CN100568552C - 具有带光致发光材料的光子晶体层的发光设备及制造方法 - Google Patents

具有带光致发光材料的光子晶体层的发光设备及制造方法 Download PDF

Info

Publication number
CN100568552C
CN100568552C CN200610001546.4A CN200610001546A CN100568552C CN 100568552 C CN100568552 C CN 100568552C CN 200610001546 A CN200610001546 A CN 200610001546A CN 100568552 C CN100568552 C CN 100568552C
Authority
CN
China
Prior art keywords
layer
photonic crystals
refractive index
tube core
embedded photoluminescent
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CN200610001546.4A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1828952A (zh
Inventor
蔡美莺
刘宇宏
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Avago Technologies International Sales Pte Ltd
Original Assignee
Avago Technologies ECBU IP Singapore Pte Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Avago Technologies ECBU IP Singapore Pte Ltd filed Critical Avago Technologies ECBU IP Singapore Pte Ltd
Publication of CN1828952A publication Critical patent/CN1828952A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100568552C publication Critical patent/CN100568552C/zh
Expired - Fee Related legal-status Critical Current
Anticipated expiration legal-status Critical

Links

Images

Classifications

    • H01L33/44
    • H01L33/50
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/31Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process
    • H01L2224/32Structure, shape, material or disposition of the layer connectors after the connecting process of an individual layer connector
    • H01L2224/321Disposition
    • H01L2224/32151Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive
    • H01L2224/32221Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked
    • H01L2224/32245Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic
    • H01L2224/32257Disposition the layer connector connecting between a semiconductor or solid-state body and an item not being a semiconductor or solid-state body, e.g. chip-to-substrate, chip-to-passive the body and the item being stacked the item being metallic the layer connector connecting to a bonding area disposed in a recess of the surface of the item
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/42Wire connectors; Manufacturing methods related thereto
    • H01L2224/47Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process
    • H01L2224/48Structure, shape, material or disposition of the wire connectors after the connecting process of an individual wire connector
    • H01L2224/4805Shape
    • H01L2224/4809Loop shape
    • H01L2224/48091Arched
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/73Means for bonding being of different types provided for in two or more of groups H01L2224/10, H01L2224/18, H01L2224/26, H01L2224/34, H01L2224/42, H01L2224/50, H01L2224/63, H01L2224/71
    • H01L2224/732Location after the connecting process
    • H01L2224/73251Location after the connecting process on different surfaces
    • H01L2224/73265Layer and wire connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/91Methods for connecting semiconductor or solid state bodies including different methods provided for in two or more of groups H01L2224/80 - H01L2224/90
    • H01L2224/92Specific sequence of method steps
    • H01L2224/922Connecting different surfaces of the semiconductor or solid-state body with connectors of different types
    • H01L2224/9222Sequential connecting processes
    • H01L2224/92242Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector
    • H01L2224/92247Sequential connecting processes the first connecting process involving a layer connector the second connecting process involving a wire connector
    • H01L2933/0083

Landscapes

  • Led Device Packages (AREA)
  • Led Devices (AREA)

Abstract

本发明公开了一种发光设备及其制造方法,其利用在光源之上的具有嵌入光致发光材料的光子晶体层。具有嵌入光致发光材料的光子晶体层可以用于不同类型的发光设备,例如具有或没有反射器杯状部分的引线框安装发光二极管(LED)和表面安装LED。

