CN100528849C - 不含1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体的制备方法以及唑尼沙胺高纯晶体 - Google Patents
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Abstract
本发明提供了一种制备唑尼沙胺晶体的方法,该唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,即通过将含水的C2-4的醇加入包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中,通过共沸蒸馏除去所述1,2-二氯乙烷,随后收集从该残余混合物中析出的晶体。本发明还提供了可以用作镇癫痫剂的包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷的高纯唑尼沙胺晶体。
Description
技术领域
本发明涉及一种唑尼沙胺(化学名称:1,2-苯并异噁唑-3-甲磺酰胺)高纯晶体(即不含1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体)的制备方法,所述唑尼沙胺可用作镇癫痫剂。更具体地,本发明涉及一种高效地制备包含不多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体的方法,并涉及由此获得的不含1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。
背景技术
唑尼沙胺在如日本和美国等一些国家已经广泛用作镇癫痫剂。JP-A-53-77057、美国专利第4172896号和JP-A-54-163823公开了唑尼沙胺及其制备方法。此外,“Yakugaku-Zasshi,第116卷,第533-547页(1996)”公开了实践中已通过使用作为中间体的1,2-苯并异噁唑-3-甲磺酰氯而制得唑尼沙胺,该中间体通过1,2-苯并异噁唑-3-乙酸的磺化和脱羧而获得。此外,“Yakugaku-Zasshi,第116卷,第533-547页(1996)”所公开的方法中,用于上述磺化和脱羧作用的溶剂是二氯甲烷,而在JP-A-53-77057所公开的方法中,用于上述磺化和脱羧作用的溶剂是1,2-二氯乙烷。
用生产中实际采用的实际生产技术不能完全除去用于制备药物的溶剂。因此,在其中连续进行多个步骤直到最后一步的药物制备中,每个步骤所用的溶剂均有可能以残留量留在药物中。此外,药物中的残留溶剂通常不能产生有利于药物的疗效的效果,相反,根据残留溶剂的种类及其浓度,它们可能导致病人的安全问题。在改善和增加药物安全性方面,人用药品注册技术规范的国际协调会(INTERNATIONALCONFERENCE ON HARMONISATION OF TECHNICALREQUIREMENTS FOR REGISTRATION OF PHARMACEUTICALS FORHUMAN USE(ICH))在1997年7月17目制定了ICH三方协调指导原则“杂质:残留溶剂的指导原则(IMPURITIES:GUIDELINE FORRESIDUAL SOLVENTS)”。
由于溶剂在提高药物产量或测定其例如晶型、纯度、溶解度等物理性能方面可能起重要作用,所以即使已知该溶剂有毒性,考虑到风险和收益的平衡,在许多情况下在制备药物时仍然不可避免地要使用该溶剂。在此情况下,该指导原则规定药物中残留溶剂的浓度不应当超过毒理学可接受的限度。
制备用于唑尼沙胺的中间体即1,2-苯并异噁唑-3-甲磺酰氯时所用的溶剂最好是1,2-二氯乙烷而不是二氯甲烷。那是因为,在1,2-苯并异噁唑-3-乙酸被磺化之后进行脱羧时,该反应混合物需要在约60℃加热,该温度高于二氯甲烷的沸点。此外,1,2-二氯乙烷也可以用于通过1,2-苯并异噁唑-3-甲磺酰氯与氨的反应来制备唑尼沙胺的步骤。然而,当使用1,2-二氯乙烷制备唑尼沙胺时,其残留浓度不应当超过如上述指导原则“杂质:残留溶剂的指导原则”中所规定的5ppm。该指导原则不适用于已经上市的药物,但是就药物的安全性而言,遵照该指导原则来制备药物是非常重要的。
通常通过干燥除去残留溶剂。然而,通过生产中实际使用的干燥法来彻底除去被包藏的溶剂是非常困难的。美国专利第4533746号公开了一种在双酚纯化时通过蒸馏来除去溶剂的方法,其中通过使双酚在水中熔融来使包藏在双酚中的溶剂释放并从中除去。该方法利用了双酚在水中受热时熔融这一特性,从而使包藏的溶剂得到释放。另一方面,即使通过在水中加热也不能使唑尼沙胺熔融,因此该方法不适用于除去唑尼沙胺晶体中包藏的溶剂。
发明内容
本发明人深入研究了制备具有高安全性和遵守上述指导原则的唑尼沙胺晶体的方法,并发现通过使用含水的C2-4醇,即通过将含水的C2-4醇加入到包含高浓度1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中,并蒸馏得到的混合物,接着进行结晶等步骤,即使是由包含高浓度1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体也可容易地获得所需的包含至多5ppm残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体,该方法不需要再配备除现有的装置以外的任何其他装置,也不需要重复再结晶步骤,并且对其产量没有影响,最后本发明人完成了本发明。
本发明提供了一种制备高纯唑尼沙胺晶体的方法,特别是包含至多5ppm残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体的制备方法。本发明还提供了一种高纯唑尼沙胺晶体,即不含1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体,特别是包含至多5ppm残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。
本发明包括下列实施方案:
1.一种唑尼沙胺晶体的制备方法,所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,该方法包括:将含水的C2-4醇加入到包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中,该唑尼沙胺晶体通常包含多于5ppm且少于等于200000ppm的1,2-二氯乙烷;通过共沸蒸馏除去所述1,2-二氯乙烷以获得残余混合物;随后收集从该残余混合物中析出的唑尼沙胺晶体,所收集的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1,2-二氯乙烷。
2.一种唑尼沙胺晶体的制备方法,所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,该方法包括下列步骤(a)、(b)、(c)和(d):
(a)将包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体溶于含水的C2-4醇,并对所得的混合物进行共沸蒸馏;
(b)在完成所述1,2-二氯乙烷的共沸蒸馏而获得残余混合物之后,停止所述蒸馏;
(c)冷却该残余混合物以析出唑尼沙胺晶体,所析出的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1,2-二氯乙烷;以及
(d)通过过滤来收集所析出的唑尼沙胺晶体,并对其进行干燥。
3.一种唑尼沙胺晶体的制备方法,所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,该方法包括上述步骤(a)和(b),以及下列步骤(c1)和(d1):
(c1)将与步骤(a)所用的C2-4醇相同的C2-4醇和/或水加入步骤(b)中得到的残余混合物中,以加热来溶解该残余混合物,并且对其进行冷却以析出唑尼沙胺晶体,所析出的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1,2-二氯乙烷;以及
(d1)通过过滤来收集所析出的唑尼沙胺晶体,并对其进行干燥。
4.如以上1~3任一项所述的方法,其中,所述含水的C2-4醇是含水的异丙醇。
5.如以上1~3任一项所述的方法,其中,所述含水的C2-4醇是包含35体积%~65体积%的水的异丙醇。
6.如以上2或3所述的方法,其中,停止所述蒸馏时的温度在78℃~100℃的范围内。
7.包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。
8.包含少于1ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。
9.具有残留1,2-二氯乙烷含量的唑尼沙胺晶体,所述残留含量为至多5ppm。
10.通过以上1~6任一项所述的方法制备的唑尼沙胺晶体。
具体实施方式
以下更加详细地说明本发明中所用的材料和本发明方法中的条件和步骤。
“包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体”(在下文中有时称为“唑尼沙胺起始晶体”)是指包含多于5ppm且不多于200000ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体,尽管没有必要对所述1,2-二氯乙烷的浓度的上限进行具体限定。通常,“包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体”是包含8ppm~150000ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。
“含水(的)C2-4醇”是指水和C2-4醇的混合物,“C2-4醇”包括例如乙醇、丙醇、异丙醇和2-丁醇。“含水(的)C2-4醇”优选是含水的乙醇、含水的丙醇或含水的异丙醇,其中最优选是含水的异丙醇。
以共沸蒸馏来除去1,2-二氯乙烷的步骤通常是在将唑尼沙胺起始晶体溶于含水的C2-4醇的步骤之后进行。用于溶解唑尼沙胺起始晶体的温度不必具体限定,但是通常是在从30℃至所使用的C2-4醇的沸点的范围内。
将唑尼沙胺起始晶体与含水的C2-4醇混合时,以每1重量份的唑尼沙胺起始晶体与5~15体积份的含水C2-4醇混合。换句话说,就是将1克干重的唑尼沙胺与5~15ml的含水C2-4醇混合。唑尼沙胺起始晶体与含水的C2-4醇混合时,优选以每1重量份的唑尼沙胺起始晶体与5.2~10.4体积份的含水C2-4醇混合。
优选的含水C2-4醇通常是包含35体积%~65体积%水的C2-4醇,更优选的是包含40~60体积%水的C2-4醇,进一步优选的是包含45~55体积%水的C2-4醇。在本说明书中,例如,含55体积%水的C2-4醇是指55体积份水和45体积份C2-4醇的混合物。
所述蒸馏可以在常压或者减压下进行,但是优选在常压下进行。开始蒸馏时的温度通常是1,2-二氯乙烷-C2-4醇-水的共沸点。例如,1,2-二氯乙烷-乙醇-水的共沸点是66.7℃,1,2-二氯乙烷-异丙醇-水的共沸点是69.7℃,但是这些共沸点可能在进行蒸馏时的大气压或摩尔沸点升高等影响下变化。停止蒸馏时的温度可以随所使用的含水C2-4醇的种类而变化,通常在78℃~100℃的范围内,优选在85℃~100℃的范围内,更优选90℃~100℃的范围内。
蒸馏停止后,就地冷却该残余混合物以析出包含至多5ppm残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。此外,唑尼沙胺晶体有可能在蒸馏过程中析出。因此,在停止蒸馏之后晶体在残余混合物中析出的情况下,在蒸馏停止后将与用于蒸馏过程的相同的C2-4醇和/或水加入残余混合物,并对得到的混合物进行再次加热以溶解该晶体,然后冷却析出包含至多5ppm残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。例如,当将含水的异丙醇用于蒸馏过程时,在蒸馏后将水和/或异丙醇以一定量加入至残余混合物中,使得蒸馏后该残余混合物中水和异丙醇的比例在35∶65至65∶35的范围内,优选在40∶60至60∶40的范围内,更优选在45∶55至55∶45的范围内,而且相对于每1重量份的唑尼沙胺起始晶体(干燥状态),水和异丙醇的总体积为2~20体积份,优选8~14体积份,并对得到的混合物进行再次加热,然后冷却。该步骤优选与使用活性炭的纯化同时进行。
通过过滤来收集所结晶的唑尼沙胺并用常规方法将其干燥,以产生包含至多5ppm残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体,在很多情况下,可得到包含低于检测极限的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。将通过过滤收集到的唑尼沙胺晶体在60~100℃、优选70~90℃的温度下干燥8~24小时,优选干燥12~18小时。更优选的是真空干燥。
除去实施例1中使用的溶剂外,可以根据JP-A-53-77057中的参考例3和实施例1所公开的方法来制备用于本方法的唑尼沙胺起始晶体。也就是说,通过以下方法制备唑尼沙胺起始晶体:在作为溶剂的1,2-二氯乙烷中使1,2-苯并异噁唑-3-甲磺酰氯与氨反应,浓缩该反应混合物,将水加入所得的残留物,接着收集所析出的晶体以得到包含约85重量%唑尼沙胺的湿晶体。
以通常的方式将上述方法得到的包含约85重量%唑尼沙胺的湿晶体从50%的含水异丙醇中再结晶,并将所得的晶体在减压下、在40~80℃的温度下干燥18小时以产生包含8~14ppm浓度的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。
实施例
通过下列实施例对本发明进行更详细的说明,但是不应当将本发明视为仅限于此。用气相色谱法测定唑尼沙胺晶体中1,2-二氯乙烷的含量。
实施例1
将含50体积%水的异丙醇(500ml)加入至包含约85重量%的唑尼沙胺的湿晶体(60g),并在搅拌下,在76~100℃的温度下通过蒸发除去320ml的该溶剂,其中该湿晶体是通过在JP-A-53-77057的参考例3和实施例1所公开的方法中使用1,2-二氯乙烷而制备的。将水(10ml)、异丙醇(200ml)和活性炭(8g)加入至该残余混合物,并加热溶解该混合物。通过过滤来分离活性炭,并使用50%的含水异丙醇(80ml)洗涤该活性炭。合并滤液和洗出液,并进行冷却。通过过滤来收集所析出的晶体,用水(100ml)洗涤该晶体,并将其在80℃干燥16小时以得到唑尼沙胺晶体(48.5g)。该晶体中1,2-二氯乙烷的含量小于1ppm(低于检测极限)。
实施例2~3
除了改变含水异丙醇中的含水量和该含水异丙醇的量之外,重复与实施例1相同的程序。结果显示于表1。
表1
项目 | 实施例2 | 实施例3 |
含水异丙醇中的含水量(体积%) | 65 | 50 |
含水异丙醇的量(ml) | 450 | 310 |
蒸发温度(℃) | 76~100 | 80~100 |
被蒸发的溶剂的量(ml) | 250 | 205 |
晶体产量(g) | 49.0 | 47.8 |
残留1,2-二氯乙烷的含量(ppm) | <1(低于DL) | <1(低于DL) |
(DL:检测极限)
实施例4
将含50体积%水的异丙醇(300ml)、水(7.5ml)和1,2-二氯乙烷(8.8g)加入至与实施例1所使用的相同的包含约85重量%唑尼沙胺的湿晶体(60g),在搅拌条件下,在79℃~100℃的温度下通过蒸发来除去210ml的该溶剂。冷却该残余混合物,并且通过过滤来收集所析出的晶体以得到唑尼沙胺湿晶体(56.7g)。该唑尼沙胺湿晶体中1,2-二氯乙烷含量少于1ppm(低于检测极限)。将该湿晶体在80℃干燥16小时以得到唑尼沙胺干燥晶体(49.9g)。
实施例5
将含55体积%水的异丙醇(260ml)加入至所干燥的唑尼沙胺晶体(50.0g),再向其中加入1,2-二氯乙烷(7.5g)和水(7.5g),以220rpm(转/分钟)的搅拌速度搅拌该混合物。然后,加热该混合物直至其内部温度变为100℃,并通过蒸发来除去160ml溶剂。冷却该残余混合物,向其中加入水(145ml)、异丙醇(230ml)和活性炭(9.1g),在80~83℃的温度下将该混合物加热1小时。通过过滤来分离出活性炭,并使用50%含水的异丙醇(175ml)洗涤该活性炭。合并滤液和洗出液,并进行冷却。冷却到大约8℃后,通过过滤来收集所析出的晶体,并用水(136ml)洗涤该晶体。在100℃用鼓风法将湿晶体干燥16小时以得到干燥的唑尼沙胺晶体(47.1g)。
工业实用性
用常规的再结晶方法,不能由使用1,2-二氯乙烷而制得的唑尼沙胺起始晶体得到包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。相反地,由本方法的实施例制得的唑尼沙胺晶体中,残留1,2-二氯乙烷的含量少于1ppm(低于检测极限),该含量远远低于所需的5ppm。如实施例4所示,即使在唑尼沙胺起始晶体中存在较大残留量的1,2-二氯乙烷,本方法仍然是有效和适用的。此外,如实施例5所示,即使以本方法对唑尼沙胺晶体进行处理,其产量也没有减小。
如上所述,根据本发明的方法,可以由使用1,2-二氯乙烷溶剂而制得的唑尼沙胺起始晶体有效地得到包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体。
Claims (5)
1.一种唑尼沙胺晶体的制备方法,所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,该方法包括:将包含35体积%~65体积%的水的C2-4醇加入到包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体中;通过共沸蒸馏除去所述1,2-二氯乙烷以获得残余混合物;随后收集从该残余混合物中析出的唑尼沙胺晶体,所收集的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1,2-二氯乙烷。
2.一种唑尼沙胺晶体的制备方法,所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,该方法包括下列步骤(a)、(b)、(c)和(d):
(a)将包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体溶于包含35体积%~65体积%的水的C2-4醇,并对所得的混合物进行共沸蒸馏;
(b)在完成所述1,2-二氯乙烷的共沸蒸馏而获得残余混合物之后,停止所述蒸馏;
(c)冷却该残余混合物以析出唑尼沙胺晶体,所析出的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1,2-二氯乙烷;以及
(d)通过过滤来收集所析出的唑尼沙胺晶体,并对其进行干燥。
3.一种唑尼沙胺晶体的制备方法,所制得的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的残留1,2-二氯乙烷,该方法包括下列步骤(a)、(b)、(c1)和(d1):
(a)将包含多于5ppm的残留1,2-二氯乙烷的唑尼沙胺晶体溶于包含35体积%~65体积%的水的C2-4醇,并对所得的混合物进行共沸蒸馏;
(b)在完成所述1,2-二氯乙烷的共沸蒸馏而获得残余混合物之后,停止所述蒸馏;
(c1)将与步骤(a)所用的C2-4醇相同的C2-4醇和/或水加入步骤(b)中得到的残余混合物中,以加热来溶解该残余混合物,并且对其进行冷却以析出唑尼沙胺晶体,所析出的唑尼沙胺晶体包含至多5ppm的1,2-二氯乙烷;以及
(d1)通过过滤来收集所析出的唑尼沙胺晶体,并对其进行干燥。
4.如权利要求1所述的方法,其中,所述含水的C2-4醇是含水的异丙醇。
5.如权利要求2所述的方法,其中,停止所述蒸馏时的温度在78℃~100℃的范围内。
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Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
