CN101290189A - 一种坩锅及其制备方法 - Google Patents

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Abstract

本发明公开了一种生产晶须的必备工具坩锅及其制备方法,坩锅材料配比如下:镍91%-98%,碳0.1%-0.9%,锰0.1%-1.9%,铁0.1%-0.4,硅0.1%-0.9%,钴0.5%-4.9%,其制备方法为:1)将、镍、碳、锰、铁、硅和钴按配比在1400-1600℃的真空窑炉中溶解成溶液;2)再用模具浇成所需形状的容器坩锅;3)将坩锅清洗干净在温度为700-1350℃的高温炉中煅烧1-2小时,然后取出,合格制得本发明坩锅。本发明坩锅具有在高温下耐强碱等优点,本发明方法具有简单、节约成本等优点。

Description

一种坩锅及其制备方法
技术领域
本发明涉及一种生产晶须的必备工具,尤其涉及一种坩锅及其制备方法。
背景技术
晶须是指在人工控制条件下以单晶形式生长成的一种纤维,其直径非常小(微米数量级),不含有通常材料中存在的缺陷(晶界、位错、空穴等),其原子排列高度有序,因而其强度接近于完整晶体的理论值。由于用晶须增强的复合材料具有达到高强度的潜力,因此晶须的研究和开发受到了高度重视。由于坩锅是生产晶须的必备工具之一,所以选用制作坩锅的材料是非常之重要。
发明内容
针对已有技术存在的不足,本发明的目的在于提供一种高温下耐强碱的坩锅;
本发明的另一目的是提供一简单的坩锅制作工艺。
本发明的发明目的是通过如下技术方案实现的:
一种生产晶须的坩锅,这种坩锅是由如下材料制得的:
镍    91%-98%
碳    0.1%-0.9%
锰    0.1%-1.9%
铁    0.1%-0.4%
硅    0.1%-0.9%
钴    0.5%-4.9%
本发明坩锅的制备方法,具体包括如下步骤:
1)、将、镍、碳、锰、铁、硅和钴按配比在1400-1600℃的真空窑炉中溶解成溶液。
2)、再用模具浇成所需形状的容器坩锅。
3)、将坩锅清洗干净,在温度为700-1350℃的高温炉中煅烧1-2小时,然后取出,合格制得本发明坩锅。
本发明坩锅所用材料配方合理,使得硬度高,使用寿命长,镍是各种金属材料中对强耐减性溶液活性较低的一种金属之一,能耐熔蚀、腐蚀,纯度越纯越好。因此,本发明坩锅具有在高温下耐强碱等优点,本发明方法具有简单、节约成本等优点。
具体实施方式
下面结合具体的实施例进一步说明本发明是如何实现的:
实施例1
将镍95Kg、碳0.3Kg、锰1.2Kg、铁0.2Kg、硅0.3Kg和钴3Kg,按配比在1400-1600℃的真空窑炉中溶解成溶液。再用模具浇成所需形状的容器坩锅之后清洗干净,在温度为700-1350℃的高温炉中煅烧1-2小时,然后取出,合格制得本发明坩锅。
实施例2
将镍98Kg、碳0.1Kg、锰0.7Kg、铁0.1Kg、硅0.1Kg和钴1Kg,按配比在1400-1600℃的真空真空窑炉中溶解成溶液。再用模具浇成所需形状的容器坩锅之后清洗干净,在温度为700-1350℃的高温炉中煅烧1-2小时,然后取出,合格制得本发明坩锅。
实施例3
将镍91Kg、碳0.9Kg、锰1.9Kg、铁0.4Kg、硅0.9Kg和钴4.9Kg,按配比在1400-1600℃的真空真空窑炉中溶解成溶液。再用模具浇成所需形状的容器坩锅之后清洗干净,在温度为700-1350℃的高温炉中煅烧1-2小时,然后取出,合格制得本发明坩锅。
实施例4
将镍96Kg、碳0.2Kg、锰0.5Kg、铁0.1Kg、硅0.2Kg和钴3Kg,按配比在1400-1600℃的真空真空窑炉中溶解成溶液。再用模具浇成所需形状的容器坩锅之后清洗干净,在温度为700-1350℃的高温炉中煅烧1-2小时,然后取出,合格制得本发明坩锅。

Claims (2)

1、一种生产晶须的必备工具坩锅及其制备方法,其特征在于:所述坩锅由如下配比的材料制得:
镍    91%-98%
碳    0.1%-0.9%
锰    0.1%-1.9%
铁    0.1%-0.4%
硅    0.1%-0.9%
钴    0.5%-4.9%
以上百分比均为重量百分比。
2、权利要求1所述的一种坩锅的制备方法,包括如下步骤:
1)、将、镍、碳、锰、铁、硅和钴按配比在1400-1600℃的真空窑炉中溶解成溶液;
2)、再用模具浇成所需形状的容器坩锅;
3)、将坩锅清洗干净,在温度为700-1350℃的高温炉中煅烧1-2小时,然后取出制得本发明坩锅。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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CN102161564A (zh) * 2011-03-30 2011-08-24 连云港福东正佑照明电器有限公司 砷化镓晶体生长用双料壁石英坩埚及其制备方法

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Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C02 Deemed withdrawal of patent application after publication (patent law 2001)
WD01 Invention patent application deemed withdrawn after publication

Open date: 20081022