Description

具有带光致发光材料的光子晶体层的发光设备及制造方法
技术领域
本发明涉及具有带嵌入光致发光材料的光子晶体层的发光设备及制造该设备的方法。
背景技术
现有的发光二极管(“LED”)可以发出在紫外(“UV”)、可见或红外(“IR”)波长范围内的光。这些LED一般具有窄的发射光谱(约+/-10nm)。作为示例,蓝色InGaN LED可以产生波长为470nm+/-10nm的光。作为另一示例,绿色InGaN LED可以产生波长为510nm+/-10nm的光。作为另一示例,红色AlInGaP LED可以产生波长为630nm+/-10nm的光。
但是,在某些应用中,期望使用可以产生更宽发射光谱的LED,以得到所期望颜色的光,如白光。由于窄带发射特性,这些单色LED无法直接用来产生宽光谱颜色光。相反,单色LED的输出光必须与其他一种或多种不同波长的光混和以产生宽光谱颜色光。这可以将一种或多种荧光材料引入单色LED的封装,以将部分初始的光通过荧光转化成更长波长的光而实现。这种LED在此将被称为荧光LED。初始光和转化光的结合产生了宽光谱颜色光,其可以从荧光LED作为输出光发出。用来制造产生宽光谱颜色光的荧光LED的最常用荧光材料是由磷光体制成的荧光粒子,所述磷光体例如是石榴石基磷光体、硅酸盐基磷光体、原硅酸盐基磷光体、硫化物基磷光体、硫代镓酸盐基磷光体和氮化物基磷光体。这些磷光体粒子通常与用来形成荧光LED封装的透明材料混和,以使从荧光LED的半导体管芯发出的初始光可以在荧光LED的封装内被转化而产生所期望的输出光。
传统荧光LED的一个问题是从半导体管芯产生的大量光由于在半导体管芯和荧光封装之间的界面处的反射而损耗,这减小了总的LED光输出。在管芯/封装界面处的反射部分是由于界面处折射率不匹配造成的。
考虑到该问题,需要一种设备和方法,用于从例如LED半导体管芯的光源以增大的光提取发射光。
发明内容
一种发光设备及其制造方法利用在光源之上的具有嵌入光致发光材料的光子晶体层。光子晶体层用来提高从光源的光提取。具有嵌入光致发光材料的光子晶体层可以用于不同类型的发光设备,例如具有或没有反射器杯状部分的引线框安装发光二极管(LED)和表面安装LED。
根据本发明一个实施例的发光设备包括光源、位于所述光源之上的光子晶体层、和嵌入所述光子晶体层内的光致发光材料。
根据本发明一个实施例的制造发光设备的方法包括:提供光源;以及在所述光源之上形成光子晶体层,包括在所述光子晶体层内嵌入光致发光材料。
结合附图从以下作为示例解释本发明原理的详细说明,本发明的其他方面和优点将变得清楚。
附图说明
图1是根据本发明实施例的具有反射器杯状部分的引线框安装发光二极管(LED)的视图。
图2图示了在传统LED的LED管芯和封装之间的界面处反射的光,这部分是由于界面处折射率不匹配造成的。
图3是在根据本发明实施例的图1的LED中所包括的光子晶体层的放大视图。
图4是根据本发明实施例覆盖有涂层材料的量子点的视图,该量子点可以嵌入图2的光子晶体层中。
图5A-5C图示了根据本发明实施例制造图1的LED的过程。
图6是根据本发明实施例没有反射器杯状部分的引线框安装LED的视图。
图7是根据本发明实施例有反射器杯状部分的表面安装LED的视图。
图8是根据本发明实施例没有反射器杯状部分的表面安装LED的视图。
图9是根据本发明实施例用于制造例如LED的发光设备的方法的流程图。
具体实施方式
参考图1,描述根据本发明实施例的引线框安装发光二极管(LED)100。LED 100包括LED管芯102、引线框104和106、键合线108、三维(3-D)光子晶体层110和封装112。如下面更详细描述的,光子晶体层110提高了来自LED管芯102的光提取,这就增大了LED 100的光输出。
