CN101104369B - 一种真空镀膜成图方法、专用设备及制品 - Google Patents
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Abstract
本发明公开了一种真空镀膜成图方法，其特征在于，其包括如下步骤：(1)制备、清洁玻璃胚体；(2)在该玻璃胚体需要成图的部位，进行成图预处理；(3)将胚体真空镀膜；(4)将胚体成图部位镂空成图。本发明还提供了一种用来实现权前述的真空镀膜成图方法的设备；及采用前所述方法的制品。本发明的优点在于：由于本发明提供的方法，可以直接在镀膜层上获得图案，且获得的图案精度高、效果好；本发明提供的专用设备，可以一次同时对多个制品进行镀膜操作，生产效率高；本发明提供的制品，其艺术效果好、耐用，镂空图案立体感强、仿真度高，且不易变形或损坏。
Description
技术领域
本发明涉及工艺品制造技术，具体的涉及制备各种工艺品的一种真空镀膜成图方法、专用设备及制品。
背景技术
目前，现有的在塑料、玻璃等制品表面镀膜并获得图案方法，一般是先对制品表面进行完全镀膜，然后再采用印刷、腐蚀等方法值得图案。如中国200610170656.3号专利申请，即公开了一种利用在基材表面形成激光图案的真空镀膜设备、方法及制成品，其主要是将聚碳酸酯基材或压克力基材放入真空镀膜设备中，将氧化硅及氧化钛蒸镀在基材表面形成镀膜层，再将已蒸镀完成的基材，以印刷方式布设图样层在基材另一表面，并在镀膜层上布设一颜色层；由上述方法所完成的产品，当基材透过光线照射，因镀膜层将光线折射，而会呈现不同的色彩变化及光影折射的视觉效果。这种方法，不能快速、精确、环保地获得镂空图案。
在目前常用的蒸镀、溅镀、分子束外延等真空镀膜方法镀膜方法中，其镀膜设备通常大多使用单一固定的镀膜源，然而，这种设备一次仅能加工一个制品，其加工效率很低，不能满足大批量生产的需要。
现有的激光蚀刻技术，其一般是直接导入图案数据就进行蚀刻，而根据制品表面的曲度、粗糙度等数据，对该图案数据进行运算、调整，因而制得的图案会发生一些形变，精度较低、效果较差。
采用现有技术获得的制品，其镀膜层一般存在于制品的外侧表面，而在其内侧表面上镀膜、并在该镀膜上镂空成图的制品，还没有发现。
发明内容
针对现有镀膜及成图技术所存在的上述不足，本发明目的之一在于，提供成图精度高、效果好的真空镀膜成图方法；
本发明的目的之二在于，提供一种用来实现权前述的真空镀膜成图方法的设备；
本发明的目的还在于，提供一种采用前所述的真空镀膜成图方法的制品。
本发明为实行上述目的，所提供的技术方案是：
一种真空镀膜成图方法，其特征在于，其包括如下步骤：
(1)制备、清洁玻璃胚体；
(2)在该玻璃胚体需要成图的部位，进行成图预处理；
(3)将胚体真空镀膜；
(4)将胚体成图部位镂空成图。
前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(2)的成图预处理，是制备图案薄膜，并将其附着在胚体上需要成图的部位；
所述的步骤(4)，是将附着在所述胚体上的图案薄膜移除。
前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(2)，其还包括如下步骤：
(21)制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；
(22)将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空图案；
(23)除去所述薄膜。
所述的步骤(4)，是将喷涂在所述胚体上的蜡层，加热移除。
前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(2)，其还包括如下步骤：
(21)编程，将基本图案信息输入计算机；
(22)将该基本图案信息转换为矢量信息；
(23)根据胚体曲度及粗糙度，对该基本图案数据进行运算、调整。
所述的步骤(4)，是根据步骤(23)获得的数据，控制与计算机联机的激光蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体表面，成图。
前述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的步骤(1)还包括如下步骤：
(11)在所述玻璃胚体表面涂覆一层电镀油；
所述的步骤步骤(4)，还包括如下步骤：
(41)清理所述胚体，并在所述电镀层外部涂覆一层保护层。
前所述的真空镀膜成图方法，其特征在于，所述的胚体为一杯形，所述的成图部位为其内侧表面。
所述步骤(3)，是将所述胚体杯口向下，对其内侧表面镀膜。
一种实现前述的真空镀膜成图方法的专用设备，其包括相互扣合的上、下壳体，下壳体上设有电插座，其特征在于，该壳体中部设置有一水平托板，该托板上开有复数个通孔；下壳体底部设有一绝缘电路板，该电路板上端面对应所述通孔位置，分别设有复数个镀膜电加热架，且每一镀膜电加热架均穿过所述通孔并向上伸出；所述各电镀加热架的两端分别连接电源的一极，并联后连接在所述电插座上。
前述的实现真空镀膜成图方法的专用设备，其特征在于，所述的上或下壳体上，还设有一用来抽真空的开口；所述的上或下壳体之间的扣合面上，还设有密封圈。
一种采用前述的真空镀膜成图方法的制品，其包括一玻璃胚体，其特征在于，所述玻璃胚体的表面为曲面和/或毛面；在该表面上，设有至少一置有镂空图案的镀膜层。
