CN100387921C - 用于等离子体显示板的烘焙系统及该系统的布局方法 - Google Patents

用于等离子体显示板的烘焙系统及该系统的布局方法 Download PDF

Info

Publication number
CN100387921C
CN100387921C CNB031367674A CN03136767A CN100387921C CN 100387921 C CN100387921 C CN 100387921C CN B031367674 A CNB031367674 A CN B031367674A CN 03136767 A CN03136767 A CN 03136767A CN 100387921 C CN100387921 C CN 100387921C
Authority
CN
China
Prior art keywords
plasma display
display panel
enameling furnace
clean room
glass substrate
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Fee Related
Application number
CNB031367674A
Other languages
English (en)
Other versions
CN1455217A (zh
Inventor
辻弘恭
森田真登
铃木雅教
野入一二夫
青木道郎
竹田孝广
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Publication of CN1455217A publication Critical patent/CN1455217A/zh
Application granted granted Critical
Publication of CN100387921C publication Critical patent/CN100387921C/zh
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J9/00Apparatus or processes specially adapted for the manufacture, installation, removal, maintenance of electric discharge tubes, discharge lamps, or parts thereof; Recovery of material from discharge tubes or lamps
    • H01J9/24Manufacture or joining of vessels, leading-in conductors or bases
    • H01J9/26Sealing together parts of vessels
    • H01J9/265Sealing together parts of vessels specially adapted for gas-discharge tubes or lamps
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01JELECTRIC DISCHARGE TUBES OR DISCHARGE LAMPS
    • H01J2217/00Gas-filled discharge tubes
    • H01J2217/38Cold-cathode tubes
    • H01J2217/49Display panels, e.g. not making use of alternating current
    • H01J2217/491Display panels, e.g. not making use of alternating current characterised by problems peculiar to plasma displays

Landscapes

  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Manufacture Of Electron Tubes, Discharge Lamp Vessels, Lead-In Wires, And The Like (AREA)
  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Tunnel Furnaces (AREA)

Abstract

一种用于等离子体显示板的烘焙系统,包括清洁室(1)和烘焙炉,该烘焙炉具有上通道(11)和下通道(13),该上通道(11)用于在烘焙的时候从烘焙炉(3)的入口(15)运送等离子体显示板玻璃衬底(5),该下通道(13)用于向着炉(3)的出口运送在上通道(11)中烘焙了的衬底(5),入口和出口都位于炉(3)相同的端部,其特征在于只有入口(15)和出口(17)连接到清洁室(1),而其炉体保持在清洁室(1)外部。还披露了用于这种烘焙系统的布局方法。

Description

用于等离子体显示板的烘焙系统及该系统的布局方法
技术领域
本发明涉及一种用于等离子体显示板的烘焙系统及用于该系统的布局方法,该系统用来烘焙等离子体显示板的玻璃衬底。
背景技术
近年来,大屏幕平板显示器(以下称为“FPDs”)在实际应用中得到稳定的进展,该显示器可用作壁挂式电视或多媒体显示器。对于这种大屏幕FPD,等离子体显示板(以下称为“PDP”)已被推荐为最有前途的选择对象,因为它有多方面的优点:在质量方面,它是自发光型、具有宽的视野角度并且它的显示质量高;而在生产方面,它的制作过程简单并且容易实现尺寸的增大。
通过在每个大尺寸玻璃衬底的表面上按顺序形成如电极、介电常数和磷光剂等各种元件制成PDP,该玻璃衬底按照厚膜形成方法称为前玻璃和后玻璃,该厚膜形成方法重复好几次印刷、干燥和烘焙的过程,最终将一对生成的前玻璃和生成的后玻璃密封。
根据一种方法对PDP玻璃衬底进行烘焙,为了防止由于外来杂质附着导致的失效或产品性能的降低,如图7所示,在该方法中将烘焙炉3放入一清洁室1的内部,大量放在调节器上的PDP玻璃衬底被运送进入每个烘焙炉3中,当使用滚筒等运送装置在一个方向上运送这些玻璃衬底时,PDP玻璃衬底经过预热、浸渍和按照预定温度曲线的降温处理。
但是如上所述,由于需要一个很大的空间用于将具有大量烘焙炉3的整个炉体装在清洁室1内部,因此清洁室1的初期费用和运行费用变得非常庞大。而且,由于每个烘焙炉3的维护操作都应当在清洁室1内部进行,所以就产生了一个问题,即进行维护操作产生的灰尘将散落在清洁室1内,从而不利地影响了放置在清洁室1中的其他设备。
发明概述
本发明在上述那些情况下得出,本发明的目的是提供一种用于等离子体显示板的烘焙系统及用于该系统的布局方法,与上述常规系统或常规布局方法相比,能够极大的减少清洁室中用于烘焙PDP玻璃衬底所需的空间,并且能够防止由于进行烘焙炉维护操作而产生的灰尘对清洁室的污染。
根据本发明,提供一种用于等离子体显示板的烘焙系统,该系统包括用于等离子体显示板的烘焙炉;该炉具有上通道和下通道,该上通道用于运送大量放在各自调节器上的等离子体显示板玻璃衬底,同时在运送的时候烘焙该衬底,该下通道用于在与上通道中进行烘焙的衬底运送方向相反的方向上,运送那些在上通道中运送的时候已烘焙的等离子体显示板玻璃衬底;另外还提供一入口和一出口,该入口用于引导等离子体显示板玻璃衬底进入上通道,该出口用于将已烘焙的等离子体显示板玻璃衬底在其相同的末端从下通道送出;以及一个清洁室,其特征在于只有入口和出口连接到清洁室,而烘焙炉炉体位于清洁室外部。另外,提供一种用于这样构造的所述烘焙系统的布局方法。
附图简述
图1为本发明的用于等离子体显示板的烘焙炉布局方法的示意图;
图2为本发明布局方法中使用的烘焙炉简略结构的示意图;
图3A和3B为示意图,示出了排气罩和节气门的排列情形,其中图3A为平面图,图3B为透视图;
图4为简略地示出了送出送入机构的一个例子的示意图;
图5A和5B为说明一个例子的示意图,其中热防护板的侧壁部分形成为开/关门,安装板和控制板附着于其后侧,其中图5A所示为开/关门闭合时的情形,图5B所示为开/关门开启时的情形;
图6为控制板的常规安装状态的示意图;和
图7为用于等离子体显示板的烘焙炉常规布局方法的示意图。
优选实施例的描述
图2为示意图,示出了本发明可用于烘焙等离子体显示板玻璃衬底系统和用于该系统布局方法的烘焙炉3的简略结构。该烘焙炉3包括:上通道11,放在调节器7上的PDP玻璃衬底5在该通道中烘焙,同时沿其运送;和带有运送机9的下通道13,该运送机9用于在与上通道11中烘焙时的运送方向相反的方向上,运送已在上通道11中烘焙的PDP玻璃衬底5,并用于将它们从调节器上取下。
将PDP玻璃衬底5运送进上通道11的入口15,和在下通道13上从调节器取下已烘焙的PDP玻璃衬底5的出口17,设置于烘焙炉3的同一轴端,由此送入操作和取出操作可在大致相同的地方进行。
在入口15和出口17的前部,分别有装载机19和卸载机21,该装载机19用于在把PDP玻璃衬底5引导进入烘焙炉3之前,将该PDP玻璃衬底5放置在调节器7上,该卸载机21用于从调节器7上移去已烘焙的PDP玻璃衬底5,该PDP玻璃衬底5从出口17送出。
在使用这种结构的烘焙炉3烘焙PDP玻璃衬底5的过程中,PDP玻璃衬底5首先在位于入口15前方的装载机19中放置在调节器7上,然后通过入口15运送进入上通道11。通常,上通道11包括大量沿衬底运送方向上(烘焙炉3的纵向方向)限定的加热室22,每个加热室22通过如电加热器25等加热装置保持在预定的温度。
引导进入上通道11并放置在调节器7上的PDP玻璃衬底5通过如滚筒27等传送装置连续地或间歇地传送,传送的同时受到加热处理(烘焙),顺序为预热、浸渍和按照预定温度曲线的降温。
顺便说一下,“间歇运送”意味着一种运送方法,其重复着这样一种操作,在上通道中放置在一个调节器上的PDP玻璃衬底停止运送,在从烘焙炉入口一侧的第n个加热室中经过预定时间的热处理,然后该PDP玻璃衬底尽可能快速地移动进入从入口一侧的第n+1个相邻的加热室中,在此该PDP玻璃衬底又停止运送并且经过预定时间的热处理。
这样在上通道11中烘焙的PDP玻璃衬底5在远离入口15的烘焙炉3的另一个轴端移动进入下通道13,然后沿与上通道11中烘焙时的运送方向相反的方向向回运送,此后与调节器一起从出口17取出到烘焙炉3的外部,该出口17位于烘焙炉3的轴端,在该轴端还有入口15,最后将衬底从出口17前方的卸载机21中的调节器7上移去。
如图1所示,本发明布局方法的特征在于,将具有上述结构的烘焙炉3安置成仅有入口15和出口17与一个清洁室1气密地连接,同时烘焙炉3炉体被放置在清洁室1的外部。在具有上述结构的烘焙炉3中,形成不包括入口15和出口17、具有气密结构的炉体非常容易。因此,如果只有作为通到炉外部开口的入口15和出口17连接到清洁室1,则即使炉体位于清洁室1的外部,用于PDP玻璃衬底烘焙的过程也能在清洁的环境中进行。
如上所述,在常规布局方法中所有烘焙炉3的整个炉体都放置在清洁室1内,与常规系统和用于该系统的常规布局方法相比,通过将炉体放置在清洁室1的外部,清洁室1的空间能够大大减少,这样清洁室1的初期费用和运行费用也能够大大减少。另外,由于烘焙炉3的维护操作能够在清洁室1外部进行,因此可以防止由于进行维护操作产生的灰尘对清洁室1的污染。
另一方面,为了防止外部空气进入,清洁室1的内部压力通常设置的比外部压力高。根据本发明,用于烘焙等离子体显示板的系统和用于该系统的布局方法,由于烘焙炉3的炉体位于清洁室1外部,所以从清洁室1内部对着入口15的开口部分和出口17的开口部分生成气流,特别是,对着入口15的开口部分的气流不利地影响了入口15附近进行预热的加热室的温度分布。
考虑到这一点,如图3A和3B所示,当应用本发明时,希望排气罩31位于上通道11入口15的附近,将从清洁室1进入的空气排出到炉外部,并且还有一个节气门33,节气门的开口部分35比入口15的开口部分窄,在除了所需之外的时间里,通过使用节气门33关闭入口15使得开口尽可能地小,从而抑制空气进入烘焙炉3中。
在使用具有上述结构的烘焙炉3烘焙PDP玻璃衬底5的过程中,由用于将衬底5放置在调节器7上的装载机19、用于烘焙衬底5的上通道11、用于向回送已烘焙的衬底5的下通道13和用于从调节器7上移去衬底5的卸载机21形成一循环路线。通常,上述烘焙过程重复进行,因此调节器7在这样的循环线路上连续移动。
然后,当在循环线路上移动的调节器中发现了由于其弯曲或者变形等性能降低而不能完成通常运送状态的调节器时,需要将该调节器取到循环线路外部,在循环线路上引导入一个新的调节器进行代替。
一般情况下,各个调节器7分配有单独的标识(ID)数字,用于检测该标识数字的检测装置放置在循环线路里特殊的位置上。通常,由检测装置检测并记录性能降低的调节器7的标识数字,当分配有该标识数字的调节器7在循环线路上移动到达入口15时,该调节器7在入口15处从循环线路中移去,而将一个替代的调节器引导到循环线路上。
但是,由于在从循环线路中移去的调节器7上附着了因它本身与运送装置之间的摩擦产生的磨蚀粉末,因此如果在入口15处将该性能降低的调节器7移出时,则在入口15附近的清洁程度将会降低,由此磨蚀粉末会附着到PDP玻璃衬底5上。而且,由于在入口15附近还有装载机19、卸载机21等材料处理设备,所以基本上就没有设置用于移出和导入调节器7装置的空间自由度。
因此,为了解决这样的不足,就希望在本发明布局方法中使用的PDP烘焙炉带有一送出送入机构,用于沿垂直于回程运送机运送方向的方向上运送调节器,使得将回程运送机上的调节器送出到清洁室内的炉外部空间,并且从清洁室内的炉外部空间将调节器送入到回程运送机上。
图4为示意图,简略地示出了这种送出送入机构的一个例子。这个例子中的送出送入机构包括第一运送机41和第二运送机43,每个运送机都可在垂直于回程运送机9运送方向的方向上运送调节器。第一运送机41带有检测装置(未示出),用于检测分配给调节器7的标识数字。第一运送机41成为回程运送机9的交迭部分,第二运送机43在回程运送机9的侧边与第一运送机41相邻。
性能降低的调节器7根据分配给其的标识数字,首先由第一运送机41的检测装置或者位于循环线路上其他位置的其他检测装置检测到,并且将这一检测到的标识数字记录为要从循环线路中移去的调节器标识数字。然后,当分配有这一记录标识数字的调节器7在循环线路上移动到达装载机19时,装载机19将所述调节器7运送进入上通道11,也就是说在其上没有放置PDP玻璃衬底5。
所述调节器7经过上通道11移动到下通道13中的回程运送机9上,依靠这一记录的标识数字,由第一运送机41的检测装置检测到。在确认检测到的标识数字与所述的记录标识数字一致之后,所述调节器7由第一运送机41沿垂直于回程运送机9运送方向的方向上运送,并且送交到相邻的第二运送机43上,由此从循环线路中移去。
另一方面,由第一运送机41的检测装置检测到的标识数字与上述记录的标识数字不同的那些调节器,实际上由回程运送机9向着出口17运送。代替从循环线路中移去的调节器的新调节器,由第二运送机43沿与上面移出方向相反的方向上运送,并且在回程运送机9与第一运送机41交迭的位置引导到循环线路上。
PDP玻璃衬底可有效地免于由粘附到调节器上的磨蚀粉末再一次附着,并可使系统装置得到有效的布局。这是因为性能降低的调节器的移出和代替调节器的引入都能够在清洁室外部的位置通过提供这种送出送入机构来完成。
另外,如图6所示,在常规使用PDP烘焙炉的情况中,控制板63包括固定型安装盘61和安装在安装盘61表面上的各种电控制单元,该控制板63经常安装在下通道13中的回程运送机9侧边,用于进一步减少安装空间。但是,当由于回程运送机9中发生了故障,需要在下通道13内部进行回程运送机9的维护操作时,控制板63和安装盘61就变成了维护操作的障碍。
因此,如图5A所示,在根据本发明的烘焙系统和其布局方法中使用的PDP烘焙炉中,希望在覆盖整个炉子的热防护盘侧壁部分提供一个开/闭铰接门55,并且如同安装盘61和控制板63一样的安装盘51和控制板53连接到开/闭门55的后侧。在这种结构中,如图5B所示,在开/闭门51打开的情形下,回程运送机9的维护操作可在下通道13内部容易地进行,而不会受到控制板53的阻碍。而且,由于将控制板53拔出到下通道13的外部,安装在控制板53上的电控制单元的维护操作也可容易地进行。
如上所述,根据本发明,清洁室中用于烘焙PDP玻璃衬底所需的空间与常规空间相比能够极大地减少,结果,清洁室的初期费用和运行费用也可大大降低。而且,由于炉子的维护操作能够在清洁室外部进行,因此可以防止由于进行维护操作产生的灰尘对清洁室的污染。

Claims (4)

1.一种用于等离子体显示板的烘焙系统,包括用于等离子体显示板的烘焙炉和清洁室;其中,该烘焙炉具有上通道和下通道,该上通道用于运送放置在各自调节器上的大量等离子体显示板玻璃衬底,运送的时候同时烘焙衬底,该下通道用于运送这些在上通道中运送的时候已烘焙的等离子体显示板玻璃衬底,运送方向与衬底在上通道中烘焙的运送方向相反;还包括设置在其相同的端部的入口和出口,该入口用于将等离子体显示板玻璃衬底引导进入上通道,该出口用于将已烘焙的等离子体显示板玻璃衬底从下通道送出;其中,设有一节气门,以便于在除了所需之外的时间关闭入口,还设有一排气罩,其位于上通道的入口的附近,将从清洁室进入的空气排出到烘焙炉外部,其中只有入口和出口连接到清洁室,而烘焙炉炉体位于清洁室外部。
2.根据权利要求1所述的系统,其特征在于所述烘焙炉进一步包括一个送出送入机构,用于沿垂直于回程运送机运送方向的方向上运送调节器,从而将所述回程运送机上的调节器送出到烘焙炉外部,并且从烘焙炉外部将一新的调节器送入到所述回程运送机上。
3.一种用于等离子体显示板烘焙系统的布局方法,包括用于等离子体显示板的烘焙炉和清洁室;其中,该烘焙炉具有上通道和下通道,该上通道用于运送大量放置在各自调节器上的等离子体显示板玻璃衬底,运送的时候同时烘焙衬底,该下通道用于运送这些在上通道中运送的时候已烘焙的等离子体显示板玻璃衬底,运送方向与在上通道中烘焙的衬底运送方向相反;还包括设置在其相同的端部的入口和出口,该入口用于将等离子体显示板玻璃衬底引导进入上通道,该出口用于将已烘焙的等离子体显示板玻璃衬底从下通道送出;其中,设有一节气门,以便于在除了所需之外的时间关闭入口,还设有一排气罩,其位于上通道的入口的附近,将从清洁室进入的空气排出到烘焙炉外部,其中所述系统布置成只有所述入口和所述出口与清洁室相连接,而烘焙炉的炉体保持在所述清洁室外部。
4.根据权利要求3所述的布局方法,其特征在于所述烘焙炉进一步包括一个送出送入机构,用于沿垂直于回程运送机运送方向的方向上运送调节器,从而将所述回程运送机上的调节器送出到烘焙炉的外部,并且将一调节器从烘焙炉的外部送入到所述回程运送机上。
CNB031367674A 2002-04-30 2003-04-29 用于等离子体显示板的烘焙系统及该系统的布局方法 Expired - Fee Related CN100387921C (zh)

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002128082A JP2003322472A (ja) 2002-04-30 2002-04-30 プラズマディスプレイパネル用焼成炉の配置方法
JP128082/2002 2002-04-30
JP128082/02 2002-04-30

Publications (2)

Publication Number Publication Date
CN1455217A CN1455217A (zh) 2003-11-12
CN100387921C true CN100387921C (zh) 2008-05-14

Family

ID=29267668

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
CNB031367674A Expired - Fee Related CN100387921C (zh) 2002-04-30 2003-04-29 用于等离子体显示板的烘焙系统及该系统的布局方法

Country Status (3)

Country Link
US (1) US6998578B2 (zh)
JP (1) JP2003322472A (zh)
CN (1) CN100387921C (zh)

Families Citing this family (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2005156016A (ja) * 2003-11-26 2005-06-16 Matsushita Electric Ind Co Ltd プラズマディスプレイパネルの焼成装置
CN101719442B (zh) * 2009-04-21 2012-05-30 四川虹欧显示器件有限公司 用于等离子显示屏的烧结装置
DE102009038341A1 (de) * 2009-08-21 2011-04-21 Von Ardenne Anlagentechnik Gmbh Heizeinrichtung für eine Substratbehandlungseinrichtung und Substratbehandlungseinrichtung
US20120225204A1 (en) * 2011-03-01 2012-09-06 Applied Materials, Inc. Apparatus and Process for Atomic Layer Deposition

Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06347175A (ja) * 1993-06-08 1994-12-20 Murata Mfg Co Ltd 炉体開口部のガスシール構造
JPH10162743A (ja) * 1996-12-03 1998-06-19 Fujitsu Ltd プラズマディスプレイパネル及び保護膜の形成方法
US6018144A (en) * 1995-11-13 2000-01-25 Radiant Technology Corporation Method of conveying moieties through an IR conveyor furnace with controlled temperature profile for large area processing multichip modules
JP2000026131A (ja) * 1998-07-09 2000-01-25 Dainippon Printing Co Ltd 焼成処理装置
JP2000081283A (ja) * 1998-09-07 2000-03-21 Dainippon Printing Co Ltd 焼成炉
US6204483B1 (en) * 1998-07-01 2001-03-20 Intevac, Inc. Heating assembly for rapid thermal processing system

Patent Citations (6)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH06347175A (ja) * 1993-06-08 1994-12-20 Murata Mfg Co Ltd 炉体開口部のガスシール構造
US6018144A (en) * 1995-11-13 2000-01-25 Radiant Technology Corporation Method of conveying moieties through an IR conveyor furnace with controlled temperature profile for large area processing multichip modules
JPH10162743A (ja) * 1996-12-03 1998-06-19 Fujitsu Ltd プラズマディスプレイパネル及び保護膜の形成方法
US6204483B1 (en) * 1998-07-01 2001-03-20 Intevac, Inc. Heating assembly for rapid thermal processing system
JP2000026131A (ja) * 1998-07-09 2000-01-25 Dainippon Printing Co Ltd 焼成処理装置
JP2000081283A (ja) * 1998-09-07 2000-03-21 Dainippon Printing Co Ltd 焼成炉

Also Published As

Publication number Publication date
US6998578B2 (en) 2006-02-14
JP2003322472A (ja) 2003-11-14
CN1455217A (zh) 2003-11-12
US20030232562A1 (en) 2003-12-18

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP3788296B2 (ja) クリーンルーム用の物品保管設備
KR0167476B1 (ko) 종형 열처리 장치
EP0908928B1 (en) Baking furnace and control method therefor
CN101128918A (zh) 工作台装置以及涂敷处理装置
CN100387921C (zh) 用于等离子体显示板的烘焙系统及该系统的布局方法
GB2300906A (en) Oven for glass article
KR0165857B1 (ko) 종형 열처리 장치
TWI446480B (zh) 基板冷卻裝置
JPH1074820A (ja) 被処理基板の搬送方法及び処理システム
JP2005277212A (ja) 部品実装装置
KR20100089770A (ko) 기판 버퍼 유닛
TWI840869B (zh) 加熱裝置及烤箱
JP2001263944A (ja) シート状物乾燥用コンベヤ炉
US6527547B2 (en) Oven and process for manufacturing an envelope for use in a display tube
JP2002195762A (ja) 熱処理装置
JP3159284B2 (ja) ウエハ処理装置
CN101868427B (zh) 向纤薄玻璃元件的表面上吹送流体的设备及方法
KR200429665Y1 (ko) 전기,전자 제품용 조립형 건조장치
KR20030016276A (ko) 유리 제품 등의 열처리용 오븐
JP2003077398A (ja) プラズマディスプレイパネルの製造方法およびそのための炉設備
CN108855817A (zh) 温度可控的门板漆面干燥设备
JP2018192392A (ja) 乾燥装置及び該乾燥装置を用いた乾燥方法
JP2530979Y2 (ja) 焼付乾燥炉
JP2529213Y2 (ja) 焼付乾燥炉
JP2003118834A (ja) ガラス基板搬送装置

Legal Events

Date Code Title Description
C06 Publication
PB01 Publication
ASS Succession or assignment of patent right

Owner name: PANASONIC ELECTRIC EQUIPMENT INDUSTRIAL CO.,LTD.

Free format text: FORMER OWNER: NGK INSULATORS LTD.; APPLICANT

Effective date: 20070601

C41 Transfer of patent application or patent right or utility model
TA01 Transfer of patent application right

Effective date of registration: 20070601

Address after: Japan Osaka kamato City

Applicant after: Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

Address before: Aichi

Applicant before: NGK Insulators Co., Ltd.

Co-applicant before: Matsushita Electric Industrial Co., Ltd.

C14 Grant of patent or utility model
GR01 Patent grant
C17 Cessation of patent right
CF01 Termination of patent right due to non-payment of annual fee

Granted publication date: 20080514

Termination date: 20130429