CN100489565C - 光校准和扩散膜以及制造该膜的系统 - Google Patents

光校准和扩散膜以及制造该膜的系统 Download PDF

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Abstract

提供了一种光校准和扩散膜以及制造该膜的方法。所述膜包括可塑层，该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘。该第一侧具有第一纹理表面，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7%至20%的倾角具有零度至五度的值。所述第一轴线基本平行于第一外围边缘。所述可塑层校准经过其传播的光。

Description

光校准和扩散膜以及制造该膜的系统
背景技术
已经研发了用于接收光并扩散光的光扩散膜。该光扩散膜使用多个制造步骤制造。首先，在丙烯酸酯溶液中放置多个聚苯乙烯珠。接下来将该丙烯酸酯溶液涂敷到可塑膜的表面。其后，加热可塑膜以烘培丙烯酸酯并且将聚苯乙烯珠附着到该可塑膜。这种光扩散膜制造工艺的主要缺点是其需要一些相对复杂的步骤来用丙烯酸酯溶液和聚苯乙烯珠涂敷该膜。此外，实施该制造工艺相对昂贵。
因此，需要使用简化的工艺以制造光扩散膜，该工艺不利用丙烯酸酯溶液或聚苯乙烯珠。
发明内容
根据一个典型实施方案，提供了一种光校准和扩散膜。该膜包括可塑层，该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘。该第一侧具有第一纹理表面，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。第一轴线基本平行于第一外围边缘。该可塑层校准经过其传播的光。
根据另一典型实施方案，提供了一种制造光校准和扩散膜的方法。该方法包括经过模具挤压加热的塑料以形成可塑层。该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘。该可塑层沿第一轴线和第二轴线延伸。该第一轴线基本平行于第一外围边缘。第二轴线基本垂直于第一轴线。该方法还包括冷却第一和第二旋转圆筒形滚柱中至少一个低于预定的温度。该方法还包括在第一和第二旋转圆筒形滚柱之间移动可塑层。第一圆筒形滚柱接触可塑层的第一侧，第二圆筒形滚柱接触可塑层的第二侧。第一圆筒形滚柱在可塑层的第一侧上形成第一纹理表面，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于制造光校准和扩散膜的系统。该系统包括可操作地连接到模具的挤压设备。该挤压设备推进加热的塑料经过模具以形成可塑层。该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘。该可塑层沿第一轴线和第二轴线延伸。该第一轴线基本平行于第一外围边缘。第二轴线基本垂直于第一轴线。该系统还包括用于接收可塑层的，彼此紧邻放置的第一和第二圆筒形滚柱。该系统还包括冷却设备，设定该设备以冷却第一和第二圆筒形滚柱中的至少一个低于预定的温度。第一圆筒形滚柱接触可塑层的第一侧，并且在可塑层的第一侧上形成第一纹理表面。第二圆筒形滚柱接触可塑层的第二侧，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于制造光校准和扩散膜的方法。该方法包括加热具有第一侧和第二侧可塑层。该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘。该可塑层沿第一轴线和第二轴线延伸。该第一轴线基本平行于第一外围边缘。第二轴线基本垂直于第一轴线。该方法还包括加热第一和第二圆筒形滚柱中至少一个高于预定的温度。该方法还包括在第一和第二旋转圆筒形滚柱之间移动可塑层，其中第一圆筒形滚柱接触可塑层的第一侧，第二圆筒形滚柱接触第二侧。第一圆筒形滚柱在紧邻可塑层的第一轴线的第一侧上形成第一纹理表面，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
据另一典型实施方案，提供了一种用于制造光校准和扩散膜的系统。该系统包括被设定来加热可塑层的第一加热设备。该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘。该可塑层沿第一轴线和第二轴线延伸。该第一轴线基本平行于第一外围边缘。第二轴线基本垂直于第一轴线。该系统还包括用于接收可塑层的，彼此紧邻放置的第一和第二圆筒形滚柱。该系统还包括第二加热设备，设定该设备以加热第一和第二圆筒形滚柱中至少一个。第一圆筒形滚柱接触可塑层的第一侧，并且在可塑层的第一侧上形成第一纹理表面，而第二圆筒形滚柱接触可塑层的第二侧，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种在光校准和扩散膜上形成纹理表面的工具。该工具包括围绕第一轴线放置的圆柱形部分，该部分具有外部纹理表面以及第一端和第二端。该圆柱形部分还包括基本垂直于第一端的第一线，该线紧邻外部纹理表面设置，基本横跨圆柱形部分延伸。该圆柱形部分还包括第二线，该线距离第一端预定的距离，基本绕圆柱形部分的圆周延伸。该外部纹理表面具有多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸。多个突出部分和多个凹陷部分限定多个倾角，其中紧邻第一线或第二线的外部纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于在圆筒形滚柱上形成纹理表面的方法。该圆筒形滚柱围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端。该圆筒形滚柱还包括基本垂直于第一端的第一线，该线紧邻外部纹理表面设置，基本横跨圆筒形滚柱延伸。该圆筒形滚柱还包括第二线，该线距离第一端预定的距离，基本绕圆柱形部分的圆周延伸。该方法包括以预定的转速围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱。该方法还包括发射脉动能量束，该能量束以预定的强度接触圆筒形滚柱的外表面，并且在圆筒形滚柱旋转期间，把能量束从圆筒形滚柱的第一端移动到第二端。该能量束去除部分外表面以获得纹理表面，其中紧邻第一线或第二线的纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于在圆筒形滚柱上形成纹理表面的方法。该圆筒形滚柱围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端。该圆筒形滚柱还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置。该第一线基本横跨圆筒形滚柱延伸，基本垂直于第一端。该圆筒形滚柱还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆柱形部分的圆周延伸。该方法包括以预定的转速在电解液流体中围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱。该圆筒形滚柱电气接地。该方法还包括向电解液流体施加预定的电流密度，其中流体中的金属离子附着到圆筒形滚柱的外表面以形成纹理表面，其中紧邻第一线或第二线的纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于在圆筒形滚柱上形成纹理表面的方法。该圆筒形滚柱围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端。该圆筒形滚柱还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置。该第一线基本横跨圆筒形滚柱延伸，基本垂直于第一端。该圆筒形滚柱还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆柱形部分的圆周延伸。该方法还包括以预定的转速在包含金属离子和非金属粒子的流体中围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱。该方法还包括化学键合金属离子和非金属粒子到圆筒形滚柱的外表面以形成纹理表面，其中紧邻第一线或第二线的纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于在圆筒形滚柱上形成纹理表面的方法。该圆筒形滚柱围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端。该圆筒形滚柱还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置。该第一线基本横跨圆筒形滚柱延伸，基本垂直于第一端。该圆筒形滚柱还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆柱形部分的圆周延伸。该方法包括以预定的转速围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱。该方法还包括将介电液涂到圆筒形滚柱上。该方法还包括从紧邻圆筒形滚柱放置的一个或多个电极反复释放电火花。该电火花接触圆筒形滚柱的外表面，在圆筒形滚柱上加热和熔化预定量的金属以形成纹理表面。在圆筒形滚柱旋转期间，移动电火花从圆筒形滚柱的第一端到第二端，其中紧邻第一线或第二线的纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于在圆筒形滚柱上形成纹理表面的方法。该圆筒形滚柱围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端。该圆筒形滚柱还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置。该第一线基本横跨圆筒形滚柱延伸，基本垂直于第一端。该圆筒形滚柱还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆柱形部分的圆周延伸。该方法包括以预定的转速围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱。该方法还包括使用切削工具以预定的频率反复接触圆筒形滚柱的外表面。在圆筒形滚柱旋转期间，该切削工具从圆筒形滚柱的第一端移动到第二端。该切削工具去除部分外表面以获得纹理表面，其中紧邻第一线或第二线的纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种用于在圆筒形滚柱上形成纹理表面的方法。该圆筒形滚柱围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端。该圆筒形滚柱还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置。该第一线基本横跨圆筒形滚柱延伸，基本垂直于第一端。该圆筒形滚柱还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆柱形部分的圆周延伸。该方法包括用耐化学层涂敷该圆筒形滚柱，其中去除在预定位置的耐化学层，以暴露其下的在预定位置的圆筒形滚柱表面。该方法还包括以预定的转速在包含蚀刻溶液的容器中围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱。该蚀刻溶液去除在预定位置的部分圆桶形滚柱以获得纹理表面，其中紧邻第一线或第二线的纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
根据另一典型实施方案，提供了一种背光照明设备。该背光照明设备包括光源。该背光照明设备还包括紧邻光源放置用于接收来自光源的光的光导。该背光照明设备还包括至少一个可塑层，该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧以及至少一个第一外围边缘。该第一侧具有第一纹理表面，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值，该第一轴线基本平行于第一外围边缘，其中可塑层校准经过其传播的光。
根据另一典型实施方案，提供了一种光校准和扩散膜。该膜包括单一层(unitary layer)，其中大于或者等于单一层总量的80％包括聚碳酸酯化合物。该单一层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘。该第一侧具有第一纹理表面，其中紧邻第一轴线的第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。该第一轴线基本平行于第一外围边缘。可塑层校准经过其传播的光。
基于对下述附图和详细描述的回顾，根据实施方案的其它系统和/或方法将变得或为本领域的技术人员显而易见。所有这样的附加系统和方法旨在落在本发明的范围内，受所附权利要求的保护。
附图说明
图1是根据典型实施方案的背光照明设备的分解图；
图2是图1的背光照明设备的一部分的示意图；
图3是根据另一典型实施方案，在图1的背光照明设备中使用的光校准和扩散膜的横截面示意图；
图4是表明光校准和扩散膜的前表面上倾角分布的图表；
图5是圆筒形滚柱的俯视图，图解用于确定倾角分布的典型轨迹；
图6是光校准和扩散膜的俯视图，图解用于确定倾角分布的典型轨迹；
图7是圆筒形滚柱的俯视图，图解用于确定倾角分布的典型轨迹；
图8是光校准和扩散膜的俯视图，图解用于确定倾角分布的典型轨迹；
图9是根据另一典型实施方案，用于制造光校准和扩散膜的熔化压延(calendaring)系统的示意图；
图10是根据另一典型实施方案，用于制造光校准和扩散膜的压纹系统的示意图；
图11是根据另一典型实施方案，用于在圆筒形滚柱上获得纹理表面的能量束刻模系统的示意图；
图12是使用图11的能量束刻模系统获得的圆筒形滚柱上纹理表面的示意图；
图13是使用图12的圆筒形滚柱获得的光校准和扩散膜上纹理表面的示意图；
图14是根据另一典型实施方案，用于在圆筒形滚柱上获得纹理表面的粒子和金属离子联合沉积系统的示意图；
图15是使用图14的粒子和金属离子联合沉积系统获得的圆筒形滚柱上纹理表面的示意图；
图16是使用图15的圆筒形滚柱获得的光校准和扩散膜上纹理表面的示意图；
图17是根据另一典型实施方案，用于在圆筒形滚柱上获得纹理表面的金属离子沉积系统的示意图；
图18是根据另一典型实施方案，用于在圆筒形滚柱上获得纹理表面的微机械刻模系统的示意图；
图19是在图18的系统中使用的切削工具的放大主视图；
图20是在图18的系统中使用的切削工具的放大侧视图；
图21是根据另一典型实施方案，用于在圆筒形滚柱上获得纹理表面的化学侵蚀刻模系统的示意图；
图22是图21的系统所使用的圆筒形滚柱的一部分的放大的横截面图；以及
图23是根据另一典型实施方案，用于在圆筒形滚柱上获得纹理表面的放电刻模系统的示意图；
具体实施方式
参考图1和2，图解了用于照射液晶显示设备(未示出)的背光照明设备20。该背光照明设备20包括光源22，反射膜24，光导26，光校准和扩散膜28，光校准膜30，光校准膜32，以及光扩散膜34。如示出的，光源22放置在光导26的第一端。此外，反射膜24紧邻光导26的第一侧放置。光校准和扩散膜28的第一侧紧邻光导26的第二侧放置，并且利用柱36，38与光导26分隔开。柱36，38形成光导26和膜28之间的空气间隙40。光校准膜30紧邻膜28的第二侧放置。最后，光校准模32紧邻光校准膜30放置，并且光扩散膜34紧邻光校准膜32放置。
现在将解释典型光束经过光导26和光校准和扩散膜28传播的路径。光源22发射光束42，该光束经过光导26传播，并且在那里折射向轴线44，所述轴线基本垂直于光导26的上表面。当光束42离开光导26和空气间隙40时，光束42被折射远离轴线44近45度。当光束42进入光校准和扩散膜28时，膜28把光束42折射向轴线44。其后，当光束42离开膜28时，光束被折射远离轴线44近31度。其后，光束42以相对轴线44的31度角进入光校准膜30的底侧，并且传播经过膜30。膜30在其上表面折射光束到相对轴线44的零度角。因为光束以相对轴线44的零度角进入膜32，膜32沿轴线44具有相对高的亮度。
参考图2和3，现在将更详细地解释光校准和扩散膜28。利用膜28将光束折射向轴线44。膜28由单一可塑层构成，该可塑层具有0.025-10毫米范围内的厚度。当然，膜28可以构成具有小于0.025毫米或者大于10毫米的厚度。膜28具有沉积在可塑层内的光学增亮化合物，其中光学增亮化合物的量在可塑层总量的0.001％-1.0％范围内。膜28还包括沉积在可塑层内诸如氟化磺化磷(fluorinatedphosphonium sulfonate)等的抗静电化合物。氟化磺化磷的通式为：{CF3(CF2)n(SO3)}θ{P(R1)(R2)(R3)(R4)}Φ。其中F是氟；n是1-12中的一个整数，S是硫；R1，R2和R3是相同元素，每个都具有含1-8个碳原子的脂肪烃基，或者含6-12个碳原子的芳香烃基；而R4是含1-18个碳原子的烃基。膜28还包括置于可塑层内的紫外线(UV)吸收化合物，其中UV吸收化合物的量在可塑层总量的0.01％-1.0％的范围内。膜28包括具有多个突出部分52和多个凹陷部分54的纹理上表面46。多个突出部分52的平均高度在多个突出部分的平均宽度的25％-75％的范围内。此外，多个突出部分52的平均宽度在0.5-100微米的范围内。突出部分52和凹陷部分54分布在上表面46上，以获得期望的倾角分布。
倾角分布是沿光校准和扩散膜28上至少一个预定轨迹的多个倾角的分布。此外，各倾角(φ)用下式计算：
倾角φ＝arc tan|Δh/Δw|，其中：
(Δw)代表沿纹理表面46的预定宽度，比方例如0.5微米；
(Δh)代表(i)纹理表面46上沿宽度(Δw)的最低位置和(ii)纹理表面46上沿宽度(Δw)的最高位置之间的高度差。
可以根据使用器械Surfcoder ET4000所生成的经滤除的二维表面轮廓数据计算在本专利申请中报道的可塑膜的倾角，该器械由日本东京的Kosaka Laboratory Limited制造。器械Surfcoder ET4000的操作设置如下：截止(cutoff)＝0.25mm，采样长度和评测长度都设为10毫米。速度设为0.1毫米/秒，在8000个相等间隔的点获得轮廓数据。