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JP2008523109A (ja) * | 2005-01-21 | 2008-07-03 | テバ ファーマシューティカル インダストリーズ リミティド | ゾニサミドの安定医薬製剤及びそれらの製造のための方法 |
US7268234B2 (en) * | 2005-09-16 | 2007-09-11 | Dainippon Sumitomo Pharma Co., Ltd. | Method for sulfonation of 1,2-benzisoxazole-3-acetic acid |
CN104059120A (zh) * | 2014-05-27 | 2014-09-24 | 上海新华联制药有限公司 | 一种高纯度倍他米松醋酸酯制备工艺 |
Family Cites Families (15)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS6033114B2 (ja) | 1976-12-16 | 1985-08-01 | 大日本製薬株式会社 | 1,2−ベンズイソキサゾ−ル誘導体 |
US4172896A (en) * | 1978-06-05 | 1979-10-30 | Dainippon Pharmaceutical Co., Ltd. | Methane-sulfonamide derivatives, the preparation thereof and composition comprising the same |
FR2428033A1 (fr) | 1978-06-09 | 1980-01-04 | Dainippon Pharmaceutical Co | Nouveaux derives heterocycliques de methanesulfonamide utiles notamment comme anticonvulsivants et leur procede de preparation |
JPS54163823A (en) | 1978-06-12 | 1979-12-26 | Dainippon Pharmaceutical Co | Antiiepileptic agent based on 33sulphamoylmethyll 1*22benzisoxazole |
JPS54163570A (en) | 1978-06-12 | 1979-12-26 | Dainippon Pharmaceutical Co | Benzooxazole derivative |
US4533764A (en) * | 1984-03-29 | 1985-08-06 | The Dow Chemical Company | Purification of bisphenols by removing residual solvent |
GB8607294D0 (en) * | 1985-04-17 | 1986-04-30 | Ici America Inc | Heterocyclic amide derivatives |
JPS63150220A (ja) | 1986-12-15 | 1988-06-22 | Dainippon Pharmaceut Co Ltd | 経口用固形製剤の製造方法 |
US5082669A (en) * | 1989-07-20 | 1992-01-21 | Dainippon Pharmaceutical Co., Ltd. | Rapid-releasing oral particle pharmaceutical preparation with unpleasant taste masked |
US5811547A (en) * | 1992-10-14 | 1998-09-22 | Nippon Shinyaju Co., Ltd. | Method for inducing crystalline state transition in medicinal substance |
TW350757B (en) * | 1994-11-03 | 1999-01-21 | Ciba Geigy Ag | Benzisoxazole derivatives and pesticidal compositions containing them |
WO2001078725A2 (en) * | 2000-04-13 | 2001-10-25 | Synthon B.V. | Modified release formulations containing a hypnotic agent |
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