CN101154045A

CN101154045A - 光聚合型光敏平版印刷版原版

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Publication number: CN101154045A
Application number: CNA2007101624214A
Authority: CN
Inventors: 河内几生
Original assignee: Fujifilm Corp
Current assignee: Fujifilm Corp
Priority date: 2006-09-29
Filing date: 2007-09-29
Publication date: 2008-04-02
Anticipated expiration: 2027-09-29
Also published as: JP2008089789A; EP1906245B1; JP4934386B2; CN101154045B; US7851132B2; US20080081291A1; EP1906245A1

Abstract

一种使用激光曝光的阴图光聚合型光敏平版印刷版原版，其包含依次安置的亲水性载体；至少一个可光聚合光敏层；和保护层，其中所述可光聚合光敏层含有敏化染料；能够吸收波长为激光发射波长±50nm的光的染料或颜料，所述染料或颜料不同于所述敏化染料；和光聚合引发剂。

Description

光聚合型光敏平版印刷版原版

技术领域

本发明涉及一种光聚合型光敏平版印刷版原版，更具体而言，涉及一种适于使用激光束进行绘制并且适于网屏线数等于或大于200的高清晰度AM丝网印刷或FM丝网印刷的光聚合型光敏平版印刷版原版。

背景技术

迄今，平版印刷版原版包含安置在具有亲水性表面的载体上的光敏树脂层。至于其制版方法，通常通过特硬性片(lith film)将平版印刷版原版进行泛曝光(floodwise exposure)(掩模曝光)，然后使用显影剂除去非图像区以获得需要的印刷版。然而，随着最近数字化技术的进步，开发了计算机直接制版(CTP)技术，即在不使用特硬性片的情况下，根据数字化图像数据，使用高度会聚的光，例如激光束，通过扫描在平版印刷版原版的表面上直接进行曝光处理。还开发了适于该技术的光敏平版印刷版原版。

作为适于使用激光束曝光的光敏平版印刷版原版，示例的有：具有可聚合光敏层的光敏平版印刷版原版。因为与其它常规的光敏层相比，通过适当地选择光聚合引发剂或光聚合引发体系(以下也分别简称为“引发剂”和“引发体系”)，可聚合光敏层能够容易地提高感光度，所以优选这种光敏平版印刷版原版。

然而，当使用激光束在这种光敏平版印刷版原版上绘制时，由于取决于激光束的能量分布剖面(profile)的曝光量不足，在图像边缘形成聚合不充分的区域。因此，削弱了图像边缘的锐度，从而导致分辨率降低。而且，在图像边缘形成的聚合不充分的区域中，根据在显影处理步骤中的显影剂的浓度或显影刷的条件，产生除去的缺陷，从而导致在形成的印刷版中的网点区(halftone dot area)的变化大。

此外，因为这种平版印刷版原版包含具有根据电解处理或涂刷处理以确保亲水性的粗糙表面的载体，所以由于在激光曝光时的反射光的散射，另外损害了图像质量和锐度，并且严重降低了阴影区的再现性。

另一方面，近来增大了在CTP技术领域中对高清晰度AM丝网印刷或FM丝网印刷的需求。因此，平版印刷版原版的分辨率成了一个重要的性能。

FM(调频)网屏包含与网屏角度和线数无关的不规则排列的约20微米的细网点，并且由每单位面积的网点密度表示密度梯度。FM丝网印刷的特征在于不产生干涉龟纹和玫瑰花状图案，在于避免了在约50％的网版(halftone)区域中的色调跳跃，并且在于由于网点的小尺寸，网点的重叠减少使得可以鲜明地看到再现的颜色。

与FM网屏相比，AM(调幅)网屏包含在某个角度规则排列的细网点，并且由每单位面积的网点尺寸表示密度梯度。在日本，AM网屏的线数通常是175线/英寸。另一方面，将使用网屏线数等于或大于200的印刷定义为高清晰度AM丝网印刷。

高清晰度印刷的特性包括龟纹和玫瑰花状图案的减少，图像纹理的改善和逼真的感觉和细节的再现性的改善。

然而，伴随阴影区中的再现性降低的平版印刷版原版，例如具有上述可聚合光敏层的平版印刷版原版难以用于提供适合FM丝网印刷或高清晰度AM丝网印刷的印刷版的目的，因为它们不能再现极细的网点。

在JP-A-2003-43703(如在此所用的术语“JP-A”是指“未审查出版的日本专利申请”)中，描述了包含载体的光敏平版印刷版，所述的载体上依次安置有中间层和可聚合光敏层，所述中间层含有聚合物化合物，所述聚合物化合物包含在其侧链中具有磺酸基的组成单元。然而，对于适合高清晰度AM丝网印刷或FM丝网印刷的印刷版原版，所述的光敏平版印刷版仍然是不足的。特别是，因为在FM网屏的情况下的网点的不均匀性是严重的，所以难以使用FM网屏。此外，光敏平版印刷版的保存稳定性是不足的。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种光聚合型光敏平版印刷版原版，所述光聚合型光敏平版印刷版原版适于使用激光束进行绘制并且适于网屏线数等于或大于200的高清晰度AM丝网印刷或FM丝网印刷，并且特别是在使用FM网屏的情况下，在网版区域中的网点的均匀性方面是优异的。

作为深入研究的结果，本发明人发现通过下述构造可以达到上述目的。

具体而言，本发明包括下列各项。

(1)一种使用激光曝光的阴图(negative-working)光聚合型光敏平版印刷版原版，其依次包含亲水性载体、至少一个可光聚合光敏层和保护层，其中所述可光聚合光敏层含有(a)敏化染料；(b)能够吸收波长为激光发射波长±50nm的光的染料或颜料，所述染料或颜料不同于所述敏化染料；和(c)光聚合引发剂。

(2)如上面(1)所述的阴图光聚合型光敏平版印刷版原版，其中所述激光是发射350至450nm的光的蓝至紫外区的激光。

(3)如上面(1)或(2)所述的阴图光聚合型光敏平版印刷版原版，其中所述光敏层含有下面显示的(i)、(ii)、(iii)、(iv)和(v)：

(i)在350至450nm的波长范围内具有吸收最大值的敏化染料；

(ii)光聚合引发剂；

(iii)具有烯式不饱和双键的可加成聚合化合物，

(iv)能够吸收波长为激光发射波长±50nm的光的染料或颜料；

(v)粘合剂聚合物，所述粘合剂聚合物是包含至少一个由下式(1)表示的重复单元的聚合物：

其中X表示氧原子、硫原子或-NH-基团，Y表示氢原子、含1至12个碳原子的烷基、含5至12个碳原子的环状烷基或包含含6至20个碳原子的芳族环的基团，Z表示氧原子、硫原子或-NH-基团，并且R₁表示含1至18个碳原子的烷基、包含含5至20个碳原子的脂环族结构的烷基或包含含6至20个碳原子的芳族环的基团。

(4)如上面(3)所述的阴图光聚合型光敏平版印刷版原版，其中所述(ii)的光聚合引发剂是六芳基联咪唑化合物，并且所述光敏层还含有由下式(2)或(3)表示的含硫化合物：

其中R₂、R₃和R₄各自独立地表示氢原子、取代或未取代的含1至18个碳原子的直链或支链烷基、取代或未取代的含5至20个碳原子的环状烷基、或芳族基团。

根据本发明，可以提供一种光聚合型光敏平版印刷版原版，所述光聚合型光敏平版印刷版原版适于使用激光束进行绘制并且适于网屏线数等于或大于200的高清晰度AM丝网印刷或FM丝网印刷，特别是在使用FM网屏的情况下，在网版区域中的网点的均匀性方面是优异的。

具体实施方式

[光聚合型光敏平版印刷版原版]

对于根据本发明的光聚合型光敏平版印刷版原版，下面将依次描述其构成部分(constitutions)。

[载体]

首先，下面描述在根据本发明的光聚合型光敏平版印刷版原版中使用的载体。

对于在本发明中使用的载体，尽管可以使用任何具有亲水性表面的载体，但是优选在尺寸稳定的板状材料，例如纸、层压有塑料(例如，聚乙烯、聚丙烯或聚苯乙烯)的纸、金属(例如铝、锌或铜)或合金(例如，铝与硅、铜(cupper)、镁、铬、锌、铅、铋或镍的合金)的板、塑料(例如二乙酸纤维素，三乙酸纤维素，丙酸纤维素，丁酸纤维素，乙酸丁酸纤维素，硝酸纤维素，聚对苯二甲酸乙二醇酯，聚乙烯，聚苯乙烯，聚丙烯，聚碳酸酯或者聚乙烯醇缩醛)的膜以及其上层压有或气相沉积的上述金属或合金的纸或塑料膜。在这些载体之中，特别优选铝板，原因在于它在尺寸上非常稳定并且相对廉价。而且，优选在JP-B-48-18327(如在此所用的术语“JP-B”指“审查出版的日本专利公开”)中描述的复合板，所述复合板包含其上粘合有铝板的聚对苯二甲酸乙二醇酯膜。载体的厚度约为0.05至1mm。

在使用具有金属表面，特别是铝表面的载体的情况下，优选将载体进行表面处理，例如下述粒化处理、在硅酸钠、氟锆酸钾、磷酸盐等的水溶液中的浸渍处理、或阳极化处理。

[粒化处理]

用于粒化处理的方法包括如在JP-A-56-28893中描述的机械粒化、化学粒化和电解粒化。具体而言，可以使用在盐酸或硝酸的电解液中将表面电化学粒化的电化学粒化方法以及机械粒化方法，例如使用金属丝刮擦铝表面的金属丝刷粒化方法、用磨球和磨料将铝表面粒化的球粒化方法以及用尼龙刷和磨料将铝表面粒化的刷粒化方法。所述粒化方法可以单独或以它们的组合的形式使用。

在所述方法之中，在盐酸或硝酸的电解液中将表面化学粒化的电化学方法是适合用于本发明的表面粗糙化方法，并且适合的电流密度在100至400C/dm²的范围内。更具体而言，优选在含有0.1至50重量％盐酸或硝酸的电解液中，在温度为20至100℃、时间为1秒至30分钟并且电流密度为100至400C/dm²的条件下进行电解。

然后使用酸或碱化学蚀刻已进行粒化处理的铝载体。使用酸作为蚀刻剂的方法需要时间以破坏细微的结构，因此在工业上将该方法用于本发明是有缺点的。可以通过使用碱作为蚀刻剂克服这种缺点。

优选用于本发明的碱试剂的实例包括氢氧化钠、碳酸钠、铝酸钠、偏硅酸钠、磷酸钠、氢氧化钾和氢氧化锂。浓度和温度的优选范围分别是1至50重量％和20至100℃。优选进行碱蚀刻使得铝的溶解量在5至20g/m³的范围内。

在蚀刻步骤之后，使用酸将载体进行洗涤以除去残留在其表面上的污渍(污物)。用于酸洗步骤的酸的实例包括硝酸、硫酸、磷酸、铬酸、氢氟酸和硼氢氟酸(borohydrofluoric acid)。特别是，作为在电化学粒化处理后用于除去污物的方法，优选示例的有：如在JP-A-53-12739中所述的使铝载体与温度为50至90℃的15至65重量％的硫酸水溶液接触的方法，以及如在JP-B-48-28123中所述的进行碱蚀刻的方法。

在本发明中，铝载体的表面粗糙度(Ra)优选为0.3至0.7μm。

[阳极化处理]

然后，可以将如此处理的铝载体进行阳极化处理。阳极化处理可以以本技术领域中常规使用的方法进行。

具体而言，它是通过在水溶液或非水溶液中将直流电或交流电施加到铝载体上以在铝载体的表面上形成阳极氧化物层进行的，所述水溶液或非水溶液含有硫酸、磷酸、铬酸、草酸、氨基磺酸、苯磺酸或它们的两种或更多种的组合。

因为根据所用的电解液，阳极化处理的条件变化大，所以阳极化处理的条件不能以一般方式确定。然而，通常电解液的浓度在1至80％的范围内，电解液的温度在5至70℃的范围内，电流密度在0.5至60安培/dm²的范围内，电压在1至100V的范围内，并且电解时间在10至100秒的范围内。

在所述阳极化处理之中，优选使用如在英国专利1,412,768中所述的使用高电流密度在硫酸溶液中阳极化的方法，以及如在美国专利3,511,661中所述的使用磷酸作为电解浴的阳极化的方法。

在本发明中，阳极氧化物层的量优选是1至10g/m²。当该量小于1g/m²时，在版中可能易于发生刮擦。出于经济观点，超过10g/m²的量是不利的，原因在于需要大量电。阳极氧化物层的量更优选是1.5至7g/m²，并且还更优选是2至5g/m²。

在本发明中，还可以在粒化处理和阳极化处理之后将铝载体进行封孔(sealing)处理。通过将铝载体浸渍在热水或含有无机盐或有机盐的热水溶液中或者将铝载体传送到水蒸汽浴中进行封孔处理。此外，可以将用于本发明的铝载体进行与使用金属碱硅酸盐的硅酸盐处理不同的表面处理，例如，在例如氟锆酸钾或磷酸盐的水溶液中的浸渍处理。

根据本发明，将包含例如光聚合型光敏组合物的可光聚合光敏层涂覆到载体(在使用铝载体的情况下，优选适当地进行上述表面处理的铝载体)，然后涂覆保护层，以制备光聚合型光敏平版印刷版原版。如在JP-A-7-159983中所述，在涂覆可光聚合光敏层之前，在需要时，可以将有机或无机底涂层安置在载体上，或可以将载体进行溶胶-凝胶处理，在溶胶-凝胶处理中，形成能够通过自由基发生加成反应的官能团的共价键。

用于形成有机底涂层的物质包括例如水溶性树脂，例如聚乙烯基膦酸、在其侧链中具有磺酸基的聚合物或共聚物、聚丙烯酸、水溶性金属盐(例如，硼酸锌)、黄色染料和胺盐。

更具体而言，用于有机底涂层的有机化合物的实例包括羧甲基纤维素；糊精；阿拉伯树胶；含氨基的膦酸(例如2-氨基乙基膦酸)；有机膦酸(例如苯基膦酸，萘基膦酸，烷基膦酸，甘油膦酸，亚甲基二膦酸和亚乙基二膦酸，它们的每一种可以具有取代基)；有机磷酸(例如苯基磷酸，萘基磷酸，烷基磷酸或甘油磷酸，它们的每一种可以具有取代基)；有机次膦酸(例如苯基次膦酸，萘基次膦酸，烷基次膦酸或甘油次膦酸，它们的每一种可以具有取代基)；氨基酸(例如甘氨酸或β-丙氨酸)；以及含有羟基的胺的盐酸盐(例如三乙醇胺盐酸盐)。所述有机化合物可以单独或以它们的两种或更多种的混合物形式使用。

可以以下列方法安置有机底涂层。具体而言，将如上所述的有机化合物溶解在水，有机溶剂例如甲醇、乙醇或甲基乙基酮，或者它们的混合物中，将如此制备的溶液涂覆在载体上，并且干燥以形成有机底涂层。备选地，将如上所述的有机化合物溶解在水，有机溶剂例如甲醇、乙醇或甲基乙基酮，或者它们的混合物中，并且将载体浸渍在如此制备的溶液中，以将有机化合物吸附在载体表面上，然后使用例如水洗涤，并且干燥以形成有机底涂层。在前一种方法中，可以通过各种方法涂布含有浓度为0.005至10重量％的有机化合物的溶液。可以使用任何方法，例如刮棒涂布机涂布、旋涂、喷涂或幕涂。在后一种方法中，在溶液中的有机化合物的浓度优选为0.01至20重量％，并且更优选为0.05至5重量％。浸渍温度优选为20至90℃，并且更优选为25至50℃。浸渍时间优选为0.1秒至20分钟，并且更优选为2秒至1分钟。

可以通过使用碱性物质，例如氨、三乙胺或氢氧化钾，或者酸性物质，例如盐酸或者磷酸，将有机化合物的溶液的pH调节到1至12的范围内，使用该有机化合物的溶液。此外，可以将黄色染料加入到溶液中以提高光聚合型光敏平版印刷版原版的色调再现性。

在干燥后，有机底涂层的涂布量优选为2至200mg/m²，并且更优选为5至100mg/m²。在涂布量小于2mg/m²时，得不到足够的印刷耐久性。另一方面，当涂布量大于200mg/m²时，也得不到足够的印刷耐久性。

用于无机底涂层的物质包括无机盐，例如乙酸钴、乙酸镍或氟钛酸钾。用于形成无机底涂层的方法与上述有机底涂层的方法相同。

[光敏层]

[敏化染料]

用于根据本发明的光聚合型光敏平版印刷版原版的敏化染料是能够通过能量转移或电子转移将被吸收的激光束的能量传输给光聚合引发剂的染料。

只要敏化染料具有上述功能，对其吸收(adsorption)波长没有特别限制，并且它是根据用于曝光的激光的波长适当地确定的。根据本发明，优选使用在350至450nm的波长范围内具有吸收最大值的敏化染料。敏化染料的实例包括由下面显示的式(2)表示的部花青染料、由下面显示的式(3)表示的苯并吡喃类或香豆素类、由下面显示的式(4)表示的芳族酮和由下面显示的式(5)表示的蒽类。

在式(2)中，A表示硫原子或NR₆，R₆表示一价非金属原子团，Y表示用于与相邻的A和相邻的碳原子一起形成染料的碱性核所必需的非金属原子团，并且X₁和X₂各自独立地表示一价非金属原子团，或者X₁和X₂可以相互结合以形成染料的酸性核。

在式(3)中，＝Z表示氧代基团、硫代基团、亚氨基或由上述部分结构式(1’)表示的alkylydene group，X₁和X₂分别具有与式(2)中所限定的相同含义，并且R₇至R₁₂各自独立地表示一价非金属原子团。

在式(4)中，Ar₃表示可以具有取代基的芳族基团或可以具有取代基的杂芳族基团，并且R₁₃表示一价非金属原子团。R₁₃优选表示芳族基团或杂芳族基团。Ar₃和R₁₃可以相互结合以形成环。

在式(5)中，X₃、X₄和R₁₄至R₂₁各自独立地表示一价非金属原子团。优选地，X₃和X₄各自独立地表示具有负的哈米特取代基常数的给电子基团。

在式(2)至(5)中，由X₁至X₄和R₆至R₂₁中的任何一个表示的一价非金属原子团的优选实例包括氢原子、烷基(例如，甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基(eucosyl group)、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基、2-降冰片基、氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲硫基甲基、甲苯硫基甲基、乙氨基乙基、二乙基氨基丙基、吗啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、N-环己基氨基甲酰氧基乙基、N-苯基氨基甲酰氧基乙基、乙酰基氨基乙基、N-甲基苯甲酰基氨基丙基、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲酰基乙基、N，N-二丙基氨基甲酰基甲基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺基苯基)氨基甲酰基甲基、磺基丁基、磺酸酯基(sulfonato)丁基、氨磺酰基丁基、N-乙基氨磺酰基甲基、N，N-二丙基氨磺酰基丙基、N-甲苯基氨磺酰基丙基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基辛基、膦酰基丁基、膦酸酯基(phosphonato)己基、二乙基膦酰基丁基、二苯基膦酰基丙基、甲基膦酰基丁基、甲基膦酸酯基丁基、甲苯基膦酰基己基、甲苯基膦酸酯基己基、膦酰氧基丙基、膦酸酯氧基丁基、苄基、苯乙基、α-甲基苄基、1-甲基-1-苯基乙基、对甲基苄基、肉桂基、烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基或3-丁炔基)、芳基(例如，苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲硫基苯基、苯硫基苯基、甲基氨基苯基、二甲基氨基苯基、乙酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基羰基苯基、苯氧基羰基苯基、N-苯基氨基甲酰基苯基、硝基苯基、氰基苯基、磺基苯基、磺酸酯基苯基、膦酰基苯基或膦酸酯基苯基)、杂芳基(例如，由下列衍生的杂芳基：噻吩、噻蒽、呋喃、吡喃、异苯并呋喃、苯并吡喃、呫吨、吩噁嗪、吡咯、吡唑、异噻唑、异噁唑、吡嗪、嘧啶、哒嗪、中氮茚、异中氮茚、吲哚、吲唑、嘌呤、喹嗪、异喹啉、2，3-二氮杂萘、1，5-二氮杂萘(naphthylidine)、喹唑啉、噌啉、蝶啶、咔唑、咔啉、菲、吖啶、萘嵌间二氮杂苯、菲咯啉、2，3-二氮杂萘、吩砒嗪、吩噁嗪、呋咱或吩噁嗪)、链烯基(例如，乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、肉桂基或2-氯-1-乙烯基)、炔基(例如乙炔基、1-丙炔基、1-丁炔基或三甲代甲硅烷基乙炔基)、卤原子(例如，-F、-Br、-Cl或-I)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N，N-二烷基氨基甲酰氧基、N，N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基硫氧基(alkylsulfoxy group)、芳基硫氧基、酰基硫基、酰基氨基、N-烷基酰基氨基、N-芳基酰基氨基、脲基、N’-烷基脲基、N’，N’-二烷基脲基、N’-芳基脲基、N’，N’-二芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N’-烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’，N’-二烷基-N-芳基脲基、N’-芳基-N-烷基脲基、N’-芳基-N-芳基脲基、N’，N’-二芳基-N-烷基脲基、N’，N’-二芳基-N-芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-SO₃H)及其共轭碱基(以下称为“磺酸酯基”)、烷氧基磺酰基、芳氧基磺酰基、氨亚磺酰基(sulfinamoyl group)、N-烷基氨亚磺酰基、N，N-二烷基氨亚磺酰基、N-芳基氨亚磺酰基、N，N-二芳基氨亚磺酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酰基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N，N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基(-PO₃H₂)及其共轭碱基(以下称为“膦酸酯基”)、二烷基膦酰基(-PO₃(烷基)₂)、二芳基膦酰基(-PO₃(芳基)₂)、烷基芳基膦酰基(-PO₃(烷基)(芳基))、一烷基膦酰基(-PO₃H(烷基))及其共轭碱基(以下称为“烷基膦酸酯基”)、一芳基膦酰基(-PO₃H(芳基))及其共轭碱基(以下称为“芳基膦酸酯基”)、膦酰氧基(-OPO₃H₂)及其共轭碱基(以下称为“膦酸酯氧基”)、二烷基膦酰氧基(-OPO₃(烷基)₂)、二芳基膦酰氧基(-OPO₃(芳基)₂)、烷基芳基膦酰氧基(-OPO₃(烷基)(芳基))、一烷基膦酰氧基(-OPO₃H(烷基))及其共轭碱基(以下称为“烷基膦酸酯氧基”)、一芳基膦酰氧基(-OPO₃H(芳基))及其共轭碱基(以下称为“芳基膦酸酯氧基”)、氰基和硝基。在上述基团之中，特别优选氢原子、烷基、芳基、卤原子、烷氧基和酰基。

在式(2)中，由Y与相邻的A和相邻的碳原子一起形成的染料的碱性核包括例如5元、6元或7元含氮或含硫杂环，并且优选为5元或6元杂环。

作为含氮杂环，可以优选使用在L.G.Brooker等，J.Am.Chem.Soc.，第73卷，5326至5358页(1951)和其中引用的文献中描述的部花青染料中，已知组成碱性核的那些含氮杂环。其具体实例包括噻唑类(例如，噻唑、4-甲基噻唑、4-苯基噻唑、5-甲基噻唑、5-苯基噻唑、4，5-二甲基噻唑、4，5-二苯基噻唑、4，5-二(对甲氧基苯基)噻唑或4-(2-噻吩基)噻唑)；苯并噻唑类(例如，苯并噻唑、4-氯苯并噻唑、5-氯苯并噻唑、6-氯苯并噻唑、7-氯苯并噻唑、4-甲基苯并噻唑、5-甲基苯并噻唑、6-甲基苯并噻唑、5-溴苯并噻唑、4-苯基苯并噻唑、5-苯基苯并噻唑、4-甲氧基苯并噻唑、5-甲氧基苯并噻唑、6-甲氧基苯并噻唑、5-碘苯并噻唑、6-碘苯并噻唑、4-乙氧基苯并噻唑、5-乙氧基苯并噻唑、四氢苯并噻唑、5，6-二甲氧基苯并噻唑、5，6-二氧亚甲基苯并噻唑、5-羟基苯并噻唑、6-羟基苯并噻唑、6-二甲基氨基苯并噻唑或5-乙氧基羰基苯并噻唑)；萘并噻唑类(例如，萘并[1，2]噻唑、萘并[2，1]噻唑、5-甲氧基萘并[2，1]噻唑、5-乙氧基萘并[2，1]噻唑、8-甲氧基萘并[1，2]噻唑或7-甲氧基萘并[1，2]噻唑)；硫茚并-7’，6’，4，5-噻唑类(例如，4’-甲氧基硫茚并-7’，6’，4，5-噻唑)；噁唑类(例如，4-甲基噁唑、5-甲基噁唑、4-苯基噁唑、4，5-二苯基噁唑、4-乙基噁唑、4，5-二甲基噁唑或5-苯基噁唑)；苯并噁唑类(例如，苯并噁唑、5-氯苯并噁唑、5-甲基苯并噁唑、5-苯基苯并噁唑、6-甲基苯并噁唑、5，6-二甲基苯并噁唑、4，6-二甲基苯并噁唑、6-甲氧基苯并噁唑、5-甲氧基苯并噁唑、4-乙氧基苯并噁唑、5-氯苯并噁唑、6-甲氧基苯并噁唑、5-羟基苯并噁唑或6-羟基苯并噁唑)；萘并噁唑类(例如，萘并[1，2]噁唑或萘并[2，1]噁唑)；硒唑类(例如，4-甲基硒唑或4-苯基硒唑)；苯并硒唑类(例如，苯并硒唑、5-氯苯并硒唑、5-甲氧基苯并硒唑、5-羟基苯并硒唑或四氢苯并硒唑)；萘并硒唑类(例如，萘并[1，2]硒唑或萘并[2，1]硒唑)；噻唑啉类(例如，噻唑啉或4-甲基噻唑啉)；2-喹啉类(例如，喹啉、3-甲基喹啉、5-甲基喹啉、7-甲基喹啉、8-甲基喹啉、6-氯喹啉、8-氯喹啉、6-甲氧基喹啉、6-乙氧基喹啉、6-羟基喹啉或8-羟基喹啉)；4-喹啉类(例如，喹啉、6-甲氧基喹啉、7-甲基喹啉或8-甲基喹啉)；1-异喹啉类(例如，异喹啉或3，4-二氢异喹啉)；3-异喹啉类(例如，异喹啉)；苯并咪唑类(例如，1，3-二乙基苯并咪唑或1-乙基-3-苯基苯并咪唑)；3，3-二烷基假吲哚类(例如，3，3-二甲基假吲哚、3，3，5-三甲基假吲哚或3，3，7-三甲基假吲哚)；和2-吡啶类(例如，吡啶或5-甲基吡啶)；以及4-吡啶类(例如，吡啶)。

含硫杂环的实例包括在JP-A-3-296759中描述的染料中的二硫酚部分结构。

其具体实例包括苯并二硫酚类(例如，苯并二硫酚、5-叔丁基苯并二硫酚或5-甲基苯并二硫酚)；萘并二硫酚类(例如，萘并[1，2]二硫酚或萘并[2，1]二硫酚)；以及二硫酚类(例如，4，5-二甲基二硫酚、4-苯基二硫酚、4-甲氧基羰基二硫酚、4，5-二甲氧基羰基二硫酚、4，5-二(三氟甲基)二硫酚、4，5-二氰基二硫酚、4-甲氧基羰基甲基二硫酚或4-羧基甲基二硫酚)。

在对上述杂环的描述中，为方便起见并且根据惯例，使用杂环母体骨架的名称。在组成所述敏化染料中的碱性核部分结构的情况下，以其中不饱和度降低一级(one step)的alkylydene类取代基的形式引入杂环。例如，以3-取代的-2(3H)-苯并噻唑亚基的形式引入苯并噻唑骨架。

在350至450nm的波长范围内具有吸收最大值的敏化染料之中，考虑到高感光度，更优选由下面显示的式(1)表示的染料。

在式(1)中，A表示可以具有取代基的芳族环状基团或可以具有取代基的杂环基团，X表示氧原子、硫原子或＝N(R₃)，并且R₁、R₂和R₃各自独立地表示氢原子或一价非金属原子团，或者A和R₁或R₂和R₃可以相互结合以形成脂族或芳族环。

下面将更详细地描述式(1)。R₁、R₂和R₃各自独立地表示氢原子或一价非金属原子团，优选取代或未取代的烷基、取代或未取代的链烯基、取代或未取代的芳基、取代或未取代的芳族杂环残基、取代或未取代的烷氧基、取代或未取代的烷硫基、羟基或卤原子。

下面将具体描述R₁、R₂和R₃的优选实例。烷基的优选实例包括含1至20个碳原子的直链、支链或环状烷基。其具体实例包括甲基、乙基、丙基、丁基、戊基、己基、庚基、辛基、壬基、癸基、十一烷基、十二烷基、十三烷基、十六烷基、十八烷基、二十烷基、异丙基、异丁基、仲丁基、叔丁基、异戊基、新戊基、1-甲基丁基、异己基、2-乙基己基、2-甲基己基、环己基、环戊基和2-降冰片基。在它们之中，更优选含1至12个碳原子的直链烷基、含3至12个碳原子的支链烷基和含5至10个碳原子的环状烷基。

作为取代的烷基的取代基，使用除氢原子以外的一价非金属原子团。其优选实例包括卤原子(例如，-F，-Br，-Cl或-I)、羟基、烷氧基、芳氧基、巯基、烷硫基、芳硫基、烷基二硫基、芳基二硫基、氨基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、N-芳基氨基、N，N-二芳基氨基、N-烷基-N-芳基氨基、酰氧基、氨基甲酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、N，N-二烷基氨基甲酰氧基、N，N-二芳基氨基甲酰氧基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰氧基、烷基硫氧基、芳基硫氧基、酰基硫基、酰基氨基、N-烷基酰基氨基、N-芳基酰基氨基、脲基、N’-烷基脲基、N’，N’-二烷基脲基、N’-芳基脲基、N’，N’-二芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基脲基、N-烷基脲基、N-芳基脲基、N’-烷基-N-烷基脲基、N’-烷基-N-芳基脲基、N’，N’-二烷基-N-烷基脲基、N’，N’-二烷基-N-芳基脲基、N’-芳基-N-烷基脲基、N’-芳基-N-芳基脲基、N’，N’-二芳基-N-烷基脲基、N’，N’-二芳基-N-芳基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-烷基脲基、N’-烷基-N’-芳基-N-芳基脲基、烷氧基羰基氨基、芳氧基羰基氨基、N-烷基-N-烷氧基羰基氨基、N-烷基-N-芳氧基羰基氨基、N-芳基-N-烷氧基羰基氨基、N-芳基-N-芳氧基羰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N，N-二芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、烷基亚磺酰基、芳基亚磺酰基、烷基磺酰基、芳基磺酰基、磺基(-SO₃H)及其共轭碱基(以下称为“磺酸酯基”)、烷氧基磺酰基、芳氧基磺酰基、氨亚磺酰基、N-烷基氨亚磺酰基、N，N-二烷基氨亚磺酰基、N-芳基氨亚磺酰基、N，N-二芳基氨亚磺酰基、N-烷基-N-芳基氨亚磺酰基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N，N-二芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基(-PO₃H₂)及其共轭碱基(以下称为“膦酸酯基”)、二烷基膦酰基(-PO₃(烷基)₂)、二芳基膦酰基(-PO₃(芳基)₂)，、烷基芳基膦酰基(-PO₃(烷基)(芳基))、一烷基膦酰基(-PO₃H(烷基))及其共轭碱基(以下称为“烷基膦酸酯基”)、一芳基膦酰基(-PO₃H(芳基))及其共轭碱基(以下称为“芳基膦酸酯基”)、膦酰氧基(-OPO₃H₂)及其共轭碱基(以下称为“膦酸酯氧基”)、二烷基膦酰氧基(-OPO₃(烷基)₂)、二芳基膦酰氧基(-OPO₃(芳基)₂)、烷基芳基膦酰氧基(-OPO₃(烷基)(芳基))、一烷基膦酰氧基(-OPO₃H(烷基))及其共轭碱基(以下称为“烷基膦酸酯氧基”)、一芳基膦酰氧基(-OPO₃H(芳基))及其共轭碱基(以下称为“芳基膦酸酯氧基”)、氰基、硝基、芳基、杂芳基、链烯基和炔基。

在所述取代基中，烷基的具体实例包括对上述烷基描述的那些。芳基的具体实例包括苯基、联苯基、萘基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氯甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、乙氧基苯基、苯氧基苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、甲硫基苯基、苯硫基苯基、甲基氨基苯基、二甲基氨基苯基、乙酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、乙氧基羰基苯基、苯氧基羰基苯基、N-苯基氨基甲酰基苯基、硝基苯基、氰基苯基、磺基苯基、磺酸酯基苯基、膦酰基苯基和膦酸酯基苯基。

由R₁、R₂和R₃中的任何一个表示的杂芳基的实例优选包括含有至少一个氮原子、氧原子和硫原子的单环或多环芳族环状基团。特别优选的杂芳基的实例包括由下列衍生的杂芳基：噻吩、噻蒽、呋喃、吡喃、异苯并呋喃、苯并吡喃、呫吨、吩噁嗪、吡咯、吡唑、异噻唑、异噁唑、吡嗪、嘧啶、哒嗪、中氮茚、异中氮茚、吲哚、吲唑、嘌呤、喹嗪、异喹啉、2，3-二氮杂萘、1，5-二氮杂萘、喹唑啉、噌啉、蝶啶、咔唑、咔啉、菲、吖啶、萘嵌间二氮杂苯、菲咯啉、2，3-二氮杂萘、吩砒嗪、吩噁嗪、呋咱或吩噁嗪)。这些基团可以是苯并稠合的或者可以具有取代基。

而且，由R₁、R₂和R₃中的任何一个表示的链烯基的实例优选包括乙烯基、1-丙烯基、1-丁烯基、肉桂基和2-氯-1-乙烯基。炔基的实例包括乙炔基、1-丙炔基、1-丁炔基和三甲代甲硅烷基乙炔基。在酰基(G₁CO-)中的G₁的实例包括氢原子以及上述烷基和芳基。在所述取代基之中，更优选卤原子(例如，-F、-Br、-Cl或-I)、烷氧基、芳氧基、烷硫基、芳硫基、N-烷基氨基、N，N-二烷基氨基、酰氧基、N-烷基氨基甲酰氧基、N-芳基氨基甲酰氧基、酰基氨基、甲酰基、酰基、羧基、烷氧基羰基、芳氧基羰基、氨基甲酰基、N-烷基氨基甲酰基、N，N-二烷基氨基甲酰基、N-芳基氨基甲酰基、N-烷基-N-芳基氨基甲酰基、磺基、磺酸酯基、氨磺酰基、N-烷基氨磺酰基、N，N-二烷基氨磺酰基、N-芳基氨磺酰基、N-烷基-N-芳基氨磺酰基、膦酰基、膦酸酯基、二烷基膦酰基、二芳基膦酰基、一烷基膦酰基、烷基膦酸酯基、一芳基膦酰基、芳基膦酸酯基、膦酰氧基、膦酸酯氧基、芳基和链烯基。

另一方面，作为在取代的烷基中的亚烷基，可以列举由上述含1至20个碳原子的烷基上的任何一个氢原子的消除产生的二价有机残基。优选的亚烷基的实例包括含1至12个碳原子的直链亚烷基、含3至12个碳原子的支链亚烷基和含5至10个碳原子的环状亚烷基。

通过将上述取代基与亚烷基结合获得的，由R₁、R₂和R₃中任何一个表示的优选取代烷基的具体实例包括：氯甲基、溴甲基、2-氯乙基、三氟甲基、甲氧基甲基、甲氧基乙氧基乙基、烯丙氧基甲基、苯氧基甲基、甲硫基甲基、甲苯硫基甲基、乙基氨基乙基、二乙基氨基丙基、吗啉代丙基、乙酰氧基甲基、苯甲酰氧基甲基、N-环己基氨基甲酰氧基乙基、N-苯基氨基甲酰氧基乙基、乙酰基氨基乙基、N-甲基苯甲酰基氨基丙基、2-氧代乙基、2-氧代丙基、羧丙基、甲氧基羰基乙基、烯丙氧基羰基丁基、氯苯氧基羰基甲基、氨基甲酰基甲基、N-甲基氨基甲酰基乙基、N，N-二丙基氨基甲酰基甲基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基乙基、N-甲基-N-(磺基苯基)氨基甲酰基甲基、磺基丁基、磺酸酯基丁基、氨磺酰基丁基、N-乙基氨磺酰基甲基、N，N-二丙基氨磺酰基丙基、N-甲苯基氨磺酰基丙基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基辛基、膦酰基丁基、膦酸酯基己基、二乙基膦酰基丁基、二苯基膦酰基丙基、甲基膦酰基丁基、甲基膦酸酯基丁基、甲苯基膦酰基己基、甲苯基膦酸酯基己基、膦酰氧基丙基、膦酸酯氧基丁基、苄基、苯乙基、α-甲基苄基、1-甲基-1-苯基乙基、对甲基苄基、肉桂基，烯丙基、1-丙烯基甲基、2-丁烯基、2-甲基烯丙基、2-甲基丙烯基甲基、2-丙炔基、2-丁炔基和3-丁炔基。

由R₁、R₂和R₃中任何一个表示的芳基的优选实例包括由一至三个苯环形成的稠环和由苯环和5元不饱和环形成的稠环。其具体实例包括苯基、萘基、蒽基、菲基、茚基、苊基和芴基。在它们之中，更优选苯基和萘基。

由R₁、R₂和R₃中任何一个表示的优选取代芳基的具体实例包括在上述芳基的成环碳原子上具有除氢原子以外的一价非金属原子团作为取代基的芳基。该取代基的优选实例包括上述烷基和取代的烷基，以及对上述取代的烷基所描述的取代基。优选的取代芳基的具体实例包括联苯基、甲苯基、二甲苯基、均三甲苯基、枯烯基、氯苯基、溴苯基、氟苯基、氯甲基苯基、三氟甲基苯基、羟基苯基、甲氧基苯基、甲氧基乙氧基苯基、烯丙氧基苯基、苯氧基苯基、甲硫基苯基、甲苯硫基苯基、乙基氨基苯基、二乙基氨基苯基、吗啉代苯基、乙酰氧基苯基、苯甲酰氧基苯基、N-环己基氨基甲酰氧基苯基、N-苯基氨基甲酰氧基苯基、乙酰基氨基苯基、N-甲基苯甲酰基氨基苯基、羧基苯基、甲氧基羰基苯基、烯丙氧基羰基苯基、氯苯氧基羰基苯基、氨基甲酰基苯基、N-甲基氨基甲酰基苯基、N，N-二丙基氨基甲酰基苯基、N-(甲氧基苯基)氨基甲酰基苯基、N-甲基-N-(磺基苯基)氨基甲酰基苯基、磺基苯基、磺酸酯基苯基、氨磺酰基苯基、N-乙基氨磺酰基苯基、N，N-二丙基氨磺酰基苯基、N-甲苯基氨磺酰基苯基、N-甲基-N-(膦酰基苯基)氨磺酰基苯基、膦酰基苯基、膦酸酯基苯基、二乙基膦酰基苯基、二苯基膦酰基苯基、甲基膦酰基苯基、甲基膦酸酯基苯基、甲苯基膦酰基苯基、甲苯基膦酸酯基苯基、烯丙基苯基、1-丙烯基甲基苯基、2-丁烯基苯基、2-甲基烯丙基苯基、2-甲基丙烯基苯基、2-丙炔基苯基、2-丁炔基苯基和3-丁炔基苯基。

由R₁、R₂和R₃中任何一个表示的取代或未取代的链烯基和取代或未取代的芳族杂环残基的优选实例包括对上述链烯基和杂芳基所描述的那些基团。

接着，下面将描述在式(1)中的A。A表示可以具有取代基的芳族环状基团或可以具有取代基的杂环基团。可以具有取代基的芳族环状基团或可以具有取代基的杂环基团的具体实例包括对式(1)中的R₁、R₂和R₃中的任何一个所描述的那些。

根据本发明的由式(1)表示的敏化染料通过上述酸性核或含活性甲基的酸性核与取代或未取代芳族环或杂环的缩合反应而获得，并且可以参考JP-B-59-28329来合成。

下面列出由式(1)表示的化合物的优选具体实例(D1)至(D42)。此外，当每一种化合物中存在关于连接酸性核和碱性核的双键的同分异构体时，不应该将本发明解释成限于任何一种同分异构体。

因为敏化染料根据其结构具有相互不同的吸收系数，所以加入量根据所用的敏化染料的结构而变化。其最佳量为这样的量，使得包含敏化染料的光敏层在激光发射波长的吸收率等于或小于0.6，优选在0.05至0.55的范围内，更优选在0.1至0.3的范围内，并且还更优选在0.1至0.45的范围内。

[光聚合引发剂]

现在，在下面描述混合到用于本发明的光敏层中的光聚合引发剂。可以从专利和文献中描述的各种已知的光聚合引发剂或两种或更多种光聚合引发剂的组合体系(光聚合引发体系)中，适当地选择混合到用于本发明的光敏层中的光聚合引发剂。在本发明中，单独使用的光聚合引发剂和两种或更多种光聚合引发剂的组合体系也统称为光聚合引发剂。

例如，在使用波长约为400nm的光作为光源的情况下，广泛使用苄基、苯甲酰基醚、米蚩酮、蒽醌、噻吨酮、吖啶、吩嗪、二苯甲酮和六芳基联咪唑化合物。

在使用波长等于或大于400nm的可见光作为光源的情况下，也提出了各种光聚合引发剂。例如，示例的有：某些光还原染料，例如如美国专利2,850,445中所述的玫瑰红、曙红或赤藓红；以及包含染料和光聚合引发剂的组合体系，例如如JP-B-44-20189中所述的包含染料和胺的复合引发剂体系，如JP-B-45-37377中所述的六芳基联咪唑、自由基生成剂和染料的组合体系，如JP-B-47-2528和JP-A-54-155292中所述的六芳基联咪唑和对二烷基氨基亚苄基酮的组合体系，如JP-A-48-84183中所述的环状顺式-α-二羰基化合物和染料的组合体系，如JP-A-54-151024中所述的环状三嗪和部花青染料的组合体系，如JP-A-52-112681和JP-A-58-15503中所述的3-苯并二氢呋喃酮(ketocoumarin)和活化剂的组合体系，如JP-A-59-140203中所述的联咪唑、苯乙烯衍生物和硫醇的组合体系，如JP-A-59-1504、JP-A-59-140203、JP-A-59-189340、JP-A-62-174203、JP-B-62-1641和美国专利4,766,055中所述的有机过氧化物和染料的组合体系，如JP-A-63-178105、JP-A-63-258903和JP-A-2-63054中所述的染料和活性卤素化合物的组合体系，如JP-A-62-143044、JP-A-62-150242、JP-A-64-13140、JP-A-64-13141、JP-A-64-13142、JP-A-64-13143、JP-A-64-13144、JP-A-64-17048、JP-A-1-229003、JP-A-1-298348和JP-A-1-138204中所述的染料和硼酸酯化合物的组合体系，以及如JP-A-2-179643和JP-A-2-244050中所述的具有绕丹宁环的染料和自由基生成剂的组合体系。

作为光聚合引发剂，特别优选六芳基联咪唑化合物。

作为六芳基联咪唑化合物，可以使用在例如欧洲专利24,629和107,792、美国专利4,410,621、欧洲专利215,453和德国专利3,211,312中描述的各种化合物。

六芳基联咪唑化合物的优选实例包括2，4，5，2’，4’，5’六苯基联咪唑、2，2’-双(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联咪唑、2，2’-(2-溴苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联咪唑、2，2’-双(2，4-二氯苯基)-4，4’，5，5’-四苯基联咪唑、2，2’-双(2-氯苯基)-4，5，4’，5’-四(3-甲氧基苯基)联咪唑、2，5，2’，5’-四(2-氯苯基)-4，4’-双(3，4-二甲氧基苯基)联咪唑、2，2’-双(2，6-二氯苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联咪唑、2，2’-双(2-硝基苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联咪唑、2，2’-二邻甲苯基-4，5，4’，5’-四苯基联咪唑、2，2’-双(2-乙氧基苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联咪唑和2，2’-双(2，6-二氟苯基)-4，5，4’，5’-四苯基联咪唑。

六芳基联咪唑化合物可以以其两种或更多种的混合物的形式使用。

基于100重量份下述可加成聚合化合物的总量，所用的六芳基联咪唑化合物的量通常在0.05至50重量份，优选0.2至30重量份的范围内。

可以将下述其它光聚合引发剂与六芳基联咪唑化合物一起使用。

还已知的是在需要时通过将给氢化合物例如硫醇化合物(例如，2-巯基苯并噻唑、2-巯基苯并咪唑或2-巯基苯并噁唑)或胺化合物(例如，N-苯基甘氨酸或N，N-二烷基氨基芳族烷基酯)加入上述光聚合引发剂中，另外提高光引发能力。作为具有适于本发明的特别高的光引发能力的给氢化合物，示例的有含巯基化合物。

给氢化合物的更优选实例包括由下面显示的式(2)或(3)表示的含硫化合物(含巯基杂环化合物)。在式(2)和(3)中，分别显示了互变异构体的结构。

在式(2)和(3)中，R₂、R₃和R₄各自独立地表示氢原子、取代或未取代的含1至18个碳原子的直链或支链烷基、取代或未取代的含5至20个碳原子的环状烷基、或芳族基团。取代基的实例包括卤原子、羟基、氨基、硫醇基、乙酰基和羧基。

下面列出由式(2)或(3)表示的化合物的具体优选实例(SH1)至(SH20)，但是不应该将本发明解释成限于此。下面显示的结构由互变异构体的含-SH基团结构表示。

由式(2)表示的化合物的具体实例：

由式(3)表示的化合物的具体实例：

相对于每摩尔加入的六芳基联咪唑化合物，以0.2至10.0摩尔的比率使用含巯基杂环化合物，以获得最佳结果。相对于每摩尔加入的六芳基联咪唑化合物，该比率优选为0.5至6.0摩尔，更优选为0.5至4.0摩尔。

[具有烯式不饱和双键的可加成聚合化合物]

可以从具有至少一个，优选两个或更多个烯式不饱和双键官能团的化合物中，适当地选择混合到用于本发明的光敏层中的具有烯式不饱和双键的可加成聚合化合物。

该化合物具有例如单体、预聚物(即二聚物、三聚物或低聚物)、其共聚物或其混合物的化学形态。

所述单体和共聚物的实例包括不饱和羧酸(例如，丙烯酸、甲基丙烯酸、衣康酸、巴豆酸、异巴豆酸或马来酸)和脂族多元醇化合物之间的酯以及不饱和羧酸和脂族多元胺化合物之间的酰胺。

脂族多元醇化合物和不饱和羧酸之间的酯单体的具体实例包括：

丙烯酸酯类，例如乙二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯、1，3-丁二醇二丙烯酸酯、丁二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三(丙烯酰氧基丙基)醚、三羟甲基乙烷三丙烯酸酯、己二醇二丙烯酸酯、1，4-环己二醇二丙烯酸酯、四甘醇二丙烯酸酯、季戊四醇二丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇二丙烯酸酯、二季戊四醇五丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、山梨醇三丙烯酸酯、山梨醇四丙烯酸酯、山梨醇五丙烯酸酯、山梨醇六丙烯酸酯、三(丙烯酰氧基乙基)异氰脲酸酯或聚酯丙烯酸酯低聚物；甲基丙烯酸酯类，例如丁二醇二甲基丙烯酸酯、三甘醇二甲基丙烯酸酯、新戊二醇二甲基丙烯酸酯、三羟甲基丙烷三甲基丙烯酸酯、三羟甲基乙烷三甲基丙烯酸酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、1，3-丁二醇二甲基丙烯酸酯、己二醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇二甲基丙烯酸酯、季戊四醇三甲基丙烯酸酯、季戊四醇四甲基丙烯酸酯、二季戊四醇二甲基丙烯酸酯、二季戊四醇六甲基丙烯酸酯、二季戊四醇五甲基丙烯酸酯、山梨醇三甲基丙烯酸酯、山梨醇四甲基丙烯酸酯、双[对-(3-甲基丙烯酰氧基-2-羟基丙氧基)苯基]二甲基甲烷或双-[对-(甲基丙烯酰氧基乙氧基)苯基]二甲基甲烷；衣康酸酯类、例如，乙二醇二衣康酸酯、丙二醇二衣康酸酯、1，3-丁二醇二衣康酸酯、1，4-丁二醇二衣康酸酯、丁二醇二衣康酸酯、季戊四醇二衣康酸酯或山梨醇四衣康酸酯；巴豆酸酯类、例如，乙二醇二巴豆酸酯、丁二醇二巴豆酸酯、季戊四醇二巴豆酸酯或山梨醇四(二巴豆酸酯)；异巴豆酸酯类、例如，乙二醇二异巴豆酸酯、季戊四醇二异巴豆酸酯或山梨醇四异巴豆酸酯；以及马来酸酯类、例如，乙二醇二马来酸酯、三甘醇二马来酸酯、季戊四醇二马来酸酯或山梨醇四马来酸酯。

此外，示例的有酯单体的混合物。

而且，脂族多元胺化合物和不饱和羧酸之间的酰胺单体的具体实例包括亚甲基双丙烯酰胺、亚甲基双甲基丙烯酰胺、1，6-亚己基双丙烯酰胺、1，6-亚己基双甲基丙烯酰胺、二亚乙基三胺三丙烯酰胺、亚二甲苯基双丙烯酰胺和亚二甲苯基双甲基丙烯酰胺。

而且，示例的有：如JP-A-51-37193中所述的氨基甲酸酯丙烯酸酯类；如JP-A-48-64183、JP-B-49-43191和JP-B-52-30490中所述的聚酯丙烯酸酯类；以及多官能丙烯酸酯类或甲基丙烯酸酯类，例如通过使环氧树脂与(甲基)丙烯酸反应获得的环氧丙烯酸酯类。此外，还可以使用在NipponSecchaku Kyokaishi(Joumal of Japan Adhesion Society)，第20卷，第7期，300至308页(1984)中描述的光固化性单体和低聚物。

具体而言，示例的有：NK OLIGO U-4HA、NK OLIGO U-4H、NKOLIGO U-6HA、NK OLIGO U-6ELH、NK OLIGO U-108A、NK OLIGOU-1084A、NK OLIGO U-200AX、NK OLIGO U-122A、NK OLIGO U-340A、NK OLIGO UA-324A和NK OLIGO UA-100(全部由Shin-NakamuraChemical Co.，Ltd.生产)；UA-306H、I-600、UA-101T、UA-101I、UA-306T和UA-306I(全部由Kyoeisha Chemical Co.，Ltd.生产)；ART RESINUN-9200A、RT RESIN UN-3320HA、RT RESIN UN-3320HB、RT RESINUN-3320HC、RT RESIN SH-380G、RT RESIN SH-500和ART RESINSH-9832(全部由Negami Chemical Industrial Co.，Ltd.生产)；以及PLEX6661-O(由Degussa AG，Germany生产)。

基于光敏层的所有组分，具有烯式不饱和双键的可加成聚合化合物的使用量优选在5至90重量％的范围内，更优选在20至75重量％的范围内。

[粘合剂聚合物]

在本发明中优选光敏层含有粘合剂聚合物。在本发明中用作粘合剂聚合物的优选材料是包含由下式(1)表示的重复单元的聚合物：

在式(1)中，X表示氧原子、硫原子或-NH-基团，Y表示氢原子、含1至12个碳原子的烷基、含5至12个碳原子的环状烷基或包含含6至20个碳原子的芳族环的基团，Z表示氧原子、硫原子或-NH-基团，并且R₁表示含1至18个碳原子的烷基、包含含5至20个碳原子的脂环族结构的烷基或包含含6至20个碳原子的芳族环的基团。

优选用于本发明的粘合剂聚合物不但起着光敏层的成膜剂的作用，而且需要溶于碱显影剂。具体而言，使用可溶或可溶胀于碱水中的有机聚合物作为粘合剂聚合物。此外，为了通过光聚合形成更牢固的膜，粘合剂聚合物更优选包括具有自由基加成/交联性质的重复单元。因此，粘合剂聚合物优选包括至少三种重复单元，除由式(1)表示的重复单元以外，还包括(a)赋予碱溶性的重复单元和(b)赋予自由基交联性质的重复单元。具体而言，用于本发明的粘合剂聚合物优选为以适当比率含有这三种组分的共聚物。

由式(1)表示的重复单元的具体实例包括下面显示的由(1-1)至(1-9)表示的结构。

将所有重复单元的数量作为100，由式(1)表示的重复单元的含量通常为1至40个单元，优选为3至25个单元，并且更优选为5至15个单元。

赋予碱溶性的重复单元(a)的具体实例包括下面显示的由(a-1)至(a-13)表示的结构。

将所有重复单元的数量作为100，赋予碱溶性的重复单元(a)的含量通常为5至50个单元，优选为5至25个单元，并且更优选为5至15个单元。

赋予自由基交联性质的重复单元(b)的具体实例包括下面显示的由(b-1)至(b-11)表示的结构。

将所有重复单元的数量作为100，赋予自由基交联性质的重复单元(b)的含量通常为5至90个单元，优选为20至85个单元，并且更优选为40至80个单元。

由式(1)表示的重复单元、重复单元(a)和重复单元(b)的优选组合的具体实例包括示于下表1中的组合(PP-1)至(PP-10)，但是不应该将本发明解释成限于此。

表1

编号	由式(1)表示的重复单元	重复单元(a)	重复单元(b)
编号	由式(1)表示的重复单元	重复单元(a)	重复单元(b)	PP-1	1-3	a-1	b-1
PP-2	1-3	a-1	b-8	PP-1	1-3	a-1	b-1
PP-2	1-3	a-1	b-8	PP-3	1-2	a-1	b-1
PP-4	1-2	a-1	b-8	PP-3	1-2	a-1	b-1
PP-4	1-2	a-1	b-8	PP-5	1-2	a-1	b-11
PP-6	1-9	a-5	b-1	PP-5	1-2	a-1	b-11
PP-6	1-9	a-5	b-1	PP-7	1-5	a-3	b-1
PP-8	1-5	a-3	b-8	PP-7	1-5	a-3	b-1
PP-8	1-5	a-3	b-8	PP-9	1-1	a-3	b-1
PP-10	1-1	a-5	b-8	PP-9	1-1	a-3	b-1
PP-10	1-1	a-5	b-8	PP-11	1-9	a-3	b-1

为了保持可光聚合光敏层的显影性能，优选使用的粘合剂聚合物具有适当的分子量。粘合剂聚合物的重均分子量优选为5,000至300,000，并且更优选为20,000至150,000。

可以将粘合剂聚合物以适当的量混合到光敏层中。当粘合剂聚合物的量超过光敏层的90重量％时，考虑到形成的图像的强度，在一些情况下得不到优选的结果。因此，所述量基于光敏层优选为10至90重量％、并且更优选为30至80重量％。

[能够吸收波长为激光发射波长±50nm的光的染料或颜料]

根据本发明，光敏层含有能够吸收波长为激光发射波长±50nm的光的染料或颜料。然而，这种染料或颜料不同于所述的敏化染料，并且不具有将能量传输给光聚合引发剂的功能。

只要是能够吸收波长为激光发射波长±50nm的光的染料或颜料，对上述染料或颜料没有特别限制。优选在激光发射波长±50nm的波长范围内具有吸收最大值的染料或颜料，更优选在激光发射波长±20nm的波长范围内具有吸收最大值的染料或颜料，并且还更优选在与激光发射波长相同的波长具有吸收最大值的染料或颜料。

根据本发明，通过发射350至450nm的光的蓝或紫外区激光曝光是特别适宜的，并且作为与激光相应的染料或颜料，优选加入黄色染料或颜料。

黄色染料的实例包括黄色酸性染料。黄色染料的具体实例包括在Senryo Binran和C.I.酸性黄的组中描述的酸性染料。其特别优选的实例包括C.I.酸性黄17、C.I.酸性黄19、C.I.酸性黄23、C.I.酸性黄38、C.I.酸性黄42、C.I.酸性黄61、C.I.酸性黄72和C.I.酸性黄141。

还优选使用下面列出的染料。

黄色颜料的实例包括Novoperm Yellow H2G，Seikafast Yellow 2200、Seikafast Yellow 2300、Seikafast Yellow、HOSTACOPY Y501、Yellow masterbatch、PV Fast Yellow HG、Novoperm Yellow P-HG和Novoperm YellowM2R。

通过使用上述染料或颜料，获得防止因激光的反射光或散射光而在阴影区中填充网点(dot)的作用，并且可以得到一种光聚合型光敏平版印刷版原版，所述光聚合型光敏平版印刷版原版适于高清晰度或以上的AM丝网印刷或FM丝网印刷，并且特别是在使用FM网屏的情况下，在网版区域中的网点的均匀性方面是优异的。

基于光敏层的重量，加入光敏层中的染料或颜料的量优选等于或大于0.01重量％，更优选等于或大于0.05重量％。而且，出于保持到达光敏层的光量并且将感光度保持在优选范围内的观点，加入的染料或颜料的量优选等于或小于10重量％，更优选等于或小于5重量％。

适宜的是除上述碱性组分以外，还将少量热聚合抑制剂加入用于本发明的光敏层中，以防止具有烯式不饱和双键的可加成聚合化合物在用于形成光敏层的组合物(光聚合型光敏组合物)的生产或保存过程中经历不需要的热聚合。适合的热聚合抑制剂的实例包括氢醌、对-甲氧基苯酚、二-叔丁基-对-甲酚、连苯三酚、叔丁基儿茶酚、苯醌、4，4’-硫代双(3-甲基-6-叔丁基苯酚)、2，2’-亚甲基双(4-甲基-6-叔丁基苯酚)、N-亚硝基苯胲铈(III)盐和N-亚硝基苯胲铝盐。基于组合物的所有组分，加入的热聚合抑制剂的量优选为约0.01至约5重量％。在需要时，为了防止由氧气引起的阻聚，可以加入高级脂肪酸衍生物，例如山嵛酸或山嵛酸酰胺，并且使其在涂布之后的干燥步骤中定位于光聚合型光敏层的表面上。基于光聚合型光敏组合物的所有组分，加入的高级脂肪酸衍生物的量优选为约0.5至约10重量％。

此外，可以加入着色剂以将光敏层着色。着色剂包括颜料，例如酞菁基颜料(例如，C.I.颜料蓝5:3、C.I.颜料蓝15:4或C.I.颜料蓝15:6)、偶氮基颜料、炭黑和二氧化钛；以及染料，例如乙基紫、结晶紫、偶氮染料、蒽醌基和花青基染料。基于光聚合型光敏组合物的所有组分，加入的着色剂的含量优选为约0.5至约5重量％。

此外，为了提高固化层的物理性能，可以加入添加剂，例如无机填料或增塑剂，例如邻苯二甲酸二辛酯、邻苯二甲酸二甲酯或磷酸三甲苯酯。基于光聚合型光敏组合物的所有组分，添加剂的量优选等于或小于10重量％。

此外，可以将表面活性剂加入用于形成光敏层的组合物中，以提高涂层的表面质量。表面活性剂的优选实例包括氟基非离子表面活性剂。

根据本发明，将光聚合型光敏组合物安置在载体上，所述载体在需要时经过以上详细描述的各种表面处理。在将光聚合型光敏组合物安置在载体上的情况下，可以将光敏组合物在将其溶于各种有机溶剂中之后使用。能够使用的溶剂的实例包括丙酮、甲基乙基酮、环己烷、乙酸乙酯、二氯乙烷、四氢呋喃、甲苯、乙二醇单甲醚、乙二醇单乙醚、乙二醇二甲醚、丙二醇单甲醚、丙二醇单乙醚、乙酰丙酮、环己酮、双丙酮醇、乙二醇单甲醚乙酸酯、乙二醇乙醚乙酸酯、乙二醇单异丙醚乙酸酯、乙二醇单丁醚乙酸酯、3-甲氧基丙醇、甲氧基甲氧基乙醇、二甘醇单甲醚、二甘醇单乙醚、二甘醇二甲醚、二甘醇二乙醚、丙二醇单甲醚乙酸酯、丙二醇单乙醚乙酸酯、乙酸3-甲氧基丙酯、N，N-二甲基甲酰胺、二甲亚砜、γ-丁内酯、乳酸甲酯和乳酸乙酯。所述溶剂可以单独或以其混合物的形式使用。在涂布溶液中的固体内容物的浓度适宜为1至50重量％。

根据干燥后的重量，光聚合型光敏平版印刷版原版的光敏层的涂布量优选在约0.1至约10g/m²的范围内，更优选在0.3至5g/m²的范围内，并且还更优选在0.3至5g/m²的范围内。

[保护层]

在上述光敏层上，通常安置隔氧保护层(外涂层)以避免氧气的阻聚功能。

根据本发明的保护层的涂布量优选在0.7至3.0g/m²的范围内。当涂布量小于0.7g/m²时，在一些情况下感光度可能降低，而当它超过3.0g/m²时，在一些情况下处理过程的负担可能增加。

隔氧保护层含有水溶性乙烯基聚合物。水溶性乙烯基聚合物的实例包括聚乙烯醇、其偏酯、醚或缩醛，以及其共聚物，它们含有用于提供水溶性所必需的大量未取代的乙烯醇单元。聚乙烯醇的实例包括水解至71至100％的程度并且聚合度在300至2,400的范围内的那些。具体而言，列举的有：全部由Kuraray Co.，Ltd.生产的PVA-105、PVA-110、PVA-117、PVA-117H、PVA-120、PVA-124、PVA-124H、PVA-CS、PVA-CST、PVA-HC、PVA-203、PVA-204、PVA-205、PVA-210、PVA-217、PVA-220、PVA-224、PVA-217EE、PVA-217E、PVA-220E、PVA-224E、PVA-405、PVA-420、PVA-613和L-8。所述共聚物包括每一种水解至88至100％的程度的聚乙烯基的乙酸酯氯乙酸酯或丙酸酯、聚乙烯醇缩甲醛和聚乙烯醇缩乙醛及其共聚物。其它有用的聚合物包括例如聚乙烯吡咯烷酮、明胶和阿拉伯树胶。所述聚合物可以单独或组合使用。

根据本发明，为了获得特别最佳的结果，优选使用水解度等于或大于95％的聚乙烯醇。

作为用于涂布根据本发明的光敏平版印刷版原版中的保护层的溶剂，尽管优选纯水，但是可以使用纯水与醇，例如甲醇或乙醇或酮，例如丙酮或甲基乙基酮的混合物。在涂布溶液中的固体内容物的浓度适宜为1至20重量％。可以将已知的添加剂，例如用于提高涂布性能的表面活性剂或用于提高涂层的物理性能的水溶性增塑剂加入根据本发明的保护层中。水溶性增塑剂的实例包括丙酰胺、环己二醇、甘油和山梨醇。而且，可以加入水溶性(甲基)丙烯酸类聚合物。

[制版方法]

现在，下面详细描述使用本发明的光敏平版印刷版原版的制版方法。对于光敏平版印刷版原版的曝光方法，考虑到波长特性和成本，优选使用AlGaInN半导体激光器(可商购的InGaN半导体激光器：5至30mW)作为光源。

曝光装置可以是内鼓系统、外鼓系统和平台系统中的任何一种。当使用的根据本发明的光敏平版印刷版原版的光敏层组分具有高的水溶性时，可以使光敏层可溶于中性水或弱碱性水，并且可以将具有这种构造的光敏平版印刷版原版装到印刷机上，然后在该机器上进行曝光和显影。在成像式曝光之后，在需要时，可以在曝光和显影之间加热光敏平版印刷版原版的整个表面。通过加热，加速光敏层中的成像反应，并且获得例如提高感光度和印刷耐久性以及感光度的稳定性的优点。为了提高图像强度和印刷耐久性，在显影后进行图像的整体后加热或整体曝光也是有效的。通常，优选在等于或低于150℃的温和条件下进行显影前的加热。当温度太高时，可能出现例如非图像区也有灰雾的问题。在显影后的加热中，使用很强烈的条件。温度通常在200至500℃的范围内。当温度太低时，不能获得足够的图像加固功能，而当它太高时，可能出现例如载体的退化和图像区的热分解的问题。

(显影剂)

对在平版印刷版原版的制版方法中使用的显影剂没有特别限制，并且例如，优选使用含有无机碱盐和非离子表面活性剂并且pH为11.0至12.5的溶液。

可以适当地使用无机碱盐。其实例包括无机碱性试剂，例如氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化铵、氢氧化锂、硅酸钠、硅酸钾、硅酸铵、硅酸锂、三代磷酸钠、三代磷酸钾、三代磷酸铵、碳酸钠、碳酸钾、碳酸铵、碳酸氢钠、碳酸氢钾、碳酸氢铵、硼酸钠、硼酸钾和硼酸铵。所述无机碱盐可以单独或以它们的两种或更多种的组合形式使用。

在使用硅酸盐的情况下，可以通过选择二氧化硅(SiO₂)与碱性氧化物(M₂O(其中M表示碱金属或铵基))的混合比及其浓度，即硅酸盐的组分的混合比及其浓度，容易地调节显影性能。在碱性水溶液中，优选氧化硅(SiO₂)与碱性氧化物(M₂O)的混合比(SiO₂/M₂O摩尔比)为0.5至3.0的碱性水溶液，并且更优选SiO₂/M₂O摩尔比为1.0至2.0的碱性水溶液。基于碱性水溶液的重量，加入的SiO₂/M₂O的总量优选为1至10重量％，更优选为3至8重量％，并且最优选为4至7重量％。当所述量等于或大于1重量％时，显影性能和处理能力不劣化，而当它等于或小于10重量％时，沉淀物和晶体的形成得到抑制，并且防止在中和显影剂的废液时的凝胶化，从而在废液处理时没有引起问题。

而且，可以辅助使用有机碱性试剂以精确地调节碱浓度并且有助于溶解光敏层。有机碱性试剂的实例包括一甲胺、二甲胺、三甲胺、一乙胺、二乙胺、三乙胺、一异丙基胺、二异丙基胺、三异丙基胺、正丁胺、一乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、一异丙醇胺、二异丙醇胺、吖丙啶、1，2-乙二胺、吡啶和氢氧化四甲基铵。所述有机碱性试剂可以单独或以它们的两种或更多种的组合形式使用。

适当地使用表面活性剂。其实例包括非离子表面活性剂，例如具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂、聚氧乙烯烷基酯(例如，聚氧乙烯硬脂酸酯)，失水山梨糖醇烷基酯(例如，失水山梨糖醇单月桂酸酯、失水山梨糖醇单硬脂酸酯、失水山梨糖醇二硬脂酸酯、失水山梨糖醇一油酸酯、失水山梨糖醇倍半油酸酯或失水山梨糖醇三油酸酯)和甘油一酸酯烷基酯(例如，甘油单硬脂酸酯或甘油单油酸酯)；阴离子表面活性剂，例如烷基苯磺酸盐(例如，十二烷基苯磺酸钠)、烷基萘磺酸盐(例如，丁基萘磺酸钠、戊基萘磺酸钠、己基萘磺酸钠或辛基萘磺酸钠)、烷基硫酸盐(例如，月桂基硫酸钠)、烷基磺酸盐(例如，十二烷基磺酸钠)和磺基琥珀酸酯盐(例如，二月桂基磺基琥珀酸钠)；以及两性表面活性剂，例如烷基甜菜碱(例如，月桂基甜菜碱或硬脂基甜菜碱)和氨基酸。特别优选具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂。

作为具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂，优选使用具有由式(I)表示的结构的化合物。

R40-O-(R41-O)_pH (I)

在式(I)中，R40表示可以具有取代基的含3至15个碳原子的烷基、可以具有取代基的含6至15个碳原子的芳族烃基、或可以具有取代基的含4至15个碳原子的杂芳族环基。该取代基的实例包括含1至20个碳原子的烷基；卤原子，例如Br、Cl或I；含6至15个碳原子的芳族烃基；含7至17个碳原子的芳烷基；含1至20个碳原子的烷氧基；含2至20个碳原子的烷氧基羰基；以及含2至15个碳原子的酰基。R41表示可以具有取代基的含1至100个碳原子的亚烷基。该取代基的实例包括含1至20个碳原子的烷基和含6至15个碳原子的芳族烃基。p表示1至100的整数。

在式(I)的定义中，“芳族烃基”的具体实例包括苯基、甲苯基、萘基、蒽基、联苯基和菲基，并且“杂芳族环基”的具体实例包括呋喃基、噻吩基(thionyl)、噁唑基、咪唑基、吡喃基、吡啶基、吖啶基、苯并呋喃基、苯并噻吩基(benzothionyl)、苯并吡喃基、苯并噁唑基和苯并咪唑基。

而且，在式(I)中的(R41-O)_p部分可以包含两或三种基团至满足上述定义的程度。具体而言，可以举例说明下列组合的无规或嵌段链：乙烯氧基和丙烯氧基的组合、乙烯氧基和异丙烯氧基的组合、乙烯氧基和丁烯氧基的组合和乙烯氧基和异丁烯氧基的组合。在本发明中，具有聚氧化烯醚基的表面活性剂单独或以其组合的形式使用。将所述表面活性剂以1至30重量％，优选2至20重量％的量有效地加入显影剂中。当所述量太小时，显影性能可能减低。相反，当它太大时，显影的损害可能增加，并且得到的印刷版的印刷耐久性可能降低。

由式(I)表示的具有聚氧化烯醚基的非离子表面活性剂的实例包括聚氧乙烯烷基醚，例如聚氧乙烯月桂基醚、聚氧乙烯鲸蜡基醚或聚氧乙烯硬脂基醚；聚氧乙烯芳基醚，例如聚氧乙烯苯基醚或聚氧乙烯萘基醚；以及聚氧乙烯烷基芳基醚，例如聚氧乙烯甲基苯基醚、聚氧乙烯辛基苯基醚或聚氧乙烯壬基苯基醚。

所述表面活性剂可以单独或以其组合的形式使用。而且，根据活性成分，在显影剂中使用的表面活性剂的量优选在0.1至20重量％的范围内。

对在根据本发明的光敏平版印刷版原版的制版中使用的显影剂的pH没有特别限制，并且它优选为11.0至12.7，并且更优选为11.5至12.5。当pH等于或大于11.0时，图像的形成确定地进行，而当它等于或小于12.7时，防止过度显影，并且曝光区不遭到显影所引起的损害，

此外，显影剂的电导率优选为3至30mS/cm。当电导率等于或大于3mS/cm时，在载体表面上的光聚合型光敏层的溶解可以确定地进行以防止在印刷时产生污渍，而当它等于或小于30mS/cm时，因为盐浓度不太高，所以光聚合型光敏层的溶解速率没有变得极低，从而防止在未曝光区中的残留层的出现。电导率特别优选在5至20mS/cm的范围内。

在0至60℃，优选约15至40℃的温度下，以常规方式，例如通过将曝光的光敏平版印刷版原版浸渍在显影剂中，并且用刷将其摩擦，进行根据本发明的光敏平版印刷版原版的显影。

此外，在使用自动显影机进行显影处理的情况下，因为根据处理的量显影剂变得疲劳，所以可以通过使用显影剂或新鲜的显影剂恢复处理能力。

如例如JP-A-54-8002、JP-A-55-115045和JP-A-59-58431中所述，使用洗涤水、含有例如表面活性剂的漂洗溶液、或含有例如阿拉伯树胶或淀粉衍生物的油减感溶液将如此显影处理的光敏平版印刷版原版进行后处理。在根据本发明的光敏平版印刷版原版的后处理中，可以将这些处理组合使用。

通过根据JP-A-2000-89478中所述的方法进行后曝光处理或者进行热处理，例如烘焙，可以改善根据上述处理如此获得的印刷版。

将如此获得的平版印刷版安放于胶印机上以用于印刷大量纸张。

实施例

将参考下列实施例更详细地描述本发明，但是不应该将本发明解释成限于此。

实施例1至7

[载体实施例1]

(载体1：阳极化铝载体)

使用第8号尼龙刷和含有800目浮石的水悬浮液将0.30-mm厚的1S材料的铝版在其表面粒化，然后使用水将其彻底洗涤。将该版在70℃的10％氢氧化钠水溶液中浸渍60秒以蚀刻，随后使用流动水洗涤，用20％HNO₃水溶液中和，然后用水洗涤。然后使用交替正弦波形的电流，在300库仑/dm²的阳极时间电能时VA＝12.7V下的条件下，将该版在1％硝酸水溶液中进行电解表面粗糙化处理。测量表面粗糙度并且发现它是0.45μm(按Ra)。随后，将该版浸渍于30％H₂SO₄水溶液中以在55℃去污2分钟。然后，在阴极放置到粒化表面的情况下，将该版在33℃的20％H₂SO₄水溶液中以5A/dm²的电流阳极化50秒，以形成厚度为2.6g/m²的阳极氧化物膜。得到的版称为载体1。

(载体2)

使用刮棒涂布机将下面显示的聚合物(SP1)的底涂层溶液涂布在载体1上，使其具有2mg/m²的干涂布量，随后在80℃干燥20秒以制备载体2。

<底涂层溶液>

下面显示的聚合物(SP1) 0.3g

纯水 60.0g

甲醇 939.7g

聚合物(SP1)的结构式：

使用刮棒涂布机将具有下面显示的组分的光敏组合物涂布在载体2上，随后在90℃干燥1分钟。在干燥后的光敏组合物的重量为1.35g/m²。

作为粘合剂聚合物，使用示于表1中的PP-3。作为敏化染料，使用在上述具体实例中显示的(D40)。作为含巯基杂环化合物，使用在上述具体实例中显示的(SH8)。

<光聚合型光敏组合物>

PLEX 6661-O(由Degussa AG生产) 1.69重量份

粘合剂聚合物PP-3 1.87重量份

敏化染料(D40) 0.13重量份

BIMD(六芳基联咪唑，由Kurogane Kasei Co.，Ltd.生产)0.46重量份

ε-酞菁(F1)分散体(25％MEK分散体) 1.70重量份

含巯基杂环化合物(SH8) 0.34重量份

氟基非离子表面活性剂 0.03重量份

(Megafac F-780F，由Dainippon Ink and Chemicals，Inc.生产)

Cupferron AL 0.12重量份

(由Wako Pure Chemical Industries，Ltd生产)

(10％磷酸三甲苯酯溶液)

甲基乙基酮 27.0重量份

丙二醇单甲醚 26.7重量份

示于表2中的黄色染料或颜料(示于表2中的重量份)

在光聚合型光敏组合物中，使用的ε-酞菁(F1)是由下面显示的化学式举例说明的化合物。粘合剂聚合物PP3具有从左开始的10∶14∶76的重复单元的摩尔比和90,000的重均分子量。BIMD是由下面显示的化学式举例说明的化合物。

ε-酞菁(F1)：

BIMD：

使用刮棒涂布机将具有下面显示的组成的用于保护层的水溶液涂布在光敏层上，使其具有2.5g/m²的干涂布量，随后在120℃干燥1分钟。因此，分别制备示于表2中的光敏平版印刷版原版。

PVA105(皂化度：98摩尔％，由Kuraray Co.，Ltd.生产)1.80重量份

聚乙烯吡咯烷酮 0.04重量份

EMALEX 710 0.40重量份

(非离子表面活性剂，由Nihon-Emulsion Co.，Ltd.生产)

Pionin D230(由Takemoto Oil&Fat Co.，Ltd.生产) 0.05重量份

Luviskol V64W(由BASF AG生产) 0.06重量份

具有下面显示的结构的含磺酸基聚合物的13％水溶液 0.36重量份

纯水 36.0重量份

(网点的不均匀性的评价)

将光敏平版印刷版原版切割成长700mm并且宽500mm的一片，并且装到紫色半导体激光定位器Vx9600(InGaN半导体激光器：405nm±10nm发射/输出：30mW，由FUJI Film Electronic Imaging，Ltd.生产)中，并且在其上，使用FM网屏(TAFFETA 20，由Fuji Photo Film Co.，Ltd.生产)，以90μJ/cm²的曝光量和2,438dpi的分辨率绘制35％的网点。将曝光的光敏平版印刷版原版自动传送到连接的自动显影机(LP1250PLX)(配备有刷子)，并且将它在100℃加热10秒，用水洗涤以除去保护层，并且在28℃连续进行20秒显影处理。使用的显影剂是通过用水将显影剂DV-2(由Fuji Photo FilmCo.，Ltd.生产)稀释五倍制备的溶液。在漂洗槽中用水将显影的版洗涤，并且将其传送到涂胶槽中，所述涂胶槽容纳有通过用水将胶液FP-2W(由FujiPhoto Film Co.，Ltd.)稀释两倍制备的溶液。在涂胶之后，将版用热空气干燥并且卸下以获得具有绘制的网点的平版印刷版。使用CC-dot以水平和垂直10cm的间隔在24个点测量平版印刷版的网点的面积比，并且确定最大值和最小值之间的面积差(δ点)。结果示于下表2中。

(阴影区的分布的评价)

将光敏平版印刷版原版切割成长700mm并且宽500mm的五片，并且在五片中的每一片上每隔1％绘制AM网屏200线的95％至99％的网点的每一个，随后使用如上所述的相同曝光机和显影机的显影处理。使用放大率为25的放大镜目测平版印刷版上的网点图像，并且确定其中网点在整个表面上清楚地再现的版的网点百分比的最大值。该值越大，阴影区的再现越好。获得的结果示于表2中。

比较例1

以与实施例1中相同的方法制备平版印刷版原版，不同之处在于排除作为黄色染料的Aurin，并且以与上述相同的方法评价。获得的结果示于表2中。

表2

	黄色染料或颜料	吸收最大波长(nm)	加入量	网点的不均匀性的评价(δ点)	阴影区的分布的评价
	黄色染料或颜料	吸收最大波长(nm)	加入量	网点的不均匀性的评价(δ点)	阴影区的分布的评价	实施例1	Aurin	459	0.05重量份	2.5	98％
实施例2	Disperse Yellow 3	367	0.05重量份	2.0	98％	实施例1	Aurin	459	0.05重量份	2.5	98％
实施例2	Disperse Yellow 3	367	0.05重量份	2.0	98％	实施例3	4-羟基偶氮苯-2’-甲酸	432	0.05重量份	2.0	99％
实施例4	Novoperm Yellow H2G(25％MEK分散体)	455	0.20重量份	1.5	99％	实施例3	4-羟基偶氮苯-2’-甲酸	432	0.05重量份	2.0	99％
实施例4	Novoperm Yellow H2G(25％MEK分散体)	455	0.20重量份	1.5	99％	实施例5	Seikafast Yellow 2200(25％MEK分散体)	388	0.20重量份	2.0	98％
实施例6	Seikafast Yellow 2400B(25％MEK分散体)	372	0.20重量份	1.5	98％	实施例5	Seikafast Yellow 2200(25％MEK分散体)	388	0.20重量份	2.0	98％
实施例6	Seikafast Yellow 2400B(25％MEK分散体)	372	0.20重量份	1.5	98％	实施例7	HOSTACOPY Y501(25％MEK分散体)	440	0.20重量份	2.0	99％
比较例1	没有	-	-	6.5	95％	实施例7	HOSTACOPY Y501(25％MEK分散体)	440	0.20重量份	2.0	99％

从示于表2中的结果，可以看出通过将黄色染料或颜料加入到光敏层中，抑制了网点和阴影区的分布的不均匀性，并且抑制了泄漏光，例如闪光的影响。

本申请基于2006年9月29日提交的日本专利申请JP 2006-268603，该日本专利申请的全部内容通过引用结合在此，如同在此全部列出一样。

尽管在上面描述了本发明的优选实施方案及其改进，但是本领域技术人员应该理解在不偏离本发明的范围和精神的情况下，可以在这些优选的实施方案中进行其它的变化和修改。