可以根据使用器械Surfcoder SE 1700α所生成的经滤除的二维表面轮廓数据计算在本专利申请中报道的圆筒形滚柱的倾角，该器械也由日本东京的Kosaka Laboratory Limited制造。器械SurfcoderSE 1700α器械的操作设置如下：评测长度＝7.2毫米，截止LC＝0.800毫米。速度设为0.500毫米/秒，在14400个点获得轮廓数据。
可以沿可塑膜上的预定参考轨迹或线确定倾角分布。替代地，使用众多参考轨迹或线可以确定可塑层的整个表面上的倾角分布。
例如，参考图6和8，可以沿横跨纹理表面46的预定轨迹计算多个倾角(φ)，诸如平行于膜28的边缘61的轴线62，或者垂直于轴线62的轴线60。替代地，可以沿线80或线82计算多个倾角(φ)。在前述的一个或多个轨迹中，期望的倾角分布包括7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
参考图4，图解了根据一个典型实施方案的，说明膜28的第一侧上的纹理表面46上的倾角分布的图表。发明者在此已经认识到当纹理表面46上20％或更小比例的倾角，并且优选表面46上7％至20％的倾角，具有零度至五度的值时，紧邻的亮度增强膜(例如，膜30或32)关于轴线44具有增强的亮度。
参考图1和2，纹理上表面46上零度至五度的倾角的比例控制离开膜28和进入光校准膜30的光的角度。当表面46上倾角的百分比是约16％时，光如所示出的以相对轴线44为31度角离开膜28。在一个替代实施方案中，如果期望光离开膜28的角度相对轴线44大于31度，则膜28应当构造成大于16％的倾角具有零度至五度的值。在另一个实施方案中，如果期望光离开膜28的角度相对轴线44小于31度，则膜28应当构造成小于16％的倾角具有零度至五度的值。
参考图3，膜28还具有在膜28的第二侧上的纹理表面48。该纹理表面48具有倾角分布，其中纹理表面48上大于或者等于70％的倾角具有零度至五度的值。
参考图9，图解了用于制造纹理可塑层106的熔化压延系统100，该纹理可塑层随后可被切割成预定的形状以形成光校准和扩散膜28。熔化压延系统100包括挤压设备102，模具104，圆筒形滚柱64、108，110，112，114，116，柱形套管118，滚柱冷却系统120，膜厚扫描仪122，电动机124，126，128，以及控制计算机130。
提供挤压设备102加热塑料高于预定的温度，以促使塑料成为液态。可操作地连接挤压设备102到模具104和控制计算机130。响应来自控制计算机130的控制信号(E)，挤压设备102加热在那里的塑料高于预定的温度，并且推进塑料经过模具104以形成可塑层106。
提供圆筒形滚柱64、108以在它们之间接收来自模具104的可塑层106，并且在可塑层106的至少一侧上形成纹理表面。圆筒形滚柱64、108优选由钢构造，并且可操作地连接到滚柱冷却系统120。当然，在一个替代实施方案中，圆筒形滚柱64、108可以由其它为本领域技术人员所公知的金属的或非金属的材料构造。滚柱冷却系统120维持圆筒形滚柱64、108的温度低于预定温度，以当可塑层106从滚柱64、108之间通过时将其固化。圆筒形滚柱64具有纹理表面107，其中纹理表面107上或者沿纹理表面107上至少一个轨迹的7％至20％的倾角具有零度至五度的值。因而，当圆筒形滚柱64接触可塑层106的第一侧时，圆筒形滚柱64在可塑层106上形成纹理表面，其中层106的表面46上或者沿纹理表面46上至少一个轨迹的7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
参考图5和7，可以沿横跨外表面107的预定轨迹确定圆筒形滚柱64的倾角(φ)，诸如基本垂直于端211的基本横跨滚柱64延伸的线68，或者距离端211预定的长度，基本绕滚柱64的圆周延伸的线62。替代地，可以沿线84或线86确定圆筒形滚柱64的倾角(φ)。
在层106已经从滚柱64、108之间通过之后，设定圆筒形滚柱110、112以接收可塑层106。可以调整圆筒形滚柱110的位置，以改变接触圆筒形滚柱108的可塑层106的表面面积的数量。可操作地连接圆筒形滚柱110到滚柱冷却系统120，该冷却系统维持滚柱110的温度低于预定温度以固化可塑层106。圆筒形滚柱112接收滚柱110下游的一部分可塑层106，并且向圆筒形滚柱114、116传导可塑层106。
提供圆筒形滚柱114、116以在它们之间接收可塑层106，并且向柱形套管(cylindrical spool)118移动可塑层106。圆筒形滚柱114、116分别可操作地连接到电动机126、124。控制计算机130生成控制信号(M1)、(M2)，其分别促使电动机124、126按预定方向旋转滚柱116、114以将可塑层106向套管118推进。
提供柱形套管118以接收纹理可塑层106，并且形成一卷可塑层106。可操作地连接柱形套管118到电动机128。控制计算机130生成控制信号(M3)，该控制信号促使电动机128按预定方向旋转套管118以形成一卷可塑层106。
在圆筒形滚柱114、116接收层106之前，提供膜厚扫描仪122以测量可塑层106的厚度。膜厚扫描仪122生成表示可塑层106厚度的信号(T1)，该信号被传输到控制计算机130。
参考图10，图解了用于制造可塑层154的压纹系统150，该可塑层随后被切割成预定的形状以形成膜28。压纹系统150包括柱形套管152，膜加热设备156，圆筒形滚柱64、160、162、164、166、168，柱形套管170，滚柱加热系统172，膜厚扫描仪174，电动机176、178、180，以及控制计算机182。
提供柱形套管152以在那里保持可塑层150。当柱形套管152旋转时，从套管152解开一部分可塑层150，并且将其移向圆筒形滚柱64、160。
当可塑层150从柱形套管152移向圆筒形滚柱64、160时，提供膜加热设备156以加热该可塑层150。控制计算机182生成传输到膜加热设备156的信号(H1)，该信号促使设备156加热可塑层150高于预定温度。
提供圆筒形滚柱64、160，以在它们之间接收来自柱形套管152的可塑层154，并且在可塑层154的至少一侧上形成纹理表面。圆筒形滚柱64、160优选由钢构造，并且可操作地连接到滚柱加热系统172。当然，在一个替代实施方案中，圆筒形滚柱64、160可以由其它为本领域技术人员所公知的金属的或非金属的材料构造。滚柱加热系统172维持滚柱64、160的温度高于预定温度，以当可塑层154从滚柱64、160之间通过时至少熔化部分该可塑层。圆筒形滚柱64具有外部纹理表面107，其中纹理表面107上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。因而，当圆筒形滚柱64接触可塑层154的第一侧时，圆筒形滚柱64在可塑层154上形成纹理表面，其中层154的上表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
在层154已经从滚柱64、160之间通过之后，设定圆筒形滚柱162，164以接收可塑层154。可以调整圆筒形滚柱162的位置，以改变接触圆筒形滚柱160的可塑层154的表面面积的数量。圆筒形滚柱164接收滚柱162下游的一部分可塑层154，并且向圆筒形滚柱166、168传导可塑层154。
提供圆筒形滚柱166、168以接收可塑层154，并且向柱形套管170移动可塑层154。圆筒形滚柱166、168分别可操作地连接到电动机178、176。控制计算机182生成控制信号(M4)、(M5)，该控制信号分别促使电动机176、178按预定方向旋转滚柱168、166以将可塑层154向套管170推进。
提供柱形套管170以接收可塑层154，并且形成一卷可塑层154。可操作地连接柱形套管170到电动机180。控制计算机182生成控制信号(M6)，该控制信号促使电动机180按预定方向旋转套管170以形成一卷可塑层154。
在圆筒形滚柱114、116接收层154之前，提供膜厚扫描仪174以测量可塑层154的厚度。膜厚扫描仪174生成表示可塑层154厚度的信号(T2)，该信号被传输到控制计算机182。
参考图11，图解了根据典型实施方案在圆筒形滚柱64上形成纹理表面的系统200。圆筒形滚柱64具有纹理表面，在熔融砑光系统100或压纹系统150中使用该纹理表面以形成用来获得膜28的纹理可塑层。该系统200包括激光器202，线性致动器204，电动机206，以及控制计算机208。
提供激光器202以发射脉动激光束，该激光束以预定的强度接触外表面，去除部分外表面209，以在其上获得纹理表面。激光器202发射的激光束在圆筒形滚柱64的外表面209的聚焦直径在0.005-0.5毫米的范围内。此外，在0.1-100微秒范围内的时间段，发射用于圆筒形滚柱64的预定面积的激光束具有0.05-1.0焦耳范围内的能量级。可操作地连接激光器202到控制计算机208，并且响应从控制计算机208接收的控制信号(C1)生成激光束。激光器102包括钕(Nd)：钇、铝、石榴石(YAG)激光器，设定来发射具有1.06微米的波长的激光束。但是，应当理解，可以使用任何能够在圆筒形滚柱上形成所期望的纹理表面的激光源。在一个替代实施方案中，可以用设定来在圆筒形滚柱上形成所期望的纹理表面的电子束发射设备代替激光器202。在另一个替代实施方案中，可以用设定来在圆筒形滚柱上形成所期望的纹理表面的离子束发射设备代替激光器202。
可操作地连接线性致动器204到激光器202，用于沿轴线203移动激光器202。轴线203基本平行于圆筒形滚柱64的外表面209。线性致动器204相对圆筒形滚柱64以在0.001-0.1毫米每秒范围内的速度移动激光器202。在一个替代实施方案中，可以连接线性致动器204到圆筒形滚柱64，按相对静止的激光器的轴线方向移动滚柱64。
在线性操作机构204沿轴线203移动激光器202从滚柱64的端211到端213时，可操作地连接电动机206到圆筒形滚柱64以旋转滚柱64。控制计算机200生成信号(M7)，该信号促使电动机206以预定的速度旋转圆筒形滚柱64。尤其是，电动机206旋转圆筒形滚柱64，以便外表面209的线速度在25-2500毫米每秒的范围内。
参考图12，图解了圆筒形滚柱64的部分纹理表面209的横截面图。使用能量束刻模系统200获得纹理表面209。纹理表面209具有倾角分布，其中纹理表面209上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
参考图13，图解了由圆筒形滚柱64形成的纹理可塑层切割而来的光校准和扩散膜28的部分纹理表面215的横截面图。膜28具有倾角分布，其中膜28上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
参考图14，图解了根据另一典型实施方案的用于在圆筒形滚柱251上形成纹理表面的系统230。可以在熔化压延系统100中或者压纹系统150中使用圆筒形滚柱251，以形成纹理可塑层，随后可切割该可塑层为预定的形状以获得具有上述的膜28的物理特性的膜。系统230包括外壳232，电动机242，泵244，温控仪246，粒子和金属离子补充器248，以及控制计算机250。
外壳232限定用于接收圆筒形滚柱251的内部区域234。外壳232容纳包含多个金属离子236和多个非金属粒子238的流体。非金属粒子的尺寸或直径在1-100微米范围内。非金属粒子包括硅石粒子(silica particle)。该硅石粒子可以是实心硅石粒子，中空硅石粒子或多孔硅石粒子。在一个替代实施方案中，非金属粒子包括氧化铝粒子。该氧化铝粒子可以是实心氧化铝粒子，中空氧化铝粒子或多孔氧化铝粒子。在另一个替代实施方案中，非金属粒子包括金刚石粒子。金属离子包括镍离子和镍合金离子。当外壳232内的流体维持在期望的温度时，流体中的非金属粒子和金属离子化学键合到圆筒形滚柱251的外表面253以形成纹理表面。在流体中旋转圆筒形滚柱251以获得纹理表面，其中纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
可操作地连接电动机242到圆筒形滚柱251，并且以预定的转速旋转圆筒形滚柱251。在外壳232内放置电动机242。在一个替代实施方案中，电动机242放置在外壳232外部，其轴(未示出)经过外壳232延伸，连接到圆筒形滚柱251以旋转滚柱251。控制计算机250生成信号(M8)，该信号促使电动机242以预定的转速旋转圆筒形滚柱251。
提供泵244以从外壳232经过温控仪246与粒子和金属离子补充器248抽取包含非金属粒子和金属离子的流体。具体而言，控制计算机250生产信号(P1)，该信号促使泵244从外壳232经过仪器246和仪器248抽取流体，并且返回内部区域234。
可操作地连接温控仪246到泵244并且从泵244接收包含非金属粒子和金属离子的流体。提供温控仪246以控制经过那里被抽取的流体的温度在允许非金属粒子和金属离子联合沉积到圆筒形滚柱251的外表面253上的期望温度。温控仪246监测泵中经过那里的流体温度，并且升高或者降低流体的温度到期望的温度。
可操作地连接粒子和金属离子补充器248到温控仪246，并且从仪器246接收包含非金属粒子和金属离子的流体。在非金属粒子和金属离子联合沉积到表面253上的期间，仪器248监测非金属粒子和金属离子的浓度。应当理解，由于非金属粒子和金属离子键合到滚柱251的外表面253，流体中非金属粒子和金属离子的浓度将降低。仪器248测量经过那里被抽取的流体中非金属粒子和金属离子的浓度，并且增加额外量的非金属粒子和金属离子到流体中以维持各物质期望的浓度。在通过仪器248调节流体后，传送流体到外壳232的内部区域234。
参考图15，图解了圆筒形滚柱251的部分纹理表面253的横截面图。使用粒子和金属粒子联合沉积系统230获得纹理表面253。纹理表面253具有倾角分布，其中纹理表面253上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
参考图16，图解了由圆筒形滚柱251形成的纹理可塑层切割而来的光校准和扩散膜的部分纹理表面254的横截面图。纹理表面254具有倾角分布，其中纹理表面254上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
参考图17，图解了根据另一典型实施方案的用于在圆筒形滚柱278上形成纹理表面的系统270。可以在熔化压延系统100中或者压纹系统150中使用圆筒形滚柱278以形成纹理可塑层，使用该可塑层以获得具有基本类似上述膜28的物理特性的膜。系统270包括外壳272，电动机280，电流源282，以及控制计算机284。
外壳272限定用于接收圆筒形滚柱278的内部区域274。外壳272容纳包含多个金属离子276的电解液。在一个实施方案中，多个金属离子276包括铬离子。当施加预定的电流密度到电解液时，金属离子276附着到圆筒形滚柱278的外表面279，以形成纹理表面。在电解液中旋转圆筒形滚柱278以获得纹理表面，其中纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
可操作地连接电动机280到圆筒形滚柱278，并且提供来在预定的时间段以预定的转速旋转圆筒形滚柱278。例如，电动机280能够在时间段为0.5-50小时范围内，以1-10转每分范围内的转速旋转圆筒形滚柱278。电动机280放置在外壳272内部。在一个替代的实施方案中，电动机280放置在外壳272外部，其轴(未示出)经过外壳272延伸，连接到圆筒形滚柱278以旋转滚柱278。尤其是，控制计算机284生成信号(M9)，该信号促使电动机280以期望的转速旋转圆筒形滚柱278。
提供电流源282施加预定的电流密度经过电解液，以促使电解液中的金属离子粘附到圆筒形滚柱278的外表面279。电流源280电耦联在浸没于电解液中的金属棒275和圆筒形滚柱278之间。电流源280还可操作地连接到控制计算机284。控制计算机284生成控制信号(I1)，该信号促使电流源282产生电流经过电解液。在一个实施方案中，电流源280在电解液中产生0.001-0.1安培每平方毫米范围内的电流密度以促使液体中的金属离子粘附到圆筒形滚柱278。
参考图18，图解了根据另一典型实施方案的，用于在圆筒形滚柱318上形成纹理表面的系统300。可以在熔化压延系统100中或者压纹系统150中使用圆筒形滚柱318，以形成纹理可塑层，随后切割该可塑层为预定的形状以获得具有基本类似上述膜28的物理特性的膜。系统300包括刻模设备302，线性致动器312，电动机314，以及控制计算机316。
提供刻模设备302以预定的频率反复接触圆筒形滚柱318的外表面319，去除部分外表面319以获得纹理表面。具体而言，预定频率优选在1000-1500千赫兹的范围内。刻模设备302包括压电转换器304，往复件306，切削工具夹具308，以及切削工具310。
提供压电转换器304响应从控制计算机316接收的控制信号(P)，以预定的频率沿轴线307上下反复移动往复件306。往复件306还可操作地连接到保持切削工具310的切削工具夹具308的第一端。
参考图19和20，提供切削工具310以去除圆筒形滚柱318的部分外表面319。切削工具310由轮缘直径(D1)在2-30微米范围内的金刚石构造。切削工具310具有绕刀具310的中心点延伸160度的切削面311。当以预定的速度旋转外表面319时，工具310的切削面311反复接触外表面319。
可操作地连接线性致动器312到刻模设备302，用于沿轴线303移动刻模设备302。轴线303基本平行于圆筒形滚柱318的外表面319。线性操作机构312相对圆筒形滚柱318以预定的轴速度移动刻模设备302从圆筒形滚柱318的第一端321到第二端323。在一个替代实施方案中，可以连接线性致动器312到圆筒形滚柱318，相对静止的刻模设备沿轴线方向移动滚柱318。
当线性致动器312沿轴线303移动刻模设备302从端321到端323时，可操作地连接电动机314到圆筒形滚柱318以旋转滚柱318。控制计算机316生成信号(M10)，该信号促使电动机314以预定的转速旋转圆筒形滚柱318。具体而言，电动机310以10-200转每分范围内的转速旋转圆筒形滚柱318。
参考图21，图解了根据另一典型实施方案的用于在圆筒形滚柱340上形成纹理表面的系统330。可以在熔化压延系统100中或者压纹系统150中使用圆筒形滚柱340以形成纹理可塑层，随后切割该可塑层为预定的形状，以获得具有基本类似上述膜28的物理特性的膜。系统330包括外壳332，电动机336，以及控制计算机338。
在解释系统330的工作之前，将提供圆筒形滚柱340结构的简述。参考图22，圆筒形滚柱340具有基本为圆柱形的内部部分342，该部分涂敷有耐化学层343。该耐化学层343包括可塑层。在一个替代的实施方案中，该耐化学层343包括蜡层。在另一个替代实施方案中，该耐化学层343包括光阻层。在已经用耐化学层343涂敷圆筒形滚柱340后，去除层343在预定位置(例如位置346)的部分。使用诸如激光等的能量束去除在预定位置的层343的部分。在一个替代的实施方案中，使用硬度大于耐化学层343的硬度，但小于圆柱形的内部部分342的硬度的工具(未示出)去除层343在预定位置的部分。在另一个替代实施方案中，使用为本领域技术人员所熟知的光刻工艺去除在预定位置的耐化学层343。
外壳332限定用于接收圆筒形滚柱340的内部区域334。外壳332容纳用于去除圆筒形滚柱340的内部部分342的暴露部分的蚀刻溶液。该蚀刻溶液包括硝酸，其中蚀刻溶液量的5％-25％为硝酸。在一个替代实施方案中，该蚀刻溶液包括盐酸，其中蚀刻溶液量的5％-25％为盐酸。当圆筒形滚柱340在蚀刻液体中转动时，蚀刻液体去除圆筒形滚柱340紧邻位置346的部分，以形成纹理表面，其中纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
可操作地连接电动机336到圆筒形滚柱340，并且以预定的转速旋转圆筒形滚柱340。在外壳332内放置电动机336。在一个替代实施方案中，电动机336放置在外壳332外部，其轴(未示出)经过外壳332延伸，连接到圆筒形滚柱340，以旋转滚柱340。控制计算机338生成信号(M11)，该信号促使电动机336以预定的转速旋转圆筒形滚柱340。具体而言，电动机336以1-50转每分范围内的转速旋转圆筒形滚柱340。
参考图23，图解了根据另一典型实施方案的，用于在圆筒形滚柱390上形成纹理表面的系统370。可以在熔化压延系统100中或者压纹系统150中使用圆筒形滚柱390，以形成纹理可塑层，随后切割该可塑层为预定的形状，以获得具有基本类似上述膜28的物理特性的膜。系统370包括电极或者电极阵列372，电压源374，线性致动器376，电动机378，泵382，过滤器384，介电液源386，以及控制计算机388。
提供电极372反复释放电火花，该电火花接触外表面391，去除部分表面391以获得纹理表面。可操作地连接电极372到电压源374，并且从电压源374接收电压，以生成具有100-1000伏特范围内电压的电火花。可操作地连接电压源374到控制计算机388。控制计算机388生成信号(V2)，该信号促使电压源374向电极372施加预定的电压。电极372还可操作地连接到线性致动器376。当旋转圆筒形滚柱390时，电极372沿轴线373移动，并且反复释放电火花去除圆筒形滚柱390的部分，以形成纹理表面，其中纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
提供泵382从介电液池386抽取介电液体，经过过滤器384并且最终经过喷嘴380。喷嘴380导引介电液到圆筒形滚柱390的外表面391上。使用介电液经过那里传导电火花到圆筒形滚柱390的外表面391。喷嘴380还可操作地连接到线性致动器376。
可操作地连接线性致动器376到电极372和喷嘴380。线性致动器376沿轴线373移动电极372和喷嘴380，该轴线基本平行于圆筒形滚柱390的外表面。具体而言，线性致动器376沿轴线373从圆筒形滚柱390的第一端393移动电极372和喷嘴380到圆筒形滚柱390的第二端395。
当线性致动器376沿轴线373从端393移动电极372和喷嘴380到端395时，可操作地连接电动机378到圆筒形滚柱390以旋转滚柱390。控制计算机388生成信号(M12)，该信号促使电动机378以预定的转速旋转圆筒形滚柱390。
该光校准和扩散膜以及制造该膜的方法具有优于其它系统和方法的主要优势。具体而言，该系统和方法具有不添加任何诸如聚苯乙烯珠或丙烯酸酯溶液等的附加物质到可塑层，提供易于制造的具有可扩散光的纹理表面的可塑层的技术效果。
虽然参考典型实施方案描述本发明，本领域的技术人员应当理解可以进行没有脱离本发明范围的各种改动和用等价物替代其元件。此外，可以进行没有脱离本发明范围的对本发明教导的多种修改，以适应具体的情况。因此，本发明旨在不受执行本发明所公开的实施方案的限制，但是本发明包括落在指定权利要求范围内的所有实施方案。此外，术语的第一，第二等的使用不表示任何重要性的顺序，而是使用术语的第一，第二等以区分一个元件和另一个。

Claims (121)

1.一种光校准和扩散膜，其特征在于：
具有第一侧(46)和与第一侧(46)相对的第二侧(48)，以及至少一个第一外围边缘(61)的可塑层(28)，该第一侧(46)具有第一纹理表面，其中第一纹理表面上紧邻第一轴线(62)的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值，第一轴线(62)基本平行于第一外围边缘(61)，其中可塑层(28)校准经过其传播的光。
2.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于第一纹理表面上紧邻第二轴线(60)的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值，所述第二轴线(60)基本垂直于第一轴线(62)。
3.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述第一纹理表面包括多个突出部分(52)和多个凹陷部分(54)，其中每个突出部分(52)从至少一个紧邻的凹陷部分(54)向外延伸。
4.如权利要求3所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述多个突出部分(52)的平均高度在所述多个突出部分(52)的平均宽度的25％-75％的范围内。
5.如权利要求3所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述多个突出部分(52)的平均宽度在0.5-100微米的范围内。
6.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述可塑层(28)校准穿过可塑层(28)从第二侧(48)传播到第一侧(46)的光。
7.如权利要求6所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述可塑层(28)校准穿过那里的光朝向垂直于可塑层(28)的轴线。
8.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述第二侧(48)包括第二纹理表面，其中第二纹理表面上大于或者等于70％的倾角具有零度至五度的值。
9.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述可塑层(28)包括其量在层总量的0.001％-1.0％范围内的光学增亮剂。
10.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述可塑层(28)包括在其内部的抗静电化合物。
11.如权利要求10所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述抗静电化合物包括氟化磺化磷。
12.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述可塑层(28)包括其量在可塑层总量的0.01％-1.0％的范围内的紫外线吸收化合物。
13.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述可塑层(28)具有0.025-10毫米范围内的厚度。
14.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述可塑层(28)具有0.025-0.5毫米范围内的厚度。
15.如权利要求1所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
16.一种制造光校准和扩散膜的方法，所述方法包括经过模具(104)挤压加热的塑料以形成可塑层(106)，所述可塑层(106)具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘，所述可塑层(106)沿第一轴线和第二轴线延伸，该第一轴线基本平行于第一外围边缘，第二轴线基本垂直于第一轴线，该方法的特征在于：
冷却第一和第二旋转圆筒形滚柱(64、108)中至少一个低于预定的温度；以及
在第一和第二旋转圆筒形滚柱(64、108)之间移动可塑层(106)，第一圆筒形滚柱(64)接触可塑层(106)的第一侧而第二圆筒形滚柱(108)接触第二侧，第一圆筒形滚柱(64)在可塑层(106)的第一侧上形成第一纹理表面，其中第一纹理表面上紧邻第一轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
17.如权利要求16所述的方法，其特征在于其中第一纹理表面上紧邻第二轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
18.如权利要求16所述的方法，其特征还在于围绕接收套管(118)卷绕冷却的可塑层。
19.如权利要求16所述的方法，其特征在于所述第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
20.一种用于制造光校准和扩散膜的系统，该系统包括可操作地连接到模具(104)的挤压设备(102)，该挤压设备(102)推进加热的塑料(106)经过模具(104)以形成可塑层(106)；该可塑层具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘；该可塑层(106)沿第一轴线和第二轴线延伸，该第一轴线基本平行于第一外围边缘，第二轴线基本垂直于第一轴线；该系统的特征在于：
彼此紧邻放置的第一和第二圆筒形滚柱(64、108)，用于接收可塑层(106)；以及
冷却设备(120)，设定该设备以冷却第一和第二圆筒形滚柱(64、108)中的至少一个低于预定的温度，其中第一圆筒形滚柱(64)接触可塑层(106)的第一侧，并且在可塑层(106)的第一侧上形成第一纹理表面，第二圆筒形滚柱(108)接触可塑层(106)的第二侧，其中第一纹理表面上紧邻第一轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
21.如权利要求20所述的系统，其特征在于第一纹理表面上紧邻第二轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
22.如权利要求20所述的系统，其特征在于所述第二圆筒形滚柱(108)在可塑层(106)上形成第二纹理表面，其中第二纹理表面上大于或者等于70％的倾角具有零度至五度的值。
23.如权利要求20所述的系统，其特征还在于：
彼此紧邻放置的第三和第四圆筒形滚柱(114，116)，用于从第一和第二滚柱(64、108)接收冷却的可塑层，设定第三和第四圆筒形滚柱(114，116)旋转以向卷绕设备(128)推进可塑层，所述卷绕设备(128)接收可塑层并且围绕接收套管(118)卷绕可塑层。
24.如权利要求20所述的系统，其特征在于第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
25.一种用于制造光校准和扩散膜的方法，所述方法包括加热可塑层(154)，所述可塑层(154)具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘，所述可塑层(154)沿第一轴线和第二轴线延伸，该第一轴线基本平行于第一外围边缘，第二轴线基本垂直于第一轴线，该方法的特征在于：
加热第一和第二圆筒形滚柱(64、160)中的至少一个高于预定的温度；以及
在第一和第二旋转圆筒形滚柱(64、160)之间移动可塑层(154)，其中第一圆筒形滚柱(64)接触可塑层(154)的第一侧而第二圆筒形滚(160)柱接触第二侧，第一圆筒形滚柱(64)在紧邻可塑层(154)的第一轴线的第一侧上形成第一纹理表面，其中第一纹理表面上紧邻第一轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
26.如权利要求25所述的方法，其特征在于第一纹理表面上紧邻第二轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
27.如权利要求25所述的方法，其特征在于围绕接收套管(170)卷绕可塑层(154)。
28.如权利要求25所述的方法，其特征在于所述第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
29.一种用于制造光校准和扩散膜的系统，该系统包括设定来加热可塑层(154)的第一加热设备(156)，该可塑层(154)具有第一侧和与第一侧相对的第二侧，以及至少一个第一外围边缘，该可塑层(154)沿第一轴线和第二轴线延伸，所述第一轴线基本平行于第一外围边缘，所述第二轴线基本垂直于第一轴线，该系统的特征在于：
彼此紧邻放置的第一和第二圆筒形滚柱(64、160)，用于接收可塑层(154)；以及
第二加热设备(172)，设定来加热第一和第二圆筒形滚柱(64、160)中的至少一个，其中第一圆筒形滚柱(64)接触可塑层(154)的第一侧，并且在第一侧上形成第一纹理表面，而第二圆筒形滚柱(160)接触可塑层(154)的第二侧，其中第一纹理表面上紧邻第一轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
30.如权利要求29所述的系统，其特征在于第一纹理表面上紧邻第二轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
31.如权利要求29所述的系统，其特征在于所述第二圆筒形滚柱(160)在第二侧上形成第二纹理表面，其中第二纹理表面上大于或者等于70％的倾角具有零度至五度的值。
32.如权利要求29所述的系统，其特征还在于：
彼此紧邻放置的第三和第四圆筒形滚柱(166、168)，用于从第一和第二圆筒形滚柱(64、160)接收冷却的可塑层，设定第三和第四圆筒形滚柱(166、168)旋转以向卷绕设备(180)推进可塑层，所述卷绕设备(180)接收可塑层并且围绕接收套管(170)卷绕可塑层。
33.如权利要求29所述的系统，其特征在于所述第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
34.一种在光校准和扩散膜上形成纹理表面的工具，其特征在于：
围绕第一轴线(66)放置的圆柱形部分(64)，该部分具有外部纹理表面以及第一端和第二端(211，213)，该圆柱形部分(64)还具有基本垂直于第一端(211)的第一线(68)，该线紧邻外部纹理表面，基本横跨圆柱形部分(64)延伸，该圆柱形部分(64)还具有第二线(70)，该线距离第一端(211)预定的长度，基本绕圆柱形部分(64)的圆周延伸，该外部纹理表面具有多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸，其中多个突出部分和多个凹陷部分限定多个倾角，其中外部纹理表面上紧邻第一线(68)或第二线(70)的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
35.如权利要求34所述的工具，其特征在于外部纹理表面上紧邻第一线(68)和第二线(70)的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
36.如权利要求34所述的工具，其特征在于所述外部纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
37.一种用于在圆筒形滚柱(64)上形成纹理表面的方法，所述圆筒形滚柱(64)围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端(211，213)，该圆筒形滚柱(64)还具有基本垂直于第一端的第一线，该线紧邻外部纹理表面，基本横跨圆筒形滚柱延伸，该圆筒形滚柱(64)还具有第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆筒形滚柱(64)的圆周延伸，该方法包括以预定的转速围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱(64)，该方法的特征在于：
发射脉动能量束，该能量束以预定的强度接触圆筒形滚柱(64)的外表面，并且在圆筒形滚柱(64)旋转期间，把能量束从圆筒形滚柱(64)的第一端(211)移动到第二端(213)，其中能量束去除部分外表面以获得纹理表面，其中纹理表面上紧邻第一线或第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
38.如权利要求37所述的方法，其特征在于纹理表面上紧邻第一线和第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
39.如权利要求37所述的方法，其特征在于所述纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
40.如权利要求37所述的方法，其特征在于所述圆筒形滚柱(64)的外表面的线速度在25-2500毫米每秒的范围内。
41.如权利要求37所述的方法，其特征在于相对圆筒形滚柱(64)以在0.001-0.1毫米每秒的范围内的速度移动能量束。
42.如权利要求37所述的方法，其特征在于所述能量束在圆筒形滚柱(64)的外表面的聚焦直径在0.005-0.5毫米的范围内。
43.如权利要求42所述的方法，其特征在于在0.1-100微秒范围内的时间段，发射用于圆筒形滚柱的预定面积的接触圆筒形滚柱(64)的能量束具有0.05-1.0焦耳范围内的能量级。
44.如权利要求37所述的方法，其特征在于所述能量束包括激光束。
45.如权利要求44所述的方法，其特征在于所述激光束具有1.06微米的波长。
46.如权利要求44所述的方法，其特征在于所述激光束包括Nd：YAG激光束。
47.如权利要求37所述的方法，其特征在于所述能量束包括电子束。
48.如权利要求37所述的方法，其特征在于所述束包括离子束。
49.如权利要求37所述的方法，其特征在于所述纹理表面包括多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸。
50.如权利要求49所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均高度在所述多个突出部分的平均宽度的25％-100％的范围内。
51.如权利要求49所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均宽度在0.5-100微米的范围内。
52.一种在圆筒形滚柱(278)上形成纹理表面的方法，所述圆筒形滚柱(278)围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端，该圆筒形滚柱(278)还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置，所述第一线基本横跨圆筒形滚柱延伸，基本垂直于第一端，该圆筒形滚柱还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆筒形滚柱的圆周延伸，该方法的特征在于：
以预定的转速在电解液中围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱(278)，该圆筒形滚柱(278)电气接地；以及
向电解液施加预定的电流密度，其中液体中的金属离子(276)附着到圆筒形滚柱(278)的外表面以形成纹理表面，其中纹理表面上紧邻第一线或第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
53.如权利要求52所述的方法，其特征在于纹理表面上紧邻第一线和第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
54.如权利要求52所述的方法，其特征在于纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
55.如权利要求52所述的方法，其特征在于在时间段为0.5-50小时范围内，以1-10转每分范围内的转速在电解液中旋转圆筒形滚柱(278)。
56.如权利要求52所述的方法，其特征在于所述金属离子(276)包括铬离子。
57.如权利要求52所述的方法，其特征在于所述预定的电流密度在0.001-0.01安培每平方毫米范围内。
58.如权利要求52所述的方法，其特征在于所述纹理表面包括多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸。
59.如权利要求58所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均高度在所述多个突出部分的平均宽度的25％-100％的范围内。
60.如权利要求58所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均宽度在0.5-100微米的范围内。
61.一种在圆筒形滚柱(253)上形成纹理表面的方法，所述圆筒形滚柱(253)围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端，该圆筒形滚柱(253)还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置，所述第一线基本横跨圆筒形滚柱(253)延伸，基本垂直于第一端，所述圆筒形滚柱(253)还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆筒形滚柱(253)的圆周延伸，该方法的特征在于：
以预定的转速在包含金属离子(236)和非金属粒子(238)的流体中围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱(253)；以及
化学键合金属离子(236)和非金属粒子(238)到圆筒形滚柱(253)的外表面以形成纹理表面，其中纹理表面上紧邻第一线或第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
62.如权利要求61所述的方法，其特征在于纹理表面上紧邻第一线和第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
63.如权利要求61所述的方法，其特征在于纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
64.如权利要求61所述的方法，其特征在于非金属粒子(238)包括尺寸在1-100微米范围内的硅石粒子。
65.如权利要求64所述的方法，其特征在于所述硅石粒子包括实心硅石粒子。
66.如权利要求64所述的方法，其特征在于所述硅石粒子包括中空硅石粒子。
67.如权利要求64所述的方法，其特征在于所述硅石粒子包括多孔硅石粒子。
68.如权利要求61所述的方法，其特征在于所述非金属粒子(238)包括尺寸在1-100微米范围内的氧化铝粒子。
69.如权利要求68所述的方法，其特征在于所述氧化铝粒子包括实心氧化铝粒子。
70.如权利要求68所述的方法，其特征在于所述氧化铝粒子包括多孔氧化铝粒子。
71.如权利要求61所述的方法，其特征在于所述金属离子包括镍离子和镍合金离子之一。
72.如权利要求61所述的方法，其特征在于所述纹理表面包括多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸。
73.如权利要求72所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均高度在所述多个突出部分的平均宽度的25％-100％的范围内。
74.如权利要求72所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均宽度在0.5-100微米的范围内。
75.如权利要求61所述的方法，其特征在于所述非金属粒子(238)包括尺寸在1-100微米范围内的金刚石粒子。
76.一种在圆筒形滚柱(390)上形成纹理表面的方法，所述圆筒形滚柱(390)围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端(393，395)，该圆筒形滚柱(390)还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置，所述第一线基本横跨圆筒形滚柱(390)延伸，基本垂直于第一端(393)，该圆筒形滚柱(390)还包括第二线，该线距离第一端(393)预定的长度，基本绕圆筒形滚柱(390)的圆周延伸，该方法包括以预定的转速围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱(390)，该方法的特征在于：
将介电液施加到圆筒形滚柱(390)上；以及
从紧邻圆筒形滚柱(390)放置的一个或多个电极(372)反复释放电火花，该电火花接触圆筒形滚柱(390)的外表面，在圆筒形滚柱(390)上加热和熔化预定量的金属，以形成纹理表面，在圆筒形滚柱(390)旋转期间，移动电火花从圆筒形滚柱(390)的第一端(393)到第二端(395)，其中纹理表面上紧邻第一线或第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
77.如权利要求76所述的方法，其特征在于纹理表面上紧邻第一线和第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
78.如权利要求76所述的方法，其特征在于纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
79.如权利要求76所述的方法，其特征在于所述电火花具有100-1000伏特的电压。
80.如权利要求76所述的方法，其特征在于所述纹理表面包括多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸。
81.如权利要求80所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均高度在所述多个突出部分的平均宽度的25％-100％的范围内。
82.如权利要求80所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均宽度在0.5-100微米的范围内。
83.一种在圆筒形滚柱(318)上形成纹理表面的方法，该圆筒形滚柱(318)围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端，该圆筒形滚柱(318)还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置，所述第一线基本横跨圆筒形滚柱(318)延伸，基本垂直于第一端，该圆筒形滚柱(318)还包括第二线，该线距离第一端(321)预定的长度，基本绕圆筒形滚柱的圆周延伸，该方法包括以预定的转速围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱(318)，该方法的特征在于：
使用切削工具(310)以预定的频率反复接触圆筒形滚柱(318)的外表面，在圆筒形滚柱(318)旋转期间，该切削工具(310)从圆筒形滚柱(318)的第一端(321)移动到第二端(323)，其中切削工具(310)去除部分外表面以获得纹理表面，其中纹理表面上紧邻第一线或第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
84.如权利要求83所述的方法，其特征在于纹理表面上紧邻第一线和第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
85.如权利要求83所述的方法，其特征在于纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
86.如权利要求83所述的方法，其特征在于所述圆筒形滚柱(318)的预定转速在10-200转每分范围内。
87.如权利要求83所述的方法，其特征在于预定频率在1000-1500千赫兹的范围内。
88.如权利要求83所述的方法，其特征在于所述纹理表面包括多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸。
89.如权利要求88所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均高度在所述多个突出部分的平均宽度的25％-100％的范围内。
90.如权利要求88所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均宽度在0.5-100微米的范围内。
91.一种在圆筒形滚柱(340)上形成纹理表面的方法，所述圆筒形滚柱(340)围绕第一轴线放置，并且具有外部纹理表面以及第一端和第二端，该圆筒形滚柱(340)还包括第一线，该线紧邻外部纹理表面设置，所述第一线基本横跨圆筒形滚柱(340)延伸，基本垂直于第一端，该圆筒形滚柱(340)还包括第二线，该线距离第一端预定的长度，基本绕圆筒形滚柱(340)的圆周延伸，其特征在于：
用耐化学层(343)涂敷该圆筒形滚柱(340)，其中去除在预定位置(346)的耐化学层(343)，以在预定位置暴露其下的圆筒形滚柱表面；以及
以预定的转速在包含蚀刻溶液的容器(332)中围绕第一轴线旋转圆筒形滚柱(340)，其中该蚀刻溶液去除在预定位置(346)的部分圆桶形滚柱(340)以获得纹理表面，其中纹理表面上紧邻第一线或第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
92.如权利要求91所述的方法，其特征在于纹理表面上紧邻第一线和第二线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值。
93.如权利要求91所述的方法，其特征在于纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
94.如权利要求91所述的方法，其特征在于所述圆筒形滚柱(340)以1-50转每分范围内的转速旋转。
95.如权利要求91所述的方法，其特征在于所述蚀刻溶液量的5％-25％为硝酸。
96.如权利要求91所述的方法，其特征在于所述蚀刻溶液量的5％-25％为盐酸。
97.如权利要求91所述的方法，其特征在于使用光刻工艺去除在预定位置的所述耐化学层(343)。
98.如权利要求91所述的方法，其特征在于使用能量束去除在预定位置的所述耐化学层(343)。
99.如权利要求91所述的方法，其特征在于使用工具接触圆筒形滚柱(340)去除在预定位置的所述耐化学层，所述工具的硬度大于耐化学层的硬度，但小于圆筒形滚柱的硬度。
100.如权利要求91所述的方法，其特征在于所述耐化学层(343)包括光阻层。
如权利要求91所述的方法，其特征在于所述耐化学层(343)包括蜡层。
如权利要求91所述的方法，其特征在于所述耐化学层(343)包括可塑层。
如权利要求91所述的方法，其特征在于所述纹理表面包括多个突出部分和多个凹陷部分，其中每个突出部分从至少一个紧邻的凹陷部分向外延伸。
如权利要求103所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均高度在所述多个突出部分的平均宽度的25％-100％的范围内。
如权利要求103所述的方法，其特征在于所述多个突出部分的平均宽度在0.5-100微米的范围内。
一种背光照明设备，所述设备包括光源(22)以及紧邻光源(22)放置以用来接收来自光源(22)的光的光导(26)，所述设备的特征在于：
至少一个可塑层(28)，所述可塑层具有第一侧(46)和与第一侧(46)相对的第二侧(48)，以及至少一个第一外围边缘，该第一侧(46)具有第一纹理表面，其中第一纹理表面上紧邻第一轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值，该第一轴线基本平行于第一外围边缘，其中可塑层(28)校准经过其传播的光。
如权利要求106所述的背光照明设备，其特征在于第一纹理表面上紧邻第二轴线的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值，所述第二轴线基本垂直于所述第一轴线。
如权利要求106所述的背光照明设备，其特征还在于至少一个光导向膜(30)紧邻第一纹理表面放置。
如权利要求106所述的背光照明设备，其特征在于第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
110.如权利要求106所述的背光照明设备，其特征在于所述可塑层(28)具有其量在可塑层(28)总量的0.01％-1.0％的范围内的紫外线吸收化合物。
111.如权利要求106所述的背光照明设备，其特征在于大于或者等于可塑层(28)总量的80％包括聚碳酸酯化合物。
112.如权利要求106所述的背光照明设备，其特征在于所述可塑层(28)包括其量在可塑层(28)总量的0.001％-1.0％范围内的光学增亮剂。
113.如权利要求106所述的背光照明设备，其特征在于所述可塑层(28)包括在其内部的抗静电化合物。
114.如权利要求113所述的背光照明设备，其特征在于所述抗静电化合物包括氟化磺化磷。
115.一种光校准和扩散膜，其特征在于：
单一层(28)，其中大于或者等于单一层(28)总量的80％包括聚碳酸酯化合物，该单一层具有第一侧(46)和与第一侧(46)相对的第二侧(48)，以及至少一个第一外围边缘(61)，该第一侧(46)具有第一纹理表面，其中第一纹理表面上紧邻第一轴线(62)的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值，该第一轴线(62)基本平行于第一外围边缘(61)，其中可塑层(28)校准经过其传播的光。
116.如权利要求115所述的光校准和扩散膜，其特征在于第一纹理表面上紧邻第二轴线(60)的倾角中的7％至20％具有零度至五度的值，所述第二轴线(60)基本垂直于第一轴线(62)。
117.如权利要求115所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述第一纹理表面上7％至20％的倾角具有零度至五度的值。
118.如权利要求115所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述单一层(28)还包括基本均匀地分布在其内部的抗静电化合物。
119.如权利要求115所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述抗静电化合物包括氟化磺化磷。
120.如权利要求115所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述单一层(28)具有其量在单一层总量的0.01％-1.0％范围内的紫外线吸收化合物。
121.如权利要求115所述的光校准和扩散膜，其特征在于所述单一层(28)包括其量在层(28)总量的0.001％-1.0％范围内的光学增亮剂。
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