CN100519171C - 薄膜叠层体 - Google Patents
薄膜叠层体 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100519171C CN100519171C CNB2005800106325A CN200580010632A CN100519171C CN 100519171 C CN100519171 C CN 100519171C CN B2005800106325 A CNB2005800106325 A CN B2005800106325A CN 200580010632 A CN200580010632 A CN 200580010632A CN 100519171 C CN100519171 C CN 100519171C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- mentioned
- antistatic backing
- film laminate
- interface
- transmitance
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Active
Links
Images
Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
- Laminated Bodies (AREA)
Abstract
本发明公开了一种实质上消除了界面并且可以有效防止界面反射和干涉条纹发生的薄膜叠层体。本发明的薄膜叠层体,是按照光透射性基体材料,和在该光透射性基体材料上的防静电层与硬涂层的这样的顺序配备而成的薄膜叠层体,上述光透射性基体材料与上述防静电层的界面实质上不存在,和/或,上述防静电层与上述硬涂层的界面实质上不存在。
Description
技术领域
本发明涉及防止界面反射和干涉条纹的薄膜叠层体。
背景技术
液晶显示器(LCD)或者阴极管显示装置(CRT)等的图像显示装置中的显示面,要求减少从荧光灯等的外部光源照射的光线引起的反射,提高其可视性。对此,通过将透明物体表面用低折射率的透明皮膜覆盖,从而配备可降低反射率的薄膜叠层体(例如,防反射叠层体),由此,可以降低图像显示装置的显示面的反射性,提高可视性。
作为可实现防反射的薄膜叠层体的制造方法,从制造的容易性和低成本性的角度出发,涂布用于形成各层而调制的涂布液的湿式涂布法成为了主流。作为通过该湿式涂布法形成的薄膜叠层体的一个例子,可以列举出,按照防静电层、硬涂层、折射率层这样的顺序在光透射性基体材料的表面上形成的防反射叠层体。
为了进一步降低光的反射性,可以列举出高折射率层(例如,折射率接近1.5的硬涂层)与低折射率层叠层的方法。在湿式涂布法中,通过选择涂布折射率差大的材料,可以形成这样的两层。
然而,就叠层了折射率差大的层的防反射叠层体而言,在叠合的层的界面中,会经常产生界面反射和生成干涉条纹的问题。特别地报道了,在图像显示装置的显示画面上再现黑色时,干涉条纹明显发生,画面的可视性差。另外可知,在叠层折射率非常低(例如,小于1.2)的层的情况下,很难制造兼有与其他层的粘附性和叠层体本身的机械强度的防反射叠层体。
与此相对,根据特开2003-75605号公报,利用下述防反射硬涂层薄片,从而可以消除界面反射和干涉条纹等,所述防反射硬涂层薄片是通过在透明基体材料薄膜上,按照折射率为1.5~1.7的中折射率层、折射率为1.6~1.8的高折射率层、进而由比该高折射率层低的折射率材料构成的低折射率层这个顺序,从透明基体材料薄膜侧开始叠层得到的防反射硬涂层薄片。该现有技术是通过着眼于构成各层的材料本身而实现的。
然而,本发明者们确认的结果发现,对于膜薄叠层体,目前尚不能获得下述提案,即,通过着眼于光透射性基体材料与防静电层的界面以及防静电层与硬涂层的界面,改善其界面状态,来实现有效防止界面反射和干涉条纹的提案。
相关申请
本申请以专利申请2004-106597号(日本)和专利申请2005-92521号(日本)的专利申请为基础主张优先权,本申请说明书包含这些专利申请的内容。
发明内容
本发明者们,在本发明中发现,对光透射性基体材料与防静电层的界面以及防静电层与硬涂层的界面,通过实质性地消除这些界面可以有效地防止在各界面上的界面反射和干涉条纹的发生。因此,本发明着眼于光透射性基体材料与防静电层的界面以及防静电层与硬涂层的界面,其目的在于,通过实质性地消除这些界面,来提供具有机械强度、优异的防反射性能和可视性提高了的薄膜叠层体。
因此,本发明的薄膜叠层体,是包括光透射性基体材料且在该光透射性基体材料上顺次具备防静电层与硬涂层而成的,其中,
