CN101234343B - 高比表面积TiO2光催化材料制备方法 - Google Patents
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Abstract
本发明涉及一种高比表面积TiO2光催化材料制备方法,将盛有阳极氧化溶液的容器放入水浴锅中,开始搅拌;放入钛合金并接阳极后通电,电压升压,保持电压后断电取出钛合金;钛合金经热处理后,即获得表面积为20-60m2/g的TiO2光催化材料。所述阳极氧化溶液组成为:HF 0.05~2%,H3PO40.01~6%,LiF 0.01~6%,ZnSO4 0~1%,Zn(NO3)20.01~6%,NiSO40.01~6%,AgNO30.01~6%,其余为水。本发明采用表面处理工艺可大大增加钛合金的表面积,提高光电转换效率;利用电磁搅拌、超声搅拌可提高搅拌效率,使溶液的成分有效均匀地分散,制备出具有高比表面积的TiO2光催化材料。
Description
技术领域
本发明涉及一种用于金属材料技术领域的光催化材料制备方法,特别是一种高比表面积TiO2光催化材料制备方法。
背景技术
TiO2是重要的半导体材料,由于其具有独特的光电转换特性,广泛应用于污水处理、空气净化及光电太阳能电池的开发。根据纳米TiO2粉体在应用上存在反应后回收困难等缺点,已研制出不同的固体负载化技术,但现有固体负载化技术仍然存在一些缺陷,如TiO2比表面积的减少,TiO2光电转换效率的降低等等,因此有必要发展具有高比表面积的TiO2固体负载化技术。
经对现有技术的文献检索发现:田玉明等在《催化学报》Vol.27,No.8:P703~707,2006年发表的文章“糖葫芦状二氧化钛纳米线阵列的制备及其光催化性能”,该文章介绍了通过溶胶-电泳沉积法,在多孔阳极氧化铝模板的孔中合成了糖葫芦状TiO2纳米线阵列。虽然通过该方法可以制备出具有优良光催化性能TiO2纳米线,但是还存在着一些不足之处,由于TiO2纳米线相互依靠,光照射时存在大量阴影,导致光催化速率偏低。
发明内容
本发明针对现有技术中的上述不足,提供一种高比表面积TiO2光催化材料制备方法,使得TiO2光催化材料比表面积为20-60m2/g,以进一步提高TiO2的光催化效率。
本发明是通过以下技术方案实现的,本发明将经过表面处理的钛合金直接阳极氧化,包括以下步骤:
第一步,将盛有阳极氧化溶液的容器放入水浴锅中,开始搅拌;
所述阳极氧化溶液,其组成重量百分比含量为:HF0.05~2%,H3PO40.01~6%,LiF0.01~6%,ZnSO40~1%,Zn(NO3)20.01~6%,NiSO40.01~6%,AgNO30.01~6%,其余为水;
所述水浴锅,其温度在5℃~60℃范围内。
所述搅拌,其方式为电磁搅拌、超声搅拌。
第二步,将经表面处理后的钛合金放入阳极氧化溶液,接阳极后通电,电压升至所需电压后,保持电压一段时间后断电取出钛合金;
所述表面处理,其方法为喷砂法,或机械抛光法。
所述电压为5V~180V,升压时间为5秒~20分钟。
所述保持电压时间为5分钟~60分钟。
第三步,将钛合金热处理后冷却,即获得表面积为20-60m2/g的TiO2光催化材料。
所述热处理温度为300℃~600℃,热处理时间为30分钟~120分钟。
所述冷却,其方式为空气冷却。
与其它工艺相比,本发明将经过表面处理的钛合金直接阳极氧化,采用表面处理工艺可大大增加钛合金的表面积,提高光电转换效率;利用电磁搅拌、超声搅拌可提高搅拌效率,使溶液的成分有效均匀地分散,制备出具有高比表面积的TiO2光催化材料,其比表面积为20-60m2/g。
具体实施方式
下面对本发明的实施例作详细说明:本实施例在以本发明技术方案为前提下进行实施,给出了详细的实施方式和具体的操作过程,但本发明的保护范围不限于下述的实施例。
实施例1
制备基体为纯钛的高比表面积TiO2光催化材料,制备过程如下:
将盛有HF0.05%,H3PO46%,LiF6%,ZnSO40.5%,Zn(NO3)26%,NiSO40.01%,AgNO30.01%的阳极氧化溶液的烧杯放入溶液温度为60℃的水浴锅内,开始电磁搅拌;将经过喷砂处理后的纯钛板放入接阳极逐步增加电压,20分钟后将电压升至180V,保持电压60分钟后取出纯钛板,将干燥后的纯钛板进行热处理,热处理温度为600℃,时间为30分钟,空气冷却后即得高比表面积TiO2光催化材料。将所制备的光催化材料进行比表面积测试,比表面积为20m2/g。
实施例2
制备基体为ZTA5的高比表面积TiO2光催化材料,制备过程如下:
将盛有HF2%,H3PO40.01%,LiF0.01%,Zn(NO3)20.01%,NiSO46%,AgNO33%的阳极氧化溶液的烧杯放入温度为5℃的水浴锅内,开始超声搅拌;将经过机械抛光处理后的ZTA5板放入接阳极逐步增加电压,5秒后将电压升至5V,保持电压5分钟后取出ZTA5板,将干燥后的ZTA5板进行热处理,热处理温度为300℃,时间为120分钟,空气冷却后即得高比表面积TiO2光催化材料。将所制备的光催化材料进行比表面积测试,比表面积为40m2/g。
实施例3
制备基体为ZTC4的高比表面积TiO2光催化材料,制备过程如下:
将盛有HF1%,H3PO43%,LiF3%,ZnSO41%,Zn(NO3)23%,NiSO43%,AgNO36%的阳极氧化溶液的烧杯放入温度为35℃的水浴锅内,开始电磁搅拌;将经过机械抛光处理后的ZTC4板放入接阳极逐步增加电压,10分钟后将电压升至90V,保持电压30分钟后取出ZTC4板,将干燥后的ZTC4板进行热处理,热处理温度为450℃,时间为75分钟,空气冷却后即得高比表面积TiO2光催化材料。将所制备的光催化材料进行比表面积测试,比表面积为60m2/g。
Claims (7)
1.一种高比表面积TiO2光催化材料制备方法,其特征在于,包括以下步骤:
第一步,将盛有阳极氧化溶液的容器放入水浴锅中,开始搅拌;
所述阳极氧化溶液,其组成重量百分比含量为:HF 0.05~2%,H3PO4 0.01~6%,LiF 0.01~6%,ZnSO4 0~1%,Zn(NO3)2 0.01~6%,NiSO4 0.01~6%,AgNO3 0.01~6%,其余为水;
第二步,将经表面处理后的钛合金放入阳极氧化溶液,接阳极后通电,电压升压至5V~180V,升压时间为5秒~20分钟,保持电压5分钟~60分钟后断电取出钛合金;
第三步,将钛合金热处理后冷却,即获得表面积为20-60m2/g的TiO2光催化材料。
2.根据权利要求1所述的高比表面积TiO2光催化材料制备方法,其特征是,第一步中,所述水浴锅,其温度在5℃~60℃范围内。
3.根据权利要求1或2所述的高比表面积TiO2光催化材料制备方法,其特征是,第一步中,所述搅拌,其方式为电磁搅拌或超声搅拌。
4.根据权利要求1所述的高比表面积TiO2光催化材料制备方法,其特征是,第二步中,所述表面处理,其方法为喷砂法或机械抛光法。
5.根据权利要求1所述的高比表面积TiO2光催化材料制备方法,其特征是,第三步中,所述热处理温度为300℃~600℃。
6.根据权利要求1或5所述的高比表面积TiO2光催化材料制备方法,其特征是,第三步中,所述热处理时间为30分钟~120分钟。
7.根据权利要求1或5所述的高比表面积TiO2光催化材料制备方法,其特征是,第三步中,所述冷却,其方式为空气冷却。
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