CN101023139A - 噻唑基－吡啶鎓染料用于光学数据记录的用途 - Google Patents

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Abstract

本发明涉及基于噻唑基－吡啶的染料(I)和(II)在光学层中用于光学数据记录，优选利用波长高达450nm的激光用于光学数据记录的用途。本发明还涉及能用蓝色激光的辐射记录和复制信息的一次性写入多次读出(WORM)型光学数据记录介质，该光学记录介质的光学层中使用基于噻唑基－吡啶类型的染料。本发明还涉及式(V)、(VI)或(VIII)的新的基于噻唑基－吡啶的染料。

Description

噻唑基-吡啶染料用于光学数据记录的用途
本发明涉及基于噻唑基-吡啶的染料在光学层中用于光学数据记录，优选利用波长高达450nm的激光用于光学数据记录的用途。
本发明还涉及能用蓝色激光的辐射记录和复制信息的一次性写入多次读出(WORM)型光学记录介质，其在光学层中使用基于噻唑基-吡啶的染料。
本发明还涉及新的基于噻唑基-吡啶的染料化合物。
近来，在二极管-激光光学存储器领域中有机染料已吸引了相当大的注意力。商业可记录光盘(CD-R)和可记录数字多用途光盘(DVD-R)可包含以酞菁、半菁、花菁和金属化偶氮结构为基础的许多染料作为记录层。这些染料适用于具有激光波长标准的各领域。其他对于染料介质的一般要求是强吸收性、高反射比、高记录灵敏度、低导热性以及光和热稳定性、存储持久性或无毒性。
对于工业应用来说，这些染料必须适于旋涂方法以制备薄膜，即其必须充分地可溶于旋涂方法中通常所用的有机溶剂中。
WORM(一次性写入多次读出)型和可擦除型光学记录介质在记录之前和之后通过检测由物理变形、光学特征的变化以及记录层的相和磁特性引起的反射率的改变来复制信息。
可记录光盘(CD-R)作为WORM型光学记录介质而普遍熟悉。近来，具有高达4.7千兆字节的增加的信息存储能力的数字多用途光盘(DVD)已经商业化。
DVD-R技术选定波长为630-670nm的红色二极管激光作为光源。从而，凹坑尺寸和轨道间隔可降低，与CD-R相比，信息存储容量增加高达6-8倍。
Blu-ray盘(Blu-ray盘是由Hitachi Ltd.、LG Electronics Inc.、Matsushita Electric Industrial Co.Ltd.、Pioneer Corporation、Royal PhilipsElectronics、Samsung Electronics Co.Ltd.、Sharp Corporation、SonyCorporation、Thomson Multimedia开发的标准)将是光学记录技术中的下一个里程碑。Blu-ray盘的新技术规范对于直径为12cm的盘增加高达27千兆字节/记录层的数据存储。通过采用波长为405nm的蓝色二极管激光(GaN或SHG激光二极管)，凹坑尺寸和轨道间隔可进一步降低，再次增加存储容量达数量级。
光学数据记录介质的组成在本领域中是已知的。光学数据记录介质通常包括底材和记录层-光学层。通常，有机聚合材料的盘或波状物(waver)用作底材。优选的底材为聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。底材必须提供高光学品质的均匀且均一的表面。光学层以高光学品质和所规定厚度的薄且均一的薄膜形式沉积于其上。最后，反射层(例如铝、金或铜)沉积在光学层上。
先进的光学数据记录介质可包括其他层，例如保护层、粘合层或另外的光学层。
为了提供光学层的薄且均一的薄膜，材料通常通过旋涂、真空蒸发、喷涂、辊涂或浸渍来沉积。工业上优选的方法是旋涂以形成厚度为约70nm到250nm的光学层。对于以旋涂方法的应用来说，光学层的材料必须高度可溶于有机溶剂中。
DE 1795369和US 3,703,577(American Cyanamid Company)公开了下式的化合物，特别是噻唑基-吡啶盐和唑基-吡啶盐，其合成及这些化合物用于降低温血动物的血糖水平的用途。
Figure A20058002950400101
US 4,571,402(Schering Corporation)公开了2-(4-吡啶基)噻唑衍生物，特别是羧酸酯、羧酰胺和硫代羧酰胺，其制备及其作为支气管扩张剂的用途。
Figure A20058002950400111
Kerr等(J.Am.Chem.Soc.82，1960，186)描述了取代的唑和噻唑的盐的形成。
Wallenfels等(Justus Liebigs Ann.Chem.621，1959，198)描述了溴化1-(2，6-二氯苄基)-4-(噻唑-2-基)吡啶盐的合成。
Figure A20058002950400112
令人惊讶地，已经发现如下所述的基于噻唑基-吡啶的染料在光学层中适合作为染料化合物用于光学数据记录介质中。
本发明因此涉及基于噻唑基-吡啶的染料在如下所述的包含基于噻唑基-吡啶的染料的光学层中的用途，并且涉及所述光学层用于光学数据记录介质的用途。
更具体来说，本发明涉及能用优选405nm的蓝色激光的辐射记录和复制信息的一次性写入多次读出(WORM)型光学数据记录介质，其在光学层中使用基于噻唑基-吡啶的染料。
本发明还涉及新的基于噻唑基-吡啶的染料化合物。
本发明提到包含至少一种式(I)或(II)的染料化合物的光学层：
Figure A20058002950400113
其中
R1表示直链或支链C1-12烷基；
R2至R5彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
