CN101042530A - 平版印版的成像方法 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及用于平版印版(18)成像的方法，在该方法中，该平版印版(18)的覆盖有两亲分子(22)的表面(20)的部分面通过电磁辐射曝光。在该平版印版(18)曝光之后且在印刷该平版印版之前，用至少一种形成络合物的物质来处理这些部分面，由此得到一个被结构化成亲水区域(36)及疏水区域(38)的平版印刷面(18)。

Description

平版印版的成像方法
技术领域
本发明涉及用于平版印版成像的方法，在该方法中，该平版印版的覆盖有两亲分子的表面的部分面通过电磁辐射曝光。
背景技术
在具有覆盖了两亲分子的表面的平版印版成像时，典型地需要高的辐射功率、尤其是激光功率，以便直接通过能量输入实现结构化成亲水的(引导润湿剂的)区域及疏水的(接纳油墨的)区域，由此得到用于平版印刷的印刷面。
文献DE 10227054A1或US 2004/0007146A1中已公知了用于平版印刷的可重复使用且可重复写入的印版，这种印版具有一个带有两亲有机化合物、尤其是正十八烷-膦酸的印刷面。印刷面在其覆盖有两亲分子的区域中是疏水的。为了进行印刷面的成像，即产生亲水区域及疏水区域的图案，使一个覆盖有两亲化合物的自然氧化的金属表面、例如覆盖有正十八烷-膦酸的自然氧化的钛表面局部选择性地经受激光器的光束、例如在1100纳米波长时具有3瓦功率的钇搀杂的纤维激光器的光束处理，由此去除两亲分子，其中，露出金属表面的亲水区域。
覆盖有两亲分子的平版印版成像是基于：施加的激光辐射将表面加热，其中发生两亲分子的涂层或层的变化(例如通过热解)。高激光功率对于该方案的必要性取决于：供传统印版成像使用的、商业上可获得的二极管激光器技术或许出于成本原因或技术原因而不可使用。尤其是不可利用多个集成的二极管激光器进行可有利地提供的并行成像，由此对于成像需要相对多的时间消耗。
使用不同波长、例如830纳米波长的激光器，使用不同的两亲分子(不仅不同的衍生物而且不同的锚定基团)及通过例如影响导热性能、导温性能或具有确定波长的光的吸收性能来优化载体材料，这些也不能导致所述状况的实质性改变。
在可重复成像的覆盖有两亲分子的平版印版的再生方面，由文献DE 10 2005 020 558 A1公知：在用大气压等离子体处理前可进行印版表面的外部涂层的机械去除。该机械去除也可在附加地使用起化学或溶解作用的辅助剂的情况下进行。
在本说明书的意义上，对于平版印版的概念也理解为平版印版坯或平版印版母体，即，也理解为未结构化成亲水区域及疏水区域的或无图案的印版。
发明内容
本发明的任务在于，提供一种用于平版印版成像的方法，在该方法中，印刷面结构化成亲水区域及疏水区域可用小的辐射功率、尤其是待成像表面上的小功率密度来实现。
根据本发明，该任务通过本发明的用于平版印版成像的方法来解决。本发明的有利的进一步构型属于本发明的技术方案。
在根据本发明的用于平版印版、尤其是胶印版成像的方法中，该平版印版的覆盖有两亲分子的表面的部分面通过电磁辐射曝光或处理或照射。在该平版印版曝光之后且在印刷该平版印版之前，用至少一种形成络合物的物质来处理这些部分面，由此得到一个被结构化成亲水的、尤其是排斥油墨的区域及疏水的、尤其是接纳油墨的区域的平版印刷面。
两亲分子尤其是两亲有机分子。可以有多个相互无联系的部分面。平版印版尤其可重复使用，即可多次地成像形成亲水区域及疏水区域并且这些区域可清除，由此可在印刷面上产生反复不同的结构(印刷题材)。在用形成络合物的物质处理后及处理前，在印刷面上仍可不具有亲水区域及疏水区域的结构或者亲水区域与疏水区域的浸润差别对于平版印刷来说仍可不足够地大。成像可被描述为形成具有不同浸润特性的面的图案，其中，具有或具有多个两亲分子的面形成与图像有关的区域，而无或具有少量两亲分子的面形成与图像无关的区域。只要在该用于成像的方法中控制及处理这些与图像无关的区域，该成像就可被称为负成像。在处理所述部分面时，所述表面的未由电磁辐射曝光的区域也可与形成络合物的物质接触，但其中与两亲分子或表面在这些区域中有可能产生的相互作用对根据本发明的结果无影响。该处理尤其可以是涂抹、喷射、浸润。所述结构化可根据待印刷的印刷题材、尤其待印刷的印刷层的分色来进行。
在本说明书的意义上，对于概念“覆盖”理解为：该表面具有两亲分子的涂层，尤其是两亲分子的分子涂层、单分子涂层或纳米涂层。两亲分子可被吸附在表面上。两亲分子尤其可通过亲水分子区域、锚定基团被表面吸附、接收或束缚。两亲分子可以是这样的分子，这些分子可形成自动排列的单层(自组装单分子层，SAM)。两亲分子可具有表面活性剂类型的结构。
在根据本发明的成像中，该结构化通过形成络合物的物质作用在所述表面的以前经受电磁辐射处理的部分区域上来实现。因为形成络合物的物质起到助溶作用或作为溶剂起作用，所以与通过电磁辐射的唯一作用去除两亲分子来成像相比，根据本发明仅需要有利地小的辐射功率、尤其是辐射产生装置的小输出功率。以此方式尤其可使用商业上可提供的多通道辐射产生装置、例如可单个控制的激光二极管条，如在海德堡印刷机股份公司的印版曝光机SuprasetterTM中所使用的。
在根据本发明的用于平版印版成像的方法中，可通过该形成络合物的物质尤其是在被辐射区域中的作用使这些部分面中的两亲分子的密度降低和/或使两亲分子从这些部分面去除和/或在这些部分面中被化学掩模。换句话说，根据本发明可实现该表面的先前经受电磁辐射处理的部分面中的两亲分子选择性地减少、去除或化学掩模，由此形成作为印版上的印刷面的、由亲水(具有足够少的有效的两亲分子)的区域及疏水(具有足够多的有效的两亲分子)的区域组成的图案。
优选在根据本发明的方法中，在曝光时在该表面上施加小于或等于2J/cm^2、优选小于或等于1.6J/cm^2的积分通量(Fluenz)和/或小于1000kW/cm^2、优选小于700kW/cm^2的功率。尤其是在根据本发明的方法中可借助于一个或多个激光器进行成像，所述激光器在光斑大小具有约10微米直径(1/e^2衰减)的情况下具有小于1瓦、尤其是小于500毫瓦的功率。该曝光可在成像速度为2.5m/s的情况下进行。
在本说明书的意义上，对于“形成络合物的物质”应理解为这样的物质，该物质可与一个或多个中心分子或中心原子或中心离子(中心粒子)形成分子复合物或原子复合物，在这些分子复合物或原子复合物中，通过围绕所述一个或多个中心粒子形成(未必绝对完整的)分子壳或分子基体可至少部分地、优选完全地抑制络合的中心粒子的确定的物理特性或化学特性。该中心粒子因此似乎被部分地或完全地掩模。这例如可引起该中心粒子的溶解性的改变并且由此引起在给定溶剂中该中心粒子的运动性的改变。形成络合物的物质本身在其它方面也可作为溶剂出现或是用于给定溶剂的助溶物质。简言之，形成络合物的物质包括中心粒子并且改变其化学特性。
在根据本发明的方法的具体实施形式中，该形成络合物的物质可以是极性介质或溶解在极性介质中，尤其是溶解在水中。该形成络合物的物质可被称为显影溶液。
优选在根据本发明的方法中，该形成络合物的物质的分子是配体，这些配体可与两亲分子和/或两亲分子的片段、尤其是两亲分子的通过光致离解形成的片段形成一个或多个配位键。
在本说明书的意义上，对于“配体”应理解为这样的形成络合物的物质，该形成络合物的物质可与一个或多个中心分子或中心原子或中心离子(中心粒子)形成键或相互作用，由此在确定的前提下(例如在确定的pH值或在确定的溶剂体系中)可形成键合的分子复合物或键合的原子复合物(络合物)。该络合物形成了新的或改变了的物理特性或化学特性。在该络合物中可围绕一个或多个适合的中心粒子排列一个或多个配体。在此情况下该键不必绝对是具有共价特性的化学键。络合键可为多键的或多重的，即配体不仅构成一个而且构成多个与络合的中心粒子的键。此外，多个配体也可同时与同一个中心粒子形成一个或多个键。这样形成的各个键或相互作用通常比共价键弱。简言之，配体配位地键合在中心粒子上。
在根据本发明的方法的一个优选实施形式中，该形成络合物的物质是形成络合物的寡糖或形成络合物的多糖。寡糖由可达100个的单糖组成，而多糖具有多于100个的单糖。糖类可为醛糖(多羟基醛)或为酮糖(多羟基酮)。形成络合物的物质尤其可以是阿拉伯树胶。例如以AgumO及AgumZ为名称的阿拉伯树胶由德国莎斯特的埃根-化学两合公司(Eggen-Chemie GmbH & Co.KG，31157 Sarstedt，Deutschland)销售。
在根据本发明的方法的一个作为替换方案的优选实施形式中，该形成络合物的物质是氨或柠檬酸或氨与柠檬酸的混合物，尤其溶解于水中。
在根据本发明方法的一个进一步构型中，这些部分面在用该形成络合物的物质处理期间经受一种弱酸、尤其是一种不具有氧化作用的酸处理。
优选在根据本发明的方法中，该电磁辐射是红外激光辐射。优选该红外激光辐射由一个或多个固体激光器或半导体激光器、尤其是二极管激光器产生。
此外或作为对此的替换方案，在根据本发明的方法中，可覆盖有两亲分子的该表面优选具有自然氧化的钛、铝、钢、锆、镁或这些金属的混合物或钛酸盐或锆酸盐。
此外或作为对此的替换方案，在根据本发明的方法中，两亲分子可以是一种用脂族残基或芳族残基取代的无机酸或有机酸。所述两亲分子尤其可以是异羟肟酸或羧酸或膦酸。此外，所述残基尤其可具有未被取代的或被取代的碳链，其中，碳原子的数目大于或等于6、优选大于或等于8、尤其是大于或等于12且小于或等于25。
对于通过本说明书提及的技术人员来说，显然该平版印版可以是如文献DE 102 27 054 A1与US 2004/0007146A1中所公开的印版。这些文献DE 102 27 054 A1与US 2004/0007136A1的所有公开内容通过参考而记录在本说明书的公开内容中。
附图说明
下面借助于下列附图及其说明来描述本发明的其它优点和有利的实施形式及进一步构型。附图分别表示：
图1根据本发明的方法的一个优选实施形式的流程图，
图2可用根据本发明的方法成像的平版印版的一个覆盖有两亲分子的表面的实施形式的示意性显微视图，
图3覆盖有两亲分子的表面在经受电磁辐射处理后的示意性显微视图的三个分图A、B及C，
图4对图3A中所示状况中的覆盖有两亲分子的表面用一种形成络合物的物质进行的处理的示意性显微视图，
图5对图3B中所示状况中的覆盖有两亲分子的表面用一种形成络合物的物质进行的处理的示意性显微视图及该应用的结果，
图6对图3B中所示状况中的覆盖有两亲分子的表面用一种作为替换方案的形成络合物的物质进行的处理的示意性显微视图及该应用的作为图5中所示状况的替换方案的结果，及
图7对图3C中所示状况中的覆盖有两亲分子的表面用一种形成络合物的物质进行的处理的示意性显微视图。
具体实施方式
图1表示根据本发明的方法的一个优选实施形式的流程图。对于平版印刷方法、尤其是胶版印刷方法，制备具有一个两亲分子涂层的表面、尤其是具有微观的两亲分子涂层、例如一个单层。该表面的后来成为印刷面的部分暂时不被结构化，即基本上均匀地且紧密地覆盖有两亲分子。通过该覆盖，由于两亲分子的背对该表面的疏水侧，印刷面基本上是均匀疏水的(对此也参见图2)。该原始状态可多次地重复建立，由此，下面描述的方法可多次用于不同的结构图案(印刷题材)。具有两亲分子的印版的制备10的详细情况可从刚才所述的并且记录在公开内容中的文献DE 102 27 054 A1或US 2004/0007146A1中获知。在该优选的实施形式中，该表面是一个自然氧化的钛表面，并且使用膦酸作为两亲分子。
根据本发明，在用于成像的该方法中用电磁辐射、在该实施形式中用激光辐射来对覆盖有两亲分子的印版进行曝光12。该曝光12选择性地、即仅在该表面的部分区域中根据待印刷的印刷题材、尤其是待印刷的分色以一个(两维的)图案进行。在此情况下，该表面、确切地说是两亲分子仅经受这样小的激光功率处理——例如使用具有仅几百毫瓦输出功率、优选100至300毫瓦输出功率的激光器，使得在两亲分子层中仅出现很小变化(对此也参见图3的分图)。此后并未形成用于平版印刷的曝光区域与未曝光区域之间足够大的接触角度差(用于亲水性或疏水性的量度)。
紧接着曝光12的、用形成络合物的物质进行的处理14才导致在表面的部分区域中通过激光辐射改变的两亲分子层这样强地变化，使得获得足够大的接触角度差。在该优选的实施形式中，该形成络合物的物质是阿拉伯树胶，作为对此的替代方案是柠檬酸、氨或由这两种物质组成的混合物的一克分子(einmolarig)水溶液。换句话说，该形成络合物的物质作为曝光12后存在的结构的一种显影剂或显影溶液，该结构相对于足够强的结构具有不足够强的浸润差别。对于专业人员来说清楚的是：只要两亲分子通过曝光12已被完全去除，就不需要该处理14。对于专业人员来说也清楚的是：为了实现从该表面的部分面选择性地去除两亲分子，该处理14本身不是足够的。在未曝光的区域中，即在未受到电磁辐射影响的区域中，两亲分子被过强地束缚在涂层中，以致这些两亲分子不能通过形成络合物的物质的唯一影响被去除。
以根据本发明的方式得到被结构化成亲水区域及疏水区域的印刷面。平版印版的印刷16可用传统方式进行。此后，必要时在清洗后，可进行印版的重新的制备10。换句话说，去除或清除该结构或亲水区域及疏水区域的图案并且使该表面转变到未结构化的原始状态中。
平版印版18、尤其是金属的印版的在图2中示意性地表示的优选实施形式具有一个(例如由于自然氧化)亲水的表面20，该表面覆盖有两亲分子22。优选这些两亲分子22构成一个自动排列的单层，但也可在平版印版18上存在由多层两亲分子22组成的一个多重层或涂层。两亲分子22具有亲水的锚定基团24及疏水的有机链26。一个两亲分子22可借助于疏水的锚定基团24束缚在、例如吸附在表面20上。两亲分子22优选这样定向，使得有机链26垂直地背离该表面。但对于这些两亲分子22的层或涂层作为印刷面的疏水的部分面的功能，该定向不是绝对必要的。
图3示意性地涉及三个分图A、B及C，用于显微地表示用电磁辐射处理或曝光后所述覆盖有两亲分子的表面。在一个覆盖有两亲分子的表面曝光后，这些两亲分子可被完全地、不完全地去除或未被去除。尤其是在被不完全去除的情况下，两亲分子可被电磁辐射损坏。并且两亲分子的定向可变化或排列的条理性可降低。
图3的分图A中示出了具有变稀的两亲分子层的平版印版18。换句话说，借助于起作用的电磁辐射将一部分两亲分子完整地、尤其是连同锚定基团一起去除。以此方式可降低表面的该区域的疏水性。但曝光区域与未曝光区域之间的疏水性的差别有可能不足以进行平版印刷过程。
图3的分图B中示出了平版印版18的表面20上的具有部分破坏的链26的两亲分子层30。锚定基团24仍束缚在表面上，而疏水的链通过电磁辐射的作用已被部分破坏或去除。在此状况下，疏水性也降低，亲水的锚定基团可从外部的背离表面的一侧至少部分地被接近并相对于极性介质如平版印刷过程中的润湿剂表现出相对大的相互作用。
在图3的分图C中可看到平版印版18的表面20上的具有部分脱离的锚定基团的两亲分子层32。这些锚定基团24完全地或部分地从表面20脱离，废料即很大程度上疏水的分子片段积聚在表面20上并且妨碍亲水的浸润特性。此外，在两亲分子包括它们的锚定基团被分离时可使平版印版18的金属基体的单个原子或离子与两亲分子一起被去除。
图3的三个分图A、B及C中示出的状况也可彼此共同组合或混合地出现在该表面的一个曝光的部分区域上。
对在部分面中通过电磁辐射曝光的表面进行的处理、即显影步骤具有其目的：在曝光的部位或区域上获得对于平版印刷过程足够的亲水性、相对于未曝光的区域足够的浸润差别，而不降低或限制油墨控制、未曝光的区域的疏水性。
在图4中可看到对图3A中所示的状况中的覆盖有两亲分子的表面用一种形成络合物的物质进行的处理的示意性显微视图。由于两亲分子22变稀，通过形成络合物的物质扩散到两亲分子的层中在化学上可接近锚定基团24。尤其是可与极性介质形成相互作用。形成络合物的物质的作用34通过图4中所示的箭头来指示。以此方式，锚定基团在平版印版18的(自然氧化的)金属的表面20上的键合通过化学反应、例如通过水解而破裂。与此相对，在两亲分子22的涂层或层紧密闭合的情况下，极化物质、尤其极性介质在立体或空间上不可能到达两亲分子22的锚定基团24并且不可能使这些两亲分子在表面20上的键合破裂。此外，化学上起作用的形成络合物的物质、即显影溶液由于变稀的层的疏水性降低而可使通过电磁辐射曝光的区域部分地浸润并且在那里使在其与表面20键合方面变弱的两亲分子去除。在此情况下，键合的变弱也仅通过缺陷、即通过两亲分子层中条理性的降低来产生，由此使该涂层失去其机械持久性。亲水性、换句话说是成像区域与非成像区域用油墨或水浸润的能力的区别由此由于溶剂分解与机械过程的组合而在这些区域中进一步提高，由此，该亲水性对于平版印刷过程已足够。
图4的下部分中示出了用形成络合物的物质处理平版印版18的结果。该表面20具有亲水区域36及疏水区域38，在这些疏水区域中仍具有两亲分子22的紧密的层。该表面与图像有关地或与题材有关地或与图案有关地被结构化。
图5示意性地示出了对图3B中所示的状况中的、平版印版18的覆盖有两亲分子的表面20用形成络合物的物质进行的处理及该应用的结果。被破坏的两亲分子22的部分地保留的锚定基团24被极性介质、尤其是形成络合物的物质浸润、必要时侵蚀或去除。在此情况下也可以溶解锚定基团24与表面20的金属原子或金属离子的络合化合物。其余的(未破坏的)变稀的两亲分子的去除可类似于参照图4描述的过程看出。如图5的下部分中示意性地表示的那样，当剩余的极性的锚定基团24未被去除时就得到了亲水性的提高。表面20具有亲水区域36及疏水区域38，在这些亲水区域中仍具有单个的亲水的锚定基团24，在这些疏水区域中仍具有两亲分子22的紧密的层。该表面与图像有关地或与题材有关地或与图案有关地被结构化。
图6涉及对图3B中所示的状态中的、平版印版18的覆盖有两亲分子的表面20用极性介质40中的作为替换方案的形成络合物的物质进行的处理及该应用的作为对图5中所示状况的替换方案的结果。被破坏的两亲分子22的部分地保留的锚定基团24被具有形成络合物的物质的极性介质浸润、有可能侵蚀或去除。在此情况下也可以溶解锚定基团24与表面20的金属原子或金属离子的络合化合物。其余的(未破坏的)变稀的两亲分子的去除可类似于参照图4描述的过程看出。如图6的下部分中示意性地表示的那样，当甚至剩余的极性的锚定基团24被一起去除时，得到亲水性更强的提高。表面20具有亲水区域36及疏水区域38，这些亲水区域不具有两亲分子和两亲分子的残基，在这些疏水区域中仍具有两亲分子22的紧密的层。该表面与图像有关地或与题材有关地或与图案有关地被结构化。
图7是对图3C中所示的状况中的覆盖有两亲分子的表面用极性介质40中的形成络合物的物质进行的处理的示意性显微视图。必须机械地或在溶解过程中从表面20去除废料。如在图7的下部分中示意性地表示的那样，表面20包括亲水区域36及疏水区域38，这些亲水区域仍具有束缚在表面20上的单个的变稀的两亲分子或锚定基团，在这些疏水区域中仍具有两亲分子22的紧密的层。该表面与图像有关地或与题材有关地或与图案有关地被结构化。
换句话说，作为形成络合物的物质或显影溶液使用(极性的)物质、尤其是介质，它们提高金属离子的溶解度(Lslichkeot)和/或使在两亲分子的层或涂层中形成的与表面的键合(络合键或共价键、尤其是缩合键)削弱或破裂，例如通过络合粒子的键合平衡的移位或通过共价键、尤其是缩合键的水解。在使用合适的形成络合物的物质或形成络合物的物质在一种介质中的溶液的情况下，具有两亲分子的可重复成像的表面上的通过电磁辐射产生的、浸润差别的弱结构可发展，即被增强。通过小辐射功率与湿化学处理的作用相结合而产生结构化的平版印版，其结果是选择性地提高成像的与非成像的区域或部分面相对于水的接触角行程。
参考标号清单
10印版的制备
12通过电磁辐射曝光
14用形成络合物的物质处理
16印版的印刷
18平版印版
20表面
22双亲分子
24锚定基团
26有机链
28变稀的双亲分子层
30具有部分地破坏的链的双亲分子层
32具有部分地脱离的链的双亲分子层
34形成络合物的物质的作用
36亲水区域
38疏水区域
40极性介质中的形成络合物的物质

Claims (14)

1.用于平版印版(18)成像的方法，在该方法中，该平版印版(18)的覆盖有两亲分子(22)的表面(20)的部分面通过电磁辐射曝光，其特征在于：在该平版印版(18)曝光之后且在印刷该平版印版之前，用至少一种形成络合物的物质来处理这些部分面，由此得到一个被结构化成亲水区域(36)及疏水区域(38)的平版印刷面(18)。
2.根据权利要求1的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：通过该形成络合物的物质的作用使这些部分面中的两亲分子(22)的密度降低和/或使两亲分子(22)从这些部分面去除和/或在这些部分面中被化学掩模。
3.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：在曝光时在该表面(20)上施加小于或等于2J/cm^2的积分通量和/或小于1000kW/cm^2的功率。
4.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：该形成络合物的物质是极性介质或溶解在极性介质中。
5.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：该形成络合物的物质的分子是配体，这些配体可与两亲分子和/或两亲分子的片段形成一个或多个配位键。
6.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：该形成络合物的物质是形成络合物的寡糖或形成络合物的多糖。
7.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：该形成络合物的物质是阿拉伯树胶。
8.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：该形成络合物的物质是氨或柠檬酸或氨与柠檬酸的混合物。
9.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：这些部分面在用该形成络合物的物质处理期间经受一种弱酸处理。
10.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：该电磁辐射是红外激光辐射。
11.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：可覆盖有两亲分子的该表面(20)具有自然氧化的钛、铝、钢、锆、镁或这些金属的混合物或钛酸盐或锆酸盐。
12.根据以上权利要求中一项的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：两亲分子是一种用脂族残基或芳族残基取代的无机酸或有机酸。
13.根据权利要求12的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：两亲分子是异羟肟酸或羧酸或膦酸。
14.根据权利要求12或13的用于平版印版(18)成像的方法，其特征在于：所述残基具有未被取代的或被取代的碳链，其中，碳原子的数目大于或等于6且小于或等于25。
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106457868A (zh) * 2014-06-05 2017-02-22 大日本印刷株式会社 印刷版、印刷版的制造方法、功能性元件的制造方法及印刷装置
CN107771128A (zh) * 2015-05-28 2018-03-06 深圳市中创绿印科技有限公司 与印刷相关的改进

Families Citing this family (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7841278B2 (en) * 2006-12-20 2010-11-30 Heidelberger Druckmaschinen Ag Method and apparatus for treating a re-imageable printing form, machine for processing printing material and method for treating a surface making contact with printing material

Family Cites Families (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH0768361B2 (ja) * 1989-03-10 1995-07-26 新技術事業団 薄膜又は薄片状材料の製造方法
US5164000A (en) * 1991-06-27 1992-11-17 Gamblin Rodger L Lithographic printing fountain solution
DE10121561A1 (de) 2001-05-03 2002-11-07 Heidelberger Druckmasch Ag Bebilderung und Löschung einer Druckform aus Polymermaterial mit Imid-Gruppen
DE10125545A1 (de) * 2001-05-23 2002-11-28 Heidelberger Druckmasch Ag Druckverfahren und Vorrichtung
JP3963730B2 (ja) * 2002-01-25 2007-08-22 パナソニック コミュニケーションズ株式会社 印刷版、印刷装置、及び印刷方法
DE10227054B4 (de) 2002-06-17 2013-01-03 Heidelberger Druckmaschinen Ag Wiederverwendbare Druckform, Druckwerk und Druckmaschine damit sowie Verfahren zur Bebilderung der Druckform
US6851366B2 (en) * 2002-06-17 2005-02-08 Heidelberger Druckmaschinen Ag Reusable printing form
US6844140B1 (en) 2003-12-29 2005-01-18 Kodak Polychrome Graphics Llc Method for reducing start up blinding in no-process lithographic printing plates
DE502005001936D1 (de) * 2004-07-16 2007-12-27 Heidelberger Druckmasch Ag Wiederverwendbare Druckform
US7318995B2 (en) * 2004-10-01 2008-01-15 Agfa Graphics Nv Method of making a negative-working lithographic printing plate
DE102005011192A1 (de) 2005-03-09 2006-09-28 Heidelberger Druckmaschinen Ag Verfahren und Vorrichtung zum Behandeln einer wiedergebilderbaren Druckform

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN106457868A (zh) * 2014-06-05 2017-02-22 大日本印刷株式会社 印刷版、印刷版的制造方法、功能性元件的制造方法及印刷装置
CN107771128A (zh) * 2015-05-28 2018-03-06 深圳市中创绿印科技有限公司 与印刷相关的改进
CN107771128B (zh) * 2015-05-28 2020-08-07 深圳市中创绿印科技有限公司 与印刷相关的改进

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