CN100385540C - 单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法 - Google Patents
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Abstract
一种单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法,该单面双层可写一次式光碟片具有一第一记录层以及一第二记录层,其中第二记录层配置在第一记录层上,而第一记录层中的记录材料为有机材料,且第二记录层的记录材料为无机记录材料。一实施例中,光碟片例如更包括一第一基材、一第二基材及一胶合层,其中第一记录层包括一配置在第一基材上的染料记录层以及一配置在染料记录层上的第一反射层,而第二记录层包括一无机记录层以及一配置在无机记录层上的第二反射层。此外,第二基材配置在第二反射层上,且胶合层是配置在第一反射层与无机记录层之间。本发明另提供一种简单的单面双层可写一次式光碟片的制作方法,以大幅提高制程良率并节省制造成本。
Description
技术领域
本发明涉及一种光储存媒体(opticals torage medium)及其制造方法,特别是涉及一种单面双层可写一次式光碟片(dual-layer recordableoptical disc)的结构及其制作方法。
背景技术
碟片由于具有储存容量大、保存容易、保存期限长、成本低廉、与资料不易损害等优点,已逐渐取代一般传统的磁性储存媒体而成为现代人不可或缺的媒体之一。由于激光光电产品的生产制造技术以及多媒体影音压缩技术日益成熟,未来光储存媒体的发展方向皆朝向高容量、小尺寸发展,故储存容量较大的单面双层、双面双层的光碟片已逐渐成为市场的主流。
目前市场上单面双层可写一次式光碟所使用的记录层材料皆为有机染料,将其结构叙述如下:图1是现有现有习知的单面双层可写一次式光碟片的剖面示意图,请参阅图1所示,现有习知的单面双层光碟片100是由第一基材102、第一染料记录层104、第一反射层106、胶合层108、第二染料记录层110、第二反射层112以及第二基材114所构成。其中,第一染料记录层104是配置在第一基材102上,第一反射层106是配置在第一染料记录层104上,胶合层108是配置在第一反射层106上,第二染料记录层110是配置在胶合层108上,第二反射层112是配置在第二染料记录层110上,而第二基材114是配置在第二反射层112上。
值得注意的是,上述单面双层的光碟片100中,第一染料记录层104与第一反射层106统称为第一记录层(L0),而第二染料记录层110与第二反射层112统称为第二记录层(L1)。上述架构的单面双层光碟片在制作上有两种方法,兹将其制作方法将详述如下。
图2A至图2G是现有习知的一种单面双层可写一次式光碟片的制作流程图。请参阅图2A与图2B所示,首先,提供一第一基材102,此第一基材102的表面上已形成有第一螺旋状沟槽P1。接着,在第一基材102上形成第一记录层L0,如图2B所绘示。
请参阅图2C所示,提供一原膜(stamper or substrate)200,此原膜200的表面上已形成有螺旋状的沟槽。接着,提供一高分子树脂210在原膜200上,以利原膜200与第一基材102之间的接合。
请参阅图2D所示,接着将原膜200与第一基材102接合,并藉由一光线照射以将高分子树脂210固化。此时,原膜200上的螺旋状沟槽便转移至高分子树脂210的表面上,即第二螺旋状的沟槽P2。
请参阅图2E所示,在高分子树脂210固化之后,将原膜200从高分子树脂210上掀离(lift-off)。值得注意的是,由于此步骤与第二螺旋状沟槽P2的品质有直接的关连,为了使原膜200能够顺利地从高分子树脂210上掀离,必须选用脱膜特性良好的高分子树脂,因此高分子树脂210在材质的选择上较为局限。
请参阅图2F与图2G所示,在形成第二螺旋状沟槽P2之后,接着进行第二记录层L1的制作。最后,再将第二基材114压合在第二记录层L1上,如此即完成单面双层光碟片的制作。此种方法的难度在于原膜(200)与高分子树脂层(210)的脱离制程,在应用上常会遭遇到脱离后,沟槽复制率不佳或崩角而造成良率大幅下滑的情形,此外原膜在制程中会沾粘高分子胶,导致使用寿命极短,甚至仅能用一次的,因此原膜的消耗也是导致成本过高的主因之一。
为了提高良率,另一种制程方法被发展来避开掀离制程中造成的困扰,图3A至图3E绘示为现有习知的另一种单面双层光碟片的制作流程图。请参阅图3A与图3B所示,主要的重点是第二记录层(L1)所用的沟轨在另一块的基板上制作,而不是像上述第一种制程中的第一记录层L0与第二记录层L1的沟轨都在同一个基板依序堆叠制作完成,首先,提供一第一基材102,此第一基材102的表面上已形成有第一螺旋状沟槽P1。接着,在第一基材102上形成第一记录层L0,如图3B所绘示。
请参阅图3C所示,提供一第二基材114,并在第二基材114上制作第二记录层L1,而从上述图1可知,第二记录层L1包含了第二染料记录层110与第二反射层112,且L1所使用的螺旋沟轨已经成形在114上。
最后请参阅图3D所示,提供一胶合层108于第一基材102与第二基材114之间,并藉由胶合层108将第一记录层L0与第二记录层L1接合,如此即完成此种单面双层光碟片的制作。然而,由于第二染料记录层110涂布在平台区域R(即第二螺旋状沟槽P2以外的区域,碟机烧录时是烧录在平台区域R处)上的染料量会不足,进而使得烧录特性不良。现有技术在第二记录层L1制作完成之后,通常还会在第二染料记录层110上制作一层厚度很厚的保护层(未绘示),此保护层的目的在于防止第二染料记录层110与胶合层108产生化学反应。此保护层的制作需额外增加了一道制程,不利于成本降低。
在上述两种单面双层光碟片的制程中,第一种制程的品质较能得到控制,然而其在良率上的掌握则是相当困难,不适用于大量生产,而第二种制程(图3A至图3D)的较为简单,且良率较能控制。然而,当光碟机以激光光束读取第一记录层L1上的资料时,常因平台区域R上的染料量不足,而无法有效读取,在成本上虽然有其优势,但是却牺牲了品质。换句话说,目前工业界尚未找出一个同时能兼顾生产成本,效率及品质来制造单面双层可写一次式光碟的方法。
由此可见,上述现有的单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法在结构、方法与使用上,显然仍存在有不便与缺陷,而亟待加以进一步改进。为了解决单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法存在的问题,相关厂商莫不费尽心思来谋求解决之道,但长久以来一直未见适用的设计被发展完成,而一般产品又没有适切的结构能够解决上述问题,此显然是相关业者急欲解决的问题。
有鉴于上述现有的单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法存在的缺陷,本发明人基于从事此类产品设计制造多年丰富的实务经验及专业知识,并配合学理的运用,积极加以研究创新,以期创设一种新的单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法,能够改进一般现有的单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法,使其更具有实用性。经过不断的研究、设计,并经反复试作样品及改进后,终于创设出确具实用价值的本发明。
发明内容
本发明的目的在于,克服现有的单面双层可写一次式光碟片的结构存在的缺陷,而提供一种新型结构的单面双层可写一次式光碟片的结构,所要解决的技术问题是使其记录层材料分别使用无机记录层以及一染料记录层,从而更加适于实用。
本发明的另一目的在于,克服现有的单面双层可写一次式光碟片的制作方法存在的缺陷,而提供一种新的单面双层可写一次式光碟片的制作方法,所要解决的技术问题是使其不但能大幅提高良率,同时可保有高品质,从而更加适于实用。
本发明与现有技术相比具有明显的优点和有益效果。由以上技术方案可知,为了达到前述发明目的,本发明的主要技术内容如下:
本发明提出一种单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法,
本发明提出一种光碟片结构,其具有一第一记录层以及一第二记录层,其中第二记录层是配置在第一记录层上,而第一记录层中的记录材料为有机材料,且第二记录层的记录材料为无机记录材料。
依照本发明的较佳实施例,光碟片更包括一第一基材、一第二基材以及一胶合层,其中第一记录层包括一配置在第一基材上的染料记录层以及一配置在染料记录层上的第一反射层,而第二记录层包括一无机记录层以及一配置在该无机记录层上的第二反射层。此外,第二基材是配置在第二反射层上,且胶合层是配置于第一反射层与无机记录层之间。
依照本发明的较佳实施例所述的光碟片,第一基材的材质例如为聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚甲酸甲酯(polymethylmethacrylate)、无定形聚烯烃(armophouspolyolefin)或其他透明基材。另外,第一基材上例如具有第一螺旋形沟槽。本实施例中,染料记录层的材质可为花青染料(cyanine dye)、偶氮染料(azo)、氧喏染料(Oxonal)、方酸化合物(Squarylium compound)或是甲兹(formazan)及其混合物。
依照本发明的较佳实施例所述的光碟片,第一反射层的材质例如为银、铝、银合金或铝合金等反射材料,其厚度例如是介于5纳米至30纳米之间。
依照本发明的较佳实施例所述的光碟片,无机记录层的材质例如为铝-硅合金或铝-硅金属复合层,其中铝-硅合金中,铝的重量百分比例如是介于10%至80%之间,硅的重量百分比例如是介于20%至90%之间,而铝-硅合金例如厚度介于5纳米至80纳米之间。
依照本发明的较佳实施例所述的光碟片,第二反射层的材质例如为银、铝、银合金或铝合金等反射材料,其厚度例如是介于30纳米至200纳米之间。
依照本发明的较佳实施例所述的光碟片,第二基材的材质例如为聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚甲酸甲酯(polymethylmethacrylate)、无定形聚烯烃(armophouspolyolefin)或其他透明基材。另外,第二基材上例如具有第二螺旋形沟槽。
依照本发明的较佳实施例所述的光碟片,无机记录层与该第二反射层之间例如更配置有一第一介电层。此第一介电层的材质例如为硫化锌-二氧化硅(ZnS-SiO2)、氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiN)。本实施例中,硫化锌-二氧化硅(ZnS-SiO2)中,硫化锌的重量百分比例如为80%,二氧化硅的重量百分比例如为20%,而此第一介电层的厚度介于5纳米至100纳米之间。另外,本发明亦可在无机记录层与胶合层之间配置一第二介电层,其材料例如为硫化锌-二氧化硅(ZnS-SiO2)、氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiN),且此第二介电层的厚度为5纳米至150纳米之间。
本发明另提出一种光碟片制作方法,首先提供一第一基材,此第一基材上已形成有一第一螺旋形沟槽。然后,在第一基材上依序形成一染料记录层与一第一反射层。接着,提供一第二基材,此第二基材上已形成有一第二螺旋形沟槽。之后,在第二基材上依序形成一第二反射层与一无机记录层。最后,将已形成有染料记录层与第一反射层的第一基材与已形成有第二反射层与无机记录层的第二基材接合。承上述,在第二反射层形成之后以及无机记录层形成之前可进一步形成一第一介电层在第二反射层上。
依照本发明的较佳实施例所述的光碟片制作方法,上述的接合制程例如是提供一胶合层至第一反射层或是无机记录层上,而将已形成有染料记录层与第一反射层的第一基材与已形成有第二反射层与无机记录层的第二基材接合。本实施例中,染料记录层例如是藉由涂布或其他的方式形成,第一反射层、第二反射层与无机记录层例如是藉由溅镀或其他的方式形成。特别值得一提的是,藉由溅镀的成膜方式,可以确保无机记录层在第二记录层L1上具有良好附着性及足够的厚度。
本发明因采用新的结构,以及新的无机材料做为其中一记录层,而使得第一记录层L0与第二记录层L1可以在不同基板上分别制作,省去掀离的制程,因此大幅提高了良率及节省了制造成本。同时也因为使用溅镀的方式将无机材料沈积上去,作为第二记录层L1的记录层,使得第二记录层L1的碟片记录特性能够保持优异的特性。
经由上述可知,本发明是关于一种单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法,该单面双层可写一次式光碟片,具有一第一记录层以及一第二记录层,其中第二记录层是配置在第一记录层上,而第一记录层中的记录材料为有机材料,且第二记录层的记录材料为无机记录材料。在一实施例中,光碟片例如更包括一第一基材、一第二基材以及一胶合层,其中第一记录层包括一配置在第一基材上的染料记录层以及一配置在染料记录层上的第一反射层,而第二记录层包括一无机记录层以及一配置在无机记录层上的第二反射层。此外,第二基材是配置在第二反射层上,且胶合层是配置在第一反射层与无机记录层之间。本发明另提供了一种简单的单面双层可写一次式光碟片的制作方法,以大幅提高制程良率并节省制造成本。
借由上述技术方案,本发明单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法至少具有下列优点:
本发明同时采用无机记录层以及染料记录层作为单面双层光碟片中的记录层,可大幅提高良率,并节省制造成本并同时确保光碟片的纪录品质。
综上所述,本发明特殊结构的单面双层可写一次式光碟片的结构,其记录层材料分别使用无机记录层以及一染料记录层。本发明特殊的单面双层可写一次式光碟片的制作方法,其不但能大幅提高良率,同时可保有高品质。其具有上述诸多的优点及实用价值,并在同类产品及制作方法中未见有类似的结构设计及方法公开发表或使用而确属创新,其不论在产品结构、制作方法或功能上皆有较大的改进,在技术上有较大的进步,并产生了好用及实用的效果,且较现有的单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法具有增进的多项功效,从而更加适于实用,而具有产业的广泛利用价值,诚为一新颖、进步、实用的新设计。
上述说明仅是本发明技术方案的概述,为了能够更清楚了解本发明的技术手段,而可依照说明书的内容予以实施,并为了让本发明的上述和其他目的、特征和优点能更明显易懂,以下特举多个较佳实施例,并配合附图,详细说明如下。
附图说明
图1是现有习知的单面双层光碟片的剖面示意图。
图2A至图2G是现有习知的一种单面双层光碟片的制作流程图。
图3A至图3D是现有习知的另一种单面双层光碟片的制作流程图。
图4A是依照本发明一较佳实施例单面双层光碟片的剖面示意图。
图4B是依照本发明另一较佳实施例单面双层光碟片的剖面示意图。
图5A至图5E是依照本发明一较佳实施例单面双层光碟片的制作流程图。
图6是依照本发明再一较佳实施例单面双层光碟片的剖面示意图。
100、400、600:光碟片 102、402、602:第一基材
104:第一染料记录层 106、406、606:第一反射层
108、408、608:胶合层 110:第二染料记录层
112、412、612:第二反射层 114、414、614:第二基材
404、604:染料记录层 410、610:无机记录层
411、611:第一介电层 L0:第一记录层
L1:第二记录层 P1:第一螺旋状沟槽
P2:第二螺旋状沟槽 R:平台区域
具体实施方式
为更进一步阐述本发明为达成预定发明目的所采取的技术手段及功效,以下结合附图及较佳实施例,对依据本发明提出的单面双层可写一次式光碟片的结构及其制作方法其具体实施方式、结构、制作方法、步骤、特征及其功效,详细说明如后。
图4是依照本发明一较佳实施例单面双层光碟片的剖面示意图。请参阅图4所示,本实施例的单面双层光碟片400包括第一基材402、染料记录层404、第一反射层406、胶合层408、无机记录层410、第二反射层412以及第二基材414。其中,染料记录层404是配置在第一基材402上,第一反射层406是配置在染料记录层404上,胶合层408是配置在第一反射层406上,无机记录层410是配置在胶合层408上,第二反射层412是配置在无机记录层410上,而第二基材414是配置在第二反射层412上。
值得注意的是,本实施例将染料记录层404与无机记录层410一并制作于同一片单面双层光碟片400内。此外,在上述的单面双层光碟片400中,染料记录层404与第一反射层406统称为第一记录层L0,而无机记录层410与第二反射层412统称为第二记录层L1。
图4B是依照本发明另一较佳实施例单面双层光碟片的剖面示意图。请同时参阅图4A与图4B所示,本实施例的单面双层光碟片400’在膜层结构上与图4A中的单面双层光碟片400相似,惟其差异在于:本实施例的单面双层光碟片400’中,无机记录层410与第二反射层412之间更配置有一第一介电层411,而此第一介电层411可视制造者的需求而选择性地进行配置。
本实施例中,第一介电层411的材质例如为硫化锌-二氧化硅(ZnS-SiO2)、氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiN)。另外,以硫化锌-二氧化硅(ZnS-SiO2)为例,硫化锌的重量百分比例如为80%,二氧化硅的重量百分比例如为20%,而此第一介电层411的厚度介于5纳米至100纳米之间。另外,本实施例亦可在无机记录层410与胶合层408之间选择性地配置一第二介电层(未绘示),其材料例如为硫化锌-二氧化硅(ZnS-SiO2)、氧化硅(SiOx)或氮化硅(SiN),且此第二介电层的厚度例如为5纳米至150纳米之间。
有关于单面双层光碟片400(400’)中各膜层的材质、厚度等参数,将搭配其制作流程详述于后。
图5A至图5E是依照本发明一较佳实施例单面双层光碟片的制作流程图。请参阅图5A所示,首先,提供一第一基材402,此第一基材的材质例如为聚碳酸酯(polycarbonate,PC)、聚甲酸甲酯(polymethylmethacrylate)、无定形聚烯烃(armophouspolyolefin)或是其他透明材料。值得注意的是,上述的第一基材402的表面上例如已形成有第一螺旋状沟槽P1。
接着请参阅图5B所示,在第一基材402上形成染料记录层404。本实施例中,染料记录层404的材质例如为花青染料、偶氮染料、氧喏染料、方酸化合物或是甲兹及其混合物,而染料记录层404例如是藉由涂布或是其他的方式形成在第一基材402上。
同样请参阅图5B所示,在制作完染料记录层404之后,再在染料记录层404上形成第一反射层406。本实施例中,第一反射层406的材质例如为银、铝、银合金或铝合金等反射材料,其厚度例如是介于5纳米至30纳米之间。另外,第一反射层406例如是藉由溅镀或是其他的方式形成在染料记录层404上。值得注意的是,上述的染料记录层404与第一反射层406一般统称为第一记录层L0。
接着请参阅图5C所示,另行提供一第二基材414,此第二基材414的材质例如为聚碳酸酯(polycarbonate,PC)聚甲酸甲酯(polymethylmethacrylate)、无定形聚烯烃(armophouspolyolefin)或是其他透明材料。值得注意的是,上述的第二基材414的表面上例如已形成有第二螺旋状沟槽P2。
接着请参阅图5D所示,在第二基材414上形成第二反射层412。本实施例中,第二反射层412的材质例如为银、铝、银合金或铝合金等反射材料,其厚度例如是介于30纳米至200纳米之间。另外,第二反射层412例如是藉由溅镀或是其他的方式形成在第二基材414上。
同样请参阅图5D所示,在制作完第二反射层412之后,再在第二反射层412上形成无机记录层410。本实施例中,无机记录层410的材质例如为铝-硅合金或铝-硅金属复合层等。以铝-硅合金为例,其铝的重量百分比例如是介于10%至80%之间,而硅的重量百分比例如是介于20%至90%之间,且铝-硅合金厚度例如是介于5纳米至80纳米之间。另外,无机记录层410例如是藉由溅镀或是其他方式形成在第二反射层412上。值得注意的是,上述的第二反射层412与无机记录层410一般统称为第二记录层L1。
最后请参阅图5E所示,提供一胶合层408于第一基材402与第二基材414之间,并藉由胶合层408使得第一记录层L0与第二记录层L1接合。值得注意的是,由于无机记录层410不易受到胶合层408的污染,因此毋须在无机记录层410与胶合层408之间制作一保护层,可减少一道制程,进而降低制作成本。
图6是依照本发明再一较佳实施例单面双层光碟片的剖面示意图。请参阅图6所示,本实施例的单面双层光碟片600包括第一基材602、染料记录层604、第一反射层606、胶合层608、无机记录层610、第一介电层611、第二反射层612以及第二基材614。其中,染料记录层604是配置在第一基材602上,其材质例如是花青染料、偶氮染料、氧喏染料、方酸化合物或是甲兹及其混合物,厚度例如是25纳米。第一反射层606是配置在染料记录层604上,其材质例如是银,厚度例如是20纳米。胶合层608是配置在第一反射层606上。无机记录层610是配置在胶合层608上,其材质例如是铝-硅合金,厚度例如是20纳米。第一介电层611是配置在无机记录层610上,其材质例如是硫化锌-二氧化硅,厚度例如是40纳米。第二反射层612是配置在第一介电层611上,其材质例如是银,厚度例如是80纳米。第二基材614是配置在第二反射层612上。
以下是进行上述的单面双层光碟片的电器讯号测试。经测试所测得的数据是记录于下表1中。
表1
Power(mW) | R14H(%) | I14/I14H | Asym | PI | |
L0 | 24 | 16.6 | 0.716 | 0.002 | 77 |
L1 | 24 | 17.5 | 0.594 | 0.04 | 128 |
由表1可得知,烧录功率(Power)皆在DVD商用碟机的正常烧录功率范围内。烧录后的反射率(R14H)皆符合规格书的规格(最小值为16%)。而烧录完毕后,置入测试机读取错误率,皆能有效除错并播放正常。
以上所述,仅是本发明的较佳实施例而已,并非对本发明作任何形式上的限制,虽然本发明已以较佳实施例揭露如上,然而并非用以限定本发明,任何熟悉本专业的技术人员,在不脱离本发明技术方案范围内,当可利用上述揭示的方法及技术内容作出些许的更动或修饰为等同变化的等效实施例,但是凡是未脱离本发明技术方案的内容,依据本发明的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰,均仍属于本发明技术方案的范围内。
Claims (27)
1.一种单面双层可写一次式光碟片,具有一第一记录层以及一第二记录层,其特征在于,其中该第二记录层是配置在该第一记录层上,而该第一记录层中的记录材料为有机材料,且该第二记录层的记录材料为无机记录材料。
2.根据权利要求1所述的光碟片,其特征在于更包括一第一基材、一第二基材以及一胶合层,其中该第一记录层包括一配置在该第一基材上的染料记录层以及一配置在该染料记录层上的第一反射层,而该第二记录层包括一无机记录层以及一配置在该无机记录层上的第二反射层,该第二基材是配置在该第二反射层上,且该胶合层是配置于该第一反射层与该无机记录层之间。
3.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第一基材上具有一第一螺旋形沟槽,且该染料记录层是覆盖住该第一基材与该第一螺旋形沟槽。
4.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第一基材的材质包括聚碳酸酯、聚甲酸甲酯、无定形聚烯烃或其他透明基材。
5.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的染料记录层的材质包括花青染料、偶氮染料、氧喏染料、方酸化合物或是甲兹及其混合物。
6.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第一反射层的材质包括银、铝、银合金或铝合金。
7.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第一反射层的厚度是介于5纳米至30纳米之间。
8.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的无机记录层的材质包括铝-硅合金或铝-硅金属复合层。
9.根据权利要求8所述的光碟片,其特征在于其中所述的铝-硅合金中铝的重量百分比是介于10%至80%之间,而硅的重量百分比是介于20%至90%之间。
10.根据权利要求8所述的光碟片,其特征在于其中所述的铝-硅合金的厚度是介于5纳米至80纳米之间。
11.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第二反射层的材质包括银、铝、银合金或铝合金。
12.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第二反射层的厚度是介于30纳米至200纳米之间。
13.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第二基材上具有一第二螺旋形沟槽,且该无机记录层是覆盖住该第二基材与该第二螺旋形沟槽。
14.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于其中所述的第二基材的材质包括聚碳酸酯、聚甲酸甲酯、无定形聚烯烃或其他透明基材。
15.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于更包括一第一介电层,配置于该无机记录层与该第二反射层之间。
16.根据权利要求15所述的光碟片,其特征在于其中所述的第一介电层的材质包括硫化锌-二氧化硅、氧化硅或氮化硅。
17.根据权利要求16所述的光碟片,其特征在于其中所述的硫化锌-二氧化硅中硫化锌的重量百分比为80%,而二氧化硅的重量百分比为20%。
18.根据权利要求15所述的光碟片,其特征在于其中所述的第一介电层的厚度是介于5纳米至100纳米之间。
19.根据权利要求2所述的光碟片,其特征在于更包括一第二介电层,配置于该无机记录层与该胶合层之间。
20.根据权利要求19所述的光碟片,其特征在于其中所述的第二介电层的厚度是介于5纳米至150纳米之间。
21.一种光碟片制作方法,其特征在于其包括以下步骤:
提供一第一基材,该第一基材上已形成有一第一螺旋形沟槽;
在该第一基材上依序形成一染料记录层与一第一反射层;
提供一第二基材,该第二基材上已形成有一第二螺旋形沟槽;
在该第二基材上依序形成一第二反射层与一无机记录层;以及
将已形成有染料记录层与该第一反射层的该第一基材与已形成有该第二反射层与该无机记录层的该第二基材接合。
22.根据权利要求21所述的光碟片制作方法,其特征在于更包括提供一胶合层至该第一反射层或是该无机记录层上,以将已形成有染料记录层与该第一反射层的该第一基材与已形成有该第二反射层与该无机记录层的该第二基材接合。
23.根据权利要求21所述的光碟片制作方法,其特征在于其中所述的染料记录层的形成方法包括涂布。
24.根据权利要求21所述的光碟片制作方法,其特征在于其中所述的第一反射层的形成方法包括溅镀。
25.根据权利要求21所述的光碟片制作方法,其特征在于其中所述的第二反射层的形成方法包括溅镀。
26.根据权利要求21所述的光碟片制作方法,其特征在于其中所述的无机记录层的形成方法包括溅镀。
27.根据权利要求21所述的光碟片制作方法,其特征在于其中所述的第二反射层之后以及该无机记录层形成之前,更包括形成一第一介电层在该第二反射层上。
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