CN100478411C - 透明薄膜形成用涂布液及带透明薄膜的基体材料、显示装置 - Google Patents

透明薄膜形成用涂布液及带透明薄膜的基体材料、显示装置 Download PDF

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Abstract

本发明提供了透明薄膜形成用涂布液、利用该涂布液形成的带透明导电性薄膜的基体材料及具备该基体材料的显示装置。使用该涂布液形成透明薄膜时不会产生裂缝，且在导电层形成于下层时，包括导电层在内均匀地收缩，因此可形成不会产生裂缝、膜强度和导电性得到提高的透明薄膜。本发明的透明薄膜形成用涂布液包含由(i)四烷氧基硅烷的水解物和(ii)具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物形成的基质前体，且基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在0.5～50重量%的范围内。上述基质前体为四烷氧基硅烷和具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的混合物的同时水解物。

Description

透明薄膜形成用涂布液及带透明薄膜的基体材料、显示装置
技术领域
本发明涉及可形成透明薄膜的透明薄膜形成用涂布液及具有采用该涂布液形成的透明薄膜的带透明导电薄膜的基体材料、具备该基体材料的显示装置。
背景技术
一直以来，为使阴极射线管、荧光显示管、液晶显示板等显示面板这类透明基体材料的表面防带电及防反射，一般在其表面形成一种具有防带电和防反射功能的透明薄膜。
而且众所周知，从阴极射线管等会辐射出电磁波，因此，除了原有的防带电和防反射外，最好还要屏蔽电磁波及电磁波辐射所形成的电磁场。
屏蔽这种电磁波的方法之一是在阴极射线管等显示面板的表面形成一种用于屏蔽电磁波的导电性薄膜。如果是防带电用导电性薄膜，其表面电阻至少为108Ω/□左右才足够，而屏蔽电磁用的导电性薄膜则必须要具有102～104Ω/□这样低的表面电阻。
如果采用现有的含有掺Sb的氧化锡或者掺Sn的氧化铟这类导电性氧化物的涂布液形成上述表面电阻低的导电性薄膜，相比现有的防带电性的薄膜，就必须增大膜的厚度。但是，问题也随之产生了，即如果导电性薄膜的膜厚度不在10～200nm的范围内，则不具有防反射的效果。因此，用现有的掺Sb的氧化锡或者掺Sn的氧化铟这类导电性氧化物，难以得到表面电阻低、电磁波屏蔽性能优良，且防反射性能也优良的导电性薄膜。
还有，形成低表面电阻的导电性薄膜的方法之一是采用含银等金属微粒的涂布液在基体材料表面形成低表面电阻的导电性薄膜。在此种方法中，将胶状的金属微粒分散于极性溶剂而得到的溶液用作涂布液。为提高胶状金属微粒的分散性，用聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮或者明胶等有机稳定剂对该涂布液中的金属微粒表面进行处理。但是，用这种含金属微粒的薄膜形成用涂布液形成的导电性薄膜，由于薄膜中的金属微粒相互间通过稳定剂接触，晶间电阻增大，所以薄膜的表面电阻不会降低。因此制膜后，必须用400℃左右的高温进行烧结，分解除去稳定剂，但如果为分解除去稳定剂而在高温烧结，则会产生金属微粒相互间的融接及凝集，从而造成导电性薄膜的透明度及能见度低的问题。在阴极射线管等情况下，还存在如果暴露在高温下性能会劣化的问题。
而且，金属微粒与前述导电性氧化物不同，它原本就不透光，因此用金属微粒形成的导电性薄膜受导电性薄膜中的金属微粒的密度及膜厚度等影响，存在透明度低的问题。
再有，现有的含Ag等金属微粒的透明导电性薄膜的耐盐水性及耐氧化性低，因此金属被氧化、离子化引起粒子增大，而且某些情况下会发生腐蚀，导致薄膜的导电性及透光率低，存在显示装置可靠性差的问题。
本发明者为了提高防带电性能和电磁波屏蔽性能等，同时也为了提高膜的强度(硬度)及划痕强度等，进行了深入的研究，结果发现如果基质前体使用含有具有特定的官能团的有机硅化合物的水解物的涂布液，在导电层表面形成透明薄膜，则在透明薄膜形成时不会产生裂缝，膜强度增强，并且导电性提高，并由此最终完成了本发明。
本发明的目的是提供一种透明薄膜形成用涂布液，使用该涂布液形成透明薄膜时，不会产生裂缝，而且在导电层形成于下层时，包括导电层在内一起均匀的收缩，由此可形成不会产生裂缝、膜强度和导电性同时提高的透明薄膜。还提供了利用该涂布液形成的带透明导电薄膜的基体材料，具备该基体材料的显示装置。
发明内容
本发明的透明薄膜形成用涂布液的特征是包含由(i)四烷氧基硅烷的水解物以及(ii)具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物形成的基质前体，且基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在0.5～50重量％的范围内。
上述基质前体最好是四烷氧基硅烷和具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的混合物的同时水解物。
上述基质前体中还可含有(iii)具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物，基质前体中的该(iii)的比例按固体成分计在0.1～30重量％的范围内。
上述具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物最好是四烷氧基硅烷和具有氟取代有机基的有机硅化合物的混合物的同时水解物。
本发明的带透明导电性薄膜的基体材料由基体材料、基体材料上的含导电性微粒的透明导电性微粒层及设在该透明导电性微粒层上的折射率比该透明导电性微粒层低的透明薄膜构成，该基体材料的特征是，透明薄膜由上述透明薄膜形成用涂布液形成。
本发明的显示装置的特征是，具备上述带透明导电性薄膜的基体材料形成的前面板，透明导电性薄膜形成于该前面板的外表面。
具体实施方式
透明薄膜形成用涂布液
本发明的透明薄膜形成用涂布液的特征是，基质前体由(i)四烷氧基硅烷的水解物和(ii)具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物构成，基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在0.5～50重量％的范围内。
四烷氧基硅烷包括四甲氧基硅烷、四乙氧基硅烷、四丙氧基硅烷、四丁氧基硅烷等。
在酸催化剂的存在下，使四烷氧基硅烷在水-醇混合溶剂中加水分解能够得到四烷氧基硅烷的水解物(i)。
此外，水解物可以是部分水解物，也可以是水解物的缩聚物。这种四烷氧基硅烷的水解物是公知的。
本发明所使用的具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物包括γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-环氧丙氧基丙基三乙氧基硅烷、β-(3，4-环氧基环己基)乙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基甲基二乙氧基硅烷、γ-甲基丙烯酰氧基丙基三乙氧基硅烷、乙烯基三甲氧基硅烷、乙烯基三乙氧基硅烷、乙烯基三(β-甲氧基乙氧基)硅烷等。
这些具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物(ii)也和上述四烷氧基硅烷的水解物(i)一样，能够在酸催化剂的存在下，使具有环氧基等官能团的有机硅化合物在水-醇混合溶剂加水分解而得到。该水解物可以是部分水解物，也可以是水解物的缩聚物。可以采用以往公知的水解物。
水解物的分子量一般为500～20000，更好为600～10000。
水解物的分子量小于500时，收缩大，易产生裂缝，如果水解物的分子量超过20000，则与基体材料的粘合性变差，强度不足够。基质前体中(i)的比例按固体成分计为50～99.5重量％，更好为70～99重量％。基质前体中(ii)的比例按固体成分计为0.5～50重量％，更好为1～30重量％。
如果使用含有这种特定的水解物的基质前体，则在导电微粒层表面形成透明薄膜时，裂缝少，而且能够制造出导电性优良的带薄膜的基体材料。
基质前体中如果含有具备上述特性的水解物，则裂缝产生少，在形成透明薄膜时，与仅仅形成导电性微粒的情况相比，虽然能够形成导电性高的带薄膜的基体材料的原因还不确定，但可以推断，这种基质前体薄膜的垂直方向(即厚度方向)的收缩大，与之相反，水平方向(即平面方向)的收缩小，因此纵(厚度)向的收缩是主要的，这样薄膜形成时的收缩基本不会引起裂缝的产生。
还有，由于这种透明薄膜在形成薄膜时的收缩是纵向的，所以在下层设置导电性微粒层时，导电性微粒层本身也随透明薄膜的收缩而收缩，导电性微粒层中的间隙减少，由此导电性微粒致密地填充在导电性微粒层中，导电性也相应提高。
因此，即使减小透明薄膜的厚度，也不会产生裂缝，而且可以形成能提高导电性微粒层的导电性的透明薄膜。
如果基质前体中的(ii)的比例按固体成分计小于0.5重量％，则在形成透明薄膜时，可能会由于水平方向的收缩大而产生裂缝。还有，在导电性微粒层表面形成透明薄膜时，由于纵向的收缩小，所以导电性的提高效果不充分，这样膜硬度的提高效果也不明显。
如果基质前体中的(ii)的比例按固体成分计超过50重量％，则由于上述水平方向及纵向的收缩减少而导电性提高的效果不充分，这样膜硬度的提高效果也不明显。
如果基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在上述范围内，则在膜厚度相同的情况下，导电性有所提高，因此具有相同表面电阻的透明导电性微粒层能够减小膜厚度，降低成本，同时在较大的波长范围内，反射率低，即能够得到视感反射率低、显示性能优良的带透明导电性薄膜的基体材料。
本发明所使用的基质前体最好是四烷氧基硅烷和具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的混合物的同时水解物。这种混合物的同时水解物能够在酸催化剂的存在下，使混合物在水-醇混合溶剂中加水分解而得到。这种情况下，水解物可以是部分水解物，也可以是水解物的缩聚物。
如果将这种同时水解物用作基质前体，则与分别混合水解物的情况相比，膜的收缩能更加均一地进行，因此就有可能提高膜强度，保持导电性微粒层高导电性。其理由虽还未明确，但可以推断，由于同时进行加水分解，所以生成了四烷氧基硅烷和环氧系有机硅化合物的共聚物。
再有，将同时水解物用作基质前体的情况下，基质前体中的(ii)的比例(即，同时水解物中所含的具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物的比例)按固体成分计为0.5～50重量％，更好为1～40重量％。
上述基质前体中还可以含有(iii)具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物。含有具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物时，该基质前体中的(iii)的比例按固体成分计为0.1～30重量％，更好为0.5～20重量％。
具有氟取代有机基的有机硅化合物包括3，3，3-三氟代丙基三甲氧基硅烷，甲基-3，3，3-三氟代丙基二甲氧基硅烷，十七烷基三氟代癸基甲基二甲氧基硅烷，十七烷基三氟代癸基三甲氧基硅烷，十七烷基三氟代三甲氧基硅烷，n-全氟代辛基乙基三乙氧基硅烷等。
这种具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物(iii)也可以在酸催化剂的存在下，使具有氟取代有机基的有机硅化合物在水-醇混合溶剂中加水分解而得到。这种情况下，水解物可以是部分水解物，也可以是水解物的缩聚物，能够使用以往公知的水解物。
基质前体中的(iii)的比例按固体成分计小于上述下限时，耐污染性(防止指纹等的附着)、防水性及划痕强度的提高效果不充分。如果基质前体中的(iii)的比例按固体成分计超过上述上限，则膜硬度(铅笔芯硬度、钢丝棉硬度)下降。
本发明所使用的基质前体(iii)最好是四烷氧基硅烷和具有氟取代有机基的有机硅化合物的混合物的同时水解物。这种混合物的同时水解物可以在酸催化剂的存在下，使四烷氧基硅烷和具有氟取代有机基的有机硅化合物的混合物在水-醇混合溶剂中加水分解而得到。这种情况下，水解物可以是部分水解物，也可以是水解物的缩聚物。
同时含有成分(i)、(ii)及(iii)的情况下，可以是各自的水解物的混合物，可以是(i)和(ii)的同时水解物与(iii)的水解物的混合物，还可以是(i)和(ii)的同时水解物与(ii)和(iii)的同时水解物的混合物，或(ii)和(iii)的同时水解物与(i)的水解物的混合物，或(i)、(ii)和(iii)的同时水解物。
形成同时水解物时所采用的全部有机硅化合物和具有氟取代有机基的有机硅化合物的量比应满足使基质前体中(iii)的比例按固体成分计在0.1～10重量％的范围内，更好是在0.5～5重量％的范围内的要求。
如果用这种同时水解物作为基质前体(iii)，则膜收缩能够均匀地进行，在取得提高导电性的效果及提高膜硬度的效果的同时，还能够得到较高的防水性和划痕强度。
这种具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物也可以在酸催化剂的存在下使具有氟取代有机基的有机硅化合物在水-醇混合溶剂中加水分解而得到。这种水解物可以是部分水解物，也可以是水解物的缩聚物。可以采用以往公知的水解物。
本发明的透明薄膜形成用涂布液中可以含有平均粒径为5～300nm、最好为10～200nm，折射率为1.28～1.42、最好为1.28～1.40的低折射率微粒。
如果低折射率微粒的折射率在上述范围内，则得到的带透明导电性薄膜的基体材料的底部反射率及视感反射率低，能够显现优良的防反射性能。
低折射率微粒的用量应满足下述要求，即透明薄膜中的低折射率微粒的含量换算成固体成分，应在10～90重量％的范围内，最好在20～80重量％的范围内。
这种低折射率微粒只要其平均粒径及折射率在上述范围内即可，对其无特别的限定，可以使用以往公知的微粒。例如，在本专利申请人申请的日本专利特开平7-133105号公报中所公开的复合氧化物溶胶，在WO 00/37359号公报中所公开的具有覆盖层的多孔质复合氧化物微粒。
此外，本发明的透明薄膜形成用涂布液中还可以含有用氟化镁等低折射率材料形成的微粒、不影响透明薄膜的透明度及防反射性能的少量的导电性微粒及/或染料或颜料等添加剂。
本发明中，可以在涂布这种透明薄膜形成用涂布液形成的薄膜干燥时或干燥后，以150℃以上的温度加热，或用波长比可见光线短的紫外线、电子束、X射线、γ射线等电磁波照射未硬化的薄膜，或者曝露在氨气等活性气体氛围气中。这样可促进薄膜形成成分的硬化，提高所得透明薄膜的硬度。
带透明导电性薄膜的基体材料
以下，详细说明本发明所涉及的带透明导电性薄膜的基体材料。
本发明的带透明导电性薄膜的基体材料中，在用玻璃、塑料、陶瓷等构成的薄膜、薄片及其它的成型体等基体材料上由平均粒径1～200nm的导电性微粒形成透明导电性微粒层，在该透明导电性微粒层上又形成折射率比该透明导电性微粒层低的透明薄膜，该透明薄膜由上述透明薄膜形成用涂布液构成。
透明导电性微粒层
[导电性微粒]
本发明所使用的导电性微粒，只要所得透明导电性薄膜的表面电阻在102～108Ω/□的范围内即可，对其无特别的限定，可以采用以往公知的导电性微粒。
导电性微粒包括氧化锡，掺Sb、F或P的氧化锡，氧化铟，掺Sn或F的氧化铟，氧化锑和低氧化钛等氧化物系导电性微粒。
氧化物系导电性微粒的平均粒径为1～200nm，更好为2～150nm。
平均粒径小于1nm时，粒子过小，易凝集，而且由于微粒层的表面电阻急剧增大，所以不能得到具有能达到本发明目标的低电阻值的薄膜。如果平均粒径超过200nm，则粒子较大，粒子间的接触点减少，不能获得充分的导电性。而且，膜强度及与基体材料的粘合性降低，得到的透明导电性薄膜的混浊度增高。
此外，导电性微粒可以使用以往公知的金属微粒，该金属微粒可以是有单一成分构成的金属微粒，也可以是含2种以上的金属成分的复合金属微粒。
具体来说包括选自Au、Ag、Pd、Pt、Rh、Ru、Cu、Fe、Ni、Co、Sn、Ti、In、Al、Ta、Sb等金属的至少1种或2种以上金属构成的金属微粒。
构成金属微粒的效果较好的2种以上的金属组合包括Au-Cu、Ag-Pt、Ag-Pd、Au-Pd、Au-Rh、Pt-Pd、Pt-Rh、Fe-Ni、Ni-Pd、Fe-Co、Cu-Co、Ru-Ag、Au-Cu-Ag、Ag-Cu-Pt、Ag-Cu-Pd、Ag-Au-Pd、Au-Rh-Pd、Ag-Pt-Pd、Ag-Pt-Rh、Fe-Ni-Pd、Fe-Co-Pd、Cu-Co-Pd等。
金属微粒的平均粒径为1～200nm，更好为2～70nm。如果处于该粒径范围内，则形成的导电层是透明的。金属微粒的平均粒径如果超过200nm，则金属的光吸收增大，微粒层的透光率降低，同时混浊度增大。如果将带薄膜的基体材料用作阴极射线管的前面板，则显示图像的析像度降低。在金属微粒的平均粒径小于1nm的情况下，由于微粒层的表面电阻急剧增大，因此不能得到具有能达到本发明目标的低电阻值的薄膜。
这种导电性微粒层能够采用导电性薄膜形成用涂布液制得。
导电性薄膜形成用涂布液中含有上述导电性微粒和极性溶剂。
导电性薄膜形成用涂布液中所使用的极性溶剂包括水，甲醇、乙醇、正丙醇、异丙醇、丁醇、双丙酮醇、糠醇、四氢糠醇、乙二醇、己二醇等醇类，乙酸甲酯、乙酸乙酯等酯类，乙醚、乙二醇一甲醚、乙二醇一乙醚、乙二醇一丁醚、二甘醇一甲醚、二甘醇一乙醚、异丙二醇等醚类，丙酮、丁酮、乙酰丙酮、乙酰乙酸酯等酮类等。这些溶剂既可单独使用，又可以2种以上混合使用。
如果使用含氧化物系导电性微粒的涂布液，则能够形成具有102～108Ω/□左右的表面电阻的透明导电性层，该层显现出防带电效果和电磁波屏蔽效果。使用氧化物系导电性微粒形成导电层时，导电性薄膜形成用涂布液中的氧化物系导电性微粒的浓度为0.2～5重量％，更好为1～5重量％。
导电性薄膜形成用涂布液中的氧化物系导电性微粒的量如果小于上述下限，则得到的薄膜变薄，因此不能获得充分的导电性。如果氧化物系导电性微粒超过上述上限，作为膜厚增大，不仅膜的混浊度劣化，且外观也变差。
如果使用含代替氧化物导电性微粒的金属微粒的涂布液，则能够形成具有102～103Ω/□左右的表面电阻的透明导电性层，该层显现出防带电效果和电磁波屏蔽效果。使用金属微粒形成电磁屏蔽用导电层时，所含的金属微粒，以导电性薄膜形成用涂布液中的金属微粒的浓度为0.05～5重量％，尤其是0.1～2重量％为佳。
导电性薄膜形成用涂布液中的金属微粒的量若小于0.05重量％，作为得到的薄膜变薄，因此不能获得充分的导电性。若金属微粒超过5重量％，则膜厚增大，透光率降低，透明度变差，并且外观也变差。
在导电性薄膜形成用涂布液中，可以根据需要含有着色剂、基质前体和有机稳定剂等。
着色剂包括微粒炭黑、钛黑、染料、颜料等。含有这类着色剂可以得到对比度优良的显示装置。
在导电性薄膜形成用涂布液中还可以含有基质前体。这类基质前体最好由二氧化硅形成。具体来说包括烷氧基硅烷等有机硅化合物的水解缩聚物、由碱金属硅酸盐脱碱得到的硅酸缩聚物或涂料用树脂等。这种基质形成成分按固体成分计，对应于1重量份导电性微粒含0.01～0.5重量份，更好为0.03～0.3重量份。这种基质前体作为薄膜形成后的导电性微粒的粘合剂使用。
有机稳定剂包括明胶、聚乙烯醇、聚乙烯吡咯烷酮、草酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、己二酸、癸二酸、马来酸、富马酸、邻苯二甲酸、柠檬酸等多元羧酸及其盐，杂环化合物或它们的混合物等。
这种有机稳定剂对含金属微粒的情况特别有效，其含量对应于金属微粒1重量份，一般为0.005～0.5重量份，更好为0.01～0.2重量份。若有机稳定剂的含量未满0.005重量份，则不能获得充分的金属微粒的分散性，若超过0.5重量份，则会影响到导电性。
透明导电性微粒层是在基体材料上涂布上述透明导电性薄膜形成用涂布液，然后干燥而在基体材料上形成的透明导电性微粒层。
形成透明导电性微粒的方法包括用浸渍法、旋压法、喷涂法、滚涂法、苯胺印刷法等方法在基体材料上涂布透明薄膜形成用涂布液后，在常温～约90℃的温度范围内进行干燥。
透明导电性薄膜形成用涂布液中含有上述基质前体时，可以进行基质前体的硬化处理。
例如，可以在涂布这种透明薄膜形成用涂布液而形成的薄膜干燥时或干燥后，以150℃以上的温度加热，或用波长比可见光线短的紫外线、电子束、X射线、γ射线等电磁波照射未硬化的薄膜，或者曝露在氨气等活性气体氛围气中。这样可促进薄膜形成成分的硬化，使所得薄膜的硬度有所提高。
由上述方法形成的透明导电性微粒层的膜厚度在5～200nm的范围内，更好的是在10～150nm的范围内，膜厚度只要在此范围内，就能够得到防带电性及电磁屏蔽性优良的带透明导电性薄膜的基体材料。
透明导电性微粒层的膜厚度如果超过200nm，则透光率降低，薄膜上容易形成孔隙，混浊度增高。
透明薄膜
本发明的带透明导电性薄膜的基体材料中，在上述透明导电性微粒层上形成了折射率比上述透明导电性微粒层低的透明薄膜。
透明薄膜可以采用浸渍法、旋压法、喷涂法、滚涂法、苯胺印刷法等湿式薄膜形成法涂布上述透明薄膜形成用涂布液，并根据需要进行干燥而形成。
此时的透明薄膜的厚度一般为50～300nm，更好为80～200nm。
透明薄膜的厚度如果超过上述范围的上限，则薄膜上会产生裂缝，膜的强度降低，而且，膜太厚会造成防反射性能不充分。如果透明薄膜的厚度小于上述下限，则膜的强度及防反射性能较差。
如前所述，这种通过涂布透明薄膜形成用涂布液而形成的薄膜在干燥时或干燥后，以150℃以上的温度加热，或用波长比可见光线短的紫外线、电子束、X射线、γ射线等电磁波照射未硬化的薄膜，或者曝露在氨气等活性气体氛围气中。这样可促进薄膜形成成分的硬化，使所得透明薄膜的硬度提高。
显示装置
本发明的带透明导电性薄膜的基体材料具有防带电、电磁屏蔽所需的约102～108Ω/□的表面电阻，且透明度优良，并在可见光范围及近红外范围内具有充分的防反射性能，适合用作显示装置的前面板。
本发明的显示装置是阴极射线显像管(CRT)、荧光显示管(FIP)、等离子体显示装置(PDP)、液晶显示装置(LCD)等显示图像的电气装置，并配备了由上述带透明导电性薄膜的基体材料构成的前面板。
配备现有前面板的显示装置在工作时，由于透明导电性薄膜的膜硬度、划痕强度等不充分，因此易损伤、易模糊，有时候难以看见画面。
本发明的显示装置中，前面板由上述无裂缝、且膜强度优良的带透明导电性薄膜的基体材料构成，油脂、指纹等难以附着在上面，这样就不须擦拭油脂等，由此不会发生损伤，因此显示性能优良，还能够防带电，且能够有效地屏蔽电磁波及电磁波辐射所产生的电磁场。
如果在显示装置的前面板有反射光，则难以看清显示的图像。但是，本发明的显示装置，因为前面板由在可见光范围及近红外光范围内具有充分的防反射性能的带透明导电性薄膜的基体材料构成，因此可以有效地防止反射光的产生。
本发明能够提供一种透明薄膜形成用涂布液及具有用该涂布液形成的透明薄膜的带透明导电性薄膜的基体材料，以及配备该基体材料的显示装置。该透明薄膜形成用涂布液由于含有作为基质前体的四烷氧基硅烷水解物和具有选自环氧基、丙烯酰基、乙烯基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物，以及根据需要添加的含氟取代有机基的有机硅化合物的水解物，因此在形成薄膜时，能够形成无裂缝、膜强度及导电性优良、且防水性和划痕强度优良、能够防止指纹等油脂污迹的带透明导电性薄膜的基体材料。
还有，由于透明薄膜比导电性微粒层折射率低，因此能够提供一种防反射性能优良的带透明导电性薄膜的基体材料。
用这种带透明导电性薄膜的基体材料作为显示装置的前面板时，能够提供一种防带电性能、电磁屏蔽性能和防反射性能等优良，且耐久性、防水性等也优良的显示装置。
以下，通过实施例说明本发明，但本发明并不限于这些实施例。
[制造实施例]
a)导电性微粒分散液的调制
按如下所述的方法调制本实施例及比较例所用的导电性微粒的分散液。
掺Sn的氧化铟(ITO)微粒(P-1)分散液的调制
调制硝酸铟79.9g溶解于686g水中得到的溶液和锡酸钾12.7g溶解于浓度10重量％的氢氧化钾溶液得到的溶液，用2小时将这些溶液添加入温度保持在50℃的1000g纯水中。这期间，保持反应系内的pH值为11，从得到的掺Sn的氧化铟水合物分散液中过滤、洗涤掺Sn的氧化铟水合物后，再次分散到水中，调制出固体成分浓度为10重量％的金属氧化物前体氢氧化物分散液。在100℃的温度下，对此分散液进行喷雾干燥，调制出金属氧化物前体氢氧化物粉末。在氮氛围气下，以550℃的温度加热处理此粉末2小时。
将该粉末分散于乙醇中，使浓度达到30重量％，用硝酸水溶液将pH值调至3.5后，将此混合液保持在30℃，并用磨砂机粉碎0.5小时，调制出溶胶。接着，加乙醇调制出浓度20重量％的掺Sn的氧化铟微粒(P-1)分散液。
对得到的导电性氧化物微粒(P-1)按以下方法测定其平均粒径。
结果见表1。
对导电性微粒拍摄TEM照片，测定20个粒子的粒径，取其平均值作为平均粒径，见表1。
掺Sb的氧化锡(ATO)微粒(P-2)分散液的调制
将氯化锡57.7g和氯化锑7.0g溶于100g甲醇中调制出溶液。用4小时将调制的溶液添加入90℃、搅拌下的纯水1000g中进行加水分解，过滤、洗涤生成的沉淀后，再次分散到水中，调制出固体成分浓度10重量％的金属氧化物前体氢氧化物分散液。在100℃的温度下，对此分散液进行喷雾干燥，调制出金属氧化物前体氢氧化物粉末。然后，在氮氛围气下，以550℃的温度加热处理此粉末2小时。将30g此粉末加入70g的氢氧化钾水溶液(含有KOH 3.0g)中，将混合液温度保持在30℃，并用磨砂机粉碎3小时，调制出溶胶。接着用，离子交换树脂处理此溶胶，脱碱后加纯水调制出浓度为20重量％的掺Sb的氧化锡微粒(P-2)分散液。测定其平均粒径，结果见表1。
银钯合金微粒(P-3)的分散液的调制
按每得到合金微粒1重量份添加0.01重量份的要求，预先将柠檬酸三钠加入100g纯水中，在其中加硝酸银及硝酸钯水溶液使浓度按金属换算为10重量％，银和钯的重量比为8∶2，再添加和硝酸银及硝酸钯的合计摩尔数等摩尔数的硫酸亚铁的水溶液，在氮氛围气下搅拌1小时，得到了银钯合金微粒的分散液。然后，将所得分散液用离心分离器水洗，除去杂质后，再分散到水中，调制出浓度为4重量％的银钯合金微粒(P-3)的分散液。银钯合金微粒的平均粒径为8nm。
[实施例1]
透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)的调制
混合以上得到的微粒(P-1)分散液和乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(68∶12∶8∶8∶4重量比)的混合溶剂，调制出导电性微粒浓度为3.5重量％的透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)。
透明薄膜形成用涂布液(B-1)调制
将浓盐酸1.0g及纯水31.9g的混合溶液加入作为四烷氧基硅烷的原硅酸乙酯(SiO2：28.8重量％)31.3g、作为环氧系有机硅化合物的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-403)3.9g和乙醇31.9g的混合溶液中，在60℃搅拌2小时，调制出固体成分浓度为11.6重量％的含基质前体的混合溶液(M-1)。
接着，在混合溶液(M-1)中加入乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(72∶12∶6∶6∶4重量比)的混合溶剂，调制出固体成分浓度为1.5重量％的透明薄膜形成用涂布液(B-1)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
将阴极射线显像管用面板玻璃(17″)的表面保持在40℃的温度下，用旋压法在100rpm、90秒的条件下涂布上述透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，干燥后测定此时的导电层的膜厚，结果见表1。
接着，在以上形成的透明导电性微粒层上，同样采用旋压法在150rpm、90秒的条件下涂布透明薄膜形成用涂布液(B-1)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
采用表面电阻计(三菱油化(株)制：LORESTA)测定上述带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻，用混浊度测量仪(日本电色(株)制：3000A)测定混浊度。反射率则用反射率计(大塚电子(株)制：MCPD-2000)进行测定，底部反射率以在波长400～700nm的范围内反射率最低的波长下的反射率表示，视感反射率以在波长400～700nm范围的平均反射率表示。结果见表1。
还评价了橡皮擦硬度、划痕硬度及指纹附着性，结果见表1。
橡皮擦硬度
在带透明导电性薄膜的基体材料上放置橡皮擦(狮王(株)制：1K)，施加1±0.1Kg的负载，以约25mm的距离反复擦拭25次。每次擦拭产生的橡皮屑用高压气体除去。
橡皮重复擦拭25次后，在1000勒克斯的照明下，在距离透明薄膜表面45cm处进行表面的目视观察。
A：没有观察到划伤，
B：在荧光灯下反射色出现变化(从紫色变为红色)，
C：在荧光灯下没有出现反射色，观察到划伤，
D：可以看见衬底(基体材料)。
划痕硬度
在带透明导电性薄膜的基体材料的透明薄膜上设置标准试验针((株)ロツクウエル制：硬度HRC-60、φ：0.5mm)，施加1±0.3Kg的负载，以30～40mm的距离扫描后，在1000勒克斯的照明下，在距离透明薄膜表面45cm处进行表面的目视观察。
A：没有观察到划伤，
B：观察到断断续续的裂纹，
C：观察到淡淡的连续的裂纹，
D：观察到明显的连续的裂纹。
指纹附着性
将手指用力按在带透明导电性薄膜的基体材料的透明薄膜表面，使指纹附着在上面。用干布擦拭5次后，目视观察薄膜的色调变化，按以下的标准评价，结果见表1。
○：确认颜色没有变化(不附着指纹或容易除去)，
△：确认颜色稍有变化，
×：确认颜色明显变化(确认有干扰色)。
[实施例2]
透明薄膜形成用涂布液(B-2)的调制
除作为环氧系有机硅化合物使用γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-403)0.8g以外，其它操作都与实施例1相同，调制出透明薄膜形成用涂布液(B-2)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件下，涂布透明薄膜形成用涂布液(B-2)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例3]
透明薄膜形成用涂布液(B-3)的调制
除作为环氧系有机硅化合物使用γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-403)7.9g以外，其它操作都与实施例1相同，调制出透明薄膜形成用涂布液(B-3)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-3)，干燥后在160℃的温度烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例4]
透明薄膜形成用涂布液(B-4)的调制
和实施例1相同，调制出含基质前体的混合溶液(M-1)。
另外，将浓硝酸1.0g及纯水49.9g的混合溶液加入作为四烷氧基硅烷的原硅酸乙酯(SiO2：28.8重量％)17.4g、作为含氟取代有机基的有机硅化合物的十七烷基三氟代三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-7803)1.6g和乙醇251g的混合溶液中，在60℃搅拌2小时后，调制出固体成分浓度为2重量％的含基质前体的混合溶液(M-2)。
接着，将混合溶液(M-1)和混合溶液(M-2)混合，添加乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(72∶12∶6∶6∶4重量比)的混合溶剂，调制出透明薄膜形成用涂布液(B-4)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-4)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例5]
透明薄膜形成用涂布液(B-5)的调制
除作为含氟取代有机基的有机硅化合物使用十七烷基三氟代三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-7803)8.2g以外，其它操作都与实施例4相同，调制出透明薄膜形成用涂布液(B-5)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-5)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例6]
透明导电性薄膜形成用涂布液(C-2)的调制
混合上述得到的微粒(P-2)分散液和乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(68∶12∶8∶8∶4重量比)的混合溶剂，调制出导电性微粒浓度为3.5重量％的透明导电性薄膜形成用涂布液(C-2)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-2)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-4)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例7]
透明导电性薄膜形成用涂布液(C-3)的调制
混合上述得到的微粒(P-3)分散液和乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(68∶12∶8∶8∶4重量比)的混合溶剂，调制出导电性微粒浓度为0.35重量％的透明导电性薄膜形成用涂布液(C-3)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-3)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-4)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例8]
透明薄膜形成用涂布液(B-8)的调制
除作为含氟取代有机基的有机硅化合物使用n-全氟代辛基乙基三乙氧基硅烷(東レダウコ一ニングシリコ一ン(株)制：AY43-158E)1.6g以外，其它操作都与实施例4相同，调制出透明薄膜形成用涂布液(B-8)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-8)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例9]
透明薄膜形成用涂布液(B-9)的调制
除作为环氧系有机硅化合物使用丙烯系的γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KMB-403)4.1g以外，其它操作都与实施例4相同，调制出透明薄膜形成用涂布液(B-9)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-9)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例10]
透明导电性薄膜形成用涂布液(B-10)的调制
将浓盐酸1.0g及纯水31.9g的混合溶液加入作为四烷氧基硅烷的原硅酸甲酯(SiO2：51重量％)17.7g、作为环氧系有机硅化合物的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-403)3.9g和乙醇45.5g的混合溶液中，在60℃搅拌2小时，调制出固体成分浓度为11.6重量％的含基质前体的混合溶液(M-3)。
另外，将浓盐酸1.0g及纯水49.9g的混合溶液加入到原硅酸甲酯(SiO2：51重量％)10g、作为含氟取代有机基的有机硅化合物的十七氟代癸基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-7803)1.6g和乙醇263.6g的混合溶液中，在60℃搅拌2小时，调制出SiO2浓度为1.5重量％的含基质前体的混合溶液(M-4)。
接着，将混合溶液(M-3)和混合溶液(M-4)混合，再加入乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(72∶12∶6∶6∶4重量比)的混合溶剂，调制出固体成分浓度为1.5重量％的透明薄膜形成用涂布液(B-10)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-4)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[实施例11]
透明薄膜形成用涂布液(B-11)的调制
除作为环氧系有机硅化合物使用丙烯系的γ-甲基丙烯酰氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KMB-503)4.1g以外，其它操作都与实施例10相同，调制出透明薄膜形成用涂布液(B-11)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(B-11)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例1]
透明薄膜形成用涂布液(RB-1)的调制
将浓盐酸1.0g及纯水31.9g的混合溶液加入到作为四烷氧基硅烷的原硅酸乙酯(SiO2：28.8重量％)34.7g和乙醇132.4g的混合溶液中，在60℃搅拌2小时，调制出SiO2浓度为5重量％的含基质前体的混合溶液(RM-1)。
接着，在混合溶液(RM-1)中加入乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(72∶12∶6∶6∶4重量比)的混合溶剂，调制出透明薄膜形成用涂布液(RB-1)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(RB-1)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到50nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例2]
透明薄膜形成用涂布液(RB-2)的调制
将浓盐酸1.0g及纯水31.9g的混合溶液加入到作为环氧系有机硅化合物的γ-环氧丙氧基丙基三甲氧基硅烷(信越化学(株)制：KBM-403)39.4g和乙醇193.3g的混合溶液中，在50℃搅拌24小时，调制出固体成分浓度为10重量％的含基质前体的混合溶液(M-6)。
接着，在混合溶液(M-6)中加入乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(72∶12∶6∶6∶4重量比)的混合溶剂，调制出固体成分浓度为1.5重量％的透明薄膜形成用涂布液(RB-2)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(RB-2)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到40nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例3]
透明薄膜形成用涂布液(RB-3)的调制
和实施例4相同，调制出固体成分浓度为2重量％的含基质前体的混合溶液(M-2)。
接着，在混合溶液(M-2)中加入乙醇/正丙醇/乙基溶纤剂/异丙二醇/二丙酮醇(72∶12∶6∶6∶4重量比)的混合溶剂，调制出透明薄膜形成用涂布液(RB-3)。
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例1相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-1)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布透明薄膜形成用涂布液(RB-3)，干燥后在160℃的温度下烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到30nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例4]
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例6相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-2)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布和比较例1一样得到的透明薄膜形成用涂布液(RB-1)，干燥后在160℃烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到30nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例5]
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例6相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-2)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布和比较例2一样得到的透明薄膜形成用涂布液(RB-2)，干燥后在160℃烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到30nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例6]
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例6相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-2)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布和比较例3一样得到的透明薄膜形成用涂布液(RB-3)，干燥后在160℃烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到30nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例7]
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例7相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-3)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布和比较例1一样得到的透明薄膜形成用涂布液(RB-1)，干燥后在160℃烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到30nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例8]
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例7相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-3)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布和比较例2一样得到的透明薄膜形成用涂布液(RB-2)，干燥后在160℃烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到30nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
[比较例9]
带透明导电性薄膜的面板玻璃的制造
和实施例7相同，涂布透明导电性薄膜形成用涂布液(C-3)，并干燥。
接着，同样采用旋压法在透明导电性微粒层上以100rpm、90秒的条件涂布和比较例3一样得到的透明薄膜形成用涂布液(RB-3)，干燥后在160℃烧结30分钟，得到带透明导电性薄膜的基体材料。此时形成的透明薄膜的厚度达到30nm。
评价所得带透明导电性薄膜的基体材料的表面电阻、混浊度、透过率、底部反射率、视感反射率及橡皮擦硬度、划痕硬度、指纹附着性。结果见表1。
Figure C0315777700241
Figure C0315777700251

Claims (6)

1、透明薄膜形成用涂布液，其特征在于，包含由(i)四烷氧基硅烷的水解物和(ii)具有选自环氧基和丙烯酰基的至少1种官能团的有机硅化合物的水解物形成的基质前体，且基质前体中的(ii)的比例按固体成分计在0.5～50重量％的范围内。
2、如权利要求1所述的透明薄膜形成用涂布液，其特征还在于，上述基质前体为四烷氧基硅烷和具有选自环氧基和丙烯酰基的至少1种官能团的有机硅化合物的混合物的同时水解物。
3、如权利要求1或2所述的透明薄膜形成用涂布液，其特征还在于，上述基质前体还含有(iii)具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物，基质前体中的(iii)的比例按固体成分计在0.1～30重量％的范围内。
4、如权利要求3所述的透明薄膜形成用涂布液，其特征还在于，上述具有氟取代有机基的有机硅化合物的水解物为四烷氧基硅烷和具有氟取代有机基的有机硅化合物的混合物的同时水解物。
5、带透明导电性薄膜的基体材料，所述材料由基体材料、基体材料上的含导电性微粒的透明导电性微粒层及设在该透明导电性微粒层上的折射率比该透明导电性微粒层低的透明薄膜构成，其特征在于，透明薄膜由上述权利要求项1～4中任一项所述的透明薄膜形成用涂布液形成。
6、显示装置，其特征在于，具备由权利要求项5所述的带透明导电性薄膜的基体材料构成的前面板，透明导电性薄膜形成于该前面板的外表面。
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