CN101314281B - 制造产品的方法 - Google Patents

制造产品的方法 Download PDF

Info

Publication number
CN101314281B
CN101314281B CN2008101084278A CN200810108427A CN101314281B CN 101314281 B CN101314281 B CN 101314281B CN 2008101084278 A CN2008101084278 A CN 2008101084278A CN 200810108427 A CN200810108427 A CN 200810108427A CN 101314281 B CN101314281 B CN 101314281B
Authority
CN
China
Prior art keywords
liquid
ejecting head
droplet ejecting
dispersing
liquid droplet
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN2008101084278A
Other languages
English (en)
Other versions
CN101314281A (zh
Inventor
石原治彦
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Shibaura Machine Co Ltd
Original Assignee
Toshiba Corp
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toshiba Corp filed Critical Toshiba Corp
Publication of CN101314281A publication Critical patent/CN101314281A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN101314281B publication Critical patent/CN101314281B/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/17Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/175Ink supply systems ; Circuit parts therefor
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/17Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/175Ink supply systems ; Circuit parts therefor
    • B41J2/17503Ink cartridges
    • B41J2/17506Refilling of the cartridge
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B41PRINTING; LINING MACHINES; TYPEWRITERS; STAMPS
    • B41JTYPEWRITERS; SELECTIVE PRINTING MECHANISMS, i.e. MECHANISMS PRINTING OTHERWISE THAN FROM A FORME; CORRECTION OF TYPOGRAPHICAL ERRORS
    • B41J2/00Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed
    • B41J2/005Typewriters or selective printing mechanisms characterised by the printing or marking process for which they are designed characterised by bringing liquid or particles selectively into contact with a printing material
    • B41J2/01Ink jet
    • B41J2/17Ink jet characterised by ink handling
    • B41J2/175Ink supply systems ; Circuit parts therefor
    • B41J2/17503Ink cartridges
    • B41J2/17559Cartridge manufacturing

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Application Of Or Painting With Fluid Materials (AREA)
  • Coating Apparatus (AREA)
  • Particle Formation And Scattering Control In Inkjet Printers (AREA)

Abstract

一种制造产品的方法,所述方法包括:用分散介质填充液滴喷射头的内部流动通路和液体腔,所述液滴喷射头用于喷射通过内部流动通路填充在所述液体腔中的液体的液滴,所述内部流动通路和所述液体腔相互连通;用包含粒子的分散液体填充所述液滴喷射头的所述内部流动通路和所述液体腔,代替所述内部流动通路和所述液体腔中填充的所述分散介质;以及从填充有所述分散液体的所述液滴喷射头将所述分散液体液滴涂覆到待涂覆的物体上。

