CH364850A - Verfahren zur Schaffung einer elektrischen Glimmentladung hoher Stromstärke in einem Entladungsgefäss - Google Patents

Verfahren zur Schaffung einer elektrischen Glimmentladung hoher Stromstärke in einem Entladungsgefäss

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CH364850A
CH364850A CH6895859A CH6895859A CH364850A CH 364850 A CH364850 A CH 364850A CH 6895859 A CH6895859 A CH 6895859A CH 6895859 A CH6895859 A CH 6895859A CH 364850 A CH364850 A CH 364850A
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CH6895859A
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Berghaus Bernhard
Bucek Hans
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Berghaus Elektrophysik Anst
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Description


  Verfahren zur Schaffung einer elektrischen     Glimmentladung    hoher     Stromstärke     in einem Entladungsgefäss    Die Anwendung der Glimmentladung für tech  nische Prozesse, insbesondere metallurgischer     Art,        ist     bekannt. Es ist ebenfalls     bekannt,    hierbei metallische  Entladungsgefässe zu verwenden und die erforder  liche elektrische Energie durch isolierte     Stromeinfüh-          rungen    zuzuführen, wobei die zu behandelnden Werk  stücke als Elektroden angeordnet sein können.  



  Die Durchführung von Prozessen mittels     Glimm-          entladungen    erfordert - teils zur Erzielung einer  möglichst kurzen Behandlungszeit, teils zur Erzeugung  der notwendigen Temperatur an den am Prozess be  teiligten Flächen - einen Energieumsatz an vor  bestimmten Flächen bis zu Werten von 50 Watt/cm2.  Derartige Entladungsintensitäten konnten aber bis  her entweder überhaupt nicht oder höchstens nur  ganz kurzzeitig hergestellt werden, da einigermassen  stabile Entladungszustände nur mit hohen Impedan  zen in den Speisestromkreisen erzielbar waren, was  einen hohen technischen Aufwand und schlechten  Wirkungsgrad mit sich brachte.

   Dementsprechend  haben sich auch solche Glimmprozesse     in    industriel  lem Massstab bisher nicht eingeführt und sind mehr  oder weniger nur laboratoriumsmässig untersucht wor  den. Ferner war bisher der grösstmögliche Energie  umsatz in derartigen Entladungsgefässen durch die  maximal zulässige Entladungsbeaufschlagung der  Stromeinführungen beschränkt, und zwar auf relativ  niedrige Werte im Vergleich zu den für die Durch  führung technischer Prozesse     erwünschten    Leistungen.  



  Dazu kommt noch, dass bisher in den Speise  stromkreisen derartiger Entladungsgefässe beträcht  liche Widerstände zur Stabilisierung der Entladung  erforderlich sind, die besonders bei Gleichstrom  betrieb entsprechende Energieverluste bedingen, also  die Wirtschaftlichkeit noch weiter verringern.    Die vorliegende Erfindung bezweckt die     über-          windung    dieser Mängel und betrifft ein Verfahren  zur Schaffung einer elektrischen     Glimmentladung     hoher Stromstärke und grosser Entladungsintensität  zur Durchführung     metallurgischer,    chemischer und  anderer technischer Prozesse.

   Hierbei ist kennzeich  nend, dass bei Inbetriebnahme in einem Entladungs  gefäss     die    Spannung an den Elektroden und der Gas  druck so gewählt werden, dass eine Glimmentladung  von im Vergleich zum     betriebsmässigen    Endzustand  geringer Intensität erzeugt wird, und dass zur Erzie  lung des betriebsmässigen Endzustandes     ein    Anlauf  vorgang durchgeführt wird, bei dem Spannung und  Gasdruck gesteigert werden, bis die für den betriebs  mässigen Endzustand vorgesehene Entladungsinten  sität erreicht ist.  



  Die Erfindung ist nachstehend in einigen Ausfüh  rungsbeispielen anhand der Fig. 1 bis 10 näher be  schrieben. Hierbei ist:  Fig. 1 eine typische Strom/Spannungs-Kennlinie  üblicher     Glimmentladungen,        im        Vergleich        mit        einer     nach dem hier gebrauchten Verfahren erzielbaren       Kennlinie,     Fig.2 und 3 je eine schematische Darstellung  eines Entladungsgefässes     zur    Erläuterung des Ver  fahrens,  Fig. 4 ein Diagramm über den Anlaufvorgang,  Fig. 5 und 6 je eine Photographie des Inneren des  Rezipienten nach Fig. 9 zu Beginn und am Ende des  Anlaufvorganges,  Fig.

   7 eine Strom/Spannungs-Kennlinie für eine  Glimmlichtentladung im Entladungsendzustand,       Fig.    8 eine     schematische    Darstellung eines weite  ren Entladungsgefässes,       Fig.    9 ein     Anlagenschema    und ein Entladungs  gefäss zur Behandlung von Stahlrohren,      Fig. 10 einen Längsschnitt durch eine Stromein  führung für das Entladungsgefäss nach Fig. 9.  



  Dem hier betriebenen Verfahren     liegt    die durch  jahrelange Untersuchungen erhärtete Erkenntnis zu  grunde, dass der zur Durchführung von metallurgi  schen und chemischen Prozessen mittels Glimmentla  dungen im     technischen    Massstab erforderliche hohe  Energieumsatz, im Entladungsgefäss bei Dauerbetrieb  nur dann erzielbar ist, wenn ein ganz aussergewöhn  licher Entladungszustand erreicht und aufrechterhalten  werden     kann.    Dies ist verständlich angesichts der  Tatsache, dass ein Energieumsatz an den am Prozess  beteiligten Flächen in der Grössenordnung von 30  bis 50 Watt pro cm2 und 20 000 Watt pro behandel  tes Werkstück im tagelangen Dauerbetrieb erforder  lich ist.

   Unter den mittels Glimmentladungen durch  zuführenden technischen Prozessen wird dabei vor  allem das Eindiffundieren von Stoffen in Metall  oberflächen verstanden,     also    beispielsweise das Nitrie  ren (Einlagerung von Stickstoff), Borieren, Silizieren,  Wolframieren usw., sowie Prozesse chemischer Art,  wie Reduktionen, Hydrierungen, Polymetrisierungen  usw. und Schmelzprozesse.  