LED管芯102是产生特定峰值波长的光的半导体芯片。于是,LED管芯102是LED 100的光源。虽然LED 100在图1中示为仅仅具有单个LED管芯,但是LED可以包括多个LED管芯。LED管芯102可以是紫外LED管芯或蓝色LED管芯。作为示例,LED管芯102可以是发出蓝光的GaN基LED管芯。LED管芯102包括活性区域114和上层116。当LED管芯102被激活时,在LED管芯的活性区域114中产生光。然后很多所产生的光通过LED管芯的上层116从LED管芯102发出。作为示例,如果LED管芯102是GaN基LED管芯,则LED管芯的上层116可以是p-GaN层。LED管芯102使用粘结材料118附接或安装在引线框104的上表面上,并经由键合线108电连接到另一引线框106。引线框104和106由金属制成,并由此是导电的。引线框104和106提供驱动LED管芯102所需的电力。
在本实施例中,引线框104在上表面处包括凹入区域120,这形成了LED管芯102安装在其中的反射器杯状部分。因为LED管芯102安装在引线框104上,所以引线框104可以认为是用于LED管芯的安装结构。反射器杯状部分120的表面可以是反射性的,使得由LED管芯102产生的部分光被反射离开引线框104以从LED 100作为有用的输出光发出。
LED管芯102被封装在封装112中,封装112是用于来自LED管芯的光的传播介质。封装112包括主体部分122和输出部分124。在本实施例中,封装112的输出部分124是圆顶形的以用作透镜。于是,从LED 100作为输出光发出的光由封装112的圆顶形输出部分124会聚。但是,在其他实施例中,封装112的输出部分124可以是水平平面状的。封装112由光学透明物质制成,以使得来自LED管芯102的光可以穿过封装并从输出部分124作为输出光发出。作为示例,封装112可以由聚合物(用液体或半固体的例如单体的前驱体材料形成)、环氧化物、硅酮、玻璃或者硅酮和环氧化物的混合物制成。
如图1所示,3-D光子晶体层110位于LED管芯102的顶表面上。光子晶体层110于是位于LED管芯102和封装112之间。在本实施例中,光子晶体层110完全跨越LED管芯102的顶表面延伸,覆盖LED管芯的整个顶表面。在其他实施例中,光子晶体层110可以部分跨越LED管芯102的顶表面延伸,仅仅覆盖LED管芯的顶表面的一部分。而在另外的实施例中,光子晶体层110可以部分或完全跨越LED管芯102的一个或多个侧表面延伸。如下面更详细描述的,光子晶体层110用于限制并控制来自LED管芯102的光,以增大从LED管芯的光提取。另外,光子晶体层110用作相对于LED管芯102上层116的折射率匹配介质,这允许更多的光从LED管芯传输进入光子晶体层110,于是进一步增大了光提取。
在传统的LED中,如图2所示,LED管芯202和封装212之间的界面222处的反射率是减小来自LED管芯的光提取的重要因素。管芯/封装界面222处的反射率部分依赖于全内反射(TIR)的临界角,所述临界角界定了逃逸圆锥224。这是因为在LED管芯202的活性区域中产生的光在大于TIR临界角的入射角下不会离开折射率更高的材料,例如LED管芯的上层228,如图2中的光路230所示。另外,随着入射角接近TIR临界角,即更靠近逃逸圆锥224的边缘,反射率增大。因为在管芯/封装界面222处反射的光将很可能被LED管芯202的一个或多个内层吸收,所以管芯/封装界面处的反射率的下降将增大从LED管芯的光提取。
减小LED的管芯/封装界面处的反射率的一种技术是在LED管芯和封装之间布置折射率匹配界面层。折射率匹配界面层减小了由TIR临界角界定的逃逸圆锥内的反射并增大了TIR临界角。如下所述,在具有3-D光子晶体层110的LED 100中利用了该技术。
减小管芯/封装界面处的反射率的另一种技术是使界面粗糙化。这增加了以大于TIR临界角的角度到达粗糙表面的光逃逸的可能性,因为特定的微表面以及由此得到的逃逸圆锥相对于该光被偏移。通过使LED管芯102的上表面粗糙化可以在LED 100中利用该技术。