Description

制造产品的方法
相关申请的交叉引用
本申请基于2007年5月30日提交的日本专利申请No.2007-143508并要求该申请的优先权,这里通过引用的方式并入其全部内容。
技术领域
本发明涉及通过喷射液滴到待涂覆的物体上来制造产品的方法。
背景技术
液滴喷射涂覆器不但在打印图像信息中使用,而且在各种平板显示器(特别是液晶显示器、有机EL(电致发光)显示器、电子发射显示器、等离子显示器、电泳显示器等等)的制造步骤中使用。
液滴喷射涂覆器包括液滴喷射头(如喷墨头),该液滴喷射头通过多个喷嘴将分散液体(如墨水)的液滴喷射到诸如待用液滴涂覆的基体之类的物体上。在这种类型的液滴喷射涂覆器中,来自液滴喷射头的液滴落在待用液滴涂覆的物体上,并形成预定的涂覆图案以制造各种产品。注意,诸如墨水之类的分散液体通过内部流动通路填充到液滴喷射头的多个液体腔中。
通常,液滴喷射头填充装置在用分散液体填充液滴喷射头(即填充液滴喷射头中的空的内部流动通路和液体腔)的初始填充阶段使用。在该初始填充阶段,通过利用水位差(water-head difference)、泵等,这个液滴喷射头填充装置缓慢地输送分散液体到液滴喷射头的内部流动通路和液体腔,使得内部流动通路和液体腔可以被填充而没有气泡残留在内部流动通路和液体腔中。控制这个阶段的流动速率,使得例如可以在约30分钟至60分钟的时间内将10cc分散液体逐渐地填充到液滴喷射头的内部流动通路和液体腔中。
这里使用的分散液体包括多个如作为涂覆材料的间隔体粒子(spacer particle)。这种分散液体通过在分散介质中分散多个粒子而形成。应当注意,间隔体粒子等易于在介质中沉积,致使通过液滴喷射头喷射液滴出现故障。针对这个问题,已经提出一种打印方法以防止间隔体粒子在包括多个间隔体粒子的间隔体分散液体的初始填充后在液滴喷射头中沉积(参见如JP-A No.2006-122814(KOKAI))。在这个打印方法中,间隔体分散液体或者从液滴喷射头排出,或者供应到液滴喷射头并从液滴喷射头排出,液滴喷射头初始填充有间隔体分散液体。这里,这个事件根据已经填充的液滴喷射头是处于打印状态还是处于等待状态执行。
同时,如上所述,分散液体需要缓慢地填充,以防止在初始填充阶段气泡残留。由于分散液体中的粒子很可能在这个填充阶段沉积,因此多个沉积的粒子可能会阻塞液滴喷射头的喷嘴,致使通过液滴喷射头喷射液滴出现故障,例如不喷射液滴。
发明内容
本发明的目的在于提供能够防止气泡残留并也防止由分散液体中的沉积的粒子引起的喷射液滴出现故障的产品制造方法。
本发明的实施方式的一方面提供了一种用于制造产品的方法,所述方法包括:用分散介质填充液滴喷射头的内部流动通路和液体腔,所述液滴喷射头用于喷射通过内部流动通路填充在所述液体腔中的液体的液滴,所述内部流动通路和所述液体腔相互连通;用包含粒子的分散液体填充所述液滴喷射头的所述内部流动通路和所述液体腔,代替所述内部流动通路和所述液体腔中填充的所述分散介质;以及从填充有所述分散液体的所述液滴喷射头将所述分散液体液滴涂覆到待涂覆的物体上。
附图说明
图1是概略视图,示出了根据本发明的第一实施方式的液滴喷射头填充装置的示意性构造;
图2是立体图,示出了安装在图1所示液滴喷射头填充装置中的液滴喷射头的示意性构造;
图3是立体图,示出了根据本发明的第一实施方式的液滴喷射涂覆器的示意性构造;
图4是流程图,示出了用于制造产品的方法中的流程;
图5是概略视图,示出了根据本发明的第二实施方式的液滴喷射涂覆器的示意性构造。
具体实施方式
第一实施方式
下面参考图1至图4描述本发明的第一实施方式。
如图1所示,根据本发明的第一实施方式的液滴喷射头填充装置1包括:供应液体形式的液态分散介质到用于喷射液滴的液滴喷射头2的液体供应器3;以及控制液体供应器3的控制器4。
液滴喷射头2包括:盒状的头本体2a;和设置到头本体2a的喷嘴板2b。作为液滴喷射头2的实施例,使用的是具有压电元件的压电液滴喷射头。
如图2所示,入口H1和出口H2设置在头本体2a的顶表面上。从液体供应器3供应的液体流过入口H1并填充液滴喷射头2。液体通过出口H2从液滴喷射头2排出。这些入口H1和出口H2形成在头本体2a的同一平面上,该平面与设置喷嘴板2b的相对表面M2相对。
在头本体2a中设置内部流动通路F1和多个液体腔E。内部流动通路F1从入口H1延伸到出口H2。每个液体腔E均与内部流动通路F1连通,并容纳从内部流动通路F1流入的液体。
液体腔E设置在头本体2a的喷嘴板2b侧上并平行于喷嘴板2b。液体腔E以预定间距布置成两行。来自内部流动通路F1的液体流入并填充液体腔E。
内部流动通路F1构造成在某个点处分叉并再次聚合。内部流动通路F1由第一内部流动通路F1a和第二内部流动通路F1b构成。第一内部流动通路F1a由下述部分构成:向喷嘴板2b延伸的第一流动通路21;在第一流动通路21的端部处弯折并延续的第二流动通路22,同时该第二流动通路22与液体腔E连通;以及,在第二流动通路22的端部处弯折并延续的第三流动通路23,该第三流动通路23与出口H2连通。注意,第二内部流动通路F1b与第一内部流动通路F1a具有相同的构造。
第一流动通路21和第三流动通路23大致垂直于喷嘴板2b延伸,而第二流动通路22大致平行于喷嘴板2b延伸。因此,第一内部流动通路F1a和第二内部流动通路F1b具有弯折部,在弯折部处,第一流动通路21和第二流动通路22相互连通,且第二流动通路22和第三流动通路23相互连通。
回到图1,喷嘴板2b设置有与相应液体腔E连通的多个喷嘴(通孔)N。喷嘴N设置在喷嘴板2b中,并以预定间距布置成两行。例如,喷嘴N的数量约为几十到几百。喷嘴N的直径约为几十微米。两个喷嘴N之间的间距(间隔)约为几十微米至几百微米。喷嘴板2b的外表面是喷嘴表面M2。
这样构造的液滴喷射头2通过施加驱动电压到为对应的液体腔E形成的多个压电元件(未示出)来改变液体腔E的体积。因而,头2通过对应的喷嘴N以液滴的形式向待涂覆的物体喷射容纳在液体腔E中的液体,从而在所涂覆物体的表面上形成预定的点阵图案。
这里,当液体填充液滴喷射头2时,可以为喷嘴板2b设置用于覆盖所有喷嘴N的盖(未示出)。该盖是在填充期间防止液体通过液滴喷射头2流出的元件。盖可分离地形成在液滴喷射头2上。顺便提及,当喷嘴N的尺寸太小而使液体不能通过喷嘴N流出时,没有必要设置盖。在填充期间使液体不会流出的喷嘴N的尺寸根据诸如液体的类型和粘度之类的各种因素变化。
液体供应器3包括:容纳液体形式的液体分散介质的主罐3a;调整水位差h的缓冲罐(中间罐)3b;检测缓冲罐3b中的液体量的传感器3c;向液滴喷射头2供应分散介质的液体输送泵P1;以及把分散介质从液滴喷射头2返回到主罐3a的液体输送泵P2。
主罐3a是容纳填充液滴喷射头2的分散介质的容纳单元。同时,利用存储在缓冲罐3b中的分散介质的液面和液滴喷射头2的喷嘴表面M2之间的水位差h,缓冲罐3b调整喷嘴末端处的分散介质的液面(弯月面)。这防止分散介质泄漏和喷射故障。