  Ein derartiges Behandlungsverfahren ist verständ  licherweise nur dann betriebssicher durchführbar,  wenn es gelingt, einerseits einen stabilen Betrieb bei  hoher Energiedichte, bei höchsten Temperaturen und  auch bei lokalen Störungen an den Prozessflächen  aufrechtzuerhalten, und anderseits energiereiche  Glimmentladung auf die zu behandelnden oder sonst  am technischen Prozess     beteiligten        Flächen    und die  denselben unmittelbar benachbarte Gasschicht zu  konzentrieren, sei es, dass diese Flächen metallische  Werkstücke oder nur Träger zu behandelnder Sub  stanzen sind.  



  Bekanntlich zeigt die Strom/Spannungs-Kennlinie  65 einer beispielsweise mit     Gleichspannung    betrie  benen elektrischen Gasentladung bisher bekannter  Art gemäss Fig. 1 einen sogenannten  normalen  Be  reich X und einen nach höheren     Spannungswerten     sich hieran anschliessenden  anormalen  Bereich Y,  wobei sich an den anormalen Bereich Y bei  einer weiteren Spannungs- bzw. Stromsteigerung  ein fallender Kennlinienteil anschliesst, der zum  Punkte 67 führt, bei dem die     Glimmentladung    in  eine Bogenentladung übergeht.  



  Das Strom/Spannungsdiagramm der Fig. 1 und die       Kennlinie    65 zeigen diesen typischen Verlauf von       Glimmentladungen    bei Gleichspannung gemäss dem  bisherigen Stand der Technik und Wissenschaft (siehe  z. B. Dosse, Mierdel,  Der elektrische Strom im Hoch  vakuum und in Gasen , Hirzel 1945, Seite 317, so  wie Loeb  Fundamental Prozess of electrical     Dis-          charges    in Gases , Verlag Wiley, 1947, Seiten 606  bis 608).  



  Der normale Bereich X der Entladung endet bei  jenem Strom, bei dem die spannungsführenden Elek  trodenteile vollständig vom Glimmlicht bedeckt sind.  Bei einer weiteren     Spannungssteigerung    nimmt die  Spannung und die Entladungsstromstärke     zu,    wobei    die grösser werdende Spannung, die sich bekanntlich  weitgehend auf den sogenannten Kathodenfall un  mittelbar vor der negativen Elektrode konzentriert  bewirkt, dass die positiven Gasionen mit gesteigerter  kinetischer Energie auf die Elektrodenfläche auf  treffen. Bei Gleichspannungsbetrieb tritt dies an der  Kathode dauernd auf, während bei Wechselspan  nungsbetrieb jede Elektrode während je einer Halb  periode zur Kathode wird.

   Im Kathodenfallraum stellt  sich bei ungestörter Glimmentladung ein Gleich  gewichtszustand zwischen dem Ionenstrom zur Elek  trodenfläche und den dort ausgelösten Elektronen ein.  Die bei einer Spannungssteigerung zunehmende Ener  gie der aufprallenden Ionen bewirkt eine Erhitzung  der betreffenden Elektrode, was     zu    einer thermischen  Elektronenemission des Elektrodenmetalls führt.  Dieser thermische Emissionsstrom aus negativen Elek  tronen und andere bisher erst wenig geklärte Emis  sionsvorgänge an der Elektrode, in Wechselwirkung  mit der benachbarten Gasschicht, können zu einer  Kontraktion der Entladung auf einen      Brennfleck      und zur Zündung eines Lichtbogens zwischen der  Elektrode und der nächstgelegenen Gegenelektrode  führen.

   Dieser Übergang in die Bogenentladung ent  spricht dem Punkt 67 der Kennlinie 65, der anschei  nend dort gelegen ist, wo der     Glimmentladungs-          Kathodenfall    durch die Elektronenemission des Elek  trodenmetalls - wenigstens stellenweise - zum Ver  schwinden gebracht ist. Die Gesamtentladungsspan  nung der Bogenentladung ist stets weniger als die  Hälfte der Glimmentladungsspannung bei Betrieb  im normalen Bereich X der Kennlinie.  



  Für technische Prozesse mittels     Glimmentladun-          gen    muss der Übergang in eine Bogenentladung unter  allen Umständen vermieden werden, da eine solche  lokale Überhitzung an einzelnen Punkten der     Elek-          trodenflächen    ergibt und keine gleichmässigen,     repro-          duzierbaren    Prozesse der hier behandelten Art er  möglicht.

   Dem Bestreben zur Steigerung der Energie  dichte der Glimmentladungen war also bisher eine  Grenze gesetzt durch die hierbei auftretende Erwär  mung der Elektroden und deren     thermische    Elektro  nenemission, die unweigerlich zu einem Übergang in  eine Bogenentladung mit mehr oder weniger ausge  prägter Kontraktion der Entladung auf begrenzte       Elektrod'enbereiche,    bei gleichzeitigem Absinken der  Entladungsspannung auf Werte meist weit unter 100  Volt, führen musste. Es ist daher in der Vergangen  heit nicht möglich gewesen, bei einer Steigerung des  Energieumsatzes der Glimmentladung, den unstabilen  Übergangsbereich der     Entladungskennlinie    von der  Glimm- zur Bogenentladung zu vermeiden.  



  Zur     Überwindung    dieser Schwierigkeiten ist die  Durchführung eines Anlaufvorganges notwendig,  nach dessen Vollendung der stationäre     Entlad'ungs-          endzustand    erreicht ist, der mit vorbestimmtem  Energieumsatz und vorbestimmter spezifischer Lei  stung an den am Prozess beteiligten Flächen verläuft  und im Dauerbetrieb aufrechterhalten werden kann,  wobei der Energieumsatz und die spezifische Leistung      an allen anderen Teilen vorgegebene Höchstwerte  nicht überschreiten.

   Das Verfahren ist dabei keines  wegs auf bestimmte Elektrodenanordnungen und  Formen der am Prozess     beteiligten    Flächen beschränkt  und kann praktisch auf alle vorkommenden Fälle  angewendet werden, wenngleich natürlich die Anord  nung jeweils sinngemäss erfolgen muss. Jedenfalls stel  len aber die zur Erläuterung des Verfahrens nach  stehend verwendeten Fig. 2, 3 und 4 nur schematisch  wiedergegebene Beispiele für     geeignete    Anordnungen  und Entladungsgefässe dar.  



  Das Entladungsgefäss nach Fig. 2 zur Durchfüh  rung eines derartigen Prozesses ist beispielsweise für  den Betrieb an einer Spannung konstanter Polarität,  aber nicht notwendigerweise konstanter Amplitude  eingerichtet, und besteht aus dem abnehmbaren Ober  teil 1 und dem Bodenteil 2, vorzugsweise beide aus  elektrisch leitendem     Material,    etwa Metall. Die Teile   <B>1</B> und 2 sind gasdicht miteinander verbunden und  im Innenraum kann über die Gasabsaugleitung 3  und die Gaszuführungsleitung 4 eine Gasatmosphäre  beliebigen Druckes und beliebiger Zusammensetzung  geschaffen werden. Der Oberteil 1 weist eine isolierte  Stromeinführung 5 auf, die hier den Anodenanschluss  darstellt und im Bodenteil 2 ist eine entsprechende  isolierte Stromeinführung 6 als Kathodenanschluss  vorgesehen.

   Beide Durchführungen sind gasdicht in  den entsprechenden Wandungen 1 bzw. 2 eingebaut.  Die Durchführung 6     trägt    über geeignet ausgebildete  Halterungen 7 die im     technischen    Prozess zu behan  delnden Gegenstände, hier beispielsweise das metalli  sche Werkstück B. Diesem gegenüber ist eine Elek  trode 9 angeordnet, die an der Durchführung 5 be  festigt ist und die Anode darstellt, aber am durch  zuführenden technischen Prozess selbst nicht beteiligt  sein soll.

   Die Aufgabe besteht nun darin, die energie  reiche Glimmentladung, in Fig. 2 gestrichelt mit 10  angedeutet, möglichst weitgehend auf die am Prozess  beteiligten Aussenflächen des Werkstückes 8 zu be  schränken und dort     einen    vorbestimmten Wert des  Energieumsatzes bei vorgegebener spezifischer Lei  stung zu erreichen, ohne dass die anderen spannungs  führenden Teile, also die Innenseite der Stromein  führungen 5 und 6, die Halterungen 7 und die Elek  trode 9 eine den zulässigen     Höchstwert    überschrei  tende Glimmentladungsbeaufschlagung aufweisen.  Auch die Innenwandungen der Gefässteile 1 und 2  sollen weitgehend frei von solchen störenden und  Energieverlusten ergebenden Glimmentladungen sein.  



  Die gleiche Aufgabenstellung liegt auch beim  Wechselstrombetrieb eines derartigen Entladungs  gefässes 1, 2 vor, jedoch besteht, wie in Fig. 3 ange  deutet, hierbei kein Unterschied mehr zwischen der  Anode und der Kathode, weshalb     nunmehr    gleichzeitig  zwei Werkstücke 8a und 8b dem     gewünschten    Pro  zess unterzogen werden können, die an der einen bzw.  anderen Halterung 7 bzw. 9     befestigt    und mit den       Stromeinführungen    6 bzw. 5 verbunden     sind.    Die  energiereiche     Glimmentladung    10a und 10b soll hier  möglichst weitgehend auf die beiden am Prozess be-    teiligten Aussenflächen der Werkstücke 8a, 8b be  schränkt werden.  



  Diese Aufgabenstellung - für die bisher be  kannte Glimmentladungstechnik bei den für tech  nische Verwendungszwecke notwendigen Leistungen       völlig    undurchführbar - ist nur dann lösbar, wenn  der gewünschte Gasentladungs-Endzustand über einen  Anlaufvorgang geschaffen wird. Jdoch ist bei den in  der     Praxis    auftretenden, sehr unterschiedlichen tech  nischen Prozessen, den verschiedenen Werkstück  formen, den eventuellen     Rückwirkungen    seitens der  am Prozess beteiligten Flächen usw. verständlicher  weise eine     sorgfältige    Vorausplanung des     erwünschten     Prozesses erforderlich.  



  Bei dem hier zu verwendenden Anlaufvorgang       wird    zu Beginn ein Gasdruck und eine Elektroden       spannurig        eingestellt,    die der     jeweiligen    nach     dem    oben  genannten Regeln gestalteten Elektrodenanordnung  und deren Anfangstemperatur angepasst sind und  eine     Glimmentladung    bewirken, die wie üblich eine  beliebige Ausdehnung aufweist.

   Die Elektrodenspan  nung und der Gasdruck werden so gewählt, dass in  der Anfangsphase des     Anlaufvorganges        sämtliche          spannungsführenden    Teile mit einer     Glimmhaut    be  deckt     sind.    An den für     nachteilige    Auswirkungen sol  cher noch wenig energiereichen     Glimmentladungen     besonders     empfindlichen    isolierenden     Stromeinführun-          gen    5 und 6     sind    noch näher zu beschreibende Mittel  zu deren Unschädlichmachung vorgesehen.

   Diese An  fangsphase des     Anlaufvorganges    wird     zeitlich    so lange       ausgedehnt,    bis an den     spannungsführenden    Teilen  alle zu     Unregelmässigkeiten    der Entladung Anlass     ge-          benden    Mängel der     Oberflächenschicht,    etwa     Ober-          flächenverunreinigungen    durch Berührung derselben       beim    Einbau, oder     Gasausbrüche    und dergleichen,  durch die Wirkung der     Glimmschicht        beseitigt    sind.

    Durch den Temperaturanstieg während     dieser    An  fangsphase können Änderungen der Elektrodenspan  nung und des Gasdruckes notwendig werden, um die       vollständige        Glimmlichtbedeckung    aller spannungs  führenden     Teile    aufrechterhalten zu können.  



  Nach Beseitigung     aller        derartigen        Unvollkommen-          heiten    der     Oberflächenschicht    bedeckt das     Glimmlicht     die     .spaanungführenden    Flächenteile als eine gleich  mässige Leuchtschicht. Nunmehr     wird    unter ständiger  Erhöhung des Gasdruckes     und    meist auch der     Elek-          trodenspannung    die spezifische Leistung der Entladung  an den am Prozess beteiligten Flächenerhöht und  damit der Energieumsatz stufenweise vergrössert.

   Da  bei lässt sich erreichen, dass die spezifische Leistung  der Glimmentladung an den nicht am     eigentlichen     Prozess     beteiligten        Flächen    nicht im gleichen Aus  mass ansteigt, unter Umständen sogar mehr und mehr  sich     verringert,    so dass sich der Energieumsatz vor       allem    auf die     erwünschten        Flächen        beschränkt,    die  dadurch in zunehmendem Masse erhitzt werden und  sich der für den     durchzuführenden    metallurgischen  oder chemischen Prozess     erwünschten        Temperatur     nähern.

   Dieser     Entladungsendzustand    wird nach einer  für jeden Prozess und die Art     und    Grösse der beteilig-      ten Flächen bzw. Gasschichten charakteristischen An  laufzeit erreicht, wobei     dann    die energiereiche Glimm-  
EMI0004.0001     
  
     Flächen     konzentriert    ist, und dort einen vorgegebenen       Wert    der     spezifischen    Leistung und des Energieum  satzes aufweist, während an allen anderen spannung  führenden Teilen und insbesondere den Stromeinfüh  rungen die Entladungsbeaufschlagung einen gegebe  nen Höchstwert nicht überschreitet.

   Die     Glimmentla-          dung    während des Anlaufvorganges     kann,    falls er  wünscht, durch Einschaltung einer Serieimpedanz, bei  spielsweise einer induktiven Impedanz,     in    den Speise  stromkreis der Elektroden     stabilisiert    werden. Es       kann    an deren Stelle, oder auch zusätzlich, ferner  eine praktisch trägheitslos wirkende Steuerung der  Elektrodenspannung vorgesehen werden, die bei jeder  Überschreitung eines vorbestimmten und einstellbaren       Maximalstromes    oder beim Unterschreiten einer ein  stellbaren Mindestspannung eine kurzzeitige Ab  senkung der     Spannung    bewirkt.

   Beide     Massnahmen     dienen dazu, um eine     unzulässige    grosse lokale Er  hitzung einzelner Flächenteile beim plötzlichen Auf  treten starker Unregelmässigkeiten der Oberflächen  schicht, etwa bei     Gasausbrüchen,    zu     vermeiden.     



  Der     Anlaufvorgang    muss stets mit kleinerem Ener  gieumsatz und niedriger spezifischer Leistung begin  nen als für den     angestrebten    Endzustand vorgesehen,  und zwar     sollte    die     Leistungsaufnahme    des Ent  ladungsgefässes, gemessen an den     Stromeinführungen,     nicht mehr als etwa     50"/o    derjenigen des Endzustandes  betragen, oder noch niedriger liegen. Der Gasdruck p  und die Leistung N sind, für einen typischen Prozess,  abhängig von der Zeit t im Diagramm nach Fig. 4  wiedergegeben.  



  Ein Beispiel für die Erscheinungen beim Anlauf  vorgang in einem zylindrischen Metallrezipienten 15  gemäss Fig. 9 von etwa 350 mm lichter Weite zeigen  die Fig. 5 und 6, und zwar für die Oberflächen  behandlung eines im Rezipienten isoliert aufgehängten  Stahlrohres 27 von etwa 20 mm lichter Weite, 70 mm  Aussendurchmesser und     24.00    mm Länge. Im     Inneren     des Rohres 27 ist ein Metalldraht 28 gespannt auf  gehängt. Am oberen Ende ist senkrecht oberhalb des  Rohres 27 ein     schräg    gestellter Spiegel angeordnet,  über den durch ein Beobachtungsfenster     am    oberen  Ende des Rezipienten 15 das Rohr 27 und die Innen  wand des Rezipienten 15 während des Betriebes be  obachtet werden können.

   Die Aufgabe besteht hier  darin, die energiereiche Entladung weitgehend auf  die Innen- und Aussenseite des Rohres 27 zu kon  zentrieren.  



  Zu     Beginn    des Anlaufvorganges bietet das Innere  des Rezipienten 15 das in Fig. 5 wiedergegebene Bild,  wenn die optische Achse der Aufnahmekamera mit  der Achse des     .Rezipienten    15 und des Rohres 27  zusammenfällt, wenn man also beispielsweise von  oben oder unten in den Rezipienten 15 hereinphoto  graphiert. Es ist ersichtlich, dass einzelne Stellen der  Aussenseite des in der Mitte der Fig. 5 erscheinenden  Rohres unregelmässige Glimmentladungserscheinun-    gen zeigen, einige davon mit starker Emission, was  Entladungsbahnen zwischen diesem Rohr     und    der  
EMI0004.0030     
  
     bahnen vom Rohr in Richtung der Mitte der     linken     Seite der Fig. 5 sowie in Richtung der linken oberen  Ecke der Fig.5 ergibt.

   Stark emittierende Stellen  würden ohne die     genannten    Massnahmen im Speise  stromkreis ziemlich sicher zu Bogenentladungen zwi  schen dem Rohr und der Rezipientenwandung führen.  Die stark emittierenden Stellen der Wandung des  Rohres rühren von Verunreinigungen, Oxydschichten  oder     anderen    Mängel der Oberfläche her und wan  dern in unregelmässiger Weise über dessen ganze  Aussenseite.  



  Am Ende des     Anlaufzustandes    zeigt sieh dagegen  das in     Fig.    6 wiedergegebene Bild. Die     Glimmentla-          dung    ist nunmehr weitgehend auf das Rohr konzen  triert und an der Innenwandung des Rezipienten sind  nur noch Glimmspuren (Anodenlichter) sichtbar. Die  Glimmentladung hat ihren Endzustand mit vorgege  bener Energiedichte erreicht, wobei     im    vorliegenden  Fall das Stahlrohr eine Temperatur von 510  C auf  weist und mit einer Energiedichte von etwa  1,5     Wattfcm2    an der gesamten     Oberfläche    betrieben  wird. Die während des Anlaufvorganges im Speise  stromkreis liegende Serienimpedanz ist ausgeschaltet.

    Die Summe aller Impedanzen im Speisestromkreis soll  nach Erreichen des     Entladungsendzustandes    nicht  mehr als höchstens     309/o,    vorzugsweise weniger als       101h,    der Impedanz sämtlicher Entladungsstrecken  betragen.  



  Der Zweck dieses Anlaufvorganges ist also, alle  spannungsbeanspruchten Flächen     innerhalb    eines Ent  ladungsgefässes vor der eigentlichen Oberflächen  behandlung der in der     Glimmentladung    zu     behandvIn-          den    Werkstücke von Verunreinigungen,     Inhomogeni-          täten,    Oxydationen und anderen     Mängeln    der Ober  flächen, die z.

   B. zu Gasausbrüchen,     örtlicher    Ver  dampfungen, hoher örtlicher Elektronenemission oder  zu anderen Unregelmässigkeiten der Entladung Anlass  geben könnten, so weit zu befreien, dass nach Ab  schluss dieses Anlaufvorganges keine Stellen an den  spannungsbeanspruchten Flächen mehr vorhanden  sind, bei den sich während der eigentlichen Ober  flächenbehandlung eine Bogenentladung ausbilden       könnte.       Um mit Sicherheit die Entstehung einer Bogen  entladung zu verhindern, müssen nun verständlicher  weise bei allen     spannungsbeanspruchten        Flächen    die  besagten Mängel der     Oberfläche    beseitigt werden.

    Das bedeutet aber, dass alle spannungsbeanspruchten  Flächen innerhalb des Anlaufvorganges einer Glimm  entladungsbehandlung unterzogen werden müssen.  



  Zu den spannungsbeanspruchten Flächen gehören  aber auch die     Stromdurchführungen,    beispielsweise  bei dem in     Fig.    9 dargestellten Rezipienten 15 die  Stromdurchführungen 18 und 19.  



  Die Erzeugung einer Glimmentladung an den       spannungsbeanspruchten    Flächen der Schutzspalte der      Stromdurchführungen ist nun innerhalb des zur Män  gelbeseitigung an allen anderen spannungsbeanspruch  ten Flächen vorgesehenen Anlaufvorganges im allge  meinen deswegen nicht möglich, weil einerseits dieser  Anlaufvorgang im allgemeinen in einem Druckbereich  stattfindet, dessen obere, nach Beendigung des An  laufvorganges erreichte     Grenze    der Druck ist, bei  dem die eigentliche     Oberflächenbehandlung    des Werk  stückes     erfolgt,    und anderseits die Stromdurchfüh  rungen im     allgemeinen    mit einem     derart    bemessenen  Schutzspaltsystem versehen sind,

   dass das Eindringen  von     Glimmentladungen        in    diese Schutzspalte bei dem  während der eigentlichen Oberflächenbehandlung  herrschenden     Druck    weitgehend     verhindert    wird.  Hierzu ist     bekanntlich    die Spaltbreite der Schutz  spalte derart eng bemessen, dass ein Elektron bei dem  herrschenden Betriebsdruck auf seinem Wege durch  den Spalt eine geringere Anzahl von Ionen     erzeugt     als diejenige Anzahl von Ionen, die erforderlich ist,  um an der Kathode bzw. an der Kathodenpotential  aufweisenden Spaltfläche ein neues Elektron aus  zulösen.  



  Um in einem solchen Schutzspalt eine     Glimm-          entladung    zu erzeugen, muss also die Anzahl der von  einem Elektron auf seinem Wege durch den Spalt  erzeugten Ionen erhöht werden. Dies     erreicht    man  bekanntlich durch Steigerung des Druckes,     weil    da  durch die sich umgekehrt proportional dem Druck  verhaltende mittlere freie Weglänge des Elektrons  entsprechend     verringert    wird und dementsprechend  die Anzahl der Stösse und damit die Anzahl der  erzeugten Ionen proportional dem Druck ansteigt.

    Es ist im übrigen allgemein bekannt, dass man in  einem Schutzspaltsystem durch Erhöhung des     Druk-          kes    über den für dieses Schutzspaltsystem vorgesehe  nen Betriebsdruck hinaus eine Glimmentladung inner  halb der Schutzspalte erzwingen kann.  



  Nun     stellen    die die Spalte eines solchen Schutz  spaltsystems begrenzenden Wandungen stets Flächen  mit hoher Spannungsbeanspruchung dar. Es ist des  wegen zweckmässig, auch bei diesen Flächen in einem  weiteren Anlaufvorgang alle Mängel der Oberfläche  zu beseitigen, die zu einer Bogenentladung führen  könnten.

   Unbedingt nötig ist dieser weitere Anlauf  vorgang zwar nicht, weil erstens die     Schutzspalte    ja  so bemessen ist, dass bei normalem     Betriebsdruck,     bei dem die eigentliche Oberflächenbehandlung des  Werkstückes stattfindet, entweder gar keine oder nur  eine stark behinderte Glimmentladung     innerhalb    der  Schutzspalte auftritt, und     weil    zweitens eine tatsäch  lich etwa an den Schutzspalten auftretende Bogen  entladung nicht auf das Werkstück übergreifen, son  dern lediglich zwischen den Flächen verschiedenen  Potentials dieses Schutzspaltsystems bzw.

   der Strom  durchführung brennen kann, jedoch empfiehlt sich  die Durchführung dieses weiteren Anlaufvorganges  schon aus dem     Grunde,    weil man auch die bei Auf  treten einer Bogenentladung eintretende Zerstörung  der Stromdurchführung sowie Betriebsstörungen in  Form von Unterbrechung der     eigentlichen    Ober-    flächenbehandlung des zu behandelnden Werkstückes  mit möglichst grosser Sicherheit     vermeiden        will.     



  Dieser weitere     Anlaufvorgang    zur Mängelbeseiti  gung an allen die Schutzspalte begrenzenden Flächen  wird in     einem    gegenüber dem     genannten    Betriebs  druck wesentlich höheren Druckbereich     durchgeführt     und     erfolgt    ansonsten in gleicher Weisse wie der schon  zuvor für     alle    anderen spannungsbeanspruchten Flä  chen     erläutert;

      er kann im übrigen     zeitlich    auch vor  dem     erstgenannten    Anlaufvorgang     stattfinden.    Der  erforderliche     Mindestdruck        für    diesen     weiteren    An  laufvorgang ist weitgehend durch die geometrische  Gestalt und die     Dimensionen    des     Spaltsystems    be  stimmt.

   Durch Herstellung     eines    genügend hohen  Druckes im Entladungsgefäss     gelingt    es, eine     Glimm-          entladung    nur zwischen den Schutzspalten zu zünden  und damit eine weitgehende Konzentration der     Glimm-          entladung    auf die Stromdurchführungen und deren  Spaltsystem zu erreichen.  



  Die Betriebsspannung wird dabei auf einen Wert       eingestellt,    der zur Erzielung     eines    Temperaturanstie  ges an den     spannungsbeanspruchten,    den Spalt be  grenzenden Flächen ausreicht.  



  Eine beispielsweise Ausführung einer solchen  isolierten Durchführung zeigt die Fig. 10 im Schnitt  längs der Achse, eingebaut     in    den doppelwandigen  Abschlussdeckel 16. Der Mittelleiter 52 mit dem in  den Gefässinnenraum ragenden Befestigungsbolzen  52a für die Werkstückhalterung 26 (Fig. 9) ist für       Wasserkühlung    eingerichtet, wobei das     Kühlwasser     durch die Leitung 23     einströmt    und durch die Lei  tung 24 ausfliesst.

   Der Mittelleiter 52 ist mittels der  Isolierstücke 53 und 54 vom Abschlussdeckel 16 iso  liert, welche Isolierstücke durch die Überwurfmutter  55 gegen entsprechende Stützflächen im Abschluss  deckel 16 gepresst werden und einerseits einen gas  dichten Abschluss, anderseits eine leichte     Demontier-          barkeit    der gesamten     Durchführung    gewährleisten.

    Der Mittelleiter 52 trägt an dem nach dem     Gefäss-          innenraum    gerichteten Ende     eine        metallische    Muffe  56, die     mittels        einer    an der Innenwandung des Ab  schlussdeckels 16     befestigten        metallischen    Kappe 5 7  teilweise abgeschirmt ist.

   Das in Fig. 10 ersichtliche  Spaltsystem     verhindert    eine energiereiche     Glimment-          ladung    und erhöht dadurch den im Dauerbetrieb zu  lässigen Höchstwert der Entladungsbeaufschlagung  der     Stromeinführung.    Das Spaltsystem besteht aus  dem     Ringspalt    58 zwischen der (geerdeten) Kappe 57  und der spannungführenden Muffe 56, dem Haupt  spalt 59 zwischen der (geerdeten) Wandung 16 und  der     spannungführenden    Muffe 56, dem Querspalt 60  zwischen der     spannungführenden    Muffe 56 und dem  Isolator 54, sowie dem Ringspalt 61 zwischen dem  Isolierstück 54 und der (geerdeten)     Wandung    16.

    Durch die Verhinderung     einer    energiereichen     Glimm-          entladung        infolge    geeigneter Dimensionierung des  Spaltsystems und der     Wasserkühlung        kann    eine der  artige     Stromeinführung    bei der für technische Pro  zesse kaum zu vermeidenden     Entladungsbeaufschla-          gungen    völlig betriebssicher     verwendet    werden.

        Durch die Wirkung der     Glimmentladung    mit  ihrem Ionenbombardement und die zumindest ober  flächliche Erwärmung der     spannungsbeanspruchten     Flächen werden an denselben beim     Anlaufvorgang     alle Mängel beseitigt, die wie etwa eine Gasabgabe,  Verdampfung, Elektronenemission oder dergleichen       zu    Unregelmässigkeiten der Entladung Anlass geben.  Dieser     Abschnitt    des Anlaufvorganges wird jedenfalls  so lange     fortgesetzt,    bis dies erreicht ist, was - wie  die     Erfahrung    zeigt - stets     gelingt.     



  Mit     Vollendung    des Anlaufvorganges ist, bei rich  tiger Planung des Prozesses gemäss den obengenannten  Regeln, die Elektrodenanordnung, insbesondere be  züglich     Temperatur    und Beschaffenheit der am Prozess  beteiligten Flächen, in einem Zustand, der stabilen  Dauerbetrieb gewährleistet. Nach Erreichen eines sol  chen stabilen     Endzustandes    sind beispielsweise     an     zwei verschiedenen Versuchsanordnungen die in Fig. 7  gezeigten Strom/Spannungs-Kennlinien gemessen wor  den, die in ihrem prinzipiellen Verlauf dem Kenn  linienteil 66 in Fig. 1 entsprechen.

   Falls erwünscht,       kann    das Entladungsgefäss nunmehr sogar für kür  zere Zeiträume, beispielsweise     einige    Minuten lang,  ausser Betrieb gesetzt und     anschliessend    sofort mit der  vollen Leistung wieder in Betrieb genommen werden.  Dabei ist die Wahl der Stromdichte an den am Pro  zess beteiligten Flächen von besonderer Bedeutung  für die Stabilität des Entladungsendzustandes. Nur  bei richtiger Wahl der Stromdichte für die     Glimm-          entladung    gelingt es, den Übergang derselben in  eine Bogenentladung bzw. in den unstabilen     Teil    der  Kennlinie 65 in Fig. 1 zu vermeiden.  



  Es sei jedoch ausdrücklich darauf     hingewiesen,     dass der oben beschriebene Anlaufvorgang auch für  alle anderen Glimmentladungsprozesse, für welche im  Entladungsendzustand andere Verhältnisse vorliegen,  ebenso vorgenommen werden kann und in entspre  chender Weise die Voraussetzung zur Erzielung eines  stabilen Entladungsendzustandes bildet.  



  Der Anlaufvorgang lässt sich an jeder     Glimm-          entladungsapparatur    durchführen, vorzugsweise sol  chen mit leitenden Wänden, entsprechend denjenigen  nach Fig. 2 und 3. Anderseits zeigt die Fig. 8 eine  Gefässbauart, bei der die beiden kuppelartigen Enden  12, 13 aus elektrisch leitendem Material bestehen,  aber voneinander durch ein     zylindrisches    Zwischen  stück 14 aus Isoliermaterial getrennt wird. Die Strom  einführungen 5 bzw. 6 sind in den Endstücken 12  bzw. 13 vorgesehen. Die Gefässform kann natürlich  weitgehend der Gestalt der zu behandelnden Gegen  stände angepasst sein.

   Es erscheint naherliegend, durch  Verwendung von isolierenden     Wandungen,        in    der  Umgebung der Stromeinführungen     auftretende    Schwie  rigkeiten zu umgehen. Jedoch ist dies nicht durchführ  bar, da isolierende Innenwandungen beim Betrieb  sehr rasch elektrisch leitend werden (Aufstäubung  usw.).  



  Eine beispielsweise Ausführung eines Entladungs  gefässes samt     Steuermitteln    für die Durchführung des  Anlaufvorganges für einen Vergütungsprozess der    Innenwandung eines Stahlrohres zeigt die Fig. 9 in       schematischer    Wiedergabe. Das Entladungsgefäss be  steht hier aus einer langgestreckten zylindrischen  Kammer 15, die durch je einen oberen und unteren  Abschlussdeckel 16 bzw. 17 gasdicht verschlossen ist.  Die Wandungen der Kammer 15 und beide Abschluss  deckel 16, 17 sind doppelwandig ausgeführt, um  einen Kühlwasserstrom hindurchleiten zu können.  Durch die beiden Abschlussdeckel 16, 17 ragt je  eine isolierte Stromeinführung 18 bzw. 19 in den  Innenraum.

   Auch diese Durchführungen 18, 19     sind     wassergekühlt und der Kühlwasserstrom für das ge  samte Entladungsgefäss wird vom Zuflussrohr 20 zu  erst durch die Durchführung 19, über die Leitung 21  zum doppelwandigen Abschlussdeckel 17, durch die  sen hindurch und über die Leitung 22 von unten aus  in den     Kühlmantel    der Kammer 15     eingeleitet,    ver  lässt denselben oben über das Rohr 23, strömt durch  die doppelwandige Abschlussplatte 16 und über die  Leitung 24 zur Durchführung 18 und gelangt von  dort zur Abflussleitung 25.

   Im Innenraum des Ent  ladungsgefässes ist beispielsweise an der oberen Durch  führung 18     über    den Bügel 26 ein     Stahlrohr    27  aufgehängt, dessen Wandungen die am Prozess be  teiligten Flächen     sind.    Da die zu     behandelnde    Boh  rung des Rohres 27     eine    Länge aufweisen soll, die  ihren Durchmesser um mehr als den achtzigfachen  Wert übertrifft, ist als Gegenelektrode ein     dünner    Stab  28 vorgesehen, der auf der unteren     Durchführung    19  befestigt ist und längs der Rohrachse durch     die    Boh  rung freitragend hindurchragt,

   oder am oberen Ende  mittels einer weiteren Stromeinführung an der Gefäss  wand abgestützt     werden    kann.     Damit    liegt also das  Rohr 27 als eine Elektrode am Anschluss 29 und  der Stab 28 als andere Elektrode am Anschluss 30.  Die Temperaturmessung des Werkstückes 27 erfolgt  über ein Einblickfenster 31 mittels eines     Strahlungs-          pyrometers    32.  



  Der Innenraum des Entladungsgefässes kann über  die Gasabsaugeitung 33 und das Ventil 35 mittels  einer geeigneten Pumpeinrichtung 34 in vorgegebenem  Ausmass evakuiert werden. Eine     Unterdruckmessein-          richtung    36 ist zur Anzeige des Gasdruckes vorhanden  und steuert über das Gerät 37 das Gaszuflussventil  38 derart, dass der vorgesehene Gasdruck     im    Innen  raum der Kammer 15 aufrechterhalten wird.

   Die       Zusammensetzung,der    Gasatmosphäre im Innenraum  des Entladungsgefässes kann durch Gaszufuhr über  die Leitung 39 beeinflusst werden, die über das die       Zuflussmenge    regelnde Ventil 38 beispielsweise aus  zwei     Gasflaschen    40 bzw. 41 über die     Druckreduzier-          ventile    42 bzw. 43 und die Absperrventile 44 bzw.  45 gespeist wird. Die dargestellte Anlage mit zwei  Gasflaschen 40, 41 ist beispielsweise für die Ver  wendung eines     inerten    Gases, etwa Krypton, und die       Zumischung    eines anderen Gases, etwa Stickstoff,  für die Gasatmosphäre im Entladungsgefäss einge  richtet.  



  Die     Elektrodenanschlüsse    29 und 30 sind hier  mit dem negativen bzw. positiven Pol     einer    Gleich-      spannungsquelle 46 verbunden, wobei in der Zu  leitung zum Anschluss 29 eine veränderbare Serie,  impedanz 47 vorgesehen ist, die mit dem Schalter 48  kurzgeschlossen werden kann. Die Gleichspannungs  quelle 46 ist hier beispielsweise ein Gleichrichter, der  am Anschluss 49 mit Einphasenwechselstrom gespeist  wird und von der Regeleinrichtung 50 bezüglich seiner  abgegebenen Spannung gesteuert werden kann. Diese  Regeleinrichtung 50 wird einerseits durch ein Kom  mandogerät 51 betätigt, anderseits aber auch durch  die am Pyrometer 32 abgenommene, der Temperatur  proportionalen Messspannung.

   Die Gleichspannungs  quelle 46 kann so eingerichtet sein, dass sowohl der  positive wie auch der negative Pol erdfrei sind und  das     Entladungsgefäss    selbst geerdet ist, oder es kann  auch der positive Anschluss 30 samt dem Entladungs  gefäss geerdet werden.  



  Während des Anlaufvorganges kann die Entla  dungsspannung von Hand gesteuert werden. Hierbei  ist der Schalter 48 offen, also liegt die Impedanz 47  zur Strombegrenzung der Glimmentladung im Elek  trodenstromkreis. Die Steuereinrichtung 37 kann da  bei zur Erzielung des erwünschten Gasdruckes eben  falls von Hand gesteuert werden. Nach Vollendung  des Anlaufvorganges wird die Serienimpedanz 47  kurzgeschlossen und die Elektrodenspannung auto  matisch auf einem Wert gehalten, der die vorgegebene  Temperatur der am Prozess beteiligten     Flächen    ge  währleistet, wozu die Temperaturmesseinrichtung 32  den Regler 50 entsprechend beeinflusst.  



  Der beschriebene Anlaufvorgang ist sowohl für  die Behandlung grosser Flächen einzelner Werkstücke,  als auch für die gleichzeitige     Behandlung        kleiner    Flä  chen an einer Vielzahl von Werkstücken erforderlich,  und es gelingt durch sinngemässe Anordnung der ein  zelnen Werkstücke, gegebenenfalls unter Verwendung  von Hilfselektroden, die energiereiche     Glimmentla-          dung    auf die am Prozess beteiligten     Flächen    der ein  zelnen Werkstücke zu beschränken. Bei Speisung des  Entladungsgefässes mit Spannung konstanter Pola  rität werden die Werkstücke sämtlich als Kathode  geschaltet.

   Bei Speisung mit Wechselspannung kön  nen die Werkstücke gruppenweise zusammengeschal  tet und an den einzelnen Phasen der Wechselspan  nungsquelle angeschaltet werden, also beispielsweise  drei solche     Gruppen    bilden, wenn die Speisung durch  eine Dreiphasen-Wechselspannungsquelle erfolgt; vor  teilhafterweise können die einzelnen Werkstücke in  diesem Falle auch so angeschlossen werden, dass  einander benachbarte jeweils an verschiedenen Phasen  liegen.  



  Der Anlaufvorgang ist aber natürlich keineswegs  nur bei der Durchführung metallurgischer Prozesse  notwendig, sondern auch bei Prozessen zur Erzielung  chemischer Reaktionen     unentbehrlich.  

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH Verfahren zur Schaffung einer elektrischen Glimmentladung hoher Stromstärke und grosser Ent- ladungsintensität zur Durchführung metallurgischer, chemischer und anderer technischer Prozesse, dadurch gekennzeichnet, dass bei Inbetriebnahme in einem Entladungsgefäss die Spannung an den Elektroden und der Gasdruck so gewählt werden, dass eine Glimmentladung von im Vergleich zum betriebs mässigen Endzustand geringer Intensität erzeugt wird, und dass zur Erzielung des betriebsmässigen End zustandes ein Anlaufvorgang durchgeführt wird, bei dem Spannung und Gasdruck gesteigert werden, bis die für den betriebsmässigen Endzustand vorgesehene Entladungsintensität erreicht ist.
    UNTERANSPRüCHE 1. Verfahren nach dem Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass die innerhalb des Entladungs gefässes befindlichen spannungführenden Bau elemente einschliesslich der Elektroden sowie deren Zuführungen bzw.
    die spannungsbeanspruchten Flä chen dieser Bauelemente durch Anlaufvorgänge auf die hohen Stromstärken vorbereitet werden, dass zu Beginn eines solchen Anlaufvorganges ein derartiger Gasdruck eingestellt und den Elektroden eine der artige Spannung zugeführt wird, dass auf den der Vorbereitung zu unterziehenden spannungsbean spruchten Flächen eine Glimmentladung geringer Intensität erzeugt wird, und dass im weiteren Verlauf des Anlaufvorganges unter Vermeidung eines über ganges in eine Bogenentladung stufenweise der Gas druck erhöht und die Elektrodenspannung verändert wird und jede dieser Einstellungen zeitlich so lange beibehalten wird,
    bis an den betreffenden der Vor bereitung zu unterziehenden Flächen alle zu Unregel mässigkeiten der Entladung Anlass gebenden Mängel beseitigt sind, welche Massnahmen bis, zu einem bestimmten Endwert des Gasdruckes fortgesetzt werden. 2. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass zu Beginn eines Anlaufvorganges ein derartiger wesentlich unter dem zur Durchführung des technischen Prozesses vorgesehenen Gasdruck liegender Gasdruck eingestellt und den Elektroden eine derartige Spannung zugeführt wird,
    dass an allen spannungsbeanspruchten Flächen innerhalb des Ent ladungsgefässes mit Ausnahme der die Schutzspalte begrenzenden Flächen eine Glimmentladung geringer Intensität erzeugt wird, und dass der Endwert des Gasdruckes gleich dem zur Durchführung des tech nischen Prozesses vorgesehenen Gasdruck ist. 3.
    Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass im Verlauf des Anlaufvorganges die den Elektroden zugeführte Spannung derart ge steigert wird, dass die spannungsbeanspruchten Flä chen durch den Energieumsatz der Glimmentladung auf eine vorbestimmte Temperatur erhitzt werden. 4. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass während des Anlaufvorganges zur Stabilisierung der Entladung eine Serienimpedanz im Speisestromkreis liegt. 5.
    Verfahren nach Unteranspruch 3, dadurch ge kennzeichnet, dass die Serienimpedanz bei Beendigung des Anlaufvorganges kurzgeschlossen wird. 6. Verfahren nach Patentanspruch, dadurch ge kennzeichnet, dass während des Anlaufvorganges zwecks Strombegrenzung der Glimmentladung prak- tisch trägheitslos die Spannung an den Elektroden gesteuert wird, so dass bei Überschreitung eines ein stellbaren Maximalstromes und Unterschreitung einer einstellbaren Mindestspannung eine kurzzeitige Ab senkung der Spannung auf einen vorgegebenen Wert vorgenommen wird.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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DE1227581B (de) * 1964-02-27 1966-10-27 Alcatel Sa Verfahren und Vorrichtung zur selbsttaetigen UEberwachung des mittels Elektronenbeschuss ausgefuehrten Materialeinschmelzens

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