上述光透射性基体材料与上述防静电层的界面不存在,和/或,
上述防静电层与上述硬涂层的界面不存在。
根据本发明的薄膜叠层体,在光透射性基体材料与防静电层的界面,以及防静电层与硬涂层的界面上,可以有效地防止界面反射和干涉条纹的发生。另外,通过选择调制可形成这样的叠层构造的防静电层用组合物和硬涂层用组合物的成分,可提高各层的粘附性,增强薄膜叠层体自身的机械强度。
附图说明
[图1]图1为本发明的光学叠层体的剖面的激光显微镜照片的简图。
[图2]图2为比较例的光学叠层体的剖面的激光显微镜照片的简图。
具体实施方式
薄膜叠层体
本发明的薄膜叠层体是,光透射性基体材料与防静电层的界面和/或防静电层与硬涂层的界面(实质上)不存在的叠层体。在本发明中,“界面(实质上)不存在”是指,两个面虽然叠合但实际上不存在界面,还包括从折射率来看可以判断在两者的面上不存在界面的情况。
本发明中,作为所谓“界面(实质上)不存在”的形态,可以列举出,光透射性基体材料与防静电层的界面的折射率,从光透射性基体材料的折射率梯度变化为防静电层的折射率的形态。另外,作为另外的优选形态,可以列举出,防静电层与硬涂层的界面的折射率,从防静电层的折射率梯度变化为上述硬涂层的折射率的形态。
在本发明中,“界面(实质上)不存在”是指,两个层面虽然叠合但实际上不存在界面,还包括从折射率来看可以判断在两者的面上不存在界面的情况。作为“界面(实质上)不存在”的具体基准,例如,可以利用激光显微镜观察光学叠层体的剖面,将目视到干涉条纹的叠层体剖面判断为存在界面,将目视不到干涉条纹的叠层体剖面判断为不存在界面,来进行测定。由于激光显微镜对折射率不同的叠层体可以进行非破坏性的剖面观察,因而可得出在折射率差值不大的原材料之间,界面不存在的测定结果。因此从折射率来看,可判断光透射性基体材料与硬涂层之间不存在界面。另外,对于防静电层,可得出其与硬涂层和光透射性基体材料之间不存在清晰的线状界面的测定结果。
界面的实质性的消失
根据本发明的优选形态,可通过使用相对于光透射性基体材料具有浸透性的防静电层用组合物来形成防静电层,从而实现实质性上不存在光透射性基体材料与防静电层的界面。另外,可通过使用相对于防静电层具有浸透性的硬涂层用组合物来形成硬涂层,从而实现实质上不存在防静电层与硬涂层的界面。
在本发明中,如果使用对光透射性基体材料具有浸透性的防静电层用组合物来涂布,则该组合物会浸透(润湿)到光透射性基体材料内。之后,通过使该组合物固化,在光透射性基体材料上形成防静电层,从而使得在这两者叠合的面上实质上不存在界面。其原理虽然不能容易理解,但是认为可能是由于在光透射性基体材料与防静电层之间,产生从光透射性基体材料的成分向防静电层的成分的梯度成分变化。这在防静电层的表面上形成硬涂层的情况下也是一样的。
本发明的光学叠层体,是在光透射性基体材料上,按照防静电层、硬涂层这样的顺序来形成涂层,另一方面,在光透射性基体材料上,可以按照硬涂层、防静电层这样的顺序来形成涂层。
1.光透射性基体材料
光透射性基体材料,只要是可透过光,无论透明、半透明、无色或有色都可以,但优选无色透明的。作为光透射性基体材料的具体例子,可以列举出,由玻璃板;三醋酸纤维素(TAC)、聚对苯二甲酸乙二酯(PET)、二乙酰纤维素、醋酸丁酸纤维素、聚醚砜、丙烯酸类树脂;聚氨酯类树脂;聚酯;聚碳酸酯;聚砜;聚醚;三甲基戊烯;聚醚酮;(甲基)丙烯腈等形成的薄膜等。作为本发明的优选形态,优选列举出三醋酸纤维素(TAC)。光透射性基体材料的厚度为30μm~200μm的程度,优选50μm~200μm.
2.防静电层
本发明的防静电层,是由含有防静电剂、树脂和溶剂而成的具有浸透性的防静电层用组合物形成的。防静电层用组合物作为对光透射性基体材料具有浸透性的物质被调制。防静电层的厚度,优选为30nm~5μm的程度。
防静电剂(导电剂)
作为形成防静电层的防静电剂的具体例子,可以列举出,季铵盐、吡啶鎓盐、具有伯~叔胺基等阳离子性基团的各种阳离子性化合物,具有磺酸盐基、硫酸酯盐基、磷酸酯盐基、膦酸盐基等的阴离子性基团的阴离子性化合物,氨基酸类、氨基硫酸酯类等的两性化合物,氨基醇类、甘油类、聚乙二醇类等非离子性化合物,锡和钛的醇盐那样的有机金属化合物,以及锡和钛的乙酰丙酮化物盐那样的金属螯合物化合物等,进一步可列举出上述所列化合物高分子化了的化合物。另外,具有叔胺基、季铵基或金属螯合部位,并且,可以利用电离辐射线进行聚合的单体或低聚体;或具有可以利用电离辐射线进行聚合的可聚合官能团的偶联剂那样的有机金属化合物等的聚合性化合物,也可作为防静电剂使用。
