CH253469A - Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen. - Google Patents
Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen.Info
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- B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
- B01—PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
- B01D—SEPARATION
- B01D3/00—Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
- B01D3/14—Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
- B01D3/16—Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid
- B01D3/22—Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid with horizontal sieve plates or grids; Construction of sieve plates or grids
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Description
Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch-und Reaktionskolonnen. Unter den bis jetzt bekannten Boden zum In-Beriihrung-Bringen von Gasen und Flüs- sigkeiten f r Rektifizier-, Wasch-und Freak- tionskolonnen kennt man solche, bei welchen die Flüssigkeit von der Peripherie des Bodens aus nach der Alitte hin abfliesst. Bei dieser Art von Boden ist in der Mitte des Bodens ein Lberlaufstutzen angeordnet, die mit ihrem untern Randteil in einen Behälter hineinragt und mit diesem eine Art Siphonversehluss bildet, an dem sich wiederum radial 1 angeordnete Abführungsrohre mit leichtem Gefälle naeh aussen anschliessen, um die Flüs sigkeit an den Umfangsteil des näehstuntern Bodens abzuführen. Die von unten her durch die Kolonne geführten Gase sind so gezwungen, den Weg durch Perforationen im Boden hindurch zu suchen. Die vorliegende Erfindung betrifft nun einen Boden ähnlicher Art, nämlich mit zentral angeordnetem, während des Betriebes einen Teil eines Gasversehlusses bildendem Uberlaufstutzen, wobei bisher auftretende MÏngel. wie unten stehend angegeben, vermieden werden. Einerseits lagern sich ¯fters bei der Rektifikation aus der Fliissickeit ausseheidende, 1'este Verunreinigungen in die Überlaufstut- zen ab, wodurch bei Siphonverschlu? und radialen Abführungsrohren mit der Zeit sogenannte Kolonnenverstopfungen verursacht werden. Anderseits ist die Verteilung der Flüssigkeit durch radiale Abführungsrohre an der Bodenperipherie mangelhaft. Ein weiterer Nachteil bei Anwendung von Verteilrohren besteht darin, da?, speziell bei leicht schäumender Flüssigkeit, starker Rückstau in den Rohren und damit auf dem Boden selbst entsteht. Alle diese Nachteile werden beim erfin dungsgemässen Boden zum In-Berührung Bringen von Gasen und Fliissigkeiten für Pt, ektifizier-, Wasch-und Reaktionskolonnen dadurch vermieden, da? das Abführen der Flüssigkeit vom Überlau±stutzen weg nach dem Umfangsteil des nächstuntern Bodens nicht mehr mittels radial angeordneter Rohre erfolgt, sondern mittels eines Verteiltellers mit Gefalle von innen nach aussen. Ein solcher Verteilteller hat eine bedeutend höhere Rektifizierwirkung des Bodens zur Folge, und zwar aus folgendem Grunde : die durch den Verteilteller bewirkte filmartige Ausbreitung der rüekzuführenden Flüssigkeit ver ursacht eine verstärkte Verdampfung durch die Wärme des unten an dem Verteilteller kondensierenden Dampfes und zusätzlichen Austausch von Fraktionen dureh den den Verteilteller oben überströmenden Dampf. Ein weiterer Vorteil liegt darin, da? dieser Verteilteller als Schutz gegen das Mitreissen von Flüssigkeitsteilchen mit dem Dampf wirkt, indem dieselben durch den Anprall auf die Verteilerunterseite weitgehend zurück- gehalten werden, so dass ? der Dampf je nach der Destillationsgeschwindigkeit fast ohne Flüssigkeitsteilchen auBen am Verteiler emporsteigt. Dadurch ist eine erheblich gr¯ ssere Belastung der Rektifizierböden möglich. Auf. der beiliegenden Zeichnung ist ein Ausführungsbeispiel des Erfindungsgegen- standes veranschaulicht. Fig. 1 ist ein Vertikalsehnitt einer Zwischenpartie einer zylindrischen Kolonne zum In-Berührung-Bringen von Dampf und Fliissigkeit, und Fig. 2 ist ein Horizontalschnitt nach der Linie II-II in Fig. 1. Die Kolonne gemäss Fig. 1 und 2 besitzt mehrere übereinander angeordnete B¯den A1, A2..., die mit hier nicht gezeigten Durch brechungen für den Durchtritt des von unten nach oben dureh die Kolonne hindurchgeführ- ten Dampfes versehen sind, und in deren mité, wie bei bekannten Konstruktionen ähnlicher Art, ein Überlaufstntzen cc angeordnet ist. Die verschiedenen B¯den sind in an si-ch ebenfalIs bekannter Weise auf Stütz- bolzen b gelagert. Jedem ¯berlaufstutzen a ist ein aussenherum gezackter Verteilteller c zugeordnet, der an seinem Umfangsteil ebenfalls auf den jeweiligen Stutzbolzen b eines Bodens montiert ist und mittels Distanzhülsen bl in einem bestimmten Abstand vom betreffenden Boden gehalten wird. Der Verteilteller c ist flach konisch ausgebildet und weist einen spitzkonischen Mittelteil auf, mit dem er in einen zylindrischen, im Durchmesser reduzierten Fortsatz a1 des ¯berlaufstutzens a hineinragt. Der Verteilteller c bildet mit dem ihm zugekehrten Rand des zylindrischen Fortsatzes al eine ringdüsenartige Austritts offnung. Von aussehlaggebender Bedeutung für ein einwandfreies Funktionieren der Kolonne, die von der Flüssigkeit von aben nach unten gemäss den in Fig. 1 eingezeichneten Pfeilen durchflossen wird, ist der Abstand x zwischen dem Verteilteller c und dem untern Rand des Fortsatzes a. l. Dieser Abstand muss nämlieh so bemessen sein, dass an der von den beiden Teilen ?1 und c gebildeten Austrittsoffnung während des Betriebes eine Stauung der Flüssigkeit stattfindet, so dass an dieser Stelle ein dem. Dampf den Weg versperrender Stauverschluss gebildet wird und der Dampf dadurch gezwungen ist, durch die Durchbrechungen in den Boden hindurch abzu- ziehen. Die Grosse des zur Erreichung dieses Ziels notwendigen Abstandes x lässt sieh ex- perimentell ermitteln und kann, wie sich aus Fig. 1 leicht erkennen lässt, mittels Regulierbolzen d. die in der Nähe des Überlaufstut- zens a den Boden in vertikaler Richtung durchsetzen, variiert werden.
Claims (1)
- PATENTANSPRUCH : Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen, mit einem zentral angeordneten, während des Betriebes einen Teil eines Gasverschlusses bildenden tssberlaufstutzen zum ¯berf hren der Flüssigkeit auf den nächstuntern Boden, dadurch gekennzeichnet, da? das Abführen der Flüs sigkeit vom ¯berlaufstutzen weg mittels eines Verteiltellers erfolgt, der von innen nach aussen Gefälle hat, um die Flüssigkeit nach dem Umfangsteil des nächstuntern Bodens abfliessen zu lassen.UNTERANSPRUCHE : 1. Boden nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass der Verteilteller so nahe an den Uberlaufstutzen angeordnet ist, dass er mit dessen unterem Rand eine ringdüsenartige Austrittsöffnung bildet, die im Hinblick auf die Bildung des genannten Gasver- schlusses im Betrieb des Bodens eine Stauung der Flüssigkeit ermöglicht.2. Boden nach Patentanspruch und Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass derVerteilteller flach konisch ausgebildet ist und einen spitzkonischen Mittelteil aufweist, mit dem er in einen zylindrischen, im Durch- messer reduzierten, Fortsatz des Überlauf- stutzens hineinragt.3. Boden nach Patentanspruch und Unteranspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass Reguliermittel vorgesehen sind, um den Abstand zwischen dem untern Rand des Fortsatzes des Überlaufstutzens und dem Verteilteller variieren zu k¯nnen.4. Boden nach Patentanspruch und Unteransprüehen l bis 3, dadurch gekennzeich- zeicinet, daB die genannten Reguliermittelvon Bolzen gebildet sind, die den Boden in der NÏhe des ¯berlaufstutzens durchsetzen.5. Boden nach Patentanspruch und Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, da? der Verteilteller aussenherum gezackt ist.
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
CH253469T | 1946-11-04 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
CH253469A true CH253469A (de) | 1948-03-15 |
Family
ID=4470010
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
CH253469D CH253469A (de) | 1946-11-04 | 1946-11-04 | Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen. |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
CH (1) | CH253469A (de) |
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US2711307A (en) * | 1952-04-21 | 1955-06-21 | Shell Dev | Contacting tray construction |
US2939771A (en) * | 1958-07-29 | 1960-06-07 | Vulcan Cincinnati Inc | Contact apparatus including sealing means |
US3209744A (en) * | 1962-10-04 | 1965-10-05 | Cascade Humidifiers Inc | Tray-type humidifier |
EP0065920A1 (de) * | 1981-05-18 | 1982-12-01 | B.S.L. (Bignier Schmid-Laurent) | Kolonne, insbesondere für Absorption- und Destillation |
WO2004094029A1 (en) * | 2003-04-22 | 2004-11-04 | Koch-Glitsch, Lp | Vapor-liquid trays for mass transfer column and method for supporting the trays |
-
1946
- 1946-11-04 CH CH253469D patent/CH253469A/de unknown
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
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US6994331B2 (en) | 2003-04-22 | 2006-02-07 | Koch-Glitsch, Lp | Vapor-liquid contact trays for mass transfer column and method employing same |
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