DE1622301A1 - Lichtempfindliche Masse - Google Patents

Description

Shipley Company, Ine.» 2^00 Washington Street, Newton, Massachusetts,

USA

Lichtempfindliche Masse.

Die Erfindung betrifft lichtempfindliche tlberzüge sowie Überzugsmassen für die Herstellung von Druckplatten sowie von Photoreserven zum Plattieren und Ätzen von Metallen, Keramikbestandteilen oder dergl,, die eine lichtempfindliche Diäzoverbindung als Photosensibillsator, einen Polyvinyläther und vorzugsweise ein alkali-1ösIidies harzartiges Material, wie beispielsweise ein Novolak-Harz, enthalten. Der Polyvinyläther ist mit der lichtempfindlichen Verbindung verträglich und übt auf diese keinen nachteiligen Einfluß aus. Durch ihn wird die Herstellung lichtempfindlicher überzüge mit verbesserter Biegsamkeit, Dicke sowie chemischer und , elektrisöher WideratanäsfUhigkölt auf billige Welee

Die Herstellung Von Druckplatten, insbesondere Flachdruekplatten,

Dr.Sch/zb

1C9387/UA0

BAD

nach

nach einem Verfahren* welches aus der Bildung von Überzügen besteht, die aus lichtempfindlichen Diazoverbindungen als Photosensibilisatoren und verschiedenen Harzen, wie beispielsweise alkalilöslichen Novolakharzen auf einem Träger, wie beispielsweise Metallplatten oder -folien., beispielsweise aus Aluminium oder Zink, bestehen, ist bekannt« Die Platten werden derart eingesetzt, daß die lichtempfindliche Oberfläche unter einer Mater bestrahlt wird , worauf sich eine Entwicklung zur Erzeugung eines sichtbaren Bildes durch Behandlung mit verdünnten alkalischen Lösungen, beispielsweise verdünnten Lösungen von Dinatrlumphosphat, Trinatriumphosphat oder dergl., ansohließt. Wird eine positive Mater verwendet, dann 1st das Bild, welches eine Fetttinte annimmt;, eine positive Reproduktion der Mater, wobei von dem Bild Kopien der Mater nach einem Offset-Druckverfahren hergestellt werden können.

Der vorstehend beschriebene Überzug läßt sich auch in wirksamer Weise zur Herstellung von Photoreserven für die Plattierung von Metallen sowie zum ätzen von Metallen, für Keramikgegenstände oder dergl., verwenden, beispielsweise zum chemischen Fräsen oder zur Herstellung von gedruckten Schaltungen. Jedoch sind bekannte Überzüge dieses Typs häufig brüchig und besitzen oft einen zum Plattieren ungeeigneten elektrischen Widerstand sowie eine unpassende chemische Widerstandsfähigkeit gegenüber Ätzlösungen, die gewöhnlich sauer sind. Bekannte Überzugsmassen ergeben ferner

dünne 109887/1U0

dünne überzüge, die nur schwierig in gleichmäßiger Form auf ein Substrat ohne fehlerhafte Stellen aufgetragen werden können.

Die vorliegende Erfindung beruht auf der Erkenntnis, daß Polyvinylether mit einem lichtempfindlichen überzug, der lichtempfindliche Diazoverbindungen enthält, verträglich ist und diesen über- ■; zug nicht in nachteiliger Weise beeinflußt. Durch die Zugabe dieser Polyvinyläther lassen sich überzüge mit wesentlicher verbesserter Biegsamkeit, Widerstandsfähigkeit und Dicke herstellen, ohne daß dabei anschließend an die Alkalibehandlung ein Rückstand zurückbleibt. Ziel der vorliegenden Erfindung ist die Schaffung einer lichtempfindlichen überzugsmasse, die eine lichtempfindliche Diazoverbinduög, ein Polyvinyletherharz und vorzugsweise ein alkalilösliches Harz, wie beispielsweise ein Novolak-Harz, enthält. Die Masse, welche die Herstellung eines lichtempfindlichen Überzugs ermöglicht, zeichnet sich durch eine verbesserte Biegsamkeit, einen erhöhten elektrischen Widerstand zum Plattieren, erhöhte chemische Beständigkeit gegenüber Ätzlösungen sowie dadurch aus, daß überzüge mit größeren Dicken hergestellt werden können. Außerdem bleiben nach der Bestrahlung mit Licht an den bestrahlten Stellen anschließend an die Behandlung mit einer Alkalllösung keine Rückstände zurück.

Die erfindungsgemäßen Polyvisayläther sind solche Polymerisate, die sich wiederholende Einheiten der Formel

109887/1440 (Formel)

BAD ORIGINAL

■ CH —-

OR

besitzen, worin R für einen niederen Alkylrest mit 1 bis 4 Kohlenstoffatomen steht. Die PoIyνinylather sind in verschiedenen Formen verfügbar* u«zw. schwanken diese-Formen zwischen hochviskosen Flüssigkeiten und zähen kautschukartigen Materialien, wobei die Konsistenz von der Linearität der Polyraerisatkette und dem durchschnittlichen Molekulargewicht des Polymerisats abhängt. Diejenigen Polymerisate* die einen K-Wert von wenigstens 0,03.5 und vorzugsweise wenigstens 0,040 besitzen*, sind geeignet. Der K-Wert errechnet sieh aus der Beziehung

Log Ti_n 75K²

C 1 + 1,5

worin a^ di© ^©lafeiv® Viskosität ©iner Poljrmerisatlösung ist und C die Komeateation der Pölysaerisatlösuug darstellt, welche ζυχ> Messung von J^ in g pr© 100 al LSsuag verwendet wird.

Bei Verweaöimg von Polyvlayljaetiiyläther wird eine verbesserte Auflösung des ©atwiekelten Bildes ersielt, so daß die Verwendung dieses Polymerisats eine bevorzugte Ausfübrungsform der Erfindung darstellt«

Wird der Polyvinyläther In kleinen Mengen zugesetzt, dann werden

gunstiffβ

109887/1440

BAD

günstige Wirkungen erzielt. Bei Zusatz steigender Mengen läßt sich solange eine Verbesserung beobachten* bis der Polyvinylather in der Überzugsmasse unlöslich wird oder die Entwicklung geherarat wird» Das Verhältnis von Polyvinyläther au lichtempfindlicher Diazoverbindung kann zwischen ungefähr 0,5 s 1 und 6:1 und vor« augsweise zwischen ungefähr 1:1 und 5 ϊ 1 schwanken,, und zwar je nach den übrigen Bestandteilen in der lichtempfindlichen Masse«

Wie vorstehend erwähnt, igt der Polyvinyläther mit den übrigen Komponenten eines lichtempfindlichen Überzugs verträglich und be~ «Inflwßt dies© nicht in nachteiliger Weise. Diese beiden Eigenschaften sind zur Erzielung der Verbesserungen, die aus der Ver° Wendung der Polyvinylether resultieren, kritisch. Unter der Definitions daß die Polyviny!Ether nicht die Überzugsmassen in nachteiliger Weise beeinflussen, ist die Tatsache zu verstehen, daß die Polyvinyläther keinen Einfluß auf das ZersetzungsVermögens des Lichts sowie auf die Umwandlung der lichtempfindlichen Diazoverbindungen in lösliche Alkaliverbindungen ausüben, Folglich wird der ganze, mit Licht bestrahlte überzug nach der Behandlung mit Alkali einschließlich des Polyätherbestandtells vollständig entfernt, wobei ein Bild mit einer ausgezeichneten Auflösung zurück« bleibt. Unter "verträglich" 1st zu verstehen, daß große Mengen des Polyvinylethers in einer Lösung der lichtempfindlichen Überzugsmasse löslich sind, wobei homogehe, dicke Überzüge nach dem Trocknen erhalten werden. Die Homogenität ist erforderlich, um

BAD

109887/1440

©ine gute Auflösung aas enttfioKelfcön Bildes anschließend an die Behandlung mit Alkali zn erzielen. Die Zugabe großer Harzmengen ohne eine Beeinflussung ties BiictauflösungsVermögens ist aus wenigst ens svrei Gründen erwünscht. Einerseits ist nämlich der Diazo« bestandteil des lichtempfindlichen Überzugs teuer. Füllt man den lichtempfindlichen Überzug mit" einem billigeren Harz auf, ohne daß dabei das Bildauflösungsvermögen verschlechtert wird* dann "erzielt man olne baträehtlie-he Kostaneinsparung. Andererseits hat die Verwendung großer Hsrzmengen in Lösung eine erheblich gesteigerte Lösungsviskoslt&fc zur Folge. Dieses ermöglicht die Bildung dickerer überzüge unter Anwendung üblicher Beschichtung»verfahren, wie "beispielsweise durch Beschichtung durch Eintauchen, Beschichten duroh Aufwalzen oder dergl. Es wurde gefunden, daß der Polyvinylather in Lösung die Viskosität der überzugsmasse in einem viel größeren Ausmaß zu steigern vermag als dies bei Verwendung anderer Harze in entsprechenden Mengen der Fall ist.

Die lichtempfindlichen Diazoverbindungen, welche als PhotosensibiIisatoren für die lichtempfindlichen Überzüge der vorliegenden Erfindung verwendet werden können, sind bekannt und Gegenstand vie» ler Patentschriften. Diazoverbindungen, die besonders geeignet sind, lassen sich durch folgende Formeln wiedergeben:

0-SO₂

t.

BAD OFKGINAL

109887/1440

worin

worin X und X₁ für Hg oder O stehen, wobei, falle diese Substi» tuenten an demselben Ring sitsen, Ihre Bedeutung verschieden ist, und Y eine organische Bladung darstellt, die wenigstens eine Arylengruppe* substituierte Arylengruppe oder heterocyclische Grup pe enthält>

oder

D—S—O

^υ I OH

C »0

_I]C

B ffffe¹ einer*:

R, für ffasseretoffj Alkyl- oder

« X Wasser» oder einen oder.

od©s« Aryl ist und K₂ ttod

H I 0

S.

Q-" -D

109887/1440 BAD OBiOlNAL

III

worxn

worin D ein Naphtlioofai)Bon-{l,2)-diaald-(2)-(4)«8ulfonylrest oder ©in Naphthochlnon-(l,2)-diaaid-(a)-5^a«lfonylreet ist und R für einen Arylreet oder substituierten Aryiresfc steht.

Die vorzugsweise als Photosensibilisatoren verwendeten lichtempfindlichen Diazoverbindungen sind die wasserunlöslichen Naphthochinon-(l,2)-diazid-suliOnsäureester mit einer-OH*Gruppe oder einer veresterten OH-Qruppe in einer Nachbarstellung zu einer Carbony!gruppe, Diese Verbindungen bilden überzüge, in denen keine Kristallisation auftritt, so daß diese überzüge in ungewöhnlich guter Weise für die photomechanische Herstellung von Druckplatten und PhGtoreserven geeignet sind«

Zusätzlich zu den lichtempfindlichen Diazoverbindungen sowie dem FolyvinylKtherbestandtell enthält die Masse vorzugsweise ein alkali lösliohea Bars« beispielsweise Phenol- und Kresο!-Formaldehyd-Novolake. Sogar kleine Zusätze sind günstig. Sollen jedoch in hohem Maße Htabeständige Schichten zur Herstellung von Photoreserven hergestellt werden, dann können die lichtempfindlichen Verbindungen mit dem alkalilösliohen Harz in Mengen vermischt werden, die zwischen ungefähr 1 : 1 und 1 : 6, bezogen auf die Gewichtsiaenge des liohteisipfindlichen Materials, das aufgrund der bekannten Methoden vorhanden 1st, schwanken. Da die notwendige Ätzbeständigkeit einen: hohen Prozentsatz an dem Harz erfordert und gleichseitig beträchtliche Mengen der lichtempfindlichen

Verbindung 109887/U40

Verbindung in der Schicht zur Gewährleistung einer einfachen Entwicklung derselben vorhanden sein müssen, werden sehr hohe Anforderungen an tile lichtempfindlichen Verbindungen bezüglich ihrer Löslichkeit sowie ihrsr Verträglichkeit mit Harzen gestellt. Diese Anforderungen werden durch die erfindungsgemäß verwendeten lichtempfindlichen Verbindungen erfüllt.

Infolge ihrer besonderen chemischen Struktur besitzen die erfindungsgemäß verwendeten lichtempfindlichen Diazoverbindungen besonders günstige Eigenschaften im Hinblick auf ihre Löslichkeit in organischen Lösungsmitteln bei Zimmertemperatur sowie auf ihre Verträglichkeit mit großen Harzmengen. Diese Vorteile erleichtern die Herstellung von in hohem MaSe Ktzbeständigen homogenen Schichten, die in außergewöhnlicher Weise zur Herstellung von Hoohdruckund^rtltaglioⁿ-Druckplatten sowie Von Photoreserven geeignet sind. Ferner können die erflndungsgemäßen lichtempfindlichen überzüge im Gegensatz zu den schwerfälligeren übertragungsverfahren unter Verwendung eines Pigmentpapiers direkt auf das zu ätzende Metall, d.he auf Zylinder, aufgebracht werden* Das Verfahren vereinfacht sich weiterhin infolge der Tatsache, daß positive Kopien hergestellt werden können, wohingegen ein Pigmentpapier nur zur Herstellung negativen Kopien geeignet ist.

Die lichtempfindlichen Massen können ferner kleine Mengen eines alkalibeständigen, llohtunempfindllchan und filmbildenden Materials enthalten, wie es in der deutschen Patentschrift . ... ...

. - ίο -

(Patentanmeldung 3 94- 509) beschrieben ist. Diese Materialien müssen dazu in der Lage sein, einen niohtklebrlgen getrookneten Film nach dem Beschichten innerhalb einer Zeitspanne von ungefähr 10 Minuten bei 100⁰C zu liefern, ferner müssen sie mit den verwendeten Piiotosensibllisatoren verträglich sein, d.h. sie müssen sich mit diesen ohne Abscheidung vermischen lassen, wobei keine ohemische Reaktion auftreten darf, u.zw. sowohl in dem flüssigen überzug als auch in dem getrockneten Film. Außerdem müssen diese Materialien ein Molekulargewicht zwischen ungefähr 500 und 12 000 besitzen. Die Menge des Additivs kann beträchtlich schwanken. Das Additiv kann in Mengen bis zu der Menge des Photosensibilisator zugesetzt werden*

Weitere Additive zu den lichtempfindlichen Massen sind kleine Mengen an weiteren Harzen, Weichmacher , die mit den Harzen verträglich sind, wie beispielsweise Dioctylphthalat, Dibutylphthalat oder Mineralöl, und Farbstoffe, um den überzug und das entwickelte Bild sichtbarer zu machen.

In der folgenden Tabelle sind bevorzugte Konzentrationsbereiche für die Komponenten der überzugsmasse angegeben:

109887/UAO

BAD

Bestandteil Konzentration.« Gewichts-^

Photosensibilisator alkalilösliches Harz

4 -	12
1 -	10
O -	5
O -	2
Rest

filmbildendes Additiv Farbstoffe, Harze und Weichmacher Lösungsmittel

Zur Herstellung eines Überzugs auf einem Träger* der ausgezeichnete Eigenschaften besitzt, ist die Verwendung der Überzugslösung des organischen Lösungsmittels, in welchem die lichtempfindlichen Diazoverbindungen bei Zimmertemperatur löslich sind, von Vorteil. Werden die Diazoverbindungen in einem erhitzten Lösungsmittel aufgelöst, dann erfolgt eine teilweise Zersetzung. Beispiele, für geeignete Lösungsmittel sind Äthylenglykol, Monomethylather, Äthylenglykolraonoäthyläther, aliphatisohe Ester, wie beispielsweise Butylacetat, aliphatische Ketone, wie beispielsweise Methylisobutylketon und Aceton, Dloxan, Xylol, halogenierte aromatische Verbindungen, wie beispielsweise chloriertes Xylol, Benzol und Toluol sowie Mischungen dieser Verbindungen.

Aus dem lichtempfindlichen Material wird in bekannter Weise auf photomechanischem Wege eine Druckplatte erhalten. Der lichtempfindliche überzug wird unter einer Mater mit Licht bestrahlt, worauf der bestrahlte überzug mit einer verdünnten Alkalilösung zur

Gewinnung 10S887/U40

Gewinnung eines Bildes entwickelt wird. Der entwickelte überzug wird mit Wasser gespült, worauf der Metallträger an den von dem Entwickler befreiten Stellen durch Behandlung mit einer ungefähr l#-igen Phosphorsäurelösung, welcher Dextrin oder Gummiarabikum zugesetzt worden ist, waeserleitend gemacht wird. Wird die Druckplatte mit einer Fettinte behandelt* so haftet diese an den übriggebliebenen Stellen des ursprünglichen llchtetnpf ind.lichen Überzugs, so daß positive Kopien aus positiven Matern erhalten werden.

Soll das lichtempfindliche Material als Photoreserve verwendet werden, dann wird der Metallträger an den von dem Entwickler freigelegten Stellen mit einer Ätzlösung während einer solchen Zeitspanne behandelt» die daaäu ausreicht* die Metallunterlage in dem gewünschten Ausmaß absuätsen. Nach dem Ätzen wird die Platte ge» spült, worauf der übriggebliebene lichtempfindliche Überzug gegebenenfalls entfernt wird, beispielsweise durch Behandlung mit einem organischen Lösungsmittel, z.B. mit einem der vorstehend beschriebenen Lösungsmittel, die zur Herstellung eines lichtempfindlichen Überzugs geeignet sind.

Die folgenden Beispiele erläutern die Erfindung, ohne sie au beschränken.

Beispiel 1 109887/144Ä _B/yD

Beispiel 1

Es wird «ins Vergleichslösung hergestellt, welche folgende Zusammensetzung besitzti

1) alkalilöeliohes. Phenalformaldehyd-Novolak-Hars (Alnoval 429 K)

2) Farbstoff

3) Photosenslblllsator

18,2 g 0,2 g 6,2 g

Q-°

■Q

Lösungsmittel' bis 100 ml

Lösungsmittel ii-Buty lac stat Xylol Cellusolve Vol.-Teile

1 1

BAD OKQINAL 109887 /

Diese Lösung wird auf ein geschichtetes Grundmaterial aufgebracht, beispielsweise sinon phenolischen Schichtstoff mit einer auf ge-

schichteten Kupferfolie alt einem Gewicht von 511 g pro cm (1 ounce per square foot)_rf unter Verwendung einer Plattierungswalse, die sich bit 78 Upm dreht* Die lichtempfindliche Überzugslösung wird auf diese ausgerüstete Folie auf dem Drehmittelpunkt aufgebracht, worauf die Wirbelung 5 Minuten läng fortgeaetzt wird. Der Überzug wird nach dem Aufbringen unter Verwendung eines 250 Watt-Infrarotstrahlers, der ungefähr 152 mm (6 inches) oberhalb des Drehmittelpunktes angebracht ist, getrocknet· Der beschichtete iräger wird anschließend 30 Minuten lang zur Beendigung dee Trocknens in einen auf einer Temperatur von 66⁰C (150⁰F) gehaltenen Ofen, durch den Luft zirkuliert, gestellt.

Der auf dies· Welse gebildete überzug besitzt eine Dicke von ungefähr 150 Ai. Sr bricht und »ohält ei oh länge seiner Kante ab, wenn er mit einer Sonore geschnitten wird. Seine Biegsamkeit wird dadurch getestet, dad ein Streifen der Kupferfolie mit dem lichtempfindlichen überragt von dem phenol is ohen Substrat entfernt wird« worauf die Folie um eich selbst um ungefähr 90° gefaltet wird· Sin Überzug wird dann als biegsam betrachtet, wenn er sich nicht von der Kupferunterlage abtrennt oder infolge dieser Behandlung bricht. Der unter Einhaltung der vorstehend beschriebenen Methode hergestellte überzug zerbricht beim Falten um 90° in brüchige Fragmente, wobei die Kupferoberfläche freigesetzt wird.

Beispiele 109887/14.40

fielspiele £ M.3 3

Die-folgende Tabelle aeigt lichteEpfiudliche Massen, die ein

itiv enthalten:

Zus ammens etisungen

Sensibilisator Beispiel Mr_-

2-3 4 5

Farbstoff, β
Lösungsmittel

Polyvinylmethy lather PolyvinylXthyl!ither PolyviaylisoTöutyiatjhei'

6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 18,2 18,2 18,2 18,2 18,2 18,2 18,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 bis insgesamt 100 ml ,

8,0 8,0 -- - 5,0 15,.0. 4,0 - 5,0 -

4,0 - 5,0 -

Wie in Beispiel 1.

Auf ein gesoMofefettee Oruaönf&ticrlal »erden unter Amrenäung der la. Beiaplol 1 ϋβββ1&ί«%οΐιβΐι Methode tjlooi'süge aufgebracht, mit Mr Außna^rae, daS eiae kleine H»üg@ um J^süBgesittels au.i* Verminderung der LiJsUiijiSviekosität sugesetzt wird. Die auf diese WeJ se hergestellten Pilrae besitzen eiae Dioice von ungefähr 200 au Beim SoliBaiäen ait einer Schere bricht keiner dieser Filme oder ßehält sich ab. Auch beim Falten der Kupferunter lage um 90° erfolgt kein 3reohen unS keine Abtrennung.

Beispiele ...

109887/ U40

BAD ORIGINAL

Die folgenden Beispiele zeigen Massen, welche ein lioiitunempfind· Hohes, filinbildoiidss Additiv enthalten.

Masse
Sensibilisator*-¹³'.

Farbstoffs

Reslmene 882

882^°'

Beispiel Hr.
10 11 12

13 14.

6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2

18,2 18,2 18,2 18,2 l8,2 l8,2 l8,2

0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2

bis insgesamt 100 ml

1,8 1,8 1,8 1,8 1,8 1,8 1,8

10,0 8,0 8,0 - - - 5,0 15,0

4,0 - 5,0 -

Co)

Wie in Beispiel 1

ist das von ü&t Monsanto Chemical Company herge-H@£ktlofiepi*öäu&t atss Melamin, ForB>alde)iyd und Butyl» alkohol (t&l. Έ»&έηο% XDiörsaation Bulletin Wr« 1094)

Unter Bi^halttisg der ±& Beispiel 1 beäcliFiebenen Arbeitsweise wird ein üb^ssug auf ein geschichtet es Unterlagenoaterial auf gebrachtj> wofeei eiftö kleine Menge eines Lösungsmittels zugesetzt wird, um die LSshi^ss viskos it Mt herabzusetzen. Alle auf cließo Welse g&biideten Flinte besitz;en eine Dicke von ungefähr 200 AX, bpeohen iiloht und schälen sich nicht ab, wenn sie ge-

sohnitten

109887/144©

BAD

- IT -

schnitten werden, iuid brechen nicht oder trennen sich nicht von
der Kopierunterlage, wenn diese urn 90⁰C gefaltet wird.

Beispiele 16 Ms 26

Die folgende Tabelle zeigt zusätzliche Formulierungen, die in

den Rannten der vorliegenden Erfindung fallen»

Beispiel Nr.
Zusammensetzung 16 17 iQ 19

Sensibilisator^ . (

g 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6,2 6*2 6,2

l8,2 18,2 l8,2 lB,2 l8,2 18,2 18,2 l8*2 18,2 18,2 18,2 Farbstoff, g 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 0,2 Lösungsmittel, ml zur Herstellung von 100 ml
Polyvinylmethyl-

ather, g	10,0 10,0	-	BAD<	10,0 10,0 10,0 10,0 10,0 10,0 10,0 10,0 10,0
filmbildendes		-
Additiv, β,	-	l' - -	*■■_-■ - - - -
Picoolex IGO^ '	1,8 -	-	-- - - - - „ --
Dot* 7β2^β^	1,8	«· m»	---
Vyset 69	' - -	1,8 - - - -.. - - ■ - -
Polyketon^'	-	*■ 1,8 — ··. — - — — -
Resoflex R-296^	-	- - 1,8 -
Paraplex 25(*'		- - - 1,8 - - - - -
Pliolite 5^	- 1,8 * -. - -
IiohrZuokerbenzor	- - - - - 1,8 - - -
Piccolaatie(1)	— - - — - - 1,8— —
Derakene^01'	- - - - - - - 1,8 '.
	1098-87/1441 (b) Wie in

- l8 -

Wie in Beispiel 1 identifiziert

^ 'a»I!i5t/ftyl3tyrol-copolyßiöi^lisab mit einem Molekulargewicht von ungefähr 5 000

Epoxyharz, das von der Dow Chemical Company vertrieben wird

'Acrylharz, das von der Monsanto Chemical Company vertrieben wird ietonharz, das von der Union Carbide Corporation vertrieben wird

' 'Harzartiges, leichtflüchtiges und nichtwanderndes Material, das häufig als Weichmacher für Polyvinylacetat verwendet wird und von der Cambridge Industries Company vertrieben wird

^ 'Harzartiger Polyesteywelöhsnaoher, der sich durch eine hohe Beständigkeit gegenüber einer Extraktion auszeichnet und von der Rohm und Haas Company vertrieben wird

'Thermoplastisches synthetisches Copolymsrisat, das für alkall« beständige Überzüge verwendet wird und von der Goodyear Tire and Rubber Company vortrieben wird

,,.(.,..u wie es in technischem MaSstabe anfällt

' 'Weiche plastifiziert© Harze, die aus styrol und Styrolhoraologen hergestellt werden ufcd von der Pennsylvania Industrial Chem. Corporation vertrieben werden

*^m'Polyester mit niedrigem Molekulargewicht, der von der Dow Chemie«! Company vertriebest wir*.

Wie bei dela vorstehend*!! Beispielen werden überzüge auf einer geschichteten Unterlage unter Anwendung der in Beispiel 1 beschriebenen. Arbeltewelse hergestellt. Zur Herabsetzung der Viskosität wird eine kleiaa Menge Lösungsmittel zugesetzt« Alle Filtne

öl&e Dlöka von usgefahr 20yU, widerstehen einem Biegen um

109837/U4Ö

9ö° ohne Bruchblldung und brechen oder schälen sich nicht ab, uenn sie ait einer Sehet« geschnitten werden«

Der beschichtete !Schichtstoff kann durch ungefähr 2^5 Minuten dauerndes Bestrahlen durch ein positives oder negatives Diapositiv,, gegebenenfalls unter Verwendung eines Kohlebogens mit einer Intensität von 200 FuJßkerzen bei eine?? Entfernung von j50 cm· (1 foot) als Lichtquelle, entwickelt werden. Der bestrahlte Überzug wird anschließend durch Eintauchen oder Bespülen mit einem Entwickler* wie beispielsweise 0,2$ n-Kaliumhjrdroxyd., Trlnatriumphosphat, Dinatriuinphosphat oöer Triethanolamin, entwickelt. Wird ein Eln~ tauchverfahren angewendet* dann wird dieses ungefähr 1*5 bis 2,5 Minuten lang bei einer Temperatur von 21°C (70⁰P) durchgeführt. Die Auflösung des entwickelten Bildes ist ausgezeichnete

Zusätzlich gu dar Herstellung von widerstandsfähigeren, biegsameren und dickeren Uberatigen mit einem ausgeprägteren Auf 18stmgsvermÖgea beeitsen die etfinäuögagemUQ Vorgestellten liohtespfisKiiiohen Überzüge den Torteil^ ä&B ülo pro Dlclreeinhöit billiger sind« da die iMeuge des relativ teuren Phctccejisibilisators ist. Ferner «rftögiichen die überzüge eine schnellere und sauberere Entwicklung mit Entwicklern mit höhere© pH-Wert, wobei aie außerdem gegenüber a?eagpepatMP- und Zeitänderungen in dem Entwickler unempfindliches? Biqn und die Herstellung glatterer und härterer Oberzüge mit eiser verbessertes Warüiebest&ndlgkeit ermöglichen,,

_BAD

109887/144(1

- so - ■ - '

Wenn auch die erfinäungsgeraMßen lichtempf indliohen Materialien in vorteilhafter Weise zur Herstellung von Druckplatten verwendet werden können, so lassen sie sioh doclr in besonders geeigneter Weise ssur Herstellung von Photoreserven zum Plattieren von Metallen oder aura Ätzen von Metallen, keramischen Bestandteilen und Kunststoff gegenständen verwenden. Außerdem sind sie für chernieehe FräsVerfahren sowie zur Herstellung von Halbleitern in gedruckten Schaltungen geeignet.

109887/1440

Claims (1)

1. Patentansprüche

   1. Mit einem Alkali entwickelbare lichtempfindliche Masse, dadurch gekennzeichnetj daß sie aus einer lichtempfindlichen wasserlöslichen Dlazoverblndung als Photosensibilisator und einem Folyvinylätaer mit sich wiederholenden Struktureinheiten der Formel

   GH U-

   OR /

   worin R für eine niedere Alkylgruppe steht und der Polyvinylether einen K-Wert von wenigstens 0*015 besitzt, wobei K durch die Gleichung

   75 K²

   definiert wi*d und n^ die relative Viskosität der PolyvinylätheriSsung ist, während C die Konzentration des zum Messen von n^ in g pro 100 ml Lösung Verwendeten Polyvinyläthers ist, besteht.

   2. Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der Polyvinylether einen K-Wert von wenigstens 0,040 besitzt.

   5. Masse nach Anspruch I₁ dadurch gekennzeichnet, daß die lichtempfindliche Diazoverb.indung ein positiver Photosensibilisator ist.

   4. Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet _s daß die lichtempfindliche Diazoverbindung ein Naphthochinon-(l,2)-diazid· sulfonsäureester ist.

   5. Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als weiteres Additiv ein alkaliiösliches Novolak-Harz enthält.

   6. Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der -PoIyvinylather ein Polyvinyl inethyläther ist.

   7. Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der PoIyvinylather ein Polyvinyläthylather ist.

   3. Masse nach Anspruch I₁ dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis des Polyvinyläthers zu dem Photosensibilisator zwischen Oj5 : 11 und 6 % 1 schwankt.

   9. Masse nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß das Verhältnis von Polyvinylether zu dem Photos ens ibilisafcor zwischen 1 t" 1 und 3 ί 1 schwankt.

   IO.. M&sse 109887/1448

   -25-

   IG. Masse, nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß sie als weiteres Additiv ein alkalibeständiges lichtunempfindliches fumbildendes Material mit einem Molekulargewicht zwischen 500 und 12 000 enthält·

   ¹ <!

   11. Überzugsmasse, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus der Masse gemäß Anspruch 1, gelöst in einem Lösungsmittel, besteht.

   12. Masse nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß das filmbildende Material aus Polystyrol, α-Methylstyrol, dem polymeren Reaktionsprodukt aus Melamin, Formaldehyd und einem niederen Alkylraonoalkohol, dem polymeren Reaktionsprodukt aus Benzogusnamin, Formaldehyd und einem niederen Alkylmonoalkohol oder aus Rohrzukkerbenzoat besteht.

   13' Masse nach Anspruch l,^v dadurch gekennzeichnet, daß sie aus einem Naphthochinon-(l,2)-dia2id-3Ulfon3äureester, einem alkalilös Hohen Novolak-Harz und einem Polyvinylather besteht.

   14. Masse nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Polyvinyläthar einen K-Wert von wenigstens 0,O¹J-O besitzt.

   13. Masse nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß der Polyvinyläther Polyvinylmethyläther ist.

   16. Masse

   16. Masse nach Anspruch 15> dadurch gekennzeichnet, daß der Polyvinyläther Polyrinyläthyläther ist.

   17. Masse nach Anspruch 13$ dadurch gekennzeichnet, daß das 'Verhältnis von Polyvinyläther und Novolak-Harz zu dem Photos ens ibilisator wie folgt ist?

   Polyvinylether 0,5 ί 1 bis 6:1 Novolak 1:1 bis 6 ί 1.

   Ιδ. Masse nach Anspruch 13« dadurch gekennzeichnet, daß sie als weiteres Additiv ein alkaiibes tändiges lichtunempfindliches filmbildendes Material mit einem Molekulargewicht zwischen 500 und 12 000 enthält.

   19. Masse naoh Anspruch 18» dadurch gekennzeichnet, daß das filmbildende Material aus Polystyrol, α-Methylstyrol, dem polymeren Reaktionsprodukt aus Melanin, Formaldehyd und einem niederen Alkylraonoalkohol, dem polymeren Reaktionsprodukt aus Benzoguanamln, Formaldehyd und einem niederen Alkylmonoalkohol oder aus Rohrzuckerbenzoat besteht«

   20. Überzugsmasse, dadurch gekennzeichnet, daß sie aus der Masse gemäß Anspruch 13, gelöst in einem Lösungsmittel, besteht.

   21. überzugsmasse nach Anspruch 20, dadurch gekennzeichnet., daß

   das 109887/U4*

   BAD

   das Lösungsmittel aus einem Glykol, einem Monoäthylather, einem aliphatischen Ester, einem aliphatischen Keton oder einer rnonocydie often aromatischen Verbindung oder aus Mischungen dieser Verbindungen besteht*

   22. überzugsmasse nach Anspruch 20, daduroh gekennzeichnet, daß sie folgende Zusammensetzung besitzt: '

   Photosensibilisator 1 - 5 öew.-#

   Novolak 4-12 Gew.%

   Polyvinylether 1 - 10 Gew.#

   filmbildendes Additiv 0-5 Gew*~#

   Farbstoffe und Weichmacher 0 - 2 Gew.-^ ^,

   Lösungsmittel Rest

   23. Lichtenpfindliches Material, das zur Verwendung als Photoreserve geeignet ist, daduroh gekennzeichnet, daß es aus einer Unterlage besteht» Von der wenigstens eine Oberfläche einen trookeoen übersug trügt, der au· der Masse gemäß Anspruch besteht.

   24« Liohtenpfindliohes Material, das zur Verwendung als Photoz»eearve gttignet ist, dadurch geke&aseiota&et, daß es aus einer Unterlage besteht, τοη der wenigstens eine Oberfläche einen trockenen Überzug trägt, der aus der Masse gemäß Anspruch IJ besteht.

   BAD L'

   109887/IU*

   25. Verfahren zur Herstellung einer Photoreserve, dadurch gekennzeichnet, daß eine überzugsmasse gemäß Anspruch 20 hergestellt wird* der Überzug mit Licht nach einem vorherbestimmten Muster bestrahlt wird und der bestrahlte Überzug mit einer schwach alkalischen Entwicklungslösung zur Entfernung des bestrahlten Überzugs ohne Entfernung der nichtbestrahlten Stellen behandelt wird.

   26. Verfahren zur Herstellung einer Druckplatte« bei welchem ein beschichtetes Grundmaterial unter einer Mater mit Licht bestrahlt wird, worauf des» bestrahlte Überzug mit einer alkalischen Entwicklungslösung behandelt wird, dadurch gekennzeichnet wird, daß ein beschichtetes Grundmaterial Verwendet wird, das einen Überzug besitzt, der aus einer liohtempfindliohen, alkalilöslichen Dlazoverblndung als Photosensibilisator, einem alkalilöslichen Novolake Harz und einem Polyvinylether mit sioh wiederholenden Struktureinheiten der Formel

   worin R eine niedere Alkylgruppe darstellt, wobei der Polyvinylether einen K-Vfert von wenigstens 0,015 besitzt und K durch die Gleichung

   Log U_n 75K²

   1+1*5 KC+K

   109887/1440 definiert

   BAD ORIGINAL

   * 27 *

   definiert ist_a in welcher n^ die relative Viskosität der PoIy-ν iny lather lösung wiedergibt und C die Konzentration des Polyvinyl·» äthera in g pro 100 ml Lösung ist« der zur Messung von n^ verwendet wird, besteht.

   27« Verfahren nach Anspruch 26« dadurch gekennzeichnet, daß dl· Überzugsmasse als weiteres Additiv ein alkal!beständiges licht»- unempfindliches filmbildendes Material mit einen Molekulargewicht zwischen 500 und 12 000 besitzt. > "

   BAD OBKISNAL 109887/1440