CH506807A - Fotopolymerisierbarer Lack und dessen Verwendung zur Erzeugung eines Reliefbildes - Google Patents

Fotopolymerisierbarer Lack und dessen Verwendung zur Erzeugung eines Reliefbildes

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CH506807A
CH506807A CH732968A CH732968A CH506807A CH 506807 A CH506807 A CH 506807A CH 732968 A CH732968 A CH 732968A CH 732968 A CH732968 A CH 732968A CH 506807 A CH506807 A CH 506807A
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photopolymerizable
photopolymerisable
groups
compound
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CH732968A
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Herward Dr Pietsch
Charlotte Dr Rabe
Baumbach Wolfgang
Kuhnert Lothar
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Wolfen Filmfab Veb
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    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
    • G03F7/004—Photosensitive materials
    • G03F7/038—Macromolecular compounds which are rendered insoluble or differentially wettable
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
    • C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
    • C08F—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED BY REACTIONS ONLY INVOLVING CARBON-TO-CARBON UNSATURATED BONDS
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