在LED 100中,光子晶体层110用作LED管芯102和封装112之间的折射率匹配界面层,以减小管芯/封装界面处的反射率来提高从LED管芯的光提取。于是,与没有光子晶体层相比,将有更多的光从具有光子晶体层110的LED管芯102发射出去。理想地,光子晶体层110的折射率应该等于LED管芯102的折射率。更具体而言,光子晶体层110的折射率应该等于LED管芯102的上层116的折射率,因为LED管芯的不同结构层通常具有不同的折射率。或者,光子晶体层110的折射率可以大于LED管芯102的上层116的折射率,以增大从LED管芯的光提取。虽然优选的是光子晶体层110的折射率基本上等于或大于LED管芯102的上层116的折射率,但是光子晶体层的折射率可以高于封装112的折射率,但小于LED管芯的上层的折射率,以提高从LED管芯的光提取。
3-D光子晶体层110还用作光学操纵元件以发出只沿一个方向的光,即向着封装112的输出部分124的方向,该方向垂直于LED管芯102的上表面。三维光子晶体是表现出光子带隙特性的三维周期性结构,其可用于操纵光。光子晶体层110的光学特性允许更多的光从LED管芯102向着封装的输出部分124传输进入封装112,以使得更多的光作为有用的光从LED 100发出。在一个实施例中,光子晶体层110的厚度可以约为0.5-100微米。但是,在其他实施例中,光子晶体层110可以具有不同的厚度。
现在转向图3,示出了3-D光子晶体层110的放大视图。如图3所示,光子晶体层110包括具有空洞334的结构框架332,空洞334周期性分布在整个层110中。结构框架332可以由绝缘体、半导体或金属制成。作为示例,结构框架332可以由AlGaP、TiO2、Al2O3或ZrO2材料制成。在一个实施例中,结构框架332是由单分散胶体形成的反蛋白石(invertedopal)结构。在本实施例中,结构框架332中的空洞334是球形的。光子晶体层110中球形空洞334的直径可以在纳米范围内。但是,球形空洞334可以更小或更大。光子晶体层110的空洞334包括光致发光材料336。光子晶体层110中的光致发光材料336将至少部分由LED管芯102产生的初始光转化成更长波长的光,这可以用来产生多色光,例如“白”色光。于是,从LED 100发出的输出光的颜色特性可以由光子晶体层110中所包括的光致发光材料336控制。
光子晶体层110中的光致发光材料336可以包括一种或多种非量子磷光体粒子,例如石榴石基磷光体、硅酸盐基磷光体、原硅酸盐基磷光体、硫代镓酸盐基磷光体、硫化物基磷光体或氮化物基磷光体。作为示例,非量子磷光体粒子可以由YAG、TAG、ZnSe、ZnS、ZnSeS、CaS、SrGa2S4、BaGa4S7或BaMg2Al16O27制成。或者,光子晶体层110中的光致发光材料336可以包括一种或多种量子点。也称为半导体纳米晶体的量子点是约束电子和空穴的人工制造的器件。量子点的典型尺寸的范围从几纳米到几个微米。类似于磷光体粒子,量子点具有吸收光并重新发射不同波长光的光致发光特性。但是,从量子点发出的光的颜色特性依赖于量子点的大小和量子点的化学成分,而非像非量子磷光体粒子那样仅仅依赖于化学成分。作为示例,量子点可以由CdS、CdSe、CdTe、CdPo、ZnS、ZnSe、ZnTe、ZnPo、MgS、MgSe、MgTe、PbSe、PbS、PbTe、HgS、HgSe、HgTe和Cd(S1-xSex)制成,或者由包括BaTiO3、PbZrO3、PbZrzTi1-zO3、BaxSr1-xTiO3、SrTiO3、LaMnO3、CaMnO3、La1-xCaxMnO3的金属氧化物组制成。在一个实施例中,如图4所示,光子晶体层110中的光致发光材料336包括覆盖有涂层材料440的量子点438,该涂层材料440具有与光子晶体层110的结构框架332的折射率基本匹配的折射率。作为示例,涂层材料440可以是二氧化钛(TiO2)。如果光致发光材料336包括非量子磷光体粒子,则磷光体粒子也可以用涂层材料覆盖,该涂层材料具有与光子晶体层110的结构框架332的折射率基本匹配的折射率。或者,光子晶体层110中的光致发光材料336可以包括激光染料、无机染料或有机染料。在一个实施例中,光致发光材料336可以包括一种或多种非量子磷光体粒子、一种或多种量子点、以及一种或多种染料(例如激光染料、无机染料和有机染料)的任意组合。
现在参考图5A、5B和5C以及图1描述根据本发明一个实施例的制造LED 100的过程。如图5A所示,首先使用粘结材料118将LED管芯102附接到安装结构,即引线框104。接着,如图5B所示,在LED管芯102上形成3-D光子晶体层110。
在LED管芯102上形成光子晶体层110涉及到使用单分散胶体作为构造件。作为示例,胶体可以是硅石或聚合物胶体球,其当前在很宽的尺寸范围内可得的并可以获得窄的尺寸分布。利用例如自组装技术而使用胶体来形成合成蛋白石,所述自组装技术例如是离心法、受控干燥或限制单分散胶体的悬浮液。合成蛋白石被用作模板来产生具有周期性分布的空洞334的光子晶体层110的结构框架332,如图3所示。
一旦形成合成蛋白石,就用纳米尺寸的微晶或者绝缘体、半导体或金属的前驱体渗入合成蛋白石,以产生光子晶体层110的结构框架332。随后选择性地热或化学去除合成蛋白石,以在结构框架332中产生周期性分布的空洞334。结构框架332中的空洞334随后用光致发光材料336填充以将光致发光材料嵌入光子晶体层110内。
在LED管芯102上形成光子晶体层110之后,将键合线108附接到LED管芯102和引线框106,以将LED管芯电连接到引线框106,如图5C所示。随后在LED管芯102上方形成封装112以产生完成的LED100,如图1所示。
现在转向图6,示出了根据本发明另一实施例的引线框安装LED600。在图6中使用与图1所用相同的标号来表示相似的元件。在本实施例中,LED 600包括不具有反射器杯状部分的安装结构,即引线框604。于是,LED管芯102所附接的引线框604的上表面基本上是平面的。在图6所图示的实施例中,3-D光子晶体层110跨越LED管芯的整个顶表面延伸。但是在其他实施例中,光子晶体层110可以部分跨越LED管芯102的顶表面延伸,仅仅覆盖LED管芯的顶表面的一部分。而在另外的实施例中,光子晶体层110可以部分或完全跨越LED管芯102的一个或多个侧表面延伸。
现在转向图7,示出了根据本发明实施例的表面安装LED 700。LED700包括LED管芯702、引线框704和706、键合线708、3-D光子晶体层710和封装712。LED管芯702使用粘结材料718附接到引线框704。键合线708连接到LED管芯702和引线框706以提供电连接。LED 700还包括在聚对苯撑乙炔(PPA)壳体或印刷电路板742上形成的反射器杯状部分720。封装712位于反射器杯状部分720中。在图7所图示的实施例中,3-D光子晶体层710跨越LED管芯702的整个顶表面延伸。但是在其他实施例中,光子晶体层710可以部分跨越LED管芯702的顶表面延伸,仅仅覆盖LED管芯的顶表面的一部分。而在另外的实施例中,光子晶体层710可以部分或完全跨越LED管芯702的一个或多个侧表面延伸。
现在转向图8,示出了根据本发明另一实施例的表面安装LED 800。在图8中使用与图7所用相同的标号来表示相似的元件。在本实施例中,LED 800不包括反射器杯状部分。于是,LED管芯702所附接的引线框704的上表面基本上是平面的。在图8所图示的实施例中,3-D光子晶体层710跨越LED管芯702的整个顶表面延伸。但是在其他实施例中,光子晶体层710可以部分跨越LED管芯702的顶表面延伸,仅仅覆盖LED管芯的顶表面的一部分。而在另外的实施例中,光子晶体层710可以部分或完全跨越LED管芯702的一个或多个侧表面延伸。
虽然在本文中本发明的不同实施例已经被描述为LED,但是根据本发明例如半导体激光设备的其他类型的发光设备也是可以的。实际上,本发明可以应用于使用一个或多个光源的任何发光设备。
参考图9的流程图描述根据本发明一个实施例的制造如LED的发光设备的方法。在框902处,提供光源。作为示例,光源可以是LED管芯。接着在框904处,在光源上形成光子晶体层,包括在光子晶体层内嵌入光致发光材料。在一个实施例中,光致发光材料被嵌入光子晶体层的周期性分布的空洞中,该空洞可以使用单分散胶体球产生。接着在框906处,在光子晶体层之上形成封装以封装光源并产生发光设备。
虽然已经描述和图示了本发明的具体实施例,但是本发明并不限于所描述和图示的部件的具体形式或布置。本发明的范围应由所附权利要求及其等同方案限定。

Claims (16)

1.一种发光设备,包括:
光源;
位于所述光源之上的光子晶体层;和
嵌入所述光子晶体层内的光致发光材料,
其中所述光子晶体层包括具有周期性分布的空洞的结构框架,所述光致发光材料位于所述周期性分布的空洞内,
其中所述光子晶体层的所述结构框架的折射率等于或大于所述光源的上层的折射率。
2.如权利要求1所述的设备,其中所述周期性分布的空洞是球形的。
3.如权利要求1所述的设备,其中所述光致发光材料包括至少一种量子点和至少一种非量子磷光体粒子中之一。
4.如权利要求3所述的设备,其中所述量子点和所述非量子磷光体粒子中的至少部分被覆盖有涂层材料,所述涂层材料的折射率匹配所述结构框架的折射率。
5.如权利要求4所述的设备,其中所述涂层材料包括二氧化钛。
6.如权利要求1所述的设备,其中所述光致发光材料包括激光染料、有机染料和无机染料之一。
7.如权利要求1所述的设备,其中所述光子晶体层的所述结构框架由选自绝缘体、半导体和金属的材料制成。
8.如权利要求1所述的设备,其中所述光源是发光二极管管芯。
9.一种制造发光设备的方法,所述方法包括:
提供光源;以及
在所述光源之上形成光子晶体层,包括在所述光子晶体层内嵌入光致发光材料,
其中所述形成所述光子晶体层的步骤包括形成具有周期性分布的空洞的结构框架,所述光致发光材料嵌入所述周期性分布的空洞内,
并且其中所述形成所述结构框架的步骤包括用如下的材料形成具有所述周期性分布的空洞的所述结构框架,所述材料的折射率等于或大于所述光源的上层的折射率。
10.如权利要求9所述的方法,其中所述形成所述结构框架的步骤包括用胶体球产生所述周期性分布的空洞。
11.如权利要求9所述的方法,其中所述光子晶体层的所述结构框架由选自绝缘体、半导体和金属的材料制成。
12.如权利要求9所述的方法,其中所述嵌入所述光致发光材料的步骤包括将至少一种量子点和至少一种非量子磷光体粒子中之一嵌入所述光子晶体层内。
13.如权利要求12所述的方法,其中所述量子点和所述非量子磷光体粒子中的至少部分被覆盖有涂层材料,所述涂层材料的折射率匹配所述结构框架的折射率。
14.如权利要求13所述的方法,其中所述涂层材料包括二氧化钛。
15.一种发光设备,包括:
发光半导体管芯;
所述发光半导体管芯上的光子晶体层,所述三维光子晶体具有周期性分布的空洞,所述光子晶体层的折射率等于或大于所述发光半导体管芯的上层的折射率;和
在所述光子晶体层的所述周期性分布的空洞中的光致发光材料。
16.如权利要求15所述的设备,其中所述光致发光材料包括至少一种量子点和至少一种非量子磷光体粒子中之一,所述量子点和所述非量子磷光体粒子中的至少部分被覆盖有涂层材料,所述涂层材料的折射率匹配结构框架的折射率。
CN200610001546.4A 2005-02-28 2006-01-20 具有带光致发光材料的光子晶体层的发光设备及制造方法 Expired - Fee Related CN100568552C (zh)