另外,可列举出导电性超微粒。作为导电性微粒的具体例子,可以列举出由金属氧化物构成的物质。作为这样的金属氧化物,可以列举出ZnO(折射率1.90,下面括号内的数值表示折射率)、CeO2(1.95)、Sb2O2(1.71)、SnO2(1.997)、常被简称为ITO的氧化铟锡(1.95)、In2O3(2.00)、Al2O3(1.63)、锑掺杂氧化锡(简称:ATO,2.0)、铝掺杂氧化锌(简称:AZO,2.0)等。所谓微粒是指1微米以下即亚微粒子,优选平均粒径为0.1nm~0.3μm。
树脂
作为树脂的具体例子,可以使用热塑性树脂、热固化性树脂、或者电离辐射固化性树脂或者电离辐射线固化性化合物(包括有机反应性硅化合物)。作为树脂,也可以使用热塑性树脂,但更优选热固化性树脂,进一步优选的是含有电离辐射固化性树脂或者电离辐射线固化性化合物的电离辐射线固化性组合物。
作为电离辐射线固化性组合物,是将分子中含有聚合性不饱和键、或者环氧基的预聚合物、低聚体、和/或单体适当混合而来的。这里,所谓电离辐射线,是指电磁波或者带电粒子线中具有可以使分子聚合或者交联的能量量子的辐射线,通常可以使用紫外线或者电子束。
作为电离辐射线固化性组合物中的预聚物、低聚物的例子,可以列举出,不饱和二元羧酸与多元醇的缩合物等的不饱和聚酯类、聚酯甲基丙烯酸酯、聚醚甲基丙烯酸酯、多元醇甲基丙烯酸酯、三聚氰胺甲基丙烯酸酯等的甲基丙烯酸酯类、聚酯丙烯酸酯、环氧丙烯酸酯、聚氨酯丙烯酸酯、聚醚丙烯酸酯、多元醇丙烯酸酯、三聚氰胺丙烯酸酯等的丙烯酸酯类、阳离子聚合型环氧化合物。
作为电离辐射线固化性组合物中的单体的例子,可以列举出,苯乙烯、α-甲基苯乙烯等的苯乙烯类单体,丙烯酸甲酯、丙烯酸-2-乙基己基酯、丙烯酸甲氧基乙基酯、丙烯酸丁氧基乙基酯、丙烯酸丁酯、丙烯酸甲氧基丁基酯、丙烯酸苯基酯等的丙烯酸酯类,甲基丙烯酸甲酯、甲基丙烯酸乙酯、甲基丙烯酸丙酯、甲基丙烯酸甲氧基乙基酯、甲基丙烯酸乙氧基甲酯、甲基丙烯酸苯基酯、甲基丙烯酸十二烷基酯等的甲基丙烯酸酯类,丙烯酸-2-(N,N-二乙基氨基)乙基酯、丙烯酸-2-(N,N-二甲基氨基)乙基酯、丙烯酸-2-(N,N-二苄基氨基)甲基酯、丙烯酸-2-(N,N-二乙基氨基)丙基酯等的不饱和取代的取代氨基醇酯类、丙烯酰胺、甲基丙烯酰胺等的不饱和羧酸酰胺、乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二丙烯酸酯、新戊二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯、三甘醇二丙烯酸酯等的化合物,双丙甘醇二丙烯酸酯、乙二醇二丙烯酸酯、丙二醇二(甲基丙烯酸)酯、二甘醇二(甲基丙烯酸)酯等的多官能团化合物,和/或分子中含有2个以上硫醇基的多硫醇化合物,例如三羟甲基丙烷三巯基乙醇酸酯、三羟甲基丙烷三硫代丙酸酯、季戊四醇四巯基乙醇酸酯等。通常来说,作为电离辐射线固化性组合物中的单体,根据需要,混合使用1种或2种以上的上述化合物。
在要求涂布、固化电离辐射线固化性组合物时的挠性(flexibility)时,可减少单体量,或者使用官能团的数目为1或者2的丙烯酸酯单体。要求涂布、固化电离辐射线固化性组合物时的耐磨耗性、耐热性、耐溶剂性时,使用官能团的数目为3以上的丙烯酸酯单体等的电离辐射线固化性组合物的设计成为可能。这里,作为官能团数目为1的单体,可以列举出2-羟基丙烯酸酯、丙烯酸2-己基酯、苯氧基乙基丙烯酸酯。作为官能团数目为2的单体,可以列举出乙二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯。作为官能团数目为3的单体,可以列举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二(季戊四醇)六丙烯酸酯等。
为了调整涂布、固化电离辐射线固化性组合物时的挠性、表面硬度等物性,也可以在电离辐射线固化性组合物中添加在电离辐射线照射下不固化的树脂。作为具体的树脂的例子有以下物质:聚氨酯树脂、纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂、聚酯树脂、丙烯酸树脂、聚氯乙烯树脂、聚醋酸乙烯酯等热塑性树脂。其中,从提高挠性的观点出发,优选添加聚氨酯树脂、纤维素树脂、聚乙烯醇缩丁醛树脂等。
在通过紫外线照射进行电离辐射线固化性组合物的涂布后的固化时,要添加光聚合引发剂、光聚合促进剂。作为光聚合引发剂,在为具有自由基聚合性不饱和基团的树脂类的情况下,可以单独或混合使用苯乙酮类、二苯甲酮类、噻吨酮、苯偶姻、苯偶姻甲基醚等。另外,在为具有阳离子聚合性官能团的树脂类的情况下,作为光聚合引发剂,可以单独或以混合物的形式使用芳香族重氮盐、芳香族锍盐、芳香族碘鎓盐、金属茂化合物、苯偶姻磺酸酯等。光聚合引发剂的添加量,相对于100重量份的电离辐射线固化性组合物,为0.1~10重量份。