前述的制品，其特征在于，在所述玻璃胚体的表面上，由内向外依次设有电镀油层、镀膜层、保护层。
本发明的优点在于：由于本发明提供的方法，可以直接在镀膜层上获得图案，且获得的图案精度高、效果好；本发明提供的设备，可以一次同时对多个制品进行镀膜操作，生产效率高；本发明提供的制品，其艺术效果好、耐用，镂空图案立体感强、仿真度高，且不易变形或损坏。
下面结结合附图与实施例，对本发明进一步说明。
附图说明
图1是本发明实施例1提供的设备全剖结构示意图；
图2是本发明实施例1提供的制品全剖结构示意图。
具体实施方式
实施例1：参见图1，本实施例提供的一种真空镀膜成图方法，其包括如下步骤：
(1)制备、清洁杯形的玻璃胚体，并在所述玻璃胚体内侧表面涂覆一层电镀油；
(2)在该玻璃胚体需要成图的内侧表面部位，进行成图预处理：制备图案薄膜，并将其附着在胚体上需要成图的部位；
(3)将胚体放入镀膜设备中进行真空镀膜：将所述胚体杯口向下，对其内侧表面镀膜；
(4)将胚体成图的内侧表面部位镂空成图：将附着在所述胚体内侧表明上的图案薄膜移除；然后清理所述胚体，并在所述电镀层外部涂覆一层保护层。
参见图1，一种实现前述的真空镀膜成图方法的设备，其包括相互扣合的上壳体2、下壳体1，下壳体1上设有电插座，该壳体中部设置有一水平托板3，该托板3上开有复数个通孔4；下壳体1底部设有一绝缘电路板7，该电路板7上端面对应所述通孔位置，分别设有复数个镀膜电加热架6，且每一镀膜电加热架6均穿过所述通孔4并向上伸出；所述各电镀加热架6的上部为一钨丝5，其两端分别连接电源的一极，并联后连接在所述电插座上。上壳体2或下壳体1上，还设有一用来抽真空的开口；上壳体2或下壳体1之间的扣合面上，还设有密封圈8。
参见图2，一种采用前述的真空镀膜成图方法的制品，其包括一玻璃胚体10，该胚体10的内侧表面为一曲面和毛面；在该表面上，设有一置有镂空图案的镀膜层12；在该内侧表面上，由内向外依次设有一电镀油层11、镀膜层12(含镂空图案)、保护层13；其保护层13为一油漆等有机化合物涂层，且可以为有色或无色。
实施例2：本实施例提供的一种真空镀膜成图方法，其基本步骤与实施例1相同，其不同之处在于，步骤(2)所述的成图预处理，其包括如下步骤：
(21)制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；
(22)将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空图案；
(23)除去所述薄膜。
步骤(4)，所述的镂空成图，是将喷涂在所述胚体上的蜡层，加热移除，使镀在腊层上的镀膜一并脱落，形成镂空图案。
实施例3：本实施例提供的一种真空镀膜成图方法，其基本步骤与实施例1相同，其不同之处在于，所述的步骤(2)，其还包括如下步骤：
(21)编程，将基本图案信息输入计算机；
(22)将该基本图案信息转换为矢量信息；
(23)根据胚体曲度及粗糙度，对该基本图案数据进行运算、调整，使其蚀刻在胚体上的图案精度与效果，与基本图纸最接近；
所述的步骤(4)，是根据步骤(23)获得的数据，控制与计算机联机的激光蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体表面，成图。
根据本发明上述实施例所述，具备与本实施例相同或相似技术特征的真空镀膜成图方法、设备及制品，均在本发明保护范围内。
Claims (4)
1.一种真空镀膜成图方法，其特征在于，其包括如下步骤：
(1)制备、清洁玻璃胚体，其还包括以下步骤：
(11)在所述玻璃胚体表面涂覆一层电镀油；
(2)在该玻璃胚体需要成图的部位，进行成图预处理，其具体包括以下步骤：
(21)编程，将基本图案信息输入计算机；
(22)将该基本图案信息转换为矢量信息；
(23)根据胚体曲度及粗糙度，对该基本图案数据进行运算、调整；
(24)制备带有镂空图案的薄膜，并将其附着在胚体上；
(25)将所述薄膜及胚体表面均匀喷涂蜡层，使其覆盖所述镂空图案；
(26)除去所述薄膜；
(3)将胚体真空镀膜，其具体为：
(31)所述的胚体为一杯形，所述的成图部位为其内表面，将所述胚体杯口向下，对其内侧表面镀膜；
(4)将胚体成图部位镂空成图，其具体包括以下步骤：
(41)根据步骤(23)获得的数据，控制与计算机联机的激光蚀刻设备，用激光束扫描所述胚体表面，成图；
(42)将附着在所述胚体上的图案薄膜移除；
(43)将喷涂在所述胚体上的蜡层，加热移除；
(44)清理所述胚体，并在所述电镀层外部涂覆一层保护层。
2.一种实现权利要求1所述的真空镀膜成图方法的专用设备，其包括相互扣合的上、下壳体，下壳体上设有电插座，其特征在于，该壳体中部设置有一水平托板，该托板上开有复数个通孔；下壳体底部设有一绝缘电路板，该电路板上端面对应所述通孔位置，分别设有复数个镀膜电加热架，且每一镀膜电加热架均穿过所述通孔并向上伸出；所述各电镀加热架的两端分别连接电源的一极，并联后连接在所述电插座上。
3.根据权利要求2所述的实现真空镀膜成图方法的专用设备，其特征在于，所述的上或下壳体上，还设有一用来抽真空的开口；所述的上或下壳体之间的扣合面上，还设有密封圈。
4.一种采用权利要求1所述的真空镀膜成图方法的制品，其包括一玻璃胚体，其特征在于，所述玻璃胚体的表面为曲面和/或毛面；在该表面上，设有至少一置有镂空图案的镀膜层；所述玻璃胚体的表面上，由内向外依次设有电镀层、镀膜层、保护层。
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