这里,分散介质是用于在分散液体中分散多个粒子的液体。分散介质用于形成包括诸如用作涂覆材料的间隔体粒子之类的粒子的分散液体。利用此分散介质,液滴喷射头填充装置1填充液滴喷射头2中的容纳液体的多个液体腔E和内部流动通路F1。注意,间隔体粒子的尺寸例如在几微米的量级上(如5微米)。作为涂覆材料的实施例,有时可以使用荧光材料的粒子。
传感器3c是例如检测缓冲罐3b中的分散介质的液面高度的液面传感器。传感器3c电连接到控制器4。这个传感器3c检测缓冲罐3b中的分散介质减少到预定值或更少,然后向控制器4发送指示检测结果的信号。注意,作为传感器3c的实施例,使用的是反射型传感器、超声型传感器等。
主罐3a和缓冲罐3b利用液体供应流动通路3d(液体通过该液体供应流动通路3d流动)相互连接。液体供应流动通路3d连通主罐3a和缓冲罐3b,并向缓冲罐3b供应主罐3a中的分散介质。例如,通管或导管用作液体供应流动通路3d。
缓冲罐3b和液滴喷射头2利用液体供应流动通路3e(液体通过液体供应该流动通路3e流动)相互连接。液体供应流动通路3e连通缓冲罐3b和液滴喷射头2的入口H1,并向液滴喷射头2供应缓冲罐3b中的分散介质。例如,通管或导管用作液体供应流动通路3e。
液滴喷射头2和主罐3a利用液体返回流动通路3f(液体通过该液体返回流动通路3f从液滴喷射头2的出口H2流出)相互连接。液体返回流动通路3f连通主罐3a和液滴喷射头2的出口H2。液体返回流动通路3f把通过液滴喷射头2的内部流动通路F1的分散介质返回到主罐3a。例如,通管或导管用作液体返回流动通路3f。
液体输送泵P1设置在液体供应流动通路3d中,而液体输送泵P2设置在液体返回流动通路3f中。这些液体输送泵P1、P2电连接到控制器4,并用作输送分散介质的驱动源。
控制器4包括控制每个单元的微型计算机、存储控制程序和各种数据的存储器等,并控制诸如液滴喷射头2和液体供应器3之类的单元。此外,控制器4控制如液体输送泵P1、P2使得填充到液滴喷射头2中的液体的流动速率(流动速度)恒定。控制这里的流动速率,使得例如可以在约30分钟至60分钟内将10cc分散介质逐渐填充到液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E。由此,防止气泡残留在内部流动通路F1和液体腔E中。顺便提及,流动速率根据液滴喷射头2的流动通路结构、分散介质的类型等设定。
下面,如图3所示,根据本发明的第一实施方式的液滴喷射涂覆器5A包括:在X轴方向和Y轴方向(在水平面上彼此垂直的两个轴方向)上移动作为待涂覆物体的基体K的基体移动机构6;可分离地支撑并在Z轴方向(与该水平面垂直的轴方向)上移动液滴喷射头2的头移动机构7;供应液体形式的分散液体到由头移动机构7支撑的液滴喷射头2的液体供应器8;以及,控制这些基体移动机构6、头移动机构7和液体供应器8的控制器9。
基体移动机构6包括:保持基体K的保持台6a;在X轴方向上移动保持台6a的X轴移动台6b;以及,在Y轴方向上移动X轴移动台6b的Y轴移动台6c。基体移动机构6电连接到控制器9。
保持台6a固定到X轴移动台6b的上表面。保持台6a设置有吸引机构(未示出),以吸引基体K从而在X轴移动台6b的上表面上固定并保持基体K。例如,空气吸引机构用作吸引机构。
X轴移动台6b设置在Y轴移动台6c的上表面上,并可在其上在X轴方向上移动。X轴移动台6b利用使用进给螺杆和驱动马达的进给机构(未示出)在X轴方向上移动。
Y轴移动台6c设置在框架等的上表面上,并可以在其上在Y轴方向上移动。Y轴移动台6c利用使用进给螺杆和驱动马达的进给机构(未示出)在Y轴方向上移动。
头移动机构7包括:支撑液滴喷射头2的支撑元件71;以及在与保持台6a上的基体K的涂覆表面垂直的方向上即Z轴方向上移动支撑元件71的Z轴移动机构72。这使得液滴喷射头2可以在Z轴方向上移动。
支撑元件71是利用附件71a支撑液滴喷射头2的元件。液滴喷射头2利用附件71a附接到支撑元件71的位于基体移动机构6侧的表面。注意,附接到头移动机构7的液滴喷射头2已经填充有分散介质。
Z轴移动机构72包括:附接到支撑元件71并可以在Z轴方向上移动的移动台72a;螺杆轴72b,该螺杆轴72b是进给螺杆,用于在Z轴方向上移动移动台72a;以及马达M,该马达M是螺杆轴72b的驱动源。Z轴移动机构72通过由马达M驱动转动的螺杆轴72b在Z轴方向上移动移动台72a,从而在Z轴方向上移动由支撑元件71支撑的液滴喷射头2。
液体供应器8包括:容纳液体形式的分散液体的主罐8a;使液滴喷射头2中的分散液体的液体压力为负压的缓冲罐(中间罐)8b;容纳从已经填充有分散介质的液滴喷射头2排出的分散介质的废液罐8c;检测缓冲罐8b中的液体量的传感器8d;向缓冲罐8b供应分散液体的液体输送泵P3;把从液滴喷射头2排出的液体(分散液体或分散介质)返回到主罐8a或废液罐8c的液体输送泵P4;把从液滴喷射头2排出的液体返回到缓冲罐8b的液体输送泵P5;以及产生缓冲罐8b中的负压的真空泵P6。
主罐8a是容纳填充液滴喷射头2的分散液体的容纳单元。同时,缓冲罐8b使液滴喷射头2中的分散液体的液体压力为负压。缓冲罐8b设置在支撑元件71的与附接液滴喷射头2的表面相对的表面上。注意,来自流动通路的分散液体以使分散液体沿缓冲罐8b的内壁流动的方式存储到缓冲罐8b中。这里,即使在流动通路中存在气泡,气泡也会被去除。废液罐8c是容纳从已经填充有分散介质的液滴喷射头2排出的分散介质的容纳单元。
这里使用的分散液体包括诸如用作涂覆材料的间隔体粒子的多个粒子。此分散液体通过在分散介质中分散多个粒子形成。更具体地,分散液体由作为残留物保留在基体K上的粒子和其中分散有粒子的分散介质构成。注意,作为分散介质的实施例,使用的是与通过上述液滴喷射头填充装置1填充液滴喷射头2的分散介质种类相同的分散介质。在这种情况下,由于没有必要准备与上述分散介质种类不同的分散介质,因此可以降低制造成本。而且,可以防止不同种类的分散介质与上述分散介质混合。
传感器8d是如检测缓冲罐8b中的分散液体的液面高度的液面传感器。传感器8d电连接到控制器9。这个传感器8d检测缓冲罐8b中的分散液体减少到预定值或更少,然后向控制器9发送指示检测结果的信号。注意,作为传感器8d的实施例,使用的是反射型传感器、超声型传感器等。
主罐8a和缓冲罐8b利用液体供应流动通路8e(液体通过该液体供应流动通路8e流动)相互连接。液体供应流动通路8e连通主罐8a和缓冲罐8b,并向缓冲罐8b供应主罐8a中的分散液体。举例来说,使用通管或导管作为液体供应流动通路8e。
缓冲罐8b和液滴喷射头2利用液体供应流动通路8f(液体通过该液体供应流动通路8f流动)相互连接。液体供应流动通路8f连通缓冲罐8b和液滴喷射头2的入口H1,并向液滴喷射头2供应缓冲罐8b中的分散液体。举例来说,使用通管或导管作为液体供应流动通路8f。
液滴喷射头2和主罐8a以及废液罐8c利用液体返回流动通路8g(液体通过该液体返回流动通路8g流动)相互连接。液体返回流动通路8g使主罐8a和废液罐8c与液滴喷射头2的出口H2连通。液体返回流动通路8g把通过液滴喷射头2的内部流动通路F1的分散液体返回到主罐8a。此外,从液滴喷射头2排出的分散介质通过液体返回流动通路8g流入废液罐8c。举例来说,使用通管或导管作为液体返回流动通路8g。
液滴喷射头2和缓冲罐8b利用液体返回流动通路8h(液体通过该液体返回流动通路8h流动)相互连接。液体返回流动通路8h从液体返回流动通路8g的某一点延伸到缓冲罐8b,并把通过液滴喷射头2的内部流动通路F1的分散液体返回到缓冲罐8b。流动通路8h使缓冲罐8b和液滴喷射头2的入口H1连通,并向液滴喷射头2供应缓冲罐8b中的分散液体。举例来说,使用通管或导管作为液体返回流动通路8h。
液体输送泵P3设置在液体供应流动通路8e中,而液体输送泵P4设置在液体返回流动通路8g中。此外,液体输送泵P5设置在液体返回流动通路8h中。这些液体输送泵P3、P4和P5电连接到控制器9,并用作输送液体(如分散介质和分散液体)的驱动源。
真空泵P6利用空气排放管8i连接到缓冲罐8b,真空泵P6是用于减小缓冲罐8b中的压力的减压单元。同时,调节器R1设置在空气排放管8i中以控制压力。真空泵P6和调节器R1电连接到控制器9。真空泵P6产生的负压调整液滴喷射头2的每个喷嘴N处的液面(弯月面)。这防止墨水泄漏和喷射故障。
在液体返回流动通路8g中,在分叉点A1和液体输送泵P4之间设置阀V1;在分叉点A2和主罐8a之间设置阀V2;并且另外,在分叉点A2和废液罐8c之间设置阀V3。而且,在液体返回流动通路8h中,在分叉点A1和液体输送泵P5之间设置阀V4。这些阀V1、V2、V3和V4电连接到控制器9。
控制器9包括:控制每个单元的微型计算机;存储各种程序和各种数据的存储器等。控制器9控制诸如基体移动机构6、头移动机构7和液体供应器8之类的单元。控制器9的存储器存储例如利用液滴涂覆基体K的涂覆信息。涂覆信息包括涂覆图案(例如点阵图案)、基体K的输送速度、喷射时机等。涂覆信息与在基体K上进行的涂覆操作有关。
这样的控制器9控制基体移动机构6和头移动机构7,使得液滴喷射头2的位置和基体K在保持台6a上的位置相对于彼此改变。而且,控制器9控制例如液体输送泵P3、P4使得填充到液滴喷射头2中的液体的流动速率(流动速度)可以恒定。从而,抑制由于液体的流动而产生的气泡。
下面,描述通过使用上述的液滴喷射头填充装置1和液滴喷射涂覆器5A制造产品的方法,换句话说,描述填充和涂覆操作。注意,液滴喷射头填充装置1的控制器4和液滴喷射涂覆器5A的控制器9中的每一个均根据对应的各种程序执行各种处理。
如图4所示,制造产品的步骤包括:附接液滴喷射头2到液滴喷射头填充装置1的第一步骤(步骤S1);用分散介质填充液滴喷射头2的第二步骤(步骤S2);检查已经填充有分散介质的液滴喷射头2的喷射的第三步骤(步骤S3);附接已经填充有分散介质的液滴喷射头2到液滴喷射涂覆器5A的第四步骤(步骤S4);用分散液体填充已经填充有分散介质的液滴喷射头以替换已经填充到液滴喷射头2中的分散介质的第五步骤(步骤S5);以及从已经填充有分散液体的液滴喷射头2涂覆喷射液体的第六步骤(步骤S6)。
在步骤1中,装配在液滴喷射头填充装置1中的液体供应器3的液体供应流动通路3e连接到液滴喷射头2的入口H1。液体供应器3的液体返回流动通路3f连接到液滴喷射头2的出口H2。从而,液滴喷射头2附接到液滴喷射头填充装置1(参见图1)。
在步骤2中,通过液滴喷射头填充装置1,向液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E填充分散介质(第一填充,即初始填充)。液滴喷射头填充装置1的控制器4控制液体供应器3的液体输送泵P1、P2,使得分散介质从缓冲罐3b经过液体供应流动通路3e被填充到液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E中。
这里,控制器4控制例如液体输送泵P1、P2,使得待填充到液滴喷射头2的分散介质的流动速率可以恒定。举例来说,在约30分钟至60分钟内,10cc的分散介质逐渐填充到液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E中。从而,防止在内部流动通路F1、液体腔E等中残留气泡。
顺便提及,在前述的初始填充期间,控制器4通过传感器3c检测缓冲罐3b中的液体量的减小,即液面高度的减小。当液体量减小到预定量或更少时,分散介质通过液体输送泵P1从主罐3a经过液体供应流动通路3d供应到缓冲罐3b。从而使缓冲罐3b中的液体量保持恒定。注意,从液滴喷射头2排出的分散介质经过液体返回流动通路3f返回到主罐3a。
在步骤3中,液滴喷射头填充装置1致使液滴喷射头2喷射分散介质以用于检查。液滴喷射头填充装置1的控制单元4向液滴喷射头2施加驱动电压,以改变每个液体腔E的体积。由此,液滴喷射头2从对应的喷嘴N向基体喷射容纳在液体腔E中的分散介质的液滴以进行检查,从而多个液滴落在基体表面上。之后,检查基体上的液滴,以确定液滴落下的位置(落下间距)、落下液滴的数量等。通过了检查的液滴喷射头2在后续步骤中使用。
在步骤4中,液滴喷射头2附接到液滴喷射涂覆器5A的头移动机构7。装配在液滴喷射涂覆器5A中的液体供应器8的液体供应流动通路8f连接到液滴喷射头2的入口H1。然后,液体供应器8的液体返回流动通路8g连接到液滴喷射头2的出口H2(参见图3)。
在步骤5中,通过液滴喷射涂覆器5A,向已经填充有分散介质的液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E中填充分散液体(第二填充)。具体地,从已经填充有分散介质的液滴喷射头2中排出分散介质,并向液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E中填充分散液体(压力输送)。液滴喷射涂覆器5A的控制器9控制液体供应器8的液体输送泵P3、P4以及阀V1、V2、V3和V4。因此,缓冲罐8b中的分散液体经过液体供应流动通路8f被填充到液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E中,同时分散介质从已经填充有分散介质的液滴喷射头2经过液体返回流动通路8g排出到废液罐8c中。
这里,控制器9致使阀V1、V3打开并使阀V2、V4关闭,从而将分散介质排出到废液罐8c中。在预定量的分散介质排出到废液罐8c后(在经过预定时间后),控制器9致使阀V1、V2打开并使V3、V4关闭。而且,控制器9控制如液体输送泵P3、P4使得填充到液滴喷射头2中的分散液体的流动速率(流动速度)恒定。这时,由于作为初始填充的结果液滴喷射头2填充有分散介质,待填充到头2中的分散液体的流动速率可以设定为快于步骤2中的流动速率。
顺便提及,在分散液体的填充期间,控制器9通过传感器8d检测缓冲罐8b中的液体量的减少,即液面高度的减小。当液体量减少到预定量或更少时,通过液体输送泵P3从主罐8a经过液体供应流动通路8e向缓冲罐8b供应分散液体。从而,缓冲罐8b中的液体量保持恒定。注意,从液滴喷射头2排出的分散介质经过液体返回流动通路8g返回到废液罐8c中。