电离辐射线固化性组合物中,可以并用以下那样的有机反应性硅化合物。
作为有机硅化合物,是用通式RmSi(OR’)n(式中R及R’表示碳原子数为1~10的烷基,m和n是满足m+n=4的关系的整数)来表示的。
具体可以列举出,四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四异丙氧基硅烷、四正丙氧基硅烷、四正丁氧基硅烷、四仲丁氧基硅烷、四叔丁氧基硅烷、四五乙氧基硅烷、四五异丙氧基硅烷、四五正丙氧基硅烷、四五正丁氧基硅烷、四五仲丁氧基硅烷、四五叔丁氧基硅烷、甲基三乙氧基硅烷、甲基三丙氧基硅烷、甲基三丁氧基硅烷、二甲基二甲氧基硅烷、二甲基二乙氧基硅烷、二甲基乙氧基硅烷、二甲基甲氧基硅烷、二甲基丙氧基硅烷、二甲基丁氧基硅烷、甲基二甲氧基硅烷、甲基二乙氧基硅烷、己基三甲氧基硅烷等。
可与电离辐射线固化性组合物并用的有机硅化合物是硅烷偶联剂。具体可以列举出γ-(2-氨基乙基)氨基丙基三甲氧基硅烷、γ-(2-氨基乙基)氨基丙基甲基二甲氧基硅烷、β-(3,4-环氧环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-氨基丙基三乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲氧基硅烷、N-β-(N-乙烯基苄基氨基乙基)-γ-氨基丙基甲氧基硅烷·盐酸盐、γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、氨基硅烷、甲基甲氧基硅烷、乙烯基三乙酰氧基硅烷、γ-巯基丙基三甲氧基硅烷、γ-氯丙基三甲氧基硅烷、六甲基二硅氮烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷、十八烷基二甲基[3-(三甲氧基甲硅烷基)丙基]氯化铵、甲基三氯硅烷、二甲基二氯硅烷等。
溶剂
作为溶剂的具体例子,可以列举出异丙醇、甲醇、乙醇等的醇类;丙二醇等的二醇类;丙二醇单丙基醚等的二醇醚类;甲基乙基酮(以下,有时称“MEK”)、甲基异丁基酮(以下,有时称“MIBK”)、环己酮等的酮类;醋酸乙酯、醋酸丁酯等的酯类;卤代烃;甲苯、二甲苯等的芳香族烃,或者这些物质的混合物,优选列举出酮类。
在本发明中,利用对光透射性基体材料具有浸透性(润湿性)的溶剂。因此,在本发明中,浸透性溶剂的所谓“浸透性”,是包含对光透射性基体材料的浸透性、膨润性、润湿性等的全部概念的意思。作为浸透性溶剂的具体例子,可以列举出,异丙醇、甲醇、乙醇等的醇类,甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮等的酮类,醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯等的酯类,氯仿、二氯甲烷、四氯乙烷等的卤代烃,或者这些物质的混合物,优选列举出酯类。
作为溶剂的具体例子,可以列举出,丙酮、醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、氯仿、二氯甲烷、三氯乙烷、四氢呋喃、甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮、硝基甲烷、1,4-二噁烷、二氧戊环、N-甲基吡咯烷酮、N,N-二甲基甲酰胺、甲醇、乙醇、异丙醇、丁醇、异丁醇、二异丙基醚、甲基溶纤剂、乙基溶纤剂、丁基溶纤剂,优选列举出醋酸甲酯、醋酸乙酯、醋酸丁酯、甲基乙基酮等。
3.硬涂层
对上述防静电层具有浸透性的硬涂层用组合物优选如以下那样调制。所谓“硬涂层”,在JIS5600-5-4:1999规定的铅笔硬度试验中具有“H”以上的硬度。硬涂层的膜厚(固化时)为0.1~100μm,优选处于0.8~20μm的范围内。
树脂
硬涂层优选使用电离辐射线固化型树脂组合物来形成,更优选的是具有(甲基)丙烯酸酯类官能团的物质,例如可以使用,比较低分子量的聚酯树脂、聚醚树脂、丙烯酸树脂、环氧树脂、聚氨酯树脂、醇酸树脂、螺缩醛树脂、聚丁二烯树脂、聚硫醇聚醚树脂、多元醇、乙二醇二(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇二(甲基)丙烯酸酯单硬酯酸酯等的二(甲基)丙烯酸酯,三羟甲基丙烷三(甲基)丙烯酸酯、季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯等的三(甲基)丙烯酸酯,季戊四醇四(甲基)丙烯酸酯衍生物、二(季戊四醇)五(甲基)丙烯酸酯等作为多官能团化合物的单体类,或者环氧丙烯酸酯或者氨基甲酸酯丙烯酸酯等的低聚物。在本发明中,可优选列举出季戊四醇三(甲基)丙烯酸酯、异氰脲酸环氧改性二丙烯酸酯。
