CN100481278C - 积层式陶金变阻器 - Google Patents
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- 238000003475 lamination Methods 0.000 title claims abstract description 37
- 239000010931 gold Substances 0.000 title claims abstract description 29
- 229910052737 gold Inorganic materials 0.000 title claims abstract description 26
- PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N gold Chemical compound [Au] PCHJSUWPFVWCPO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 25
- KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N Palladium Chemical compound [Pd] KDLHZDBZIXYQEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 16
- BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N platinum Chemical compound [Pt] BASFCYQUMIYNBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 15
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims abstract description 14
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims abstract description 14
- 229910045601 alloy Inorganic materials 0.000 claims abstract description 7
- 239000000956 alloy Substances 0.000 claims abstract description 7
- BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N Silver Chemical compound [Ag] BQCADISMDOOEFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims abstract description 6
- 229910052763 palladium Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052697 platinum Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 229910052709 silver Inorganic materials 0.000 claims abstract description 6
- 239000004332 silver Substances 0.000 claims abstract description 6
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 claims abstract description 5
- 239000010948 rhodium Substances 0.000 abstract description 9
- 229910052703 rhodium Inorganic materials 0.000 abstract description 5
- MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N rhodium atom Chemical compound [Rh] MHOVAHRLVXNVSD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract description 3
- PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N Nickel Chemical compound [Ni] PXHVJJICTQNCMI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000011651 chromium Substances 0.000 description 6
- 239000011572 manganese Substances 0.000 description 6
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000013078 crystal Substances 0.000 description 5
- ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N antimony trioxide Chemical compound O=[Sb]O[Sb]=O ADCOVFLJGNWWNZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N dichromium trioxide Chemical compound O=[Cr]O[Cr]=O QDOXWKRWXJOMAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 4
- AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L hydroxy(oxo)manganese;manganese Chemical compound [Mn].O[Mn]=O.O[Mn]=O AMWRITDGCCNYAT-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 4
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 description 4
- 229910000480 nickel oxide Inorganic materials 0.000 description 4
- 239000010936 titanium Substances 0.000 description 4
- 230000015556 catabolic process Effects 0.000 description 3
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 3
- 239000000463 material Substances 0.000 description 3
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 description 3
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 description 3
- SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N palladium silver Chemical compound [Pd].[Ag] SWELZOZIOHGSPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- -1 rhodium metals Chemical class 0.000 description 3
- 238000005245 sintering Methods 0.000 description 3
- ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N Boron Chemical compound [B] ZOXJGFHDIHLPTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 2
- VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N Chromium Chemical compound [Cr] VYZAMTAEIAYCRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N Manganese Chemical compound [Mn] PWHULOQIROXLJO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052779 Neodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910001252 Pd alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052777 Praseodymium Inorganic materials 0.000 description 2
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N Titanium Chemical compound [Ti] RTAQQCXQSZGOHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052787 antimony Inorganic materials 0.000 description 2
- WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N antimony atom Chemical compound [Sb] WATWJIUSRGPENY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052788 barium Inorganic materials 0.000 description 2
- DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N barium atom Chemical compound [Ba] DSAJWYNOEDNPEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052797 bismuth Inorganic materials 0.000 description 2
- JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N bismuth atom Chemical compound [Bi] JCXGWMGPZLAOME-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052796 boron Inorganic materials 0.000 description 2
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052804 chromium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910017052 cobalt Inorganic materials 0.000 description 2
- 239000010941 cobalt Substances 0.000 description 2
- GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N cobalt atom Chemical compound [Co] GUTLYIVDDKVIGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- UBEWDCMIDFGDOO-UHFFFAOYSA-N cobalt(2+);cobalt(3+);oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[O-2].[Co+2].[Co+3].[Co+3] UBEWDCMIDFGDOO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 2
- 230000008034 disappearance Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 229910052746 lanthanum Inorganic materials 0.000 description 2
- FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N lanthanum atom Chemical compound [La] FZLIPJUXYLNCLC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910052748 manganese Inorganic materials 0.000 description 2
- 238000000034 method Methods 0.000 description 2
- QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N neodymium atom Chemical compound [Nd] QEFYFXOXNSNQGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052759 nickel Inorganic materials 0.000 description 2
- GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N oxonickel Chemical compound [Ni]=O GNRSAWUEBMWBQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N praseodymium atom Chemical compound [Pr] PUDIUYLPXJFUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910004298 SiO 2 Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000000654 additive Substances 0.000 description 1
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- 229910000416 bismuth oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 1
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N dibismuth;oxygen(2-) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Bi+3].[Bi+3] TYIXMATWDRGMPF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004744 fabric Substances 0.000 description 1
- 230000004907 flux Effects 0.000 description 1
- 238000001000 micrograph Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N oxygen(2-);praseodymium(3+) Chemical compound [O-2].[O-2].[O-2].[Pr+3].[Pr+3] MMKQUGHLEMYQSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910003447 praseodymium oxide Inorganic materials 0.000 description 1
- 235000012239 silicon dioxide Nutrition 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
Images
Abstract
本发明公开了一种积层式陶金变阻器,其具有一主体部分,分别从主体部分的两侧端延伸到主体部分内部的内电极,设于主体部分两端的端电极等部分,相对的内电极之间所重迭的作用区域,其氧化物的摩尔百分比予以降低,由金、银、钯、铂、铑等金属,或其任两者之合金所取代。
Description
技术领域
本发明涉及一种变阻器,特别涉及一种积层式陶金变阻器,其作用区域具有金属相的积层式陶金变阻器。
背景技术
现有积层式变阻器,如图1与图2所示,包括一主体部分10,分别从主体部分的两侧端延伸到主体部分10内部的内电极101、102、103、……,设于主体部分两端的端电极20,以及设于主体顶面的被覆层30,其中,主体部分系以90%以上摩尔(mole%)的氧化锌(ZnO)为主成分,混合10%摩尔(mole%)以下的其它金属,诸如钴(Co)、锰(Mn)、铋(Bi)、锑(Sb)、铬(Cr)、镍(Ni)、钛(Ti)、锡(Sn)、镧(La)、钕(Nd)、镨(Pr)、钡(Ba)、镁(Mg)、铈(Ce)、硼(Bi)等的氧化物作为添加剂,以硝酸铅[Al2(NO3)x]、玻璃(Glass)、二氧化硅(SiO2)等为烧结助剂(flux),以金(Au)、银(Ag)、钯(Pd)、铂(Pt)、铑(Rh)等金属,或其任两的合金作为内电极(internal electrode)101……。
上述的现有积层式变阻器,其相对的内电极101、102;103、104之间的重迭区域A、B、C,即是″作用区域″,作用区域具有可变式的电阻作用,同时兼具电容特性。而作用区域的结构乃如图2所示,氧化锌(ZnO)晶粒1001、1002、……,乃紧密布列于两个内电极101与102;102与103;103与104相重迭的区域之间,晶粒外围的晶界(grain boundary),即为钴(Co)、锰(Mn)、铋(Bi)、锑(Sb)、铬(Cr)、镍(Ni)、钛(Ti)、锡(Sn)、镧(La)、钕(Nd)、镨(Pr)、钡(Ba)、镁(Mg)、铈(Ce)、硼(Bi)、铑(Rh)等的氧化物所填充。
由上述的说明,可以知道现有积层式变阻器,其作用区域的物质,皆为金属氧化物,或是金属氧化物与玻璃,并无任何金属相(metal phase)的存在,故其崩溃电压高。还有,现有积层式变阻器,制成很薄时,承受电流的强度低,若电流较高或有突波、火花时,即会烧掉;而且,制造上述现有积层式变阻器的设备昂贵,制造的员工也必需要水平很高,训练不易又费时,这也是其所延伸之一缺点。
有鉴于现有积层式变阻器有上述缺失,本发明人乃针对该些缺失研究改进之道,经长时间研究终有本发明产生。
发明内容
本发明的目的在于提供一种积层式陶金变阻器,依本发明的此种积层式陶金变阻器,其作用区域中氧化物的摩尔百分比予以降低,而降低的部分由金(Au)、银(Ag)、钯(Pd)、铂(Pt)、铑(Rh)等金属,或其任两者之合金取代,而同样利用积层的制程制作成具变阻特性的积层变阻器组件。
依本发明的此种积层式陶金变阻器,其因为作用区域中具有金属相的存在,故其崩溃电压可得降低,而其强度也可得提高,此为本发明的次一目的。
本发明是采用以下技术手段实现的:
一种积层式陶金变阻器,其具有一主体部分,分别从主体部分的两侧端延伸到主体部分内部的内电极,设于主体部分两端的端电极等部分,相对的内电极之间所重迭的作用区域,其氧化物的摩尔百分比予以降低而由金、银、钯、铂、铑等金属,或其任两者之合金所取代。
本发明与现有技术相比具有明显的优势和有益效果:
依本发明的此种积层式陶金变阻器,其无需利用制造超薄内层(20μm以下)的积层式元件的设备来制造,其制造设备的成本、员工训练的成本,可大为降低以外,其优良率也可大为提高。
从上所述可知,本发明的此种积层式陶金变阻器确实具有强度更高、崩溃电压较低、制造更简单的功效,采用的材料,其成本较低,而所制作的积层式陶金变阻器,仍然具有变阻器的特性,而因为具有银-钯合金,其强度大为提高。
附图说明
图1为现有积层式变阻器的结构立体部分截面说明图;
图2为现有积层式变阻器的纵截面图;
图3为现有积层式变阻器作用区域的结构示意图;
图4为本发明的积层式陶金变阻器的作用区域显微图;
图5为本发明的积层式陶金变阻器的作用区域进一步的显微放大图;
图6为本发明的积层式陶金变阻器的作用区域结构示意图;
图7为现有的积层式陶金变阻器与本发明的积层式陶金变阻器的电流-电压特性曲线图。
具体实施方式:
下面结合具体实施例对本发明做进一步详细说明。
请参阅图4与图5所示,本发明的此种积层式陶金变阻器,其特征在于降低作用区域中氧化物的摩尔百分比,而降低部分由金(Au)、银(Ag)、钯(Pd)、铂(Pt)、铑(Rh)等电极金属,或其任两者之合金取代,而利用积层制造制作如图1与图2所示,具有变阻特性的积层组件,经过900℃~1400℃的烧结(sintering)成为致密的烧结体,使得作用区域的金相为较少甚至没有的玻璃、金属氧化物晶粒与金属晶粒所共同组合而成的结构。如此,氧化锌(ZnO)晶粒乃获得减少,其情形如图6的结构示意图所示。
实施例:
以氧化锌(ZnO)92.89%摩尔、氧化钴(Co3O4)0.34%摩尔、氧化锰(Mn3O4)0.48%摩尔、三氧化二铬(Cr2O3)0.29%摩尔、三氧化二锑(Sb2O3)1.17%摩尔、氧化镍(NiO)0.78%摩尔、氧化镨(Pr6O11)0.08%摩尔、银-钯70/30合金[(Ag/Pd)70/30]3.96%,利用积层制程制作而得的积层电阻组件,其电流-电压特性曲线如图7的第II曲线所示。
比较说明:
以氧化锌(ZnO)96.32%摩尔、三氧化二铋(Bi2O3)0.51%摩尔、氧化钴(Co3O4)0.35%摩尔、氧化锰(Mn3O4)0.51%摩尔、三氧化二铬(Cr2O3)0.30%摩尔、三氧化二锑(Sb2O3)1.21%摩尔、氧化镍(NiO)0.81%摩尔,制作现有的积层式陶金变阻器,其电流-电压特性曲线如图7的第I曲线所示。
从以上的实施例与比较例可知,实施例所采用的材料,其成本较低,而所制作的积层式陶金变阻器,仍然具有变阻器的特性,而因为具有银-钯合金,其强度大为提高。
最后应说明的是:以上实施例仅用以说明本发明而并非限制本发明所描述的技术方案;因此,尽管本说明书参照上述的各个实施例对本发明已进行了详细的说明,但是,本领域的普通技术人员应当理解,仍然可以对本发明进行修改或等同替换;而一切不脱离发明的精神和范围的技术方案及其改进,其均应涵盖在本发明的权利要求范围当中。
Claims (1)
1、一种积层式陶金变阻器,其具有一主体部分,分别从主体部分的两侧端延伸到主体部分内部的内电极,设于主体部分两端的端电极部分,其特征在于:相对的内电极之间所重迭的作用区域,其氧化物的摩尔百分比予以降低,降低的部分由金、银、钯、铂、铑等金属,或其任两者之合金所取代。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2005100731309A CN100481278C (zh) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | 积层式陶金变阻器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2005100731309A CN100481278C (zh) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | 积层式陶金变阻器 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1873841A CN1873841A (zh) | 2006-12-06 |
CN100481278C true CN100481278C (zh) | 2009-04-22 |
Family
ID=37484260
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2005100731309A Expired - Fee Related CN100481278C (zh) | 2005-05-31 | 2005-05-31 | 积层式陶金变阻器 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN100481278C (zh) |
-
2005
- 2005-05-31 CN CNB2005100731309A patent/CN100481278C/zh not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1873841A (zh) | 2006-12-06 |
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C06 | Publication | ||
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SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
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