R2和R3，
R4和R5，
R3和R4(仅对(II)来说)可形成饱和或不饱和碳环或杂环五元或六元环，所述杂环可另外含有氧或其他氮作为环成员。
R6和R7彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、直链或支链C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；直链或支链C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
直链或支链C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物
Figure A20058002950400131
其中R10-R13彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氟离子、溴离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有机阴离子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基(N(SO2CF3)2)；或
An-还可为基于钴金属的阴离子偶氮金属络合物。
在一个优选的方面中，本发明涉及包含至少一种式(I)或(II)的染料化合物的光学层，其中
R1表示直链或支链C1-12烷基，
R2至R5彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
R2和R3，
R4和R5可形成饱和或不饱和碳环或杂环五元或六元环，所述杂环可另外含有氧或其他氮作为环成员，
R6和R7彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、直链或支链C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
直链或支链C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR8R9(其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基)或C1-C8烷氧基(-OR)取代；或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由如上式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氟离子、溴离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有机阴离子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基(N(SO2CF3)2)；或
An-还可为基于钴金属的阴离子偶氮金属络合物。
在一个更优选的方面中，本发明涉及包含至少一种式(I)或(II)的染料化合物的光学层，其中
R1表示直链或支链C1-6烷基，
R2至R5表示氢，
R6 表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、直链或支链C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
直链或支链C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
R7表示氢，或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由如上式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氟离子、溴离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根；或
An-还可为基于钴金属的阴离子偶氮金属络合物。
在一个更优选的实施方案中，本发明提到包含式(I)的染料化合物的光学层，其中
R1表示直链或支链C1-6烷基，
R2至R5表示氢，
R6表示氢、甲基、乙基、苯基、4-甲氧基苯基、叔丁基、三氟甲基，
R7表示氢，或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由如上式(III)表示的式(I)的化合物，其中R10、R12和R13表示氢，并且R11表示甲基
或氯，
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根或下式的阴离子偶氮钴络合物
Figure A20058002950400171
本发明的光学层还可包含两种或多种(优选两种)如上所述的式(I)或(II)的染料化合物的混合物。
式(I)或(II)的基于噻唑基-吡啶的染料化合物在用于光学层中用作本发明的光学数据记录介质时提供特别优选的特性。
在另一个方面中，本发明涉及式(V)或(VI)的新的基于噻唑基-吡啶的染料化合物
Figure A20058002950400172
其中
R1选自甲基、乙基、正丙基或异丙基；
R6选自叔丁基、甲氧基或CF3；
An-如上定义；
以及式(VII)或(VIII)的化合物
Figure A20058002950400181
其中
R1选自甲基、乙基、正丙基或异丙基；
R11选自氢、氰基(-CN)、C1-8烷基(优选甲基)、卤素(优选Cl)；
An-如上定义。
此外，本发明涉及制备光学层的方法，所述方法包括以下步骤：
(a)提供底材；
(b)将式(I)或(II)的一种染料化合物或多种染料化合物的混合物溶解于有机溶剂中，形成溶液；
(c)将所述溶液(b)涂覆于所述底材(a)上；
(d)蒸发溶剂，形成染料层。
优选的底材为聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
有机溶剂选自C1-8醇、卤素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、卤素取代的C1-4烷烃或酰胺。
优选的C1-8醇或卤素取代的C1-8醇例如为甲醇、乙醇、异丙醇、双丙酮醇(DAA)、2，2，3，3-四氟丙醇、三氯乙醇、2-氯乙醇、八氟戊醇或六氟丁醇。
优选的C1-8酮例如为丙酮、甲基异丁基酮、甲乙酮或3-羟基-3-甲基-2-丁酮。
优选的卤素取代的C1-4烷烃例如为氯仿、二氯甲烷或1-氯丁烷。
优选的酰胺例如为二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺。
得到的光学层(染料层)厚度优选为70-250nm。
在一个优选的方面中，本发明提供适于在350-450nm，优选约405nm的激光波长范围内的高密度记录材料(例如WORM盘格式的高密度记录材料)的光学层。
式(I)或(II)的染料化合物具有所需的光学特征(例如高吸收性(absortivity)、高记录敏感度)、在有机溶剂中优良的溶解性、优良的光稳定性和250-300℃的分解温度。
本发明的基于噻唑基-吡啶类型染料的制备
式(I)和(II)的基于噻唑基-吡啶的染料化合物通过以下步骤得到：使吡啶-4-硫代酰胺(A)或吡啶-4-硫代酰胺(B)分别与α-卤代酮(F)在极性溶剂中以1∶1的比率反应以分别得到(G)或(H)，接着使被取代的吡啶部分与烷基化剂在极性溶剂中反应。阴离子交换在惰性溶剂中在回流条件下在化合物(I)或(II)与适于交换的相应反离子之间进行。
基于苯并噻唑基吡啶的染料化合物的制备还可通过以下步骤来进行：使吡啶-4-甲醛(C)或吡啶-2-甲醛(D)分别与式(E)的邻羟基苯胺(o-hydroxyaniline)锌盐在极性溶剂中以1∶1的比率反应以分别得到(K)或(L)，接着使被取代的吡啶部分与烷基化剂在极性溶剂中反应。
Figure A20058002950400201
其中R2至R13和An-如上定义。X表示卤素。
制备式(I)和(II)的染料的方法可由以下步骤描述：
(a)使(A)或(B)或(C)或(D)和(E)或(F)反应形成噻唑基吡啶(G)或(H)或(K)或(L)。
(b)使用稍微过量的烷基化剂使噻唑基吡啶(G)或(H)或(K)或(L)进行烷基化反应分别得到染料(I)或(II)。
(c)使用惰性溶剂和合适的反荷离子对化合物(I)或(II)进行阴离子交换。
(A)或(B)或(C)或(D)和(E)或(F)的缩合步骤(步骤(a))的优选的溶剂选自酮(丙酮、甲乙酮)、醇(甲醇、乙醇、1-丙醇、2-丙醇)或卤代溶剂(二氯甲烷、三氯甲烷)。
步骤(b)的优选的溶剂选自酮(丙酮、甲乙酮)、卤代溶剂(二氯甲烷、二氯乙烷)、二甲基甲酰胺(DMF)、N-甲基吡咯烷酮(NMP)。
步骤(c)的最优选的溶剂为甲乙酮、二氯甲烷、乙腈或2-丙酮(propanole)。
制备光学层
本发明的光学层包含一种式(I)或(II)的染料或多种式(I)或(II)的染料的混合物。
制备本发明的光学层的方法包括以下步骤：
(a)提供底材；
(b)将式(I)或(II)的一种染料化合物或多种染料化合物的混合物溶解于有机溶剂中，形成溶液；
(c)将所述溶液(b)涂覆于所述底材(a)上；
(d)蒸发溶剂，形成染料层。
制备高密度光学记录介质
制备包含本发明的光学层的光学记录介质的方法还包括以下步骤：
(e)将金属层溅射在所述染料层上；
(f)涂覆基于第二聚合物的层，制成所述光盘。
因此优选本发明的高密度数据存储介质为可录光盘，所述介质包含：第一底材，为带有凹槽的透明底材；记录层(光学层)，使用式(I)或(II)的染料在所述第一底材表面上形成；反射层，在所述记录层上形成；第二底材，为带有凹槽的透明底材，通过附着层与所述反射层相连。
固体薄膜形式的式(I)或(II)的染料在吸收谱带的较长波长一侧折光指数高，优选在350-500nm范围内峰值为2.0-3.0。式(I)或(II)的染料能在所需的光谱范围内提供具有高反射率以及高灵敏度且重放特性好的介质。
(a)底材
用作在其上涂覆各层的载体的底材最好为半透明的(T＞10％)，或优选为透明的(T＞90％)。所述载体的厚度可为0.01-10mm，优选为0.1-5mm。
合适的底材的实例有玻璃、矿物、陶瓷和热固性或热塑性塑料。优选的载体为玻璃和均聚或共聚塑料。合适的塑料的实例有热塑性聚碳酸酯、聚酰胺、聚酯、聚丙烯酸酯和聚甲基丙烯酸酯、聚氨酯、聚烯烃、聚氯乙烯、聚偏二氟乙烯、聚酰亚胺、热固性聚酯和环氧树脂。
最优选的底材为聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
所述底材可为纯形式或还可包含常用的添加剂，例如在JP04/167239中提出的作为记录层的光-稳定剂的UV吸收剂或染料。在加入染料的情况下，最好将染料加至载体底材上，使其最大吸收比记录层的染料向蓝移至少10nm，优选至少20nm。
所述底材在350-500nm的至少一部分范围内最好为透明的，使得对写或读出波长的入射光的透过率至少为90％。
(b)有机溶剂
有机溶剂选自C1-8醇、卤素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、卤素取代的C1-4烷烃或酰胺。
优选的C1-8醇或卤素取代的C1-8醇的实例有甲醇、乙醇、异丙醇、双丙酮醇(DAA)、2，2，3，3-四氟丙醇、三氯乙醇、2-氯乙醇、八氟戊醇或六氟丁醇。
优选的C1-8酮的实例有丙酮、甲基异丁基酮、甲基乙基酮或3-羟基-3-甲基-2-丁酮。
优选的卤素取代的C1-4烷烃的实例有氯仿、二氯甲烷或1-氯丁烷。
优选的酰胺的实例有二甲基甲酰胺或二甲基乙酰胺。
(c)记录层
优选记录层(光学层)布置在透明的底材和反射层之间。记录层的厚度为10-1000nm，优选为30-300nm，特别为约80nm，例如60-120nm。
使用式(I)或(II)的染料有利地得到折光指数高的均匀、无定形和低散射的记录层。即使在固相，吸收边缘也是令人惊讶地陡。其他优点为在目光和低功率密度激光辐射下光稳定性高，同时在高功率密度激光辐射下灵敏度高，笔迹宽度均匀，对比度高且热稳定性和存储稳定性也好。
除了包含单种式(I)或(II)的化合物，所述记录层还可包含本发明的多种所述化合物的混合物。使用混合物，例如各种异构体或同系物的混合物以及不同结构的混合物，通常可提高溶解性和/或改进无定形的含量。
为了进一步提高稳定性，如果需要，还可加入常用量的已知的稳定剂，例如nickel dithiolate作为光稳定剂，如JP04/025493中所述。
所述记录层包含一种式(I)或(II)化合物或多种所述化合物的混合物，优选加入的量足以显著影响折光指数，例如至少为30％重量，更优选为至少60％重量，最优选为至少80％重量。
其他常用的组分的实例有其他发色团(例如WO-01/75873中公开的那些或最大吸收为300-1000nm的其他发色团)、稳定剂、1O2-、三线态-或发光-猝灭剂、熔点降低剂、分解加速剂或在光学记录介质中已经描述过的任何其他添加剂。如果需要，优选加入稳定剂或荧光-猝灭剂。
当记录层包含其他发色团时，原则上可为在记录过程中可在激光辐射下分解或改变的任何染料，或者对激光辐射可为惰性的。当在激光辐射下其他发色团分解或改变时，可通过吸收激光辐射直接发生，或可通过本发明的式(I)或(II)化合物分解(例如热分解)间接诱导发生。
当然，其他发色团或有色稳定剂可影响记录层的光学性能。因此优选使用光学性能与式(I)或(II)化合物尽可能一致或尽可能不同的其他发色团或有色稳定剂，或者其他发色团的量保持很少。
当使用光学性能与式(I)或(II)化合物尽可能一致的其他发色团时，优选用于在最长波长范围一侧吸收的情况。优选其他发色团和式(I)或(II)化合物的转化点的波长相距最大为20nm，特别为最大相距10nm。在那种情况下，其他发色团和式(I)或(II)化合物在激光辐射方面行为相似，使得可使用已知的记录试剂作为其他发色团，其作用通过式(I)或(II)化合物协同提高。
当使用光学性能与式(I)或(II)化合物尽可能不同的其他发色团或有色稳定剂时，最好最大吸收比式(I)或(II)的染料向蓝移或向红移。在那种情况下，优选最大吸收相距至少50nm，特别为至少100nm。
其实例有相对于式(I)或(II)的染料向蓝移的UV吸收剂或相对于式(I)或(II)的染料向红移的有色稳定剂，最大吸收例如位于NIR或IR区。
为了以色码鉴定(color-coded identification)、颜色遮蔽(“金刚石染料(diamond dye)”)或提高记录层的美观，还可加入其他染料。在所有的这些情况下，优选其他发色团或有色稳定剂的行为应对光和激光辐射尽可能为惰性的。
当为了改变式(I)或(II)化合物的光学性能而加入另一种染料时，其用量取决于待得到的光学性能。本领域的技术人员可毫无困难地变化其他染料与式(I)或(II)化合物的比率，直至得到所需的结果。
当发色团或有色稳定剂用于其他目的时，其用量应优选很小，使得在350-500nm范围内对记录层总吸收的贡献最大为20％，优选最大为10％。在这种情况下，最好其他染料或稳定剂的量最大占记录层重量的50％，优选最大占10％。
除了式(I)或(II)化合物以外，可用于记录层的其他发色团见述于下述专利：
 申请者 专利申请号
 Ricoh JP2002283722，JP2003094824，JP200283732，JP2003063139
 Mitsubishi JP2003019867，JP2001271001，JP2002036727，JP2001181524，JP2003170662，JP2003237233，JP2002002110，JP2003103935，JP2003127542
 Ciba WO02/082438
 Sony WO02/102598
 Kabushiki EP1149873
 Bayer WO02/084656，WO02080152
 Ciba WO03/063151
 FEW Chemicals DE10109243
 Mitsui Chem WO03035407，WO03039882，JP2003165273，JP2004082439，JP2003103932，JP2003074282，JP2003072238，JP2003211847，JP2002363437，WO03082593，JP2003286415，JP2003140300，JP2003266947，JP2002264520，JP2004090372，JP2004142131
 Sony Corp./Bayer AG WO03030158
 BayerAG DE10245581，WO03079339
 Fuji Photo Film Co Ltd JP2003075961，JP2003040851，EP1345217，JP2003211848US2003180496，JP2003246141，JP003211852，EP1193699，JP2004131396，JP2004050612
 Nippon KayakuKK JP2003170663
 Asashi Denka JP2001047740，JP2004034645
 Taiyo Yuden JP2003191641
 Nippon KayakuKK JP2003246142
 Canon US4804613
 Matsushita JP2003266938
 Shanghai Precision Opt.Instr.Lnst. CN1438221
但是，最优选不加入其他发色团，除非其为有色稳定剂。
稳定剂、1O2-、三线态一或发光-猝灭剂的实例有以下物质的金属络合物：含N或含S的烯醇化物、酚盐、双酚盐、硫醇盐、双硫醇盐，或者偶氮、偶氮甲碱或甲
Figure A20058002950400271
染料，例如双(4-二甲基氨基二硫代偶苯酰基)镍[CAS N°38465-55.3]。受阻酚及其衍生物，例如邻-羟基苯基-三唑或邻一羟基苯基-三嗪或其他UV吸收剂，例如受阻胺(TEMPO或HALS以及氮氧化物或NOR-HALS)，还有阳离子二茚(diimmonium)、ParaquatTM或Orthoquat盐，例如Kayasorb IRG 022、Kayasorb IRG 040，任选还有自由基离子，例如N，N，N’，N’-四(4-二丁基氨基苯基)-对-亚苯基胺-六氟磷酸铵、六氟锑酸盐或高氯酸盐。后者得自Organica(Wolfen/DE)；Kayasorb商标得自Nippon Kayaku Co.Ltd。
本领域的技术人员从其他光学信息介质得知，或很容易地确定何种浓度的何种添加剂最适合于何种目的。添加剂的合适浓度例如为0.001-1000％重量，优选为1-50％重量(％重量，基于式(II)的记录介质计算)。
(e)反射层
适用于反射层的反射材料特别包括对用于记录和重放的激光辐射有很好反射的金属，例如元素周期表的主族III、IV和V和副族的金属。特别合适的有Al、In、Sn、Pb、Sb、Bi、Cu、Ag、Au、Zn、Cd、Hg、Sc、Y、La、Ti、Zr、Hf、V、Nb、Ta、Cr、Mo、W、Fe、Co、Ni、Ru、Rh、Pd、Os、Ir、Pt、Ce、Pr、Nd、Pm、Sm、Eu、Gd、Tb、Dy、Ho、Er、Tm、Yb和Lu及其合金。由于反射率高和易制备，特别优选铝、银、铜、金或其合金的反射层。
(f)覆盖层/保护层
适用于覆盖层/保护层的材料包括塑料，直接或借助粘附层间接以薄层覆于载体或最上层。最好选择表面性能好的机械和热稳定的塑料，可对该塑料进行进一步修饰。
所述塑料可为热固性塑料和热塑性塑料。优选辐射固化的(例如使用UV辐射)保护层，这样的保护层特别简单且制备很经济。多种可辐射固化的材料为已知的。可辐射固化的单体和低聚物的实例有二醇、三醇和四醇的丙烯酸酯和甲基丙烯酸酯、芳族四羧酸的聚酰亚胺和在氨基的至少两个邻位具有C1-C4烷基的芳族二胺，以及与二烷基顺丁烯二酰亚氨基(例如二甲基顺丁烯二酰亚氨基)的低聚物。
本发明的记录介质还可具有其他层，例如干涉层。还可构造具有多层(例如两层)记录层的记录介质。所述结构和所述材料的用途为本领域的技术人员已知的。如果存在干涉层，优选干涉层布置在记录层和反射层之间和/或布置在记录层和底材之间，并且干涉层由介电材料组成，例如EP 0 353 393中所述的TiO2、Si3N4、ZnS或有机硅树脂。
本发明的记录介质可采用本领域已知的方法制备。
涂布方法
合适的涂布方法的实例有浸渍、倾涂、刷涂、刮涂和旋涂以及在高真空下进行的蒸汽淀积法。当使用倾涂法时，通常使用在有机溶剂中的溶液。当使用溶剂时，应注意所使用的载体对那些溶剂不敏感。合适的涂布方法和溶剂例如见述于EP-A-401 791。
优选采用旋涂用染料溶液涂覆记录层，已证明令人满意的溶剂优选为醇，例如2-甲氧基乙醇、正丙醇、异丙醇、异丁醇、正丁醇、戊醇或3-甲基-1-丁醇，或优选氟化的醇，例如2，2，2-三氟乙醇或2，2，3，3-四氟-1-丙醇、八氟戊醇及其混合物。应理解的是还可使用其他溶剂或溶剂混合物，例如EP-A-511 598和EP-A-833 316中所述的那些。还可使用醚(二丁基醚)、酮(2，6-二甲基-4-庚酮、5-甲基-2-己酮)或饱和或不饱和的烃(甲苯、二甲苯)，例如为混合物形式(例如二丁基醚/2，6-二甲基-4-庚酮)或混合的组分形式。
为了发现能得到高品质同时高性价比的包含所选固体组分的记录层的溶剂或溶剂混合物，旋涂领域的技术人员通常常规地试用所有他熟悉的溶剂及其二元和三元混合物。在这种最优化方法中，可使用已知的工艺方法，使得可进行的实验次数最少。
因此本发明涉及一种制备光学记录介质的方法，其中将有机溶剂中的式(I)或(II)化合物的溶液涂覆于具有凹坑的底材。优选采用旋涂进行涂覆。
优选采用溅射、真空蒸汽淀积或化学蒸汽淀积(CVD)来涂覆金属反射层。由于与载体的粘附程度高，特别优选采用溅射技术涂覆金属反射层。这种技术为已知的并描述于专业文献(例如J.L.Vossen和W.Kern，“Thin Film Processes”，Academic Press，1978)。
读出方法
本发明的记录介质的结构主要取决于读出方法、已知的工作原理包括测定透射的变化或优选反射的变化，但是还已知例如用测定荧光来代替测定透射或反射。
当构造反射变化的记录材料时，可采用以下结构：透明的载体/记录层(任选多层)/反射层，在适当的情况下，保护层(不必是透明的)；或载体(不必是透明的)/反射层/记录层，在适当的情况下，透明的保护层。在第一种情况下，光从载体一侧入射，而在后一种情况下，辐射从记录层一侧入射或者，在适当的情况下，从保护层一侧入射。在两种情况下，光探测器置于与光源相同的一侧。本发明通常优选使用记录材料的第一种结构。
当构造光透射变化的记录材料时，可考虑以下不同的结构：透明的载体/记录层(任选多层)，在适当的情况下，透明的保护层。用于记录和读出的光可从载体一侧或从记录层一侧入射，在适当的情况下，从保护层一侧入射，在这种情况下，光探测器总是位于相反的一侧。
合适的激光的波长为350-500nm，例如市售的波长为405-414nm的激光，特别是半导体激光。根据标记的长度调制激光并将辐射聚焦于记录层进行例如点对点记录。从专业文献得知目前正开发适用的其他方法。
本发明的方法使得信息的存储安全稳定性高，突出之处在于机械和热稳定性非常好、光稳定性好和凹坑的边界区域清晰。特别的优点包括对比度高、起伏小和信号/噪声比令人惊讶地高，使得读出性优异。
根据本领域已知的方法，通过记录使用激光辐射时吸收或反射的变化来读出信息，例如在“CD-Player and R-DAT Recorder”(ClausBiaesch-Wiepke，Vogel Buchverlag，Würzburg 1992)所述的。
本发明的光学记录介质优选为WORM型可录光盘。可用作例如可播放的HD-DVD(高密度数字通用光盘)或Blu-ray、计算机的存储介质或身份证和安全卡或用于生产衍射光学元件，例如全息图。
因此，本发明涉及一种光学记录、存储和重放信息的方法，其中使用本发明的记录介质。记录和重放最好在350-500nm波长范围内进行。
与本领域已知的染料相比，发现本发明的式(I)或(II)的新型染料提高了光敏性和对光和热的稳定性。本发明的式(I)或(II)的新型染料的分解温度为250-350℃。因此，这些化合物在有机溶剂中的溶解性极好，适于旋涂法制备光学层。
因此，本发明的一个很大的优点为在高密度可录光盘的记录层中使用这些新型化合物。
实施例
所有基于噻唑基-吡啶的染料化合物均使用本领域已知的标准方法，尤其使用如上所述的反应来制备。
在下列实施例中，除非另外指出，否则“份”始终为重量份。
实施例1
将13份吡啶-4-硫代酰胺悬浮于195份乙醇中。加入20份2-溴苯乙酮并且使混合物回流5小时。将粗产物过滤，用79份丙酮处理，在40℃下过滤且在80℃下真空干燥。加入100份氨水(13％)，在室温下将混合物搅拌30分钟，将产物过滤且用水洗涤。此后，将产物从250份含水甲醇(70％)中重结晶。得到15份4-(4-苯基-噻唑-2-基)吡啶米色晶体。
Figure A20058002950400311
实施例2-4
下列化合物根据实施例1所述的方法来合成。
实施例2
Figure A20058002950400312
(2)4-(4-叔丁基-噻唑-2-基)吡啶
实施例3
(3)4-[(4-甲氧基苯基)噻唑-2-基]吡啶
实施例4
(4)4-[4-三氟甲基噻唑-2-基]吡啶
实施例5
将20份2-氨基-5-甲基苯硫酚锌盐在315份乙酸中回流并且用12.5份吡啶-4-甲醛处理。15分钟后，将混合物冷却到室温，将其加到600份水中且搅拌1小时。将产物过滤且用水洗涤以产生22份6-甲基-2-吡啶-4-基-苯并噻唑。
Figure A20058002950400323
实施例6
根据实施例5所述的方法合成6-氯-2-吡啶-4-基-苯并噻唑。
Figure A20058002950400331
实施例7
将20份实施例1中所得的化合物和15份2-碘丙烷在158份丙酮中回流2小时。在室温下，加入500份乙酸乙酯并且过滤沉淀得到0.7份碘化1-异丙基-4-(4-苯基-噻唑-2-基)-吡啶。
Figure A20058002950400332
UV-Vis(MeOH)λmax：373nm；ε(λmax)：31L·g-1·cm-1；溶解度(在四氟丙醇中，20℃)：＞50g/L；TGA(分解)＝270℃；MS(正模式)：281(M+)，(负模式)：127(I-)。
实施例8
将85份实施例2中得到的化合物、277份碘甲烷和1200份2-丁酮在压力容器中在100℃下搅拌8小时。将产物过滤，用乙酸乙酯洗涤并且干燥得到111份碘化1-甲基-4-(4-叔丁基-噻唑-2-基)吡啶。
Figure A20058002950400333
UV-Vis(MeOH)λmax：359nm；ε(λmax)：56L·g-1·cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)：＞50g/L；1H-NMR(500MHz，CDCl3)δ＝1.40(9H)，4.71(3H)，7.35(1H)，8.46(2H)，9.35(2H)。
实施例9-11
下列化合物根据实施例8所述的方法来合成。
实施例9
以实施例1的化合物为原料制备：
碘化1-甲基-4-(4-苯基-噻唑-2-基)吡啶
Figure A20058002950400341
UV-Vis(MeOH)λmax：389nm；ε(λmax)：32L·g-1cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)：＞30g/L；TGA(分解)＝260℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝4.37(3H)，7.46(1H)，7.53(2H)，8.12(2H)，8.68(3H)，9.07(2H)。
实施例10
以实施例3的化合物为原料制备：
碘化4-[4-(4-甲氧基-苯基)-噻唑-2-基]-1-甲基-吡啶
Figure A20058002950400342
UV-Vis(MeOH)λmax：403nm；ε(λmax：18.3L·g-1cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)：＞50g/L；TGA(分解)＝250℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝3.83(3H)，4.37(3H)，7.07(2H)，8.05(2H)，8.52(1H)，8.66(2H)，9.05(2H)。
实施例11
以实施例3的化合物为原料制备：
碘化1-异丙基-4-[4-(4-甲氧基-苯基)-噻唑-2-基]-1-甲基-吡啶
Figure A20058002950400351
UV-Vis(MeOH)λmax：405nm；ε(λmax)：19.4L·g-1·cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)：＞50g/L；TGA(分解)＝240℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝1.65(6H)，3.83(3H)，5.07(1H)，7.08(2H)，8.06(2H)，8.53(1H)，8.66(2H)，9.25(2H)。
实施例12
将10份实施例6中得到的化合物和7份硫酸二甲酯在100℃下搅拌30分钟。在室温下，加入100份水和12份碘化钾并且过滤产物。将产物用水洗涤并且干燥得到11份碘化1-甲基-4-(6-氯-苯并噻唑-2-基)吡啶
Figure A20058002950400352
UV-Vis(MeOH)λmax：351nm；ε(λmax)：46L·g-1·cm-1；溶解度(在2，2，3，3-四氟丙醇中，20℃)：＞50g/L；TGA(分解)＝244℃；1H-NMR(500MHz，D6-DMSO)δ＝4.41(3H)，7.74(1H)，8.26(1H)，8.55(1H)，8.75(2H)，9.13(2H)。
实施例13
将2.5份实施例8的碘化1-甲基-4-(4-叔丁基-噻唑-2-基)吡啶和6.3份以三乙铵作为反荷离子的钴络合物混合到50份乙腈中。接着将混合物在回流下搅拌12小时。将混合物冷却到25℃，过滤并且用乙腈洗涤。将紫红色压滤饼干燥，得到最终染料，产率为95％。
Figure A20058002950400361
UV-Vis(CH2Cl2)λmax：512nm；ε(λmax)：55.0L·g-1·cm-1；溶解度(在四氟丙醇中，25℃)：20g/l；DSC(分解)=341℃；放热(W/g)＝15； 在 旋涂盘上(On spin coated disc)：n(405nm)＝1.61，k(405nm)＝0.26。
实施例14
将2.0份实施例9的碘化1-甲基-4-(4-苯基-噻唑-2-基)吡啶锚和7.2份以三乙铵作为反荷离子的钴络合物混合到50份乙腈中。接着将混合物在回流下搅拌12小时。将混合物冷却到25℃，过滤并且用乙腈洗涤。将紫红色压滤饼干燥，得到最终染料，产率为90％。
Figure A20058002950400362
UV-Vis(CH2Cl2)λmax：479nm；ε(λmax)：50L·g-1·cm-1；溶解度(在四氟丙醇中，25℃)：20g/l；DSC(分解)＝322℃；放热(W/g)＝6； 在 蕴涂盘上：n(405nm)＝1.58，k(405nm)＝0.34。
应用实施例
研究基于噻唑基吡啶的染料化合物的光学和热性质。在所要波长下，所述染料显示高吸收。另外，吸收光谱的形状(对光盘反射率和清晰标记边缘的形成仍为关键)由一个主带组成，所述主带的范围在350-500nm范围内，优选在350-400nm范围内。
更明确地说，估计折射率n值为1.0-2.7(见实施例13、14)。可发现用于光学数据记录时光稳定性与用淬灭剂稳定的市售染料相当。
在所需温度范围内热分解的明显阈值表征了认为适用于光学数据记录的光学层的所述新噻唑基吡啶基染料。
结论是，所述基于噻唑基吡啶的染料化合物的技术规范在主要为工业上将染料用于光数据记录，尤其用于下一代在蓝激光范围内的光数据记录介质所需的技术规范内。

Claims (10)

1.一种光学层，所述光学层包含至少一种式(I)或(II)的染料化合物
Figure A2005800295040002C1
其中
R1表示直链或支链C1-12烷基，
R2至R5彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
R2和R3，
R4和R5，
R3和R4(仅对(II)来说)可形成饱和或不饱和碳环或杂环五元或六元环，所述杂环可另外含有氧或其他氮作为环成员，
R6至R7彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、直链或支链C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
直链或支链C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
直链或支链C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C6-12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物
Figure A2005800295040003C1
其中R10-R13彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氟离子、溴离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有机阴离子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基(N(SO2CF3)2)；或
An-还可为基于钴金属的阴离子偶氮金属络合物。
2.权利要求1的光学层，其中
R1表示直链或支链C1-12烷基，
R2至R5彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C1-8烷硫基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
R2和R3，
R4和R5，可形成饱和或不饱和碳环或杂环五元或六元环，所述杂环可另外含有氧或其他氮作为环成员，
R6至R7彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、直链或支链C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；直链或支链C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由权利要求1所定义的式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氟离子、溴离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根、四苯基硼酸根；或有机阴离子，例如二氰基氨基(N(CN)2)或二(三氟甲磺酰)氨基
(N(SO2CF3)2)；或
An-还可为基于钴金属的阴离子偶氮金属络合物。
3.权利要求1的光学层，其中
R1表示直链或支链C1-6烷基，
R2至R5表示氢，
R6表示氢、氰基(-CN)、卤素、硝基(NO2)、羟基、直链或支链C1-8烷氧基(-OR)，其中所述烷基(R)可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
直链或支链C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、c1-8烷基或C6-12芳基；
CX3，其中X可为氯、氟、溴；
C6-C12芳基，其未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、硝基(NO2)、氰基(-CN)、卤素、C6-12芳基、-NR8R9或C1-C8烷氧基(-OR)取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
R7表示氢，或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由权利要求1所定义的式(III)或(IV)表示的式(I)或(II)的化合物，其中R10-R13彼此独立地表示氢、氰基(-CN)、卤素、C1-8烷基，其中所述烷基可未被取代或被C1-8烷基、羟基(-OH)、C6-12芳基或-NR8R9取代，其中R8和R9独立为氢、C1-8烷基或C6-12芳基；
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氟离子、溴离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根；或
An-还可为基于钴金属的阴离子偶氮金属络合物。
4.权利要求1的光学层，其中所述染料化合物为式(I)的染料化合物，且
R1表示直链或支链C1-6烷基，
R2至R5表示氢，
R6表示氢、甲基、乙基、苯基、4-甲氧基苯基、叔丁基、三氟甲基，
R7表示氢，或
R6和R7可形成碳环六元环以得到由权利要求1所定义的式(III)表示的式(I)的化合物，其中R10、R12和R13表示氢，并且R11表示甲基或氯，
An-表示反荷阴离子，选自无机阴离子，例如碘离子、氯离子、高氯酸根、六氟锑酸根、六氟磷酸根、四氟硼酸根或下式的阴离子偶氮钴络合物
Figure A2005800295040007C1
5.一种光学层，所述光学层包含至少两种权利要求1-4所定义的式(I)或式(II)的染料化合物的混合物。
6.一种制备权利要求1-5的光学层的方法，所述方法包括以下步骤：
(a)提供底材；
(b)将权利要求1-4所定义的式(I)或(II)的一种染料化合物或多种染料化合物的混合物溶解于有机溶剂中，形成溶液；
(c)将所述溶液(b)涂覆于所述底材(a)上；
(d)蒸发溶剂，形成染料层。
7.权利要求6的方法，其中所述底材为聚碳酸酯(PC)或聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)。
8.权利要求6的方法，其中所述有机溶剂选自C1-8醇、卤素取代的C1-8醇、C1-8酮、C1-8醚、卤素取代的C1-4烷烃或酰胺。
9.一种光学记录介质，所述光学记录介质包括权利要求1-5的光学层。
10.一种式(V)、(VI)或(VIII)的染料化合物
Figure A2005800295040008C1
其中
R1选自甲基、乙基、正丙基或异丙基；
R6选自叔丁基、甲氧基或CF3；
R11选自氢；氰基；C1-8烷基，优选甲基；卤素，优选Cl；An-如上定义。
CNA2005800295045A 2004-09-02 2005-08-31 噻唑基－吡啶鎓染料用于光学数据记录的用途 Pending CN101023139A (zh)

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