溶剂
溶剂与防静电层用组合物中的说明同样即可。
4.低折射率层
本发明的薄膜叠层体,优选进一步具备低折射率层。
低折射率层,是由含有二氧化硅或氟化镁的树脂、作为低折射率树脂的氟类树脂、含有二氧化硅或氟化镁的氟类树脂构成,由折射率为1.46以下的仍为30nm~1μm程度的薄膜、或二氧化硅或氟化镁通过化学蒸镀法或物理蒸镀法获得的薄膜构成。对于氟类树脂以外的树脂,与用于构成防静电层的树脂相同。
低折射率层,可以更优选的由含有聚硅氧烷的1,1-二氟乙烯共聚物构成。该含有聚硅氧烷的1,1-二氟乙烯共聚物,具体来说,是通过将含有30~90%的1,1-二氟乙烯和5~50%的六氟丙烯(以后也同样,百分率都以质量为基准)的单体组合物作为原料进行共聚得到的,是含有100份含氟比例为60~70%的含氟共聚物和80~150份具有乙烯性不饱和基团的聚合性化合物的树脂组合物,使用该树脂组合物,可形成下述低折射率层,即,是膜厚为200nm以下的薄膜,而且被赋予了耐擦伤性的、折射率小于1.60(优选为1.46以下)的低折射率层。
构成低折射率层的上述含有聚硅氧烷的1,1-二氟乙烯共聚物,单体组合物中的各成分的比例为,1,1-二氟乙烯为30~90%,优选为40~80%,特别优选为40~70%,另外六氟丙烯为5~50%,优选为10~50%,特别优选为15~45%。该单体组合物,可以进一步含有0~40%,优选0~35%,特别优选10~30%的四氟乙烯。
上述单体组合物,在不损害上述的含有聚硅氧烷的1,1-二氟乙烯共聚物的使用目的及效果的范围内,可以例如在20%以下,优选10%以下的范围内含有其他的共聚物成分,作为这样的其他的共聚物成分的具体例子,可以列举出氟乙烯、三氟乙烯、氯代三氟乙烯、1,2-二氯-1,2-二氟乙烯、2-溴-3,3,3-三氟乙烯、3-溴-3,3-二氟丙烯、3,3,3-三氟丙烯、1,1,2-三氯-3,3,3-三氟丙烯、α-三氟甲基丙烯酸等的具有氟原子的聚合性单体。
从以上那样的单体组合物得到的含氟共聚物,其含氟比例必须为60~70%,优选的含氟比例为62~70%,特别优选为64~68%。通过将含氟比例处于这样的特定范围,可使含氟聚合物相对于溶剂具有良好的溶解性,并且通过含有这样的含氟聚合物作为成分,可形成对各种基体材料有优异的粘附性,具有高透明度和低折射率,同时具有优异机械强度的薄膜,所以可成为薄膜的形成的表面的耐伤性等机械特性充分高的薄膜,是非常理想的。
该含氟共聚合物,其分子量按聚苯乙烯校正数均分子量计,为5,000~200,000,特别优选为10,000~100,000。通过使用具有这样大小的分子量的含氟共聚物,使得所得到的氟类树脂组合物的粘度成为合适的大小,因此,可以形成确实具有合适涂布性的氟类树脂组合物。该含氟共聚物,优选其本身的折射率为1.45以下,特别优选为1.42以下,进一步优选为1.40以下。在使用折射率超过1.45的含氟共聚物的情况下,由得到的氟类涂料形成的薄膜有防反射效果小的情况。
此外,低折射率层可以用SiO2制成的薄膜构成,可以通过蒸镀法、溅射法、或者等离子体CVD法等来形成,或者通过由含有SiO2溶胶的溶胶液形成SiO2凝胶膜的方法来形成。另外,低折射率层除了SiO2以外,可以用MgF2的薄膜、其他的原材料来构成,但从对下层粘附性高的观点出发,优选使用SiO2薄膜。在上述方法中,在利用等离子体CVD法时,优选在以有机硅氧烷作为原料气,不存在其他的无机质的蒸镀源的条件下进行,另外,优选将被蒸镀体维持在尽可能低的温度来进行。
薄膜叠层体的制造方法
组合物的调制
防静电层、硬涂层、低折射率层用的各组合物,可以依照一般的调制方法,通过混合并且分散处理前面说明的成分来调制。在混合分散时,可以用涂料混合器或者珠磨机等进行适当的分散处理。
涂布
作为各组合物在光透射基体材料表面、防静电层表面上的涂布方法的具体例子,可以使用旋涂法、浸涂法、喷涂法、刮涂法、棒涂法、辊涂法、弯面涂布(meniscus coat)法、胶版印刷法、丝漏印刷法、ピ—ドコ—タ—法等各种方法。
优选实施形态
对本发明的薄膜叠层体的优选形态记载如下。
防静电层的形成
在作为光透射型基体材料的三醋酸纤维素(TAC)上,涂布下述具有浸透性的防静电层用组合物,形成防静电层。
防静电层用组合物的调制
防静电剂
防静电剂可以是任意的,但优选使用金属微粒,更优选使用锑掺杂氧化锡(ATO)。
树脂
树脂,可以列举出电离辐射固化性树脂,优选官能团数目为1或2以上的丙烯酸酯单体,例如,作为官能团数目为1的单体,可以列举出2-羟基丙烯酸酯、丙烯酸酯2-己基、苯氧基乙基丙烯酸酯。作为官能团数目为2的单体,可以列举出乙二醇二丙烯酸酯、1,6-己二醇二丙烯酸酯。作为官能团数目为3的单体,可以列举出三羟甲基丙烷三丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、季戊四醇四丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯等。更优选的是1,6-己二醇二丙烯酸酯。
溶剂
作为溶剂的优选的具体例子,可以列举出甲基乙基酮、甲基异丁基酮、环己酮(优选)等的酮类;醋酸乙酯、醋酸丁酯(优选)等的酯类;卤代烃;甲苯、二甲苯等的芳香族烃;或者它们的混合物。树脂与溶剂的添加比例以重量基准计,为1:1~1:3,优选为3:4。
根据本发明的优选形态,防静电层优选通过由防静电剂(优选金属性微粒)、和作为树脂的电离辐射线固化性组合物、和作为溶剂的酮类和/或酯类混合而成的组合物来形成。
作为本发明的优选的防静电层用组合物,可以列举出,作为防静电剂的锑掺杂氧化锡(ATO)与、作为树脂的1,6-己二醇二丙烯酸酯、二季戊四醇六丙烯酸酯、季戊四醇三丙烯酸酯、或者二季戊四醇单羟基五丙烯酸酯(DPPA)与、作为溶剂的环己酮、醋酸丁酯、或者它们的混合物的混合组合物。
作为更优选的防静电层用组合物,可以列举出,作为防静电剂的锑掺杂氧化锡(ATO)与、作为树脂的1,6-己二醇二丙烯酸酯与、作为溶剂的环己酮和醋酸丁酯的混合组合物。这种情况下,环己酮与醋酸丁酯的混合比例以重量基准计,为20:80~80:20,优选为30:70。
硬涂层的形成
在防静电层上,涂布下述浸透性的硬涂层用组合物,得到光学叠层体。
硬涂层用组合物的调制
树脂
作为树脂的优选的具体例,为电离辐射线固化性组合物,优选为季戊四醇三丙烯酸酯(PETA)。
溶剂
作为溶剂的优选的具体例子,可以列举出MEK、MIBK、环己酮(优选)等的酮类;醋酸乙酯、醋酸丁酯(优选)等的酯类;卤代烃;甲苯、二甲苯等的芳香族烃;或者它们的混合物、MEK、MIBK。
树脂与溶剂的添加比例以重量基准计,为20:80~80:20,优选为55:70。
作为本发明的优选的硬涂层用组合物,可以列举出,作为树脂的季戊四醇三丙烯酸酯、或者异氰脲酸环氧改性二丙烯酸酯与、作为溶剂的环己酮、MIBK、MEK、或者它们的混合物的混合组合物。作为溶剂,可优选列举出,环己酮与MIBK与MEK的混合组合物。在这种情况下,环己酮、MIBK、MEK的混合比例以重量基准计,为5:2:3。
薄膜叠层体的利用
本发明的薄膜叠层体具有下述用途。
防反射叠层体
本发明的薄膜叠层体可作为防反射叠层体来利用。
偏光板
根据本发明的其他的形态,可以提供配备了偏光元件和本发明的薄膜叠层体而成的偏光板。具体来说可以提供一种偏光板,其是在偏光元件的表面上配备本发明的薄膜叠层体而成的,其中,所述薄膜叠层体与偏光元件的表面接触的面是与该薄膜叠层体中的防眩层存在的面相反的面。
偏光元件,可以使用例如经碘或者染料染色后拉伸而成的聚乙烯醇薄膜、聚乙烯醇缩甲醛薄膜、聚乙烯醇乙缩醛薄膜、乙烯-醋酸乙烯酯共聚体系皂化薄膜等。在叠层处理时,为了提高粘结性或防静电,优选对光透射性基体材料(优选三乙酰纤维素薄膜)进行皂化处理。
图像显示装置
根据本发明的其他的形态,可以提供图像显示装置,该图像显示装置是通过配备透射性显示体和从背面照射上述透射性显示体的光源器件而成的,是在该透射性显示体的表面上形成本发明的薄膜叠层体或者本发明的偏光板而成的。本发明的图像显示装置,基本来说由光源器件(背光源)、显示元件和本发明的薄膜叠层体来构成。图像显示装置,可用于透射型显示器件,特别是用于电视、计算机、文字处理器等的显示器显示。尤其是用于CRT、液晶面板等的高精细图像用显示器的表面中。
在本发明的图像显示装置是液晶显示器件的情况下,光源器件的光源从本发明的薄膜叠层体的下侧照射。另外,在STN型的液晶显示器件中,在液晶显示元件与偏光板之间,可插入位相差板。该液晶显示器件的各层间可根据需要设置粘结剂层。
实施例
通过下述例子来详细说明本发明的内容,但本发明的内容不仅限于下述例子进行解释。
各层用组合物的调制
依据下述组成混合并调制各层用组合物。
防静电层用组合物
基本组合物1
防静电剂(ATO) 30质量份
季戊四醇三丙烯酸酯 10质量份
(日本化药(株)制,商品名:PET30)
环己酮 30质量份
MIBK 30重量份
分散剂 2.5质量份
基本组合物2
防静电剂(ATO) 30质量份
季戊四醇三丙烯酸酯 10质量份
(日本化药(株)制,商品名:PET30)
甲苯 60质量份
分散剂 2.5质量份
防静电层用组合物1
基本组合物 1100质量份
引发剂 相对于树脂成分为5质量份
(チバ·スペシャリティ·ケミカルズ(株)制,商品名イルガキュア907)
环己酮 219质量份
MIBK 219重量份
防静电层用组合物2
基本组合物2 100质量份
季戊四醇三丙烯酸酯 3.5质量份
引发剂 相对于树脂成分为5质量份
(チバ·スペシャリティ·ケミカルズ(株)制,商品名イルガキュア907)
甲苯 460质量份
硬涂层用组合物
季戊四醇三丙烯酸酯 100重量份
(日本化药(株)制,商品名:PET30)
甲基乙基酮 43重量份
均化剂 2重量份
(大日本インキ化学工业(株),商品名:MCF-350-5)
聚合引发剂 6重量份
(チバ·スペシャリティ·ケミカルズ(株)制,商品名イルガキュア184)
薄膜叠层体的调制
实施例1
准备光透射性基体材料(厚80μm的三乙酰纤维素树脂薄膜(富士写真フィルム(株)制,TF80UL),使用卷线型涂布棒在薄膜的一面上涂布防静电层用组合物1,在温度70℃的热烘箱中保持30秒,使涂膜中的溶剂蒸发,之后,按照累积光量达到98mj那样照射紫外线,使涂膜固化,形成0.7g/cm2(干燥时)的透明防静电层,从而调制了防静电叠层体。之后,涂布硬涂层用组合物,在温度70℃的热烘箱中保持30秒,使涂膜中的溶剂蒸发,之后,按照累积光量达到46mj那样照射紫外线,使涂膜固化,形成15g/cm2(干燥时)的硬涂层,从而调制了薄膜叠层体。
比较例1
除了使用防静电层用组合物2以外,与实施例1一样来调制薄膜叠层体。
评价试验
对在实施例1及比较例1中调制的薄膜叠层体进行下述评价试验,其结果记载在表1中。
评价1:有无干涉条纹的试验
在薄膜叠层体的硬涂层和相反面上,贴上为了防止背面反射的黑色带子,然后从硬涂层面目视观察薄膜叠层体,用下述评价基准进行评价。
评价基准
评价◎:无干涉条纹发生。
评价×:有干涉条纹发生。
评价2:有无界面的试验
利用共焦点激光显微镜(LeicaTCS-NT,ライカ社制,倍率“500~1000倍”)来透射观察薄膜叠层体的剖面,判断有无界面,用下述评价基准来判断。具体来说是,为了得到无晕影的清晰图像,在共焦点激光显微镜中使用湿式的物镜,并且,在薄膜叠层体上涂约2ml折射率为1.518的油来观察判断。油的使用,是用于消除物镜与薄膜叠层体之间的空气层。
评价基准
评价◎:观察不到界面(注解1)。
评价×:可观察到界面(注解2)。
注解1及注解2
注解1:实施例1如图1所示,可观察到油面/硬涂层的界面和、防静电层中含有的防静电剂,没有观察到硬涂层与防静电层与光透射性基体材料的界面。
注解2:比较例1如图2所示,观察到了油面/硬涂层的界面和、硬涂层、防静电层/光透射基体材料的界面。
表1
Claims (10)
1.一种薄膜叠层体,是包括光透射性基体材料且在该光透射性基体材料上顺次具备防静电层与硬涂层而成的,其中,
上述光透射性基体材料与上述防静电层的界面不存在,和/或,
上述防静电层与上述硬涂层的界面不存在。
2.如权利要求1所述的薄膜叠层体,其中通过使用对上述光透射性基体材料具有浸透性的防静电层用组合物来形成上述防静电层,从而成为不存在上述光透射性基体材料与上述防静电层的界面的薄膜叠层体。
3.如权利要求1所述的薄膜叠层体,其中通过使用对上述防静电层具有浸透性的硬涂层用组合物来形成上述硬涂层,从而成为不存在上述防静电层与上述硬涂层的界面的薄膜叠层体。
4.如权利要求1所述的薄膜叠层体,其中上述光透射性基体材料与上述防静电层的界面的折射率,从上述光透射性基体材料的折射率向上述防静电层的折射率梯度变化。
5.如权利要求1所述的薄膜叠层体,其中上述防静电层与上述硬涂层的界面的折射率,从上述防静电层的折射率向上述硬涂层的折射率梯度变化。
6.一种薄膜叠层体,是包括光透射性基体材料且在上述光透射性基体材料上顺次形成硬涂层与防静电层而成的,其中,上述光透射性基体材料与上述硬涂层的界面不存在,和/或,上述硬涂层与上述防静电层的界面不存在。
7.如权利要求1所述的薄膜叠层体,是在上述硬涂层表面上进一步形成低折射率层而成的。
8.如权利要求1所述的薄膜叠层体,作为防反射叠层体来利用。
9.一种偏光板,是具有偏光元件而成的偏光板,是在上述偏光元件的表面上具有权利要求8所述的防反射叠层体而成的。
10.一种图像显示装置,是具有透射性显示体和从背面照射上述透射性显示体的光源器件而成的图像显示装置,是在上述透射性显示体的表面上,具有权利要求8所述的防反射叠层体或者权利要求9所述的偏光板而成的。
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP106597/2004 | 2004-03-31 | ||
JP2004106597 | 2004-03-31 | ||
JP092521/2005 | 2005-03-28 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1938150A CN1938150A (zh) | 2007-03-28 |
CN100519171C true CN100519171C (zh) | 2009-07-29 |
Family
ID=37955123
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2005800106325A Active CN100519171C (zh) | 2004-03-31 | 2005-03-30 | 薄膜叠层体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN100519171C (zh) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2010116821A1 (ja) * | 2009-03-30 | 2010-10-14 | 株式会社 きもと | 組成物および積層体 |
US20140186587A1 (en) * | 2012-12-27 | 2014-07-03 | Cheil Industries Inc. | Transparent conductor and apparatus including the same |
CN104950509A (zh) * | 2015-06-27 | 2015-09-30 | 杨齐成 | 一种液晶显示装置及其减反射膜结构 |
-
2005
- 2005-03-30 CN CNB2005800106325A patent/CN100519171C/zh active Active
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1938150A (zh) | 2007-03-28 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
CN105467473B (zh) | 防反射膜、显示装置及显示装置的防反射膜的选择方法 | |
CN101410729B (zh) | 光学层积体 | |
CN100480737C (zh) | 防反射叠层体和光学元件 | |
CN101156093B (zh) | 偏振板 | |
CN101128753B (zh) | 薄膜及其制备方法、使用该薄膜的偏振片、液晶、以及使用该偏振片的显示装置 | |
US7645502B2 (en) | Anti-dazzling film | |
JP4404336B2 (ja) | 反射防止積層体 | |
US7149032B2 (en) | Anti-glare film | |
JP2005313620A (ja) | 薄膜積層体 | |
CN103299217A (zh) | 防反射膜、防反射膜的制造方法、偏振片和图像显示装置 | |
JP5055695B2 (ja) | 反射防止積層体 | |
CN101155683B (zh) | 光学叠层体 | |
JP3515447B2 (ja) | 反射防止材料及びそれを用いた偏光フィルム | |
CN102985498A (zh) | 硬涂层用固化性树脂组合物、硬涂薄膜的制造方法、硬涂薄膜、偏振片及显示面板 | |
JP4404337B2 (ja) | 反射防止積層体 | |
US7662483B2 (en) | Optical laminate | |
KR101109172B1 (ko) | 광학적층체 | |
JP2015074087A (ja) | 反射防止フィルム、偏光板、カバーガラス、及び画像表示装置、並びに反射防止フィルムの製造方法 | |
US7534491B2 (en) | Optical laminate | |
JP2006126802A (ja) | 光学積層体 | |
CN100519171C (zh) | 薄膜叠层体 | |
JP2006123498A (ja) | 光学積層体 | |
JP2011081121A (ja) | 光学積層体 | |
JP2007086521A (ja) | 反射防止積層体 | |
JP4710269B2 (ja) | 反射防止積層フィルムおよびそれを用いた表示媒体 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant |