BRPI0919544A2

BRPI0919544A2 - junta de suprimento rotativa, válvula de distribuição rotativa, e aparelho de manipulação de produtos

Info

Publication number: BRPI0919544A2
Application number: BRPI0919544A
Authority: BR
Inventors: Brandon-Jones Julian; David Harrison Nigel
Original assignee: Pfizer
Priority date: 2008-10-02
Filing date: 2009-09-30
Publication date: 2019-09-10
Also published as: US8739812B2; MX2011003559A; WO2010038199A1; AU2009299423A1; EP2337979B1; CA2737034C; JP2012504737A; US20110232790A1; KR20110057202A; CN102171500B; EP2337979A1; JP5816090B2; RU2011111788A; CN102171500A; CA2737034A1; TW201018819A; RU2480655C2

Abstract

junta de suprimento rotativa, válvula de distribuição rotativa, e aparelho de manipulação de produtos uma junta de suprimento rotativa que pode, em particular, ser uma válvula de distribuição rotativa, é fornecida para fornecer fluxo de fluido pelo menos periodicamente a par-tir de orifícios de entrada para orifícios de saída quando aberturas respectivas nas primeira e segunda superfícies que estão rodando com relação uma com a outra estão alinhadas, em que um mancal de gás está disposto para fornecer uma força de rolamento entre as primeira e segunda superfícies.

Description

“JUNTA DE SUPRIMENTO ROTATIVA, VÁLVULA DE DISTRIBUIÇÃO ROTATIVA, E APARELHO DE MANIPULAÇÃO DE PRODUTOS”

A presente invenção se refere as juntas de suprimento rotativas e, em particular a válvulas de distribuição rotativas, e aparelho de manipulação de produtos incluindo tal junta 5 de suprimento rotativa.

Em uma válvula de distribuição rotativa, duas superfícies são fornecidas e rodam com relação uma a outra. Cada superfície é fornecida com aberturas e a válvula de distribuição rotativa é configurada de modo que, quando as superfícies rodam com relação uma a outra, uma abertura em uma superfície é periodicamente alinhada com uma abertura na 10 outra superfície. Durante um período de alinhamento, o fluido pode fluir de uma abertura para a outra, ou seja, de uma superfície para a outra, mas quando as aberturas não são alinhadas, tal fluxo de fluido pode ser impedido. Consequentemente, a velocidade de rotação relativa e a disposição das aberturas podem ser selecionadas para fornecer uma distribuição de fluxo desejada entre as aberturas. Em geral, as aberturas podem ser dispostas tal 15 que uma abertura em uma superfície é sempre alinhada com uma abertura na outra superfície. Consequentemente, uma junta de suprimento rotativa pode fornecer uma conexão para fluxo de fluido entre um componente associado com uma superfície e um componente associado com a outra superfície enquanto um está rodando com relação ao outro.

Em geral, duas formas de válvula de distribuição rotativa são conhecidas Uma pri20 meira forma é de válvulas de distribuição rotativas cilíndricas, em que as duas superfícies são cilíndricas em formato, uma encaixada dentro da outra. No entanto, válvulas de distribuição rotativas cilíndricas são difíceis de fabricar e, consequentemente, dispendiosas porque exige um controle bastante preciso de duas superfícies cilíndricas correspondentes. Além do mais, elas são dispendiosas para manter devido à exigência em manter a correspondência 25 das superfícies em uso, o que pode, por exemplo, ser difícil devido à expansão dos componentes.

Uma segunda forma de válvula de distribuição rotativa é de válvulas de distribuição rotativas de face plana, nas quais as superfícies são planas e uma roda com relação à outra em torno de um eixo perpendicular às superfícies. Tais válvulas de distribuição rotativas são 30 mais fáceis de formar porque é mais fácil produzir superfícies planas. No entanto, a fim de evitar vazamento do fluido sendo conduzido pela válvula de distribuição rotativa, é essencial que as duas superfícies estejam muito próximas, se não em contato. Consequentemente, a fricção pode ser um problema, resultando, por exemplo, em altas taxas de desgaste, geração de calor friccional, um maior consumo de energia, que podem exigir motores maiores 35 para acionar a rotação relativa das superfícies, o uso de materiais mais dispendiosos e/ou uma vida limitada.

Será apreciado que questões similares àquelas acima se aplicam mais geralmente as juntas de suprimento rotativas.

Em alguns casos, se o fluido sendo suprido por uma junta de suprimento rotativa ou conduzido pela válvula de distribuição rotativa em particular é um líquido, o líquido pode atuar como um lubrificante. No entanto, isto não é sempre apropriado e, em outras situações, o fluido sendo suprido ou comutado pode não ser um líquido. Por exemplo, pode ser desejável ser capaz de usar uma junta de suprimento rotativa para suprir (ou uma válvula de distribuição para conduzir) uma fonte subpressão, por exemplo, uma conexão a uma bomba de vácuo. No entanto, o uso da junta de suprimento rotativa para suprir (ou uma válvula de distribuição rotativa para conduzir) uma fonte de subpressão resulta em uma força adicional acionando as duas superfícies juntas, exacerbando os problemas friccionais discutidos acima.

Consequentemente, um objetivo da presente invenção é fornecer uma junta de suprimento rotativa que pelo menos parcialmente supera algumas das dificuldades discutidas acima.

De acordo com a presente invenção é fornecida uma junta de suprimento rotativa, tendo um ou mais orifícios de saída e um ou mais orifícios de entrada configurados para fornecer uma conexão para fluxo de fluido entre um ou mais orifícios de saída e um ou mais orifícios de entrada, a junta de suprimento rotativa incluindo:

primeira e segunda superfícies, configuradas para rodar com relação uma a outra e para ter formatos correspondentes tal que, durante a rotação relativa das primeira e segunda superfícies, uma separação substancialmente constante pode ser mantida entre as primeira e segunda superfícies;

em que cada um dos ditos um ou mais orifícios de entrada é conectado por fluxo de fluido em pelo menos uma abertura na primeira superfície;

cada um dos ditos um ou mais orifícios de saída é conectado por fluxo de fluido para pelo menos uma abertura na segunda superfície;

quando as primeira e segunda superfícies rodam com relação uma da outra, pelo menos uma abertura na primeira superfície é pelo menos periodicamente pelo menos parcialmente alinhada com pelo menos uma abertura na segunda superfície, permitindo um fluxo de fluido de um ara outro; e caracterizada por um mancai de gás, fornecido entre as primeira e segunda superfícies, configurado para fornecer uma força de rolamento entre as primeira e segunda superfícies.

A provisão de um mancai de gás entre as primeira e segunda superfícies pode fornecer uma separação controlada entre a superfície. Consequentemente, a separação pode ser suficientemente pequena que qualquer vazamento do fluido sendo conduzido é suficientemente pequeno para a operação exigida da junta de suprimento rotativa. Ao mesmo tem po, a provisão da pequena separação pode reduzir enormemente os problemas friccionais causados pelo movimento relativo das duas superfícies. Será apreciado que em algumas disposições, o mancai de gás pode não fornecer realmente uma separação entre as duas superfícies. No entanto, fornecendo uma força de rolamento entre as primeira e segunda superfícies, a força de contato entre elas pode ser reduzida, desse modo reduzindo de modo correspondente a força friccional que atua entre as duas superfícies. Além do mais, mesmo se o mancai de gás não fornece uma separação completa entre as duas superfícies, o mancai de gás pode fornecer gás suficiente ao espaço entre as duas superfícies que o gás funciona como um lubrificante entre as duas superfícies, reduzindo a fricção.

Pela disposição apropriada das aberturas nas primeira e segunda superfícies e sua conexão com os orifícios de entrada e orifícios de saída, a junta de suprimento rotativa pode ser usada como válvula de distribuição rotativa, fornecendo um ciclo exigido de conexões para fluxo de fluido entre um ou mais orifícios de entrada e os um ou mais orifícios de saída.

Além do mais, o uso de um mancai de gás pode ser particularmente benéfico porque fornece inerentemente uma separação estável. Em particular, se a separação entre as duas superfícies reduz por qualquer razão, a força de mancai do mancai de gás aumenta, ou seja, fornece uma tendência da separação entre as duas superfícies retornar ao nível desejado. Igualmente, se a separação entre as duas superfícies aumenta, a força de rolamento diminui, resultando em uma tendência das superfícies se aproximarem. Consequentemente, a separação entre as duas superfícies permanece estável, mesmo se existem flutuações em outras forças atuando nas duas superfícies.

A junta de suprimento rotativo da presente invenção pode, em particular, ser usada para suprir uma fonte de subpressão, ou seja. Um sistema que tem gás em uma pressão mais baixa que o meio ambiente em que a junta de suprimento rotativa opera, por exemplo, uma bomba de vácuo.

Neste caso, a conexão da fonte de subpressão a pelo menos um dos orifícios de entrada resulta em uma força atuando nas duas superfícies para acioná-los. Quanto maior a diferença de pressão entre a pressão do gás na fonte de subpressão e a pressão de gás ambiente circundando a junta de suprimento rotativa, maior a força resultante entre as duas superfícies. Igualmente, quanto maior a área efetiva sobre a qual atua a subpressão, maior a força atuando nas superfícies. A área efetiva pode corresponder à área projetada das aberturas na primeira superfície, que são conectadas na fonte de subpressão. No entanto, porque as primeira e segunda superfícies podem estar muito próximas, um gradiente de pressão pode ser estabelecido, em que a pressão aumenta do nível da fonte de subpressão adjacente às aberturas na primeira superfície até o nível ambiente a alguma distância das aberturas. Consequentemente, a área efetiva é a área que resultaria na força equivalente se a pressão em toda esta área estivesse na pressão da fonte de subpressão. Deve ser mos trado que, quando a separação entre as primeira e segunda superfícies diminui, o gradiente de pressão muda, aumentado a área efetiva e, portanto aumentando a força de rolamento.

Em qualquer caso, pelo controle apropriado do mancai de gás, a força de rolamento fornecida pelo mancai de gás pode compensar a força que aciona as superfícies juntas como um resultado da conexão na fonte de subpressão a fim de manter a separação. Em geral, será apreciado que o mancai de gás pode ser configurado para equilibrar a força resultante agindo sobre as superfícies para reuni-los, incluindo quaisquer outras forças que podem ser exercidas nas superfícies.

Em uma disposição particular, a junta de suprimento rotativa pode incluir uma montagem que suporta os elementos da junta de suprimento rotativa e permite que ela seja montada em outro componente dentro de um sistema, dentro do qual a junta de suprimento rotativa deve ser usada. Neste caso, a primeira superfície pode ser suportada pela montagem tal que esta não roda permitindo a conexão conveniente de quaisquer fontes de fluido em um ou mais orifícios de entrada. A segunda superfície pode ser suportada na montagem tal que pode rodar com relação à montagem, e, portanto também a primeira superfície, em torno de um eixo de rotação. Por exemplo, a segunda superfície pode ser montada em um mancai rotativo. Consequentemente a rotação relativa exigida das primeira e segunda superfície, por exemplo, para fornecer a condução exigida entre os orifícios de entrada e saída de uma válvula de distribuição rotativa, pode ser fornecida.

Uma ou ambas das segundas superfícies podem ser suportadas na montagem tal que a superfície pode mover em uma direção linear paralela ao eixo de rotação da segunda superfície, fornecendo ajuste da separação entre as primeira e segunda superfícies. Em uma disposição, a segunda superfície pode ser suportada na montagem tal que não move na direção paralela a seu eixo de rotação, reduzindo a complexidade da disposição de rolamento para a segunda superfície. Neste caso, será apreciado que a primeira superfície será suportada na montagem tal que pode se mover na direção linear paralela ao eixo de rotação da segunda superfície, mas pode ser impedida de se mover em qualquer outra direção com relação à montagem. Em qualquer caso, será apreciado que a faixa exigida de movimento na direção linear paralela ao eixo de rotação da segunda superfície pode ser relativamente pequena porque precisa somente fornecer a faixa exigida de movimento necessária para permitir que o mancai de gás mantenha uma separação estável entre as duas superfícies sob a influência de flutuações nas forças externas aplicadas nas superfícies.

