Fotopolymerisierbarer Lack und dessen Verwendung zur Erzeugung eines Reliefbildes
Die Erfindung betrifft einen fotopolymerisierbaren Lack, der sich zur Herstellung von Reliefbildern hoher Masshaltigkeit eignet.
Fotopolymerisierbare Systeme sind Ibereits seit länge- rer Zeit bekannt Sie bestehen gewöhnlich aus einer (selten auch mehreren) fotopolymerisierbaren Komponente, einem Initiator, einem Inhibitor zur Verhinderung thermischer Polymerisation und schädlicher Einflüsse der atmosphärischen Luft sowie einem Lösungsmittel, welches Idie Herstellung entsprechend dünner Schichten auf den entsprechenden Unterlagen ermöglicht, aber auch nach dem sogenannten Trocknen teilweise in der Schicht verbleibt und ihre technischen Eigenschaften mlit beeinflusst. Zur Erzielung optimaler Wirkungen müssen alle Komponenten einer solchen Kombination auf einander abgestimmt sein.
Als fotopolymerisierbare Verbindungen dienen in den meisten Fällen monomere oder polymere organische Verbindungen mit äthylenisch ungesättigten Gruppierungen. Von Idiesen spielen in Ider Praxis Derivate von Polyhydroxyverbiindungen, welche Cinnamoyl- oder Cinnamalreste enthalten, eine besonders grosse Rolle.
Sie werden häufig durch aromatische Nitroverbindungen oder die Einführung von Nitrogruppen in den Molekülteil, der die äthylenisch ungesättigte Gruppierung trägt, aktiviert. Die ebenfalls noch verwendeten Systeme aus Bichromat und Gelatine, Polyvinylalkohol u. ä. gehen in ihrer Verbreitung zurück. Daneben werden in gewissem Umfang Systeme aus äthylenisch ungesättigten Monomeren, insbesondere Acrylderivaten, und einem Bindemittel sowie weiteren Zusätzen angewendet.
Die Anwendbarkeit der bichromat-haltigen Systeme ist insbesondere durch ihre geringe Lagerfähigkeit begrenzt. Das gleiche gilt im Prinzip rauch für Komlbinatio- nen aus äthylenisch ungesättigten Monomeren und Bindemitteln. Deshalb haben sich hodhpolymere, äthylenisch ungesättigte Verbindungen weitgehend durchge- setzt. Sie müssen jedoch im allgemeinen durch den Zusatz von Inhibitoren gegen vorzeitige Polymerisation, insbesondere auf Grund der Einwirkung der atmosphärischen Luft, geschützt werden.
Die Abstimmung der zur Erzielung einer optimalen Wirkung nötigen Kombination von äthylenisch ungesättigter fotopolymerisierbarer Verbindung, Inhibitor, Initiator und Lösungsmittel muss weitgehend empirisch erien.
Zweck der Erfindung ist es, fotopolymerisierbare Systeme zu entwickeln, deren chemisches Verhalten unter Normalbedingungen Iden Einsatz von Inhibitoren unnötig macht. Dadurch reduziert sich die oben genannte Vierstoff-Kombination auf ein DreistoffSystem, dessen Handhabung weitaus einfacher ist.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, an Stelle der bekannten fotopolymerisierbaren Verbindungen, insbesondere der Verbindungen mit äthylenisch ungesättig- ten Gruppierungen, solche Stoffe zu entwickeln und einzusetzen, die auch unter schwierigen Bedingungen, z. B. in chlor- oder ozonhaltiger Luft, wie sie etwa in Klischieranstalten vorkommt, ohne Zusatz eines Stabili- sators eine hohe Stabilität bei vorzüglichen technischen Eigenschaften (Auflösungsvermögen, Aetzresi stenz) gewährleisten.
IErssindungsgemäss wird diese Aufgabe durch einen fotopolymerisierbaren Lack, bestehend aus fotopolymerisierbaren Verbindungen, Inibiatoren und Lösungsmitteln, gelöst, welcher dadurch gekennzeichnet ist, dass er tals fotopolymerisierbare Verbindungen ein oder mehrere Verbindungen wider Formel
B [Ar(N02)rn] enthält, in der IB eine thochmolekulare organische Verbindung
Ar eine Arylgruppierung aus einem lbis Vier konden- sierten oder isolierten Benzolkernen,
welche Igegebenen- falls nicht mit Nitrogruppen reagierende Substituenten besitzen und/oder gegebenenfalls mit einem bis zwei heterocyclischen Ringen kondensiert sind.
m eine ganze positive Zahl von 1 bis 6 und n eine ganze Zahl grösser als m ist, bedeuten.
Die Nitrogruppe ist dabei direkt an einen Benzol.
kern der Arylgruppierung Ar gebunden.
Die hochmolekulare Verbindung B kann insheson dere eine langkettige, gegebenenfalls verzweigte Verbindung sein, die gegebenenfalls in der Haupt- und/odei den Seitenketten dadurch nicht mit Nitrogruppen reagier ende Gruppen sulestituiert ist, wobei ein Teil der C- Atome in der Haupt- und/oder den Seitenketten gegebe- nenfalls durch 0-, N- oder S-Atome ersetzt ist.
Die Verbindung B kann z. B. ein Polyvinylalkoho oder eine andere Polyvinylverbindung sein, Idie mit den Arylsystem durch entsprechende funlktionelleqGrupper verbunden ,ist, wobei aus Gründen Ider Ibesseren Syste matisierbarkeit die bindenden Gruppen, wie z. B -O-CO-, -O-, -NH-CO- usw. formal al! Teil der Verbindung B betrachtet werden.
Es kann siel jedoch auch um einen Naturstoff, wie Cellulose, ode um die Kohlenstoffkette eines Copolymeren, Oligomerer oder Polymeren handeln, das in wenigstens 5 O/o de Molekül-Grundeinheiten durch Nitrogruppen sulbsti tuierte Arylgruppierungen enthält. Als Aryl gruppierungen kommen Gruppen mit einem bis viei kondensierten oder isolierten Benzolkernen in Frage wie Phenyl- Naphthyl-, Anthracenyl-, Diphenylyl-, p Tolylphenyl- u. a. Beide Molekülteile können aussenden noch funktionelle oder nichtfunktioneile Substituente enthalten, die nicht mit Nitrogruppen reagieren, z.
B Cl-, Br-, HO-, -CO-, HOOC-, HSO2- -S-, H-2N-. Die Anzahl m der Nitrogruppen in dei Arylgruppierung kann bis zu drei pro Kern, insgesam etwa 6 pro Gruppierung, betragen, während die Anzah n der Arylgruppierung pro Makromolekül 5 bis 100 0/, der Gesamtzahl der Molekül-Grundeinheiten ausmachen soll.
Die Anwesenheit anderer reaktionsfähiger Gruppe rungen, insbesondere von äthylenisch ungesättigter Gruppen, ist für den Ablauf der erfindungsgemässer Reaktion nicht notwendig. Dadurch unterscheidet siel das erfindungsgemässe Verfahren von den ;bereits in dei Literatur beschriebenen Prozessen, bei denen aromati sche Nitroverbindungen Kombinationen mono- oder polymerer Verbindungen, die äthylenisch ungesättigte Doppelbindungen enthalten, als Initiatoren zugesetzt wer.
den oder Verbindungen, die äthylenisch ungesättigti Doppelbindungen, enthalten, als Initiatoren zugesetzt werden oder Verbindungen, die äthylenisch ungesättigt Doppelbindungen enthalten, durch Einführen von Nitre- gruppen in diesen oder einen anderen Teil des Moleküls aktiviert oder stabilisiert werden.
Als besonders günstig haben sich für die Durchführung des erfindungsgemässen Verfahrens Verbindungen aus höhermolekularen Polyhydroxyver.
bindungen und entsprechenden nitrierten Aromaten, wie Nitroarylester, -äther oder -acetale des Polyvinylalkohols oder der Cellulose, erwiesen. Einsetzbar sind ferner Polymere und Copolymere, welche Nitroverbindungen aromatischer Systeme enthalten, z. B. Polymere und Copolymere nitrierter Styrole, Selbstverständ- lieh können die sonstigen technischen Eigenschaften des Lacks, z. B. die Haftfähigkeit, durch entsprechende Modifikationen am aromatisohen System oder der Polymerenkomponenten beeinflusst werden. Zur technischen Anwendung werden weiterhin lin grundsätzlich bekannter Weise Lösungsmittel und Hilfsstoffe, wie Netzmittel, zugesetzt.
Der fotopolymensierbare Lack gemäss der Erfindung wird vorzugsweise zur Erzeugung eines Reliefbildes während der Herstellung von Aetz- und Aufdampfmasken, gedruckten Schaltungen, elektronischen Bauteilen, Druckplatten und ähnlichen Gegenständen verwendet.
Die anwendbaren Verbindungen, sind löslich in herkömmlichen organischen Lösungsmitteln, insbesondere in Cyclohexanon, Dimethylformamid, Dimethylsulfoxyd sowie je nach ihrer chemischen Konstitution in Benzol, Toluol oder deren Gemischen mit Alkoholen, in Aceton usw. Die so erhaltenen Lösungen sind mit Diphenylketonen, wie Benzil, Michler's Keton und anderen Diphenylverbindungen entsprechend USA-Pat.
2 670 287 sensibilisierbar. Sie können in geringer Schichtdicke verarbeitet werden, da sie eine sehr hohe Kohäsion aufweisen, und besitzen ein sehr hohes Auflösungsvermögen. Weiterhin zeichnen sie sich dadurch aus, dass das Auflösungsvermögen in weiten Grenzen unabhängig von der Belichtungsdauer ist.
Die Erfindung soll anschliessend an einigen Beispielen näher erläutert werden. Diese sollen insbesondere beweisen, dass die Nitrogruppe der eigentliche Träger der Fotopolymerisationsreaktion ist, ohne dass der Geltungsbereich der Erfindung dadurch in irgendeiner Weise auf die angeführten Verbindungsklassen beschränkt werden soll.
Beispiel 1
44 g Polyvinylalkohol mittleren Polymerisationsgrades werden in 880 ml Pyridin bei 90 C zwei Stunden gequollen. Nach dem Abkühlen werden 185,5 g (1 Mol) p-Nitrobenzoylchlorid zugegeben und das Gemisch unter Rühren zwei Stunden bei 80 OC gehalten.
Danach wird abgekühlt, 1 1 Aceton zugefügt lund in 801 Wasser eingerührt. Das faserig ausgefallene Rohprodukt wird abfiltriert und getrocknet. Daraus wird eine 6 0/obige Lösung in Cyclohexanon hergestellt, der 0,3 O/o Michler's Keton zugegeben wird.
Die mit dieser Lösung in bekannter Weise auf technisch üblichen Unterlagen, wie Glas, Metallfolien, usw., hergestellten fetopolymerisier- baren Schichten liefern bei Belichtung hinter entsprechenden Metalimasken mittels einer Quecksilber Höchstdrucklampe HBO 200 in Abstand 10 cm bei Belichtungszeiten von einer, 3 und 5 Minuten nach Entwicklung mit Xylol/Cyclohexanon im Verhältnis 1 : 3 masshaltige Reliefbilder, deren maximaler Fehler unterhalb der Massgenauigkeit von 1 ,um liegt.
Ein auf die gleiche Weise mit Benzoylchlorid veresterter Polyvinylalkohol zeigt unter gleichen Bedingungen auch nach einstündigem Relichten keine nachweisbare Polymerisation.
Beispiel 2
44 g Polyvinylalkohol werden mit 200 g m-Nitro benzaidehyd acetalisiert. Aus dem erhaltenen Produkt werden analog Beispiel 1 liehtempfindliche Schichten hergestellt, die Belichtet und mit Toluol/Cyclohexanon im Verhältnis 2:1 entwickelt werden. Die erhaltenen Reliefbilder weisen ebenfalls eine ausgezeichnete Mass haltigkeit auf, die innerhalb eines grösseren Belichtungsspielraumes konstant bleibt.
Das entsprechende Acetal des Benzaidehydes zeigt unter gleichen Bedingungen auch nach einstündigem Belichten keine nachweisbare Polymerisation.
Beispiel 3
44 g Polyvinylalkohol mittleren Polymerisationsgrades werden analog Beispiel 1 in 1 1 Pyridin mit 250 g Pikrylchlorid umgesetzt. Der entstandene Pikryläther wird mit einem grossen Überschuss Heptan gefällt, abfiltriert und getrocknet. Es wird eine 6 0/obige Lösung dieses Aethers in Cyclohexanon hergestellt, der 0,3 O/o Benzil zugesetzt werden. Die IdEamit in bekannter Weise hergestellten Schichten liefern nach 5 Minuten Belichtung unld Entwicklung analog Beispiel 1 Rellefbilder von hoher Masshaltigkeit.
Beispiel 4
5,4 g Cellulose werden analog Beispiel 1 mit 18,5 g p-Nitrobenzoylchlorid in Pyridin umgesetzt. Die in Pyridin gelösten Anteile des Reaktionsproduktes werden mit Toluol gefällt, zentrifugiert und nochmals mit Toluol ausgewaschen. Das noch tolnolfeuchte Produkt wird in Cyclohexanon gelöst und mit 5 O/o der Trockensubstanz an BenzoinHmefflyläther Isensibilisiert. Aus den in üblicher Weise hergestellten Schichten werden nach 5 Minuten ;Belichtung und Entwicklung analog Beispiel 1 Reliefbilder von hoher Masshaltigkeit erhalten.
Beispiel 5
6,4 g (etwa 0,1 Mol eines durch Hydrolyse von Polyvinyl-Ohlorid-Acetat mit einem Cl-Gehalt von 60 Mol-O/o erhaltenen Vinylchlorid-Vinylalkohol-Mischpolymeren werden entspreChend Beispiel 1 mit 8,2 g p Nitrobenzoylchlorid umgesetzt. Das wie in Beispiel 1 isolierte faserige Rohprodukt wird nach dem Abfiltrieren und Trocknen in Cyclohexanon gelöst. Die 6 0/obige Lösung wird nach Zusatz von 0,3 O/o Michler's Keton in bekannter Weise auf eine Kupferfolie au±ge- bracht und wie in Beispiel 1 belichtet und entwickelt.
Der maximale Fehler der erhaltenen Reliefbilder liegt unterhalb 1 ,um.
Beispiel 6
5 g Polystyrol werden nach HOUBEN-WEYL XIV/2 S. 690 nitriert. Das erhaltene, schwach gelbliche Produkt wird in Dimethyliormamid gelöst und die 5 %ige Lösung mit 0,3% Michler's Keton versetzt. Die damit in bekannter Weise auf Glas hergestellten Schichten werden wie in Beispiel 1 belichtet und mit Cyclohexanon Dimethylformamid 3 :1 entwickelt. Der maximale Fehler der erhaltenen Reliefbilder liegt unterhalb 1 ,f4m.
Beispiel 7
44 g Polyvinylaikohol mittleren Polymerisationsgrades werden in 880 ml Pyridin bei 90 "C 2 Stunden gequollen. Nach dem Abkühlen werden 221,5 g m Nitrobenzolsulfochlorid bei 0 C zugegeben und die Mischung 48 Stunden bei 5-10 C gerührt. Die Aufarbeitung und die Herstellung der Lacklösung erfolgen wie in Beispiel 1. Die damit in bekannter Weise auf Chrom Kupfer-Bimetallblechen hergestellten Schichten werden hinter entsprechenden Metalimasken 5 min. mit einer Quecksilber-Höchstdrucklampe HBO 200 belichtet und mit Aethylglykolacetat/Cyclohexanon im Verhältnis 1: 2 entwickelt.
Die so erhaltenen Aetzmasken werden 15 min. bei 200 0C gehärtet; die Aetzung erfolgte mit gesättigter CaCI2aLösung, der 100/o konzentrierte HC1 zugesetzt sind, bei 50 C. Die Aetzmaske zeigt unter diesen Bedingungen ausgezeichnete technische Eigenschaften.
Photopolymerizable lacquer and its use for creating a relief image
The invention relates to a photopolymerizable lacquer which is suitable for the production of relief images of high dimensional accuracy.
Photopolymerizable systems have been known for a long time. They usually consist of one (rarely more than one) photopolymerizable component, an initiator, an inhibitor to prevent thermal polymerization and the harmful effects of atmospheric air, and a solvent, which can be used to produce thin layers on the corresponding documents, but also partially remains in the layer after so-called drying and influences their technical properties. To achieve optimal effects, all components of such a combination must be coordinated with one another.
In most cases, monomeric or polymeric organic compounds with ethylenically unsaturated groups are used as photopolymerizable compounds. Of these, derivatives of polyhydroxy compounds which contain cinnamoyl or cinnamal radicals play a particularly important role in practice.
They are often activated by aromatic nitro compounds or the introduction of nitro groups into the part of the molecule that carries the ethylenically unsaturated group. The systems made of dichromate and gelatin, polyvinyl alcohol and the like are also still used. Ä. Go back in their distribution. In addition, to a certain extent, systems made from ethylenically unsaturated monomers, in particular acrylic derivatives, and a binder and other additives are used.
The applicability of the bichromate-containing systems is limited in particular by their short shelf life. In principle, the same applies to combinations of ethylenically unsaturated monomers and binders. This is why high-polymer, ethylenically unsaturated compounds have largely gained acceptance. However, they generally have to be protected against premature polymerization, in particular due to exposure to atmospheric air, by adding inhibitors.
The coordination of the combination of ethylenically unsaturated photopolymerizable compound, inhibitor, initiator and solvent required to achieve an optimal effect must be largely empirical.
The purpose of the invention is to develop photopolymerizable systems whose chemical behavior under normal conditions makes the use of inhibitors unnecessary. This reduces the four-component combination mentioned above to a three-component system, which is much easier to use.
The invention is based on the object, instead of the known photopolymerizable compounds, in particular the compounds with ethylenically unsaturated groups, to develop and use substances that can be used even under difficult conditions, e.g. B. in chlorine or ozone-containing air, such as occurs in printing presses, guarantee high stability with excellent technical properties (resolving power, corrosion resistance) without the addition of a stabilizer.
According to the invention, this object is achieved by a photopolymerizable lacquer, consisting of photopolymerizable compounds, inhibitors and solvents, which is characterized in that, as photopolymerizable compounds, it contains one or more compounds according to formula
B [Ar (NO2) rn] contains, in the IB a high molecular weight organic compound
Ar is an aryl group consisting of one to four condensed or isolated benzene nuclei,
which I optionally have substituents which do not react with nitro groups and / or are optionally condensed with one to two heterocyclic rings.
m is a positive integer from 1 to 6 and n is an integer greater than m.
The nitro group is directly attached to a benzene.
core of the aryl group Ar bound.
The high molecular weight compound B can in particular be a long-chain, optionally branched compound, which is optionally substituted in the main and / or side chains with groups which do not react with nitro groups, with some of the carbon atoms in the main and / or the side chains are optionally replaced by 0, N or S atoms.
The compound B can, for. B. be a polyvinyl alcohol or another polyvinyl compound, Idie with the aryl system by appropriate funlktionelleqGrupper is connected, for reasons Ider Ibesseren syste matisierbarkeit the binding groups, such. B -O-CO-, -O-, -NH-CO- etc. formally al! Part of the connection B can be considered.
However, it can also be a natural substance, such as cellulose, or the carbon chain of a copolymer, oligomer or polymer which contains aryl groups sulfated by nitro groups in at least 5% of basic molecular units. As aryl groups, groups with one to viei condensed or isolated benzene nuclei such as phenyl, naphthyl, anthracenyl, diphenylyl, p tolylphenyl u. a. Both parts of the molecule can emit functional or non-functional substituents that do not react with nitro groups, e.g.
B Cl-, Br-, HO-, -CO-, HOOC-, HSO2- -S-, H-2N-. The number m of nitro groups in the aryl grouping can be up to three per nucleus, a total of about 6 per grouping, while the number n of aryl grouping per macromolecule should make up 5 to 100% of the total number of basic molecular units.
The presence of other reactive groups, in particular ethylenically unsaturated groups, is not necessary for the reaction according to the invention to proceed. This distinguishes the process according to the invention from the processes already described in the literature in which aromatic nitro compounds are added as initiators to combinations of mono- or polymeric compounds which contain ethylenically unsaturated double bonds.
or compounds containing ethylenically unsaturated double bonds are added as initiators or compounds containing ethylenically unsaturated double bonds are activated or stabilized by introducing nitre groups into this or another part of the molecule.
Compounds of higher molecular weight polyhydroxyver have proven to be particularly favorable for carrying out the process according to the invention.
bonds and corresponding nitrated aromatics, such as nitroaryl esters, ethers or acetals of polyvinyl alcohol or cellulose, proved. Polymers and copolymers which contain nitro compounds of aromatic systems can also be used, e.g. B. Polymers and copolymers of nitrated styrenes, of course, the other technical properties of the paint, such. B. the adhesiveness can be influenced by appropriate modifications to the aromatic system or the polymer components. For industrial use, solvents and auxiliaries, such as wetting agents, are also added in a manner known in principle.
The photopolymerizable lacquer according to the invention is preferably used to produce a relief image during the production of etching and vapor deposition masks, printed circuits, electronic components, printing plates and similar objects.
The compounds that can be used are soluble in conventional organic solvents, in particular in cyclohexanone, dimethylformamide, dimethyl sulfoxide and, depending on their chemical constitution, in benzene, toluene or their mixtures with alcohols, in acetone, etc. The solutions thus obtained are with diphenyl ketones such as benzil, Michler's Ketone and other diphenyl compounds according to USA Pat.
2 670 287 can be sensitized. They can be processed in a thin layer because they have a very high cohesion and have a very high resolution. They are also distinguished by the fact that the resolution is largely independent of the exposure time.
The invention will then be explained in more detail using a few examples. These are intended in particular to prove that the nitro group is the actual carrier of the photopolymerization reaction, without thereby limiting the scope of the invention in any way to the cited classes of compounds.
example 1
44 g of polyvinyl alcohol with a medium degree of polymerization are swollen in 880 ml of pyridine at 90 ° C. for two hours. After cooling, 185.5 g (1 mol) of p-nitrobenzoyl chloride are added and the mixture is kept at 80 ° C. for two hours with stirring.
It is then cooled, 1 l of acetone is added and stirred into 80 l of water. The fibrous precipitated crude product is filtered off and dried. A 6% above solution in cyclohexanone is prepared from this, to which 0.3% Michler's ketone is added.
The fetopolymerizable layers produced with this solution in a known manner on technically customary substrates such as glass, metal foils, etc., provide when exposed behind corresponding metal masks using a high pressure mercury lamp HBO 200 at a distance of 10 cm with exposure times of one, 3 and 5 minutes after development with xylene / cyclohexanone in a ratio of 1: 3, dimensionally stable relief images, the maximum error of which is below the dimensional accuracy of 1 μm.
A polyvinyl alcohol esterified in the same way with benzoyl chloride shows no detectable polymerization under the same conditions even after exposure for one hour.
Example 2
44 g of polyvinyl alcohol are acetalized with 200 g of m-nitro benzaidehyd. From the product obtained, layers sensitive to light are produced as in Example 1, which are exposed and developed with toluene / cyclohexanone in a ratio of 2: 1. The relief images obtained also have excellent dimensional stability, which remains constant within a larger exposure latitude.
The corresponding acetal of benzaidehyde shows no detectable polymerization under the same conditions even after one hour of exposure.
Example 3
44 g of polyvinyl alcohol with a medium degree of polymerization are reacted in 1 liter of pyridine with 250 g of picryl chloride as in Example 1. The resulting picryl ether is precipitated with a large excess of heptane, filtered off and dried. A 60 / above solution of this ether in cyclohexanone is prepared, to which 0.3% benzil is added. The layers produced in a known manner using layers give, after 5 minutes of exposure and development, analogously to Example 1, images of high dimensional accuracy.
Example 4
5.4 g of cellulose are reacted analogously to Example 1 with 18.5 g of p-nitrobenzoyl chloride in pyridine. The proportions of the reaction product dissolved in pyridine are precipitated with toluene, centrifuged and washed out again with toluene. The product, which is still wet by tonnes of oil, is dissolved in cyclohexanone and isensitized to benzoin / mefflyl ether with 5% of the dry substance. After 5 minutes, exposure and development analogously to Example 1, relief images of high dimensional stability are obtained from the layers produced in the usual way.
Example 5
6.4 g (about 0.1 mol of a vinyl chloride-vinyl alcohol copolymers obtained by hydrolysis of polyvinyl chloride acetate with a Cl content of 60 mol / o are reacted according to Example 1 with 8.2 gp of nitrobenzoyl chloride Fibrous crude product isolated as in Example 1 is filtered off and dried and dissolved in cyclohexanone. After adding 0.3% Michler's ketone, the 6% above solution is applied to a copper foil in a known manner and as in the example 1 exposed and developed.
The maximum error of the relief images obtained is below 1 μm.
Example 6
5 g of polystyrene are nitrated according to HOUBEN-WEYL XIV / 2 p. 690. The pale yellowish product obtained is dissolved in dimethyliormamide and 0.3% Michler's ketone is added to the 5% solution. The layers thus produced on glass in a known manner are exposed as in Example 1 and developed with cyclohexanone dimethylformamide 3: 1. The maximum error of the relief images obtained is below 1. f4m.
Example 7
44 g of polyvinyl alcohol with a medium degree of polymerization are swollen in 880 ml of pyridine at 90 ° C. for 2 hours. After cooling, 221.5 gm of nitrobenzenesulphonyl chloride are added at 0 ° C. and the mixture is stirred for 48 hours at 5-10 ° C. Work-up and preparation of the lacquer solution are carried out as in Example 1. The layers produced in a known manner on chromium copper bimetallic sheets are exposed for 5 minutes behind appropriate metal masks with an HBO 200 high pressure mercury lamp and developed with ethyl glycol acetate / cyclohexanone in a ratio of 1: 2.
The etching masks thus obtained are 15 min. hardened at 200 ° C; the etching took place with saturated CaCl2a solution to which 100% concentrated HC1 was added at 50 ° C. The etching mask shows excellent technical properties under these conditions.