在步骤6中,液滴喷射涂覆器5A致使液滴喷射头2喷射分散液体以进行涂覆(涂覆操作)。液滴喷射涂覆器5A的控制器9施加驱动电压到液滴喷射头2以改变每个液体腔E的体积,同时控制基体移动机构6,使得基体K在如X轴方向上移动。因此,液滴喷射头2从对应的喷嘴N喷射容纳在液体腔E中的分散液体的液滴到待涂覆的基体K上,从而顺序地涂覆多个液滴到基体K的表面上。因此,基体K的表面被均匀地涂覆多个粒子(例如间隔体粒子)。这样,制造出诸如显示面板之类的产品。
这里,控制器9控制液体供应器8的液体输送泵P5以及阀V1、V2、V3和V4。从而,填充有分散液体的液滴喷射头2中的分散液体经过液体返回流动通路8h返回到缓冲罐8b中。注意,在喷射操作中,控制器9致使阀V4打开并使阀V1、V2、V3关闭;在用于安装基体K、替换用于其的台等的等待状态中,控制器9致使阀V1、V2、V4打开并使阀V3关闭。
这样,在初始填充阶段,分散介质缓慢地填充(例如以在约30分钟至60分钟内填充10cc的分散介质的流动速率),然后包含作为涂覆材料的粒子的分散液体被填充到液滴喷射头2中。这样,在初始填充阶段分散介质的缓慢填充抑制气泡残留。此外,由于在初始填充阶段仅填充分散介质,因此也防止了粒子沉积。从而,可以防止气泡残留,也可以防止由于分散液体中的粒子沉积而引起的液滴喷射头2的喷射故障。
而且,分散液体通过流动通路循环,且分散液体的墨水也不断地在液滴喷射头2中循环。因而,抑制了分散液体中粒子的沉积。结果,可以防止由于粒子的沉积而引起的液滴喷射头2的喷射故障。此外,来自流动通路的墨水以墨水沿缓冲罐8b的内壁流动的方式存储到缓冲罐8b中。此时,即使在液体供应流动通路8e中存在气泡,也可以去除气泡。结果,可以防止由于气泡引起的液滴喷射头2的喷射故障。
如所描述的那样,根据本发明的第一实施方式,液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E用分散介质填充,然后填充分散液体来代替填充在液滴喷射头2的内部流动通路F1和液体腔E中的分散介质。液滴喷射头2将填充在其中的分散液体的液滴涂覆到作为待涂覆物体的基体K。这样,分散介质在初始填充阶段缓慢地填充。之后,填充包含作为涂覆材料的粒子的分散介质。由于分散介质在初始填充阶段缓慢地填充,因此抑制气泡残留在内部流动通路F1和液体腔E中,并且还抑制粒子在初始填充阶段沉积。因此,可以防止气泡残留,也可以防止由于分散液体中粒子沉积而引起的液滴喷射头2的喷射故障。
第二实施方式
下面参考图5描述本发明的第二实施方式。在本发明的第二实施方式中,描述与第一实施方式中不同的部件。注意,在第二实施方式中,在第一实施方式中描述的部件用相同的参考符号表示,并省略描述。
如图5所示,根据本发明的第二实施方式的液滴喷射涂覆器5B包括基体移动机构6、头移动机构7、液体供应器8和控制器9,并且还包括选择性地向液体供应器8供应几种分散液体(具有不同粒子浓度的多种分散液体)的分散液体供应器10。
分散液体供应器10包括:容纳第一分散液体的分散液体罐10a;容纳第二分散液体的分散液体罐10b;检测液体供应器8的缓冲罐8b中的液体的粒子浓度的浓度传感器10c;以及从分散液体罐10a、10b向液体供应器8的缓冲罐8b供应分散液体的液体输送泵P7。
分散液体罐10a、10b是容纳待供应到缓冲罐8b的分散液体的容纳单元。连续地搅动分散液体罐10a、10b中的分散液体以防止粒子沉积。这里,第一分散液体和第二分散液体具有彼此不同的粒子浓度。顺便提及,第一分散液体的粒子浓度高于第二分散液体的粒子浓度。
浓度传感器10c是检测缓冲罐8b中的液体的粒子浓度的检测器。浓度传感器10c电连接到控制器9。这样的浓度传感器10c检测缓冲罐8b中的液体的粒子浓度,并向控制器9发送表示检测结果的信号。注意,作为浓度传感器10c,使用的是如检测透射光、散射光等的光学传感器。
分散液体罐10a、10b利用分散液体供应流动通路10d(分散液体通过该分散液体供应流动通路10d流动)连接到缓冲罐8b。分散液体供应流动通路10d使分散液体罐10a、10b与缓冲罐8b连通,并从分散液体罐10a、10b向缓冲罐8b供应分散液体。举例来说,通管或导管用作分散液体供应流动通路10d。
液体输送泵P7设置在分散液体供应流动通路10d中。液体输送泵7电连接到控制器9,并用作输送分散液体的驱动源。而且,在分散液体供应流动通路10d中,阀V5设置在分散液体罐10a和分叉点B1之间,阀V6设置在分散液体罐10b和分叉点B1之间。这些阀V5、V6也电连接到控制器9。
在对于液滴喷射涂覆器5B的步骤5中(对应于上述实施方式中的步骤5),分散液体供应器10调整缓冲罐8b中的分散液体(即液滴喷射头2中的分散液体)的粒子浓度,使得粒子浓度在预定范围内。液滴喷射涂覆器5B的控制器9通过浓度传感器10c检测缓冲罐8b中的分散液体的粒子浓度。当粒子浓度在预定范围之外时,阀V5或V6根据粒子浓度打开,从而使分散液体罐10a、10b中的分散液体通过液体输送泵P7经过分散液体供应流动通路10d供应到缓冲罐8b。
当粒子浓度低于预定范围时,具有高粒子浓度的第一分散液体供应到缓冲罐8b。同时,当粒子浓度高于预定范围时,具有较低粒子浓度的第二分散液体供应到缓冲罐8b。应当注意,在供应分散液体后,即经过预定时间后,打开的阀V5或V6被关闭以使分散液体循环一定时间。然后,浓度传感器10c再次检测粒子浓度,这样重复进行前述的分散液体供应操作。这样,将缓冲罐8b中填充的分散液体的粒子浓度调整到预定范围内。
如所描述的那样,根据本发明的第二实施方式,可以获得与第一实施方式相同的效果。此外,根据第二实施方式,检测分散液体的粒子浓度。根据检测到的粒子浓度,向缓冲罐8b中的分散液体增加粒子浓度与缓冲罐8b中的分散液体不同的分散液体。从而,将填充的分散液体的粒子浓度调整到预定范围内。因此,基体K的表面均匀地涂覆分散液体的粒子。这样,抑制制造产品的故障,并获得高可靠的产品。
其他实施方式
应当注意,本发明并不限制为上述的实施方式,在不背离本发明的要旨的前提下可以作出各种修改。
例如,在上述的实施方式中,在涂覆操作期间,基体K相对于液滴喷射头2移动。但是,涂覆模式并不局限于此。液滴喷射头2可以相对于基体K移动。必要的仅仅是液滴喷射头2和基体K相对于彼此移动。
此外,在上述的实施方式中,仅提供单个液滴喷射头2。但是,并不限制液滴喷射头2的数量。可以设置多个液滴喷射头。
另外,在上述的实施方式中,分开提供液滴喷射头填充装置1和液滴喷射涂覆器5A或5B。但是,构造并不限制于此。例如,液滴喷射头填充装置1可以整合到液滴喷射涂覆器5A或5B中。
而且,在上述的第二实施方式中,提供给缓冲罐8b的浓度传感器10c检测缓冲罐8b中的分散液体的粒子浓度。但是,检测模式并不局限于此。举例来说,可以在诸如液体返回流动通路8g之类的流动通路中提供浓度传感器10c,以检测通过流动通路的分散液体的粒子浓度。
再者,在上述的第二实施方式中,设置两个分散液体罐10a、10b。但是,分散液体罐的数量并不局限于此。举例来说,分散液体罐的数量可以是一个。可选地,可以设置三个或更多分散液体罐,即不限制数量。在设置多个分散液体罐的情况下,可以选择性地混合各个分散液体罐中的具有不同粒子浓度的分散液体,从而供应混合的分散液体。
最后,在上述实施方式中给出了各种数值。但是,这些数值仅仅是实施例,并不限制本发明的范围。

Claims (3)

1.一种制造产品的方法,所述方法包括:
通过容纳分散介质的第一罐和用于使液滴喷射头中的液体压力为负压的缓冲罐用所述分散介质填充液滴喷射头的内部流动通路和液体腔,所述液滴喷射头用于喷射通过内部流动通路填充在所述液体腔中的液体的液滴,所述内部流动通路和所述液体腔相互连通;
从填充有所述分散介质的所述内部流动通路和所述液体腔排出所述分散介质,同时通过缓冲罐从容纳有包含粒子的分散液体的第二罐填充所述分散液体;以及
从填充有所述分散液体的所述液滴喷射头将所述分散液体液滴涂覆到待涂覆的物体上。
2.根据权利要求1所述的制造产品的方法,其中检测所述分散液体的粒子浓度,并根据检测到的粒子浓度,向所述分散液体增加另一种分散液体,这些分散液体具有彼此不同的粒子浓度。
3.根据权利要求1所述的制造产品的方法,其中待填充的所述分散液体的流动速度快于所述分散介质的流动速度。
CN2008101084278A 2007-05-30 2008-05-30 制造产品的方法 Expired - Fee Related CN101314281B (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2007143508A JP4869155B2 (ja) 2007-05-30 2007-05-30 物品の製造方法
JP2007-143508 2007-05-30
JP2007143508 2007-05-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN101314281A CN101314281A (zh) 2008-12-03
CN101314281B true CN101314281B (zh) 2011-04-13

Family

ID=40088577

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN2008101084278A Expired - Fee Related CN101314281B (zh) 2007-05-30 2008-05-30 制造产品的方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US8039059B2 (zh)
JP (1) JP4869155B2 (zh)
CN (1) CN101314281B (zh)

Families Citing this family (37)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US10226919B2 (en) 2007-07-18 2019-03-12 Voxeljet Ag Articles and structures prepared by three-dimensional printing method
DE102007050679A1 (de) 2007-10-21 2009-04-23 Voxeljet Technology Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Fördern von Partikelmaterial beim schichtweisen Aufbau von Modellen
DE102007050953A1 (de) 2007-10-23 2009-04-30 Voxeljet Technology Gmbh Vorrichtung zum schichtweisen Aufbau von Modellen
DE102008010961A1 (de) * 2008-02-25 2009-08-27 Pelikan Hardcopy Production Ag Vorrichtung zur Wiederbefüllung einer Tintenpatrone für einen Tintenstrahldrucker
JP4869373B2 (ja) 2009-03-25 2012-02-08 株式会社東芝 液体循環ユニット、液体循環装置、液滴噴射塗布装置、及び塗布体の形成方法
DE102010014969A1 (de) 2010-04-14 2011-10-20 Voxeljet Technology Gmbh Vorrichtung zum Herstellen dreidimensionaler Modelle
DE102010056346A1 (de) 2010-12-29 2012-07-05 Technische Universität München Verfahren zum schichtweisen Aufbau von Modellen
DE102011007957A1 (de) 2011-01-05 2012-07-05 Voxeljet Technology Gmbh Vorrichtung und Verfahren zum Aufbauen eines Schichtenkörpers mit wenigstens einem das Baufeld begrenzenden und hinsichtlich seiner Lage einstellbaren Körper
DE102011111498A1 (de) 2011-08-31 2013-02-28 Voxeljet Technology Gmbh Vorrichtung zum schichtweisen Aufbau von Modellen
DE102012004213A1 (de) 2012-03-06 2013-09-12 Voxeljet Technology Gmbh Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen dreidimensionaler Modelle
ITBO20120126A1 (it) * 2012-03-13 2013-09-14 T S C S P A Sistema di alimentazione di una testina a getto di inchiostro
DE102012010272A1 (de) 2012-05-25 2013-11-28 Voxeljet Technology Gmbh Verfahren zum Herstellen dreidimensionaler Modelle mit speziellen Bauplattformen und Antriebssystemen
DE102012012363A1 (de) 2012-06-22 2013-12-24 Voxeljet Technology Gmbh Vorrichtung zum Aufbauen eines Schichtenkörpers mit entlang des Austragbehälters bewegbarem Vorrats- oder Befüllbehälter
DE102012020000A1 (de) 2012-10-12 2014-04-17 Voxeljet Ag 3D-Mehrstufenverfahren
DE102013004940A1 (de) 2012-10-15 2014-04-17 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von dreidimensionalen Modellen mit temperiertem Druckkopf
DE102013003303A1 (de) 2013-02-28 2014-08-28 FluidSolids AG Verfahren zum Herstellen eines Formteils mit einer wasserlöslichen Gussform sowie Materialsystem zu deren Herstellung
DE102013018182A1 (de) 2013-10-30 2015-04-30 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von dreidimensionalen Modellen mit Bindersystem
DE102013018031A1 (de) 2013-12-02 2015-06-03 Voxeljet Ag Wechselbehälter mit verfahrbarer Seitenwand
DE102013020491A1 (de) 2013-12-11 2015-06-11 Voxeljet Ag 3D-Infiltrationsverfahren
DE102014004692A1 (de) 2014-03-31 2015-10-15 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung für den 3D-Druck mit klimatisierter Verfahrensführung
DE102014007584A1 (de) 2014-05-26 2015-11-26 Voxeljet Ag 3D-Umkehrdruckverfahren und Vorrichtung
EP3174651B1 (de) 2014-08-02 2020-06-17 voxeljet AG Verfahren und gussform, insbesondere zur verwendung in kaltgussverfahren
DE102015006533A1 (de) 2014-12-22 2016-06-23 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen mit Schichtaufbautechnik
JP6324917B2 (ja) * 2015-03-03 2018-05-16 富士フイルム株式会社 液体供給装置及び画像形成装置
DE102015003372A1 (de) 2015-03-17 2016-09-22 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen mit Doppelrecoater
DE102015006363A1 (de) 2015-05-20 2016-12-15 Voxeljet Ag Phenolharzverfahren
EP3103644A1 (en) 2015-06-12 2016-12-14 Roberto Schianchi A system for supplying an inkjet head
DE102015011503A1 (de) 2015-09-09 2017-03-09 Voxeljet Ag Verfahren zum Auftragen von Fluiden
DE102015011790A1 (de) 2015-09-16 2017-03-16 Voxeljet Ag Vorrichtung und Verfahren zum Herstellen dreidimensionaler Formteile
DE102015015353A1 (de) 2015-12-01 2017-06-01 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zur Herstellung von dreidimensionalen Bauteilen mittels Überschussmengensensor
DE102016002777A1 (de) 2016-03-09 2017-09-14 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen mit Baufeldwerkzeugen
DE102016013610A1 (de) 2016-11-15 2018-05-17 Voxeljet Ag Intregierte Druckkopfwartungsstation für das pulverbettbasierte 3D-Drucken
JP7094665B2 (ja) * 2017-06-13 2022-07-04 キヤノン株式会社 記録装置および記録制御方法
DE102017006860A1 (de) 2017-07-21 2019-01-24 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen mit Spektrumswandler
DE102018006473A1 (de) 2018-08-16 2020-02-20 Voxeljet Ag Verfahren und Vorrichtung zum Herstellen von 3D-Formteilen durch Schichtaufbautechnik mittels Verschlussvorrichtung
DE102019000796A1 (de) 2019-02-05 2020-08-06 Voxeljet Ag Wechselbare Prozesseinheit
DE102019007595A1 (de) 2019-11-01 2021-05-06 Voxeljet Ag 3d-druckverfahren und damit hergestelltes formteil unter verwendung von ligninsulfat

Family Cites Families (5)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6077338A (en) * 1995-05-02 2000-06-20 Wallstroem; Eva Printing ink
JP2002019148A (ja) * 2000-07-12 2002-01-23 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット式印刷方法及び印刷装置
JP2005227684A (ja) * 2004-02-16 2005-08-25 Seiko Epson Corp カラーフィルタの製造方法、カラーフィルタ製造装置、電気光学装置、並びに電子機器
JP2006062225A (ja) * 2004-08-27 2006-03-09 Fuji Photo Film Co Ltd インクジェット記録装置
JP4455277B2 (ja) 2004-10-28 2010-04-21 株式会社アルバック 印刷方法、ヘッドモジュール及び印刷装置

Also Published As

Publication number Publication date
US20080299321A1 (en) 2008-12-04
CN101314281A (zh) 2008-12-03
US8039059B2 (en) 2011-10-18
JP4869155B2 (ja) 2012-02-08
JP2008296112A (ja) 2008-12-11

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN101314281B (zh) 制造产品的方法
US8038267B2 (en) Droplet jetting applicator and method for manufacturing coated body
JP4828287B2 (ja) 液滴吐出装置ならびにそれの運転方法
JP4869373B2 (ja) 液体循環ユニット、液体循環装置、液滴噴射塗布装置、及び塗布体の形成方法
US10479097B2 (en) Liquid ejecting apparatus
CN101332714A (zh) 流体喷出装置和流体喷出装置的控制方法
CN101633265B (zh) 液体供给装置及液体喷射装置
JP4710673B2 (ja) 液滴吐出装置
US8807727B2 (en) Gas removal from a fluid delivery system
CN110947578A (zh) 药液供应装置
CN103085493B (zh) 液体排出装置以及液体循环方法
KR102339326B1 (ko) 잉크젯 프린터의 잉크 순환 공급 시스템
CN102275388B (zh) 流体喷射装置
JP5169120B2 (ja) 液滴塗布装置
WO2011033866A1 (ja) 塗布装置および塗布方法
KR102068004B1 (ko) 액정 공급 장치 및 이를 포함한 액정 디스펜서
JP2006240158A (ja) 液体吐出方法及び装置
CN1867453A (zh) 墨水喷射打印头的流体输送系统
US10752006B2 (en) Flow path structure body, liquid ejecting apparatus, and liquid ejecting method
KR100551399B1 (ko) 잉크젯 인쇄 방식의 패턴 형성 장치
JPWO2011033865A1 (ja) 塗布装置および塗布方法
JP2010000443A (ja) 液滴吐出装置の吐出不良ノズル回復方法
JP2009160558A (ja) 液滴吐出装置
JP2009178694A (ja) 液状体吐出装置
JP2015012164A (ja) インクジェット装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
TR01 Transfer of patent right

Effective date of registration: 20190325

Address after: Kanagawa

Patentee after: SHIBAURA MACHINE CO.,LTD.

Address before: Tokyo, Japan

Patentee before: Toshiba Corp.

TR01 Transfer of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20110413

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee