CN100443636C - 氯化铵蚀刻液的充氧装置 - Google Patents
氯化铵蚀刻液的充氧装置 Download PDFInfo
- Publication number
- CN100443636C CN100443636C CNB2006100410001A CN200610041000A CN100443636C CN 100443636 C CN100443636 C CN 100443636C CN B2006100410001 A CNB2006100410001 A CN B2006100410001A CN 200610041000 A CN200610041000 A CN 200610041000A CN 100443636 C CN100443636 C CN 100443636C
- Authority
- CN
- China
- Prior art keywords
- retort
- ammonium chloride
- etching solution
- dividing plate
- reaction cylinder
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Expired - Fee Related
Links
Images
Abstract
氯化铵蚀刻液的充氧装置,反应罐内通过隔板分为反应缸与收集区,反应缸上端外沿有溢流口与收集区相通,反应罐外设置有一循环泵,其联接有伸入隔板上方的反应缸内的送液管道,送液管道上联接充气口,循环泵另一端联接一联接有伸入到隔板下方的吸液管道的沉降池。本发明装置的优点是能有效地用于电子线路板覆膜铜的处理,十分环保,且结构简单,操作方便,有较高的社会与经济效益。
Description
技术领域
本发明涉及一种化学反应装置,特别是对电子线路板表面覆的铜膜的处理的装置。
背景技术
电子线路板表面有回收价值的覆膜铜,可通过处理回收。目前常规的处理方法为三氯化铁法和盐酸双氧水法。虽然这些常规方法能使线路板铜覆膜有效地蚀刻分离,但蚀刻后的废液需要进行较为复杂的过程方可回收其中含有的有价值的铜盐,且易产生二次污染,不利于环保。本发明人发明了用氯化铵加氧气反应法,可有效回收有价值的铜盐,并且反应可循环进行,不会产生二次污染。
发明目的
本发明的目的是为了设计一种利用氯化铵加氧气法使电子线路板的铜覆膜能有效分离、易于回收有价值铜盐且无污染的氯化铵蚀刻液的充氧装置。
实现上述目的的技术方案如下:
氯化铵蚀刻液的充氧装置,具有一反应罐,其特征为:反应罐内上方设置有反应缸,反应缸的上端外沿与反应罐内壁间形成有溢流口,反应罐内的下端部分为收集区,反应缸与收集区间设置有隔板,溢流口与收集区相通,反应罐外设置有一循环泵,其联接有伸入隔板上方的反应缸内的送液管道,反应罐外的送液管道上联接相通有一充气口,循环泵另一端联接一沉降池,沉降池联接有伸入到隔板下方的吸液管道。
在隔板上方的送液管道上方设置有网板。
沉降池与收集区间通过一沉降管道相通。
反应罐的底部设置有一出料阀门。
所述的循环泵与送液管道间设置有单向阀。
本发明装置的优点是能有效地用于电子线路板覆膜铜的处理,将线路板中的铜覆膜蚀刻下来,转化成市场畅销的碱式氯化铜产品,处理过程中氯化铵蚀刻液可循环利用,十分环保,且结构简单,操作方便,有较高的社会与经济效益。
附图说明
图1为本发明具体实施方式中的结构示意图。图中,1为反应罐,2为反应缸,3为送液管道,4为溢流口,5为充气口,6为单向阀,7为循环泵,8为沉降池,9为沉降管道,10为出料阀门,11为收集区,12为隔板,13为网板。
具体实施方式
以下结合附图说明本发明的具体实施方式:
氯化铵蚀刻液的充氧装置,反应罐1内上方设置有反应缸2,反应缸2的上端外沿与反应罐1内壁间形成有溢流口4,反应罐1内的下端部分为收集区11,反应罐1的底部设置有一出料阀门10,反应缸2与收集区11间设置有隔板12,在隔板12上方的送液管道3上方设置有网板13,溢流口4与收集区11相通,反应罐1外设置有一循环泵7,其联接有伸入隔板12上方的反应缸2内的送液管道3,循环泵7与送液管道3间设置有单向阀6。反应罐1外的送液管道3上联接相通有一充气口5,循环泵7另一端联接一沉降池8,沉降池8联接有伸入到隔板12下方的吸液管道14。沉降池8与收集区11间通过一沉降管道9相通。
以下简单说明一下本实施方式的工作原理:
带有覆膜铜的线路板在反应缸的网板下方,反应缸内盛放氯化铵溶液。开动循环泵,通过送液管道将由充气口补充空气(加氧)后的带氧氯化铵溶液送至反应缸,在网板下方反应,生成碱式氯化铜沉淀及氯化铜铵络合物,因反应产生溶液沸腾,带有沉淀的混合液通过溢流口流向收集区,部分沉淀沉到收集区底部,部分还在混合液中,由于循环泵的作用,混合液通过隔板下方的吸液管道进入沉降池,沉降池中有间隔、高低交错设置的沉降档板,在沉降池中沉淀大部分会沉降下来,剩余混合液通过循环泵、单向阀再经补充空气进入反应缸中,如此循环。最后可通过沉降管道将沉降池中的沉淀放至收集区,通过出料阀门将沉淀收集。
Claims (5)
1、氯化铵蚀刻液的充氧装置,具有一反应罐,其特征为:反应罐内上方设置有反应缸,反应缸的上端外沿与反应罐内壁间形成有溢流口,反应罐内的下端部分为收集区,反应缸与收集区间设置有隔板,溢流口与收集区相通,反应罐外设置有一循环泵,其联接有伸入隔板上方的反应缸内的送液管道,反应罐外的送液管道上联接相通有一充气口,循环泵另一端联接一沉降池,沉降池联接有伸入到隔板下方的吸液管道。
2、根据权利要求1所述的氯化铵蚀刻液的充氧装置,其特征为:在隔板上方的送液管道上方设置有网板。
3、根据权利要求1所述的氯化铵蚀刻液的充氧装置,其特征为:沉降池与收集区间通过一沉降管道相通。
4、根据权利要求1所述的氯化铵蚀刻液的充氧装置,其特征为:反应罐的底部设置有一出料阀门。
5、根据权利要求1所述的氯化铵蚀刻液的充氧装置,其特征为:所述的循环泵与送液管道间设置有单向阀。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2006100410001A CN100443636C (zh) | 2006-08-18 | 2006-08-18 | 氯化铵蚀刻液的充氧装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CNB2006100410001A CN100443636C (zh) | 2006-08-18 | 2006-08-18 | 氯化铵蚀刻液的充氧装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CN1912186A CN1912186A (zh) | 2007-02-14 |
CN100443636C true CN100443636C (zh) | 2008-12-17 |
Family
ID=37721233
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CNB2006100410001A Expired - Fee Related CN100443636C (zh) | 2006-08-18 | 2006-08-18 | 氯化铵蚀刻液的充氧装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CN (1) | CN100443636C (zh) |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB964665A (en) * | 1963-07-10 | 1964-07-22 | Siemens Ag | Method of continuously regenerating etching solutions containing copper |
CN85106153A (zh) * | 1985-08-15 | 1987-03-04 | 汉斯·荷尔米勒机器制造有限公司 | 在印刷电路板上蚀刻铜膜的方法 |
JPH07243062A (ja) * | 1994-03-03 | 1995-09-19 | Hitachi Chem Co Ltd | エッチング方法及びエッチング装置 |
CN1130408A (zh) * | 1993-09-08 | 1996-09-04 | 菲布罗技术公司 | 铜蚀刻液用添加剂 |
CN1392289A (zh) * | 2001-06-14 | 2003-01-22 | 索尼公司 | 腐蚀液的再生方法及腐蚀装置 |
-
2006
- 2006-08-18 CN CNB2006100410001A patent/CN100443636C/zh not_active Expired - Fee Related
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB964665A (en) * | 1963-07-10 | 1964-07-22 | Siemens Ag | Method of continuously regenerating etching solutions containing copper |
CN85106153A (zh) * | 1985-08-15 | 1987-03-04 | 汉斯·荷尔米勒机器制造有限公司 | 在印刷电路板上蚀刻铜膜的方法 |
CN1130408A (zh) * | 1993-09-08 | 1996-09-04 | 菲布罗技术公司 | 铜蚀刻液用添加剂 |
JPH07243062A (ja) * | 1994-03-03 | 1995-09-19 | Hitachi Chem Co Ltd | エッチング方法及びエッチング装置 |
CN1392289A (zh) * | 2001-06-14 | 2003-01-22 | 索尼公司 | 腐蚀液的再生方法及腐蚀装置 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN1912186A (zh) | 2007-02-14 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
JP4072323B2 (ja) | ガリウム砒素含有排水の処理方法およびガリウム砒素含有排水の処理装置 | |
CN105174577B (zh) | 一种煤化工废水预处理工艺及装置 | |
WO2020252819A1 (zh) | 一种高浓度有机废水处理反应器 | |
CN101492186A (zh) | 一种酸性废蚀刻液的循环再生方法及装置 | |
CN102912142B (zh) | 多级错流与逆流联用回收蚀刻液中铜的方法 | |
CN205653286U (zh) | 超声耦合光电芬顿废水处理一体化装置 | |
CN107151086A (zh) | 一种垃圾渗滤液深度处理系统 | |
CN100443636C (zh) | 氯化铵蚀刻液的充氧装置 | |
CN1699222A (zh) | 生产vb12的工业废水的资源化处理工艺及其专用废水处理机 | |
CN101602546B (zh) | 一种厌氧反应器及对废水的处理方法 | |
CN216799784U (zh) | 有机硅生产中废碱液的排污系统 | |
CN110075694A (zh) | 废气处理装置 | |
CN1699174A (zh) | 从含氰、含硫氰酸盐溶液中再生氰化钠的方法 | |
CN207175732U (zh) | 一种提高污泥脱水性的氧化调理装置 | |
CN217202312U (zh) | 一种电子酸废液预处理模块及电子酸废液回收处理生产线 | |
CN206778176U (zh) | 一种含氨废气的处理系统 | |
CN204981457U (zh) | 一种煤化工废水预处理装置 | |
CN107200450A (zh) | 一种提高污泥脱水性的氧化调理装置及污泥调理方法 | |
CN208440441U (zh) | 一种水处理臭氧氧化处理装置 | |
CN202688134U (zh) | 低含铜废水综合处理设备 | |
CN207793378U (zh) | 退锡废液处理装置 | |
CN101429594A (zh) | 二氧化硫还原-扩散渗析法从高铜高砷废水中分离和回收铜和砷 | |
CN212127805U (zh) | 一种降低循环水硬度的装置 | |
CN1107030C (zh) | 氰化贫液除杂方法 | |
CN215906031U (zh) | 一种刻蚀废水回收银铜系统 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
C06 | Publication | ||
PB01 | Publication | ||
C10 | Entry into substantive examination | ||
SE01 | Entry into force of request for substantive examination | ||
C14 | Grant of patent or utility model | ||
GR01 | Patent grant | ||
C17 | Cessation of patent right | ||
CF01 | Termination of patent right due to non-payment of annual fee |
Granted publication date: 20081217 Termination date: 20110818 |