Applications Claiming Priority (2)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US11/069,922 US20060192225A1 (en) 2005-02-28 2005-02-28 Light emitting device having a layer of photonic crystals with embedded photoluminescent material and method for fabricating the device
US11/069,922 2005-02-28

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1828952A CN1828952A (zh) 2006-09-06
CN100568552C true CN100568552C (zh) 2009-12-09

Family

ID=36794265

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CN200610001546.4A Expired - Fee Related CN100568552C (zh) 2005-02-28 2006-01-20 具有带光致发光材料的光子晶体层的发光设备及制造方法

Country Status (4)

Country Link
US (1) US20060192225A1 (zh)
JP (1) JP2006245580A (zh)
CN (1) CN100568552C (zh)
DE (1) DE102005050317A1 (zh)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107827076A (zh) * 2015-12-31 2018-03-23 陶氏环球技术有限责任公司 纳米结构材料结构和方法

Families Citing this family (14)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7358543B2 (en) * 2005-05-27 2008-04-15 Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. Light emitting device having a layer of photonic crystals and a region of diffusing material and method for fabricating the device
KR20080037707A (ko) * 2005-08-11 2008-04-30 메르크 파텐트 게엠베하 규칙적으로 배열된 공동을 가진 광자 재료
US20070108463A1 (en) * 2005-11-17 2007-05-17 Chua Janet B Y Light-emitting diode with UV-blocking nano-particles
US20070295968A1 (en) * 2006-06-27 2007-12-27 Kheng Leng Tan Electroluminescent device with high refractive index and UV-resistant encapsulant
KR100933529B1 (ko) * 2008-05-28 2009-12-23 재단법인서울대학교산학협력재단 광자결정 구조체를 구비한 발광소자
TWI378575B (en) 2008-10-01 2012-12-01 Silitek Electronic Guangzhou Light emitting diode device and manufacturing method thereof
KR101018111B1 (ko) * 2008-10-07 2011-02-25 삼성엘이디 주식회사 양자점-금속산화물 복합체, 양자점-금속산화물 복합체의 제조방법 및 양자점-금속산화물 복합체를 포함하는 발광장치
CN101814559B (zh) * 2009-02-19 2012-08-08 旭丽电子(广州)有限公司 发光二极管装置及其制作方法
US8538224B2 (en) 2010-04-22 2013-09-17 3M Innovative Properties Company OLED light extraction films having internal nanostructures and external microstructures
DE102010051286A1 (de) 2010-11-12 2012-05-16 Osram Opto Semiconductors Gmbh Optoelektronischer Halbleiterchip und Verfahren zu dessen Herstellung
JP6158248B2 (ja) 2014-05-27 2017-07-05 ザ・ボード・オブ・トラスティーズ・オブ・ザ・ユニバーシティ・オブ・イリノイThe Board Of Trustees Of The University Of Illinois ナノ構造材料の方法および素子
KR102061533B1 (ko) * 2015-03-13 2020-01-02 롬 앤드 하스 일렉트로닉 머트어리얼즈 엘엘씨 나노구조 물질 방법 및 장치
KR102378952B1 (ko) * 2015-08-27 2022-03-25 쑤저우 레킨 세미컨덕터 컴퍼니 리미티드 발광소자 및 이를 포함하는 발광소자 패키지
CN105088306B (zh) * 2015-08-31 2017-04-19 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 一种双面镀层的阳极氧化铝纳米结构及其制备方法和应用

Family Cites Families (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
GB0208481D0 (en) * 2002-04-12 2002-05-22 Btg Int Ltd Photonic phosphors and devices
US6999669B2 (en) * 2002-08-19 2006-02-14 Georgia Tech Research Corporation Photonic crystals
DE10307281A1 (de) * 2003-02-20 2004-09-02 Patent-Treuhand-Gesellschaft für elektrische Glühlampen mbH Beschichteter Leuchtstoff, lichtemittierende Vorrichtung mit derartigem Leuchtstoff und Verfahren zu seiner Herstellung
US7423296B2 (en) * 2003-02-26 2008-09-09 Avago Technologies Ecbu Ip Pte Ltd Apparatus for producing a spectrally-shifted light output from a light emitting device utilizing thin-film luminescent layers
EP1797159A1 (en) * 2004-07-22 2007-06-20 Philips Intellectual Property & Standards GmbH Photonic band gap materials with phosphors incorporated
US7358543B2 (en) * 2005-05-27 2008-04-15 Avago Technologies Ecbu Ip (Singapore) Pte. Ltd. Light emitting device having a layer of photonic crystals and a region of diffusing material and method for fabricating the device

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
CN107827076A (zh) * 2015-12-31 2018-03-23 陶氏环球技术有限责任公司 纳米结构材料结构和方法

Also Published As

Publication number Publication date
DE102005050317A1 (de) 2006-08-31
US20060192225A1 (en) 2006-08-31
CN1828952A (zh) 2006-09-06
JP2006245580A (ja) 2006-09-14

Similar Documents

Publication Publication Date Title
CN100568552C (zh) 具有带光致发光材料的光子晶体层的发光设备及制造方法
US7358543B2 (en) Light emitting device having a layer of photonic crystals and a region of diffusing material and method for fabricating the device
JP5514391B2 (ja) 発光ダイオード及び出力光を放射する為の方法
US20060113895A1 (en) Light emitting device with multiple layers of quantum dots and method for making the device
US8575642B1 (en) Optical devices having reflection mode wavelength material
US8294160B2 (en) Light emitting device including a sealing portion, and method of making the same
US9153749B2 (en) Light emitting device package and lighting device with the same
US7481562B2 (en) Device and method for providing illuminating light using quantum dots
KR101251821B1 (ko) 발광 소자 패키지
US9392657B2 (en) Lighting control system and method for controlling the same
KR20170121777A (ko) 반도체 발광장치
TW201110424A (en) Illumination device
KR20160098580A (ko) 광학 소자 및 이를 포함하는 광원 모듈
US20090166651A1 (en) Light-emitting device with inorganic housing
US9680074B2 (en) Optical device and light emitting device package including the same
JP2005268786A (ja) 多数の波長変換機構を使用して合成出力光を放射する装置および方法
US9989197B2 (en) Optical device and light source module including the same
KR101666844B1 (ko) 광학 소자 및 이를 포함하는 광원 모듈
KR101338704B1 (ko) 발광장치
KR101916282B1 (ko) 발광 소자
US20240055570A1 (en) Light emitting device with light-altering material layer, and fabrication method utilizing sealing template
KR20120140053A (ko) 발광소자 패키지
WO2024036151A1 (en) Solid state light emitting components
KR20130120800A (ko) 발광소자 패키지

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20061222

Address after: Singapore Singapore

Applicant after: Annwa high tech ECBU IP (Singapore) Pte Ltd

Address before: Singapore Singapore

Applicant before: Avago Technologies General IP (Singapore) Pte. Ltd.

C10 Entry into substantive examination
SE01 Entry into force of request for substantive examination
C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20091209

Termination date: 20130120

CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee