳定,以确保后续氢氮混合气体额定的产气量,而氢氮混合气体经热交换器、水冷却器进行冷却后,降低了气体的露点,这样可以确保固溶处理后钢材具有较高的表面光洁度。
具体实施方式
下面结合实施例描述本发明的加工过程:
将液态氨通过过滤器后送入蒸发器,气态氨从蒸发器出来后通过调节阀将压力控制在0.05Mpa,经转子流量计和热交换器吸收高温分解气的热量,得到预热后进入裂解炉,氨气加热到800℃~850℃,最佳温度为825℃,在镍催化剂的作用下,分解为氢氮混合气体,然后经热交换器、水冷却器进行冷却后,进入纯化系统,纯化系统中的吸附塔有两组塔并联,每组塔是由两级吸附塔串联,混合气体通过一级吸附塔、二级吸附塔,吸附塔内的分子筛除去水份和残氨,通过两级吸附塔的吸附,氢氮混合气体的纯度大幅度地提高。

Claims (1)

1、高纯度低露点氢氮混合气体的加工方法,其特征在于:将液态氨通过过滤器后送入蒸发器,气态氨从蒸发器出来后通过调节阀将压力控制在0.05Mpa,经转子流量计和热交换器吸收高温分解气的热量,得到预热后进入裂解炉,氨气加热到800℃~850℃,在镍催化剂的作用下,分解为氢氮混合气体,然后经热交换器、水冷却器进行冷却后,进入纯化系统,纯化系统中的吸附塔有两组塔并联,每组塔是由两级吸附塔串联,混合气体通过一级吸附塔、二级吸附塔,吸附塔内的分子筛除去水份和残氨。
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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN102923648A (zh) * 2011-08-07 2013-02-13 深圳市格林美高新技术股份有限公司 一种液氨分解气纯化方法与装置
CN103305681A (zh) * 2013-06-28 2013-09-18 攀钢集团西昌钢钒有限公司 用于连退机组内气氛露点调节装置
CN114015839A (zh) * 2021-10-18 2022-02-08 南京筑新技术集团有限公司 一种不锈钢结构加工的热应力释放方法

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C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C12 Rejection of a patent application after its publication
RJ01 Rejection of invention patent application after publication

Open date: 20090408