CH253469A - Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen. - Google Patents

Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen.

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CH253469A
CH253469A CH253469DA CH253469A CH 253469 A CH253469 A CH 253469A CH 253469D A CH253469D A CH 253469DA CH 253469 A CH253469 A CH 253469A
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CH
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nozzle
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F E Kuehni Vorm Hans Fr Kuehni
Original Assignee
F & E Kuehni Vorm Hans & Fritz
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B01PHYSICAL OR CHEMICAL PROCESSES OR APPARATUS IN GENERAL
    • B01DSEPARATION
    • B01D3/00Distillation or related exchange processes in which liquids are contacted with gaseous media, e.g. stripping
    • B01D3/14Fractional distillation or use of a fractionation or rectification column
    • B01D3/16Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid
    • B01D3/22Fractionating columns in which vapour bubbles through liquid with horizontal sieve plates or grids; Construction of sieve plates or grids

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  • Chemical & Material Sciences (AREA)
  • Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
  • Vaporization, Distillation, Condensation, Sublimation, And Cold Traps (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Description


  



  Boden zum   In-Berührung-Bringen    von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-,    Wasch-und    Reaktionskolonnen.



   Unter den bis jetzt bekannten Boden zum In-Beriihrung-Bringen von Gasen und   Flüs-    sigkeiten f r Rektifizier-, Wasch-und   Freak-      tionskolonnen    kennt man solche, bei welchen die Flüssigkeit von der Peripherie des Bodens aus nach der   Alitte    hin abfliesst. Bei dieser Art von Boden ist in der Mitte des Bodens   ein Lberlaufstutzen    angeordnet, die mit ihrem untern Randteil in einen Behälter hineinragt und mit diesem eine Art Siphonversehluss bildet, an dem sich wiederum radial 1 angeordnete Abführungsrohre mit leichtem   Gefälle naeh aussen anschliessen,    um die Flüs  sigkeit    an den Umfangsteil des näehstuntern Bodens abzuführen.

   Die von unten her durch die Kolonne geführten Gase sind so gezwungen, den Weg durch Perforationen im Boden hindurch zu suchen.



   Die vorliegende Erfindung betrifft nun einen Boden ähnlicher Art, nämlich mit zentral angeordnetem, während des Betriebes einen Teil eines   Gasversehlusses    bildendem   Uberlaufstutzen,    wobei bisher auftretende MÏngel. wie unten stehend angegeben, vermieden werden.



   Einerseits lagern sich ¯fters bei der Rektifikation aus der   Fliissickeit    ausseheidende, 1'este Verunreinigungen in die   Überlaufstut-      zen    ab, wodurch bei Siphonverschlu? und radialen Abführungsrohren mit der Zeit sogenannte Kolonnenverstopfungen verursacht werden. Anderseits ist die Verteilung der   Flüssigkeit durch    radiale Abführungsrohre an der Bodenperipherie mangelhaft. Ein weiterer Nachteil bei Anwendung von Verteilrohren besteht darin, da?, speziell bei leicht schäumender Flüssigkeit, starker Rückstau in den Rohren und damit auf dem Boden selbst entsteht.



   Alle diese Nachteile werden beim erfin  dungsgemässen    Boden zum In-Berührung Bringen von Gasen und   Fliissigkeiten    für Pt, ektifizier-, Wasch-und Reaktionskolonnen dadurch vermieden, da? das Abführen der Flüssigkeit vom   Überlau±stutzen    weg nach dem Umfangsteil des nächstuntern Bodens nicht mehr mittels radial angeordneter Rohre erfolgt, sondern mittels eines Verteiltellers mit   Gefalle    von innen nach aussen.

   Ein solcher Verteilteller hat eine bedeutend höhere   Rektifizierwirkung    des Bodens zur Folge, und zwar aus folgendem Grunde : die durch den Verteilteller bewirkte   filmartige    Ausbreitung der   rüekzuführenden Flüssigkeit    ver  ursacht    eine verstärkte Verdampfung durch die Wärme des unten an dem Verteilteller kondensierenden Dampfes und zusätzlichen Austausch von Fraktionen dureh den den Verteilteller oben überströmenden Dampf.



  Ein weiterer Vorteil liegt darin, da? dieser Verteilteller als Schutz gegen das Mitreissen von Flüssigkeitsteilchen mit dem Dampf wirkt, indem dieselben durch den Anprall auf die   Verteilerunterseite    weitgehend   zurück-    gehalten werden, so dass ? der Dampf je nach der   Destillationsgeschwindigkeit    fast ohne  Flüssigkeitsteilchen auBen am Verteiler   emporsteigt.    Dadurch ist eine erheblich gr¯ ssere Belastung der   Rektifizierböden    möglich.



   Auf. der beiliegenden Zeichnung ist ein Ausführungsbeispiel des   Erfindungsgegen-    standes veranschaulicht.



   Fig.   1    ist ein Vertikalsehnitt einer Zwischenpartie einer zylindrischen Kolonne zum   In-Berührung-Bringen    von Dampf und Fliissigkeit, und
Fig. 2 ist ein Horizontalschnitt nach der Linie II-II in Fig. 1.



   Die Kolonne gemäss Fig.   1    und 2 besitzt mehrere übereinander angeordnete B¯den A1, A2..., die mit hier nicht gezeigten Durch  brechungen    für den Durchtritt des von unten nach oben dureh die Kolonne   hindurchgeführ-      ten    Dampfes versehen sind, und in deren   mité,    wie bei bekannten Konstruktionen   ähnlicher Art, ein Überlaufstntzen cc    angeordnet ist. Die verschiedenen B¯den sind in an   si-ch      ebenfalIs    bekannter Weise auf   Stütz-    bolzen b gelagert.

   Jedem ¯berlaufstutzen a ist ein   aussenherum    gezackter Verteilteller c zugeordnet, der an seinem Umfangsteil ebenfalls auf den jeweiligen   Stutzbolzen    b eines Bodens montiert ist und mittels Distanzhülsen   bl in einem    bestimmten Abstand vom betreffenden Boden gehalten wird. Der Verteilteller c ist flach konisch ausgebildet und weist einen spitzkonischen Mittelteil auf, mit dem er in einen zylindrischen, im Durchmesser reduzierten Fortsatz a1 des ¯berlaufstutzens a hineinragt.

   Der Verteilteller c bildet mit dem ihm zugekehrten Rand des zylindrischen Fortsatzes   al eine ringdüsenartige    Austritts  offnung.    Von   aussehlaggebender    Bedeutung für ein einwandfreies Funktionieren der Kolonne, die von der Flüssigkeit von aben nach unten gemäss den in Fig. 1 eingezeichneten Pfeilen durchflossen wird, ist der Abstand x zwischen dem Verteilteller c und dem untern    Rand des Fortsatzes a. l. Dieser Abstand muss    nämlieh so bemessen sein, dass an der von den beiden Teilen ?1 und c gebildeten Austrittsoffnung während des Betriebes eine Stauung der Flüssigkeit stattfindet, so dass an dieser Stelle ein dem.

   Dampf den Weg versperrender   Stauverschluss    gebildet wird und der Dampf dadurch gezwungen ist, durch die Durchbrechungen in den Boden hindurch   abzu-    ziehen. Die Grosse des zur Erreichung dieses   Ziels notwendigen Abstandes x lässt sieh ex-    perimentell ermitteln und kann, wie sich aus Fig. 1 leicht erkennen lässt, mittels Regulierbolzen d. die in der Nähe des   Überlaufstut-    zens a den Boden in vertikaler Richtung durchsetzen, variiert werden.

Claims (1)

  1. PATENTANSPRUCH : Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen, mit einem zentral angeordneten, während des Betriebes einen Teil eines Gasverschlusses bildenden tssberlaufstutzen zum ¯berf hren der Flüssigkeit auf den nächstuntern Boden, dadurch gekennzeichnet, da? das Abführen der Flüs sigkeit vom ¯berlaufstutzen weg mittels eines Verteiltellers erfolgt, der von innen nach aussen Gefälle hat, um die Flüssigkeit nach dem Umfangsteil des nächstuntern Bodens abfliessen zu lassen.
    UNTERANSPRUCHE : 1. Boden nach Patentanspruch, dadurch gekennzeichnet, dass der Verteilteller so nahe an den Uberlaufstutzen angeordnet ist, dass er mit dessen unterem Rand eine ringdüsenartige Austrittsöffnung bildet, die im Hinblick auf die Bildung des genannten Gasver- schlusses im Betrieb des Bodens eine Stauung der Flüssigkeit ermöglicht.
    2. Boden nach Patentanspruch und Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass derVerteilteller flach konisch ausgebildet ist und einen spitzkonischen Mittelteil aufweist, mit dem er in einen zylindrischen, im Durch- messer reduzierten, Fortsatz des Überlauf- stutzens hineinragt.
    3. Boden nach Patentanspruch und Unteranspruch 1 und 2, dadurch gekennzeichnet, dass Reguliermittel vorgesehen sind, um den Abstand zwischen dem untern Rand des Fortsatzes des Überlaufstutzens und dem Verteilteller variieren zu k¯nnen.
    4. Boden nach Patentanspruch und Unteransprüehen l bis 3, dadurch gekennzeich- zeicinet, daB die genannten Reguliermittelvon Bolzen gebildet sind, die den Boden in der NÏhe des ¯berlaufstutzens durchsetzen.
    5. Boden nach Patentanspruch und Unteranspruch 1, dadurch gekennzeichnet, da? der Verteilteller aussenherum gezackt ist.
CH253469D 1946-11-04 1946-11-04 Boden zum In-Berührung-Bringen von Gasen und Flüssigkeiten für Rektifizier-, Wasch- und Reaktionskolonnen. CH253469A (de)

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