O mancai de gás pode ser formado de uma ou mais aberturas de mancai de gás fornecidas em uma ou ambas as primeira e segunda superfícies e que são conectada em um suprimento de gás que fornece gás em uma pressão que é maior que a pressão ambiente do meio em que a junta de suprimento rotativa está operando.

Consequentemente, um fluxo de gás contínuo é fornecido a partir das aberturas de mancai de gás e fornece a força de rolamento exigida. Dependendo das exigências da junta de suprimento rotativa, o suprimento de gás pode ser um compressor que aspira o ar do entorno da junta de suprimento rotativa e o comprime. Alternativamente, por exemplo, pode fornecer um gás específico ou mistura de gases de um reservatório. A disposição anterior pode ser mais simples e menos dispendiosa. No entanto, a última disposição pode ser exigida, por exemplo, para fornecer um gás inerte que não reagirá com, por exemplo, os fluidos sendo supridos pela junta de suprimento rotativa.

Em uma disposição particular, o mancai de gás pode ter múltiplas aberturas de mancai de gás e o suprimento do gás para pelo menos duas das aberturas de mancai de gás pode ser tal que a pr4ssãoi do gás pode ser controlada de modo independente. Tal disposição pode permitir o controle aperfeiçoado da separação das duas superfícies.

Por exemplo, tal disposição pode permitir que diferentes forças de rolamento sejam fornecidas entre as duas superfícies em regiões diferentes das superfícies. Isto pode ser benéfico porque as forças externas que atuam nas superfícies podem ser diferentes em regiões diferentes. Tal situação pode ocorrer, por exemplo, se as aberturas nas superfícies em uma região são conectadas a fontes de fluido tendo pressões diferentes daquelas da outra região e/ou o tamanho das aberturas nas superfícies em uma região são diferentes daquelas em outra região.

Alternativa ou adicionalmente pode ser desejável controlar a pressão do gás exaurido das duas aberturas de mancai de gás diferentes se as aberturas de mancai de gás têm tamanhos diferentes, por exemplo, devido às restrições de espaço nas superfícies.

O controle de pressão independente para as duas ou mais aberturas de mancai de gás pode ser fornecida, por exemplo, conectando as aberturas de mancai de gás em suprimentos de gás separados e/ou fornecendo válvulas controláveis separadas nas linhas de fluxo para as aberturas de mancai de gás.

Cada uma das aberturas de mancai de gás pode ser conectada com um restritor de gás respectivo, por exemplo, mesmo se as aberturas de mancai de gás são configuradas para operar na mesma pressão. A provisão de restritores de fluxo de gás separados para cada abertura de mancai de gás, que restringe o fluxo de gás da abertura de mancai de gás de acordo com a pressão, pode aperfeiçoar a estabilidade da separação entre as duas superfícies. Em particular, em tal disposição, uma mudança na separação entre as duas superfícies na localização de uma das aberturas de mancai de gás pode não afetar na força de rolamento fornecida pela abertura de mancai de gás.

Em uma disposição tal como aquela descrita acima, em que a primeira superfície é suportada portal montagem tal que a primeira superfície não roda com relação à montagem, a uma ou mais aberturas de mancai de gás podem ser fornecidas somente na primeira superfície. Tal disposição pode, em particular, facilitar o suprimento de gás para os mancais de gás.

A uma ou mais aberturas de mancai de gás podem ser fornecidas ao longo de um anel circundando o eixo de rotação da segunda superfície. Em particular, as uma ou mais aberturas de mancai de gás podem ser fornecidas em localizações que são equidistantes do eixo de rotação da segunda superfície. Pelo menos uma das aberturas de mancai de gás pode estar na forma de um canal, ou ranhura, formado na primeira superfície não longo de pelo menos uma parte do anel que circunda o eixo de rotação da segunda superfície. Por exemplo, o mancai de gás pode incluir uma abertura de mancai de gás que inclui um canal anular que circunda completamente o eixo de rotação da segunda superfície. O mancai de gás pode incluir uma ou mais aberturas de mancai de gás na forma de canais formados em arcos do anel que circunda o eixo de rotação da segunda superfície. No entanto, também será apreciado que as aberturas de mancai de gás podem ser formadas a partir de qualquer formato conveniente.

As uma ou mais aberturas na primeira superfície, que são conectadas a um ou mais orifícios de entrada podem ter disposições que correspondem com qualquer uma daquelas descritas acima para as aberturas de mancai de gás.

Será apreciado, no entanto, que uma ou mais aberturas conectadas nos orifícios de entrada podem ser fornecida em um ou mais anéis diferentes daqueles usados para a disposição das aberturas de mancai de gás a fim de evitar que uma das aberturas na segunda superfície, conectada aos orifícios de saída, se torne alinhada com a abertura de mancai de gás durante o uso da junta de suprimento rotativa.

Em uma disposição particular, as aberturas de mancai de gás podem estar dispostas em um primeiro anel circundando o eixo de rotação da segunda superfície e as aberturas na primeira superfície conectada a um ou mais orifícios de entrada podem estar dispostas em torno de um segundo anel. Em tal disposição, o primeiro anel pode estar disposto a uma distância maior do eixo de rotação da segunda superfície e o segundo anel. Tal disposição pode ser benéfica porque pode fornecer espaço maior no qual dispor o mancai de gás. Em adição, fornecendo as aberturas de mancai de gás em uma distância maior do eixo de rotação da segunda superfície, a estabilidade da rotação da segunda superfície com relação à primeira superfície pode ser aumentada.

A junta de suprimento rotativa pode ser usada como parte de um aparelho de manipulação de produtos. Por exemplo, pelo menos um orifício de entrada da junta de suprimento rotativa pode ser conectado a uma fonte de subpressão e pelo menos um orifício de saída pode ser conectado a um retentor de produto associado montado na segunda superfície. Consequentemente, o retentor de produto pode ser conectado por fluxo de fluido pelo menos periodicamente à fonte de subpressão. Tal disposição pode ser benéfica porque a subpressão pode ser usada para prender o produto no retentor de produto para movimento do produto, por exemplo, permitindo que o produto seja rodado com a segunda superfície. Isto pode permitir o movimento do produto de uma parte de um processo, tal como fabricação, teste e/ou processo de inspeção, para outra parte do processo. Alternativa ou adicionalmente, isto pode facilitar a inspeção do produto. Por exemplo, o retentor de produto pode ser configurado para rodar adicionalmente com relação à segunda superfície tal que o produto pode ser inspecionado a partir de cada lado.

A invenção será agora descrita por meio de exemplos não limitantes com referência aos desenhos anexos, em que:

A Figura 1 representa a disposição geral de uma válvula de distribuição rotativa de acordo com a presente invenção;

A Figura 2 representa uma parte de uma disposição particular de uma válvula de distribuição rotativa de acordo com a presente invenção;

A Figura 3 representa detalhe adicional de uma válvula de distribuição rotativa tal como aquela representada na Figura 2; e

As Figuras 4a e 4b representam sistemas de controle possíveis para um manca de ar usado na disposição representada nas Figuras 2 e 3.

A presente invenção é descrita abaixo no contexto de uma válvula de distribuição rotativa 10, ou seja, uma junta de suprimento rotativa em que as aberturas em duas superfícies correspondentes são dispostas tal que pelo menos um orifício de entrada é periodicamente conectado por fluxo de fluido em pelo menos um orifício de saída, os orifícios de entrada e saída sendo conectados a aberturas nas superfícies. No entanto, será apreciado que pela disposição apropriada das aberturas nas superfícies, uma junta de suprimento rotativa geral pode ser fornecida em que, embora a rotação relativa das primeira e segunda superfícies, pelo menos um orifício de entrada é conectado permanentemente para fluxo de fluido em pelo menos um orifício de saída.

A Figura 1 representa uma disposição esquemática de uma válvula de distribuição rotativa 10 de acordo com a presente invenção. Na disposição mostrada, a válvula de distribuição rotativa 10 inclui um primeiro disco 11 incluindo uma primeira superfície 11a e um segundo disco 12 incluindo uma segunda superfície 12a, disposta para ser adjacentes à primeira superfície 11a. O segundo disco 12 é configurado tal que pode rodar em torno de um eixo 13 relativo à posição do primeiro disco 11.

O primeiro disco 11 inclui um ou mais orifícios de entrada 21 conectados pelas passagens 22 que permitem o fluxo de fluido para uma ou mais aberturas 23 na primeira superfície 11a. De modo correspondente, o segundo disco 12 inclui um ou mais orifícios de saída 31 conectados nas passagens 32 que permitem o fluxo de fluido de uma ou mais aberturas 33 na segunda superfície 12a.

Quando o segundo disco 12 roda com relação ao primeiro disco 11, as aberturas 23 na primeira superfície 11a são periodicamente alinhadas com as aberturas 33 na segunda superfície 12a. Como mostrado na Figura 1, quando uma abertura 33 na segunda superfície 12a é pelo menos parcialmente alinhada com uma abertura 23 na primeira superfície 11a, o fluido pode fluir entre o orifício de entrada 21 e o orifício de saída 31.

O orifício de entrada 21 pode ser conectado em uma fonte de fluido 25. Consequentemente, quando o segundo disco 12 roda com relação ao primeiro disco 11, o fluido é fornecido periodicamente da fonte de fluido 25 no orifício de entrada 21, transferido entre a abertura 23 na primeira superfície 11a para a abertura 33 na segunda superfície 12a e, portanto para o orifício de saída 31. Será apreciado, no entanto, que se a fonte de fluido 25 é uma fonte de subpressão, tal como bomba de vácuo, o fluido fluirá na direção oposta, ou seja, do orifício de saída 31 para o orifício de entrada 21 e, portanto para a fonte de subpressão 25.

Pela disposição apropriada das aberturas 23 na primeira superfície 11a e para aberturas 33 na segunda superfície 12a, um ciclo de serviço exigido de comutação das conexões entre os orifícios de entrada 21 e os orifícios de saída 31 pode ser fornecido.

Deve ser apreciado que qualquer número de orifícios de entrada 21 e orifícios de saída 31, pode ser fornecido e que cada um pode estar conectado a fontes de fluido diferentes ou, por exemplo, espaços diferentes que devem ser periodicamente conectados a fontes de fluido pela válvula de distribuição rotativa.

Igualmente, qualquer número de aberturas 23, 33 pode ser fornecido nas primeira e segunda superfícies 11a, 12a e várias aberturas 23, 33 podem ser conectadas a qualquer um dos orifícios de entrada 21 e orifícios de saída 31, respectivamente. Deve também ser apreciado que o ciclo de serviço da válvula de distribuição rotativa 10 pode ser configurado tal que, durante uma parte do ciclo de serviço, um orifício de saída 31 é conectado para fluxo de fluido em um dos orifícios de entrada 21 e, em outra parte do ciclo de serviço, é conectada para fluxo de fluido em outro dos orifícios de entrada 21. Também será apreciado que durante partes dói ciclo de serviço os orifícios de entrada 21 e/ou os orifícios de saída 31 podem não ser conectados para fluxo de fluido em um orifício de saída 31 ou um orifício de entrada 21, respectivamente.

Deve ainda ser apreciado que embora a válvula de distribuição rotativa 10 representada na Figura 1 inclui primeiro e segundos discos 11, 12, a invenção não exige o uso de discos. Consequentemente, o formato alternativo de componentes pode ser usado, respectivamente, uma primeira superfície 11a e uma segunda superfície 12a que podem ser dispostas adjacentes uma a outra.

Além do mais, embora as superfícies 11a, 12a representadas na Figura 1 seja planas, isto não é essencial. No entanto, a primeira superfície 11a e a segunda superfície 12a devem ter formatos correspondentes e serem dispostas tal que quando a segunda superfície

12a roda com relação à primeira superfície 11a em torno do eixo de rotação 13, a separação entre as duas superfícies 11a, 12a pode permanecer constante. Por exemplo, as primeira e segunda superfícies podem ser cônicas, resultando em uma válvula de distribuição cônica. As superfícies planas podem, contudo ser de preferíveis porque são mais fáceis de formar com precisão.

Como representado na Figura 1, uma separação é mantida entre as primeira e segunda superfícies 11a, 12a. Isto reduz a fricção entre as primeira e segunda superfícies 11a, 12a. Será apreciado que a figura 1 é esquemática e que o espaço 15 mostrado entre as primeira e segunda superfícies 11a, 12a não está em escala. Em particular, o espaço entre as primeira e segunda superfícies 11a, 12a pode ser muito pequeno a fim de minimizar o vazamento de fluido.

Como mostrado, a válvula de distribuição rotativa 10 da presente invenção inclui um mancai de gás que mantém a separação 15 entre a primeira superfície 11a e a segunda superfície 12a. O mancai de gás inclui uma ou mais aberturas de mancai de gás 16 que são fornecidas com gás por um suprimento de gás 17 e fornecem um fluxo de gás 18 que fornece a força de rolamento.

Deve ser apreciado que qualquer número de aberturas de mancai de gás 16 pode ser utilizado, como discutido adicionalmente abaixo. Igualmente, deve ser apreciado que uma variedade de fontes de gás diferentes 17 pode ser utilizada. Em particular, a fonte de gás 17 pode ser um compressor que retira gás, tal como ar, do ambiente que circunda a válvula de distribuição rotativa 10 e o comprime para fornecer gás sob pressão para a abertura de mancai de gás 16. Alternativa ou adícionalmente, a fonte de gás 17 pode inclui um reservatório de gás que contém um gás específico ou mistura de gases que são fornecidos para as aberturas de mancai de gás 16. Por exemplo, o suprimento de gás 17 pode fornecer um gás inerte. Em qualquer caso, o suprimento de gás 17 pode incluir um filtro para assegurar qu4 nenhum particulado é passado dentro do mancai de gás que pode causar bloqueios.

As Figuras 2 e 3 representam partes de uma disposição particular de uma válvula de distribuição rotativa de acordo com a presente invenção. A Figura 2 representa, em vista plana, uma primeira superfície 11a que é parte da válvula de distribuição rotativa e a Figura 3 representa em seção transversal uma parte da primeira superfície 11a e uma parte correspondente de uma segunda superfície 12a que é adjacente à primeira superfície 11a.

Como mostrado na Figura 2, as primeira e segunda superfícies têm um formato anular e são centralizados em um eixo 13 que é perpendicular às superfícies 11a, 12a e que corresponde com o eixo de rotação 13 da segunda superfície 12a com relação à primeira superfície 11a.

A primeira superfície 11a inclui várias aberturas 23 que são conectadas por uma passagem 22 para fluxo de fluido para um ou mais orifícios de entrada 21. A segunda super fície 12a inclui várias aberturas 33 que são conectadas por uma passagem 32 para o fluxo de fluido em vários orifícios de saída 31. Como mostrado na Figura 2, as aberturas 23 na primeira superfície 11a são dispostas em um primeiro anel 51 que é formada em torno do eixo 13. As várias aberturas 22 na segunda superfície 12a são dispostas na segunda superfície 12a na mesma distância do eixo 13. Consequentemente, quando a segunda superfície 12a roda com relação à primeira superfície 11a em torno do eixo 13, cada abertura 33 é periodicamente alinhada pelo menos parcialmente com uma das aberturas 23 na primeira superfície.

Consequentemente, durante tais períodos, os orifícios de saída 31, conectados nas aberturas 33 na segunda superfície 12a, são conectados para fluxo de fluido em um orifício de entrada 21 que é conectado na abertura 23 na primeira superfície 11a que é adjacente á abertura 33 na segunda superfície 12a.

Como representado na Figura 2, as aberturas 23 na primeira superfície 11a podem ser de tamanhos diferentes. Consequentemente, a parte do ciclo de serviço para o qual um orifício de saída 31 e conectado para fluxo de fluido nos orifícios de entrada 21 associados com as aberturas 23, pode ser controlada. Por exemplo, se as aberturas 33 na segunda superfície são relativamente pequenas comparadas com a circunferência do primeiro anel 51, então a proporção do anel 51 para a que uma abertura 23 se estende corresponderá com a parte do ciclo de serviço da válvula de distribuição rotativa para cada orifício de saída 31 é conectada para fluxo de fluido no orifício d4 entrada 21 associado com a abertura 23.

Na disposição representada na Figura 2, uma das aberturas 23 corresponde á metade da circunferência do anel 51. Consequentemente, cada orifício de saída 31 pode ser conectado para fluxo de fluido no orifício de entrada correspondente 21 por aproximadamente metade do ciclo de serviço da válvula de distribuição rotativa.

No caso de uma abertura 23, 33 na primeira ou segundo superfície 11a, 12a que é relativamente grande comparada com o tamanho da primeira ou segunda superfície 11a, 12a, a abertura pode estar na forma de um canal formado na superfície 11a, 12a, que é conectada com o orifício de entrada ou saída associado 21, 31 por uma ou mais passagens 22, 32.

Como mostrado na Figura 3, o orifício de entrada 21 pode ser conectado a um suprimento de fluido 25 pode fornecer fluido para o orifício de entrada 21, e, portanto, periodicamente, para os orifícios de saída 31. Alternativamente pode ser uma fonte de subpressão, tal como uma bomba de vácuo, que extrai fluido do orifício de entrada 21 e, portanto, periodicamente, dos orifícios de saída.

Como mostrado nas Figuras 2 e 3, a válvula de distribuição rotativa da disposição representada ta,bem inclui um mancai de gás incluindo várias aberturas de mancai de gás 16 que são configuradas para fornecer um fluxo de gás da primeira superfície 11a para a segunda superfície 12a a fim de manter uma separação entre as primeira e segundas superfícies. Detalhe adicional da disposição do mancai de gás é fornecido abaixo.

A disposição particular de válvula de distribuição rotativa, representada nas Figuras 2 e 3, ainda inclui uma estrutura de montagem 40 que pode ser usada para montar a válvula * 5 de distribuição rotativa em outro componente 421, tal como uma parte do sistema em que a válvula de distribuição rotativa deve ser usada. A primeira superfície 11a pode ser montada na estrutura de montagem 40 por meio de um mancai 42 que permite que a primeira superfície 11a mova a uma extensão limitada em uma direção paralela ao eixo de rotação 13 da segunda superfície 12a. Consequentemente, a primeira superfície 11a pode ser movida a 10 fim de controlar a separação das primeira e segunda superfícies 11a, 12a.

As primeira e segunda superfícies 11a, 12a podem ser orientadas uma para a outra, por exemplo, por um elemento resiliente atuando na primeira superfície 11a e/ou pela conexão de pelo menos um orifício de entrada 21 para uma fonte de subpressão. Consequentemente, a separação das primeira e segunda superfícies 11a, 12a pode ser controlada 15 ajustando a força de rolamento fornecida pelo mancai de gás. A segunda superfície 12a pode ser montada na estrutura de montagem 40 por meio de um mancai rotativo 43 que suporta a segunda superfície 12a e a permite rodar em torno do eixo de rotação 13. Um sistema atuador 44 pode também ser fornecido a fim de acionar a segunda superfície 12a em uma. velocidade exigida.

Como explicado acima e representado na Figura 2, o mancai de gás pode incluir várias aberturas de mancai de gás 16 formadas na primeira superfície 11a. Em particular, como representado na Figura 2, as aberturas de mancai de gás 16 podem estar dispostas ao longo de um segundo anel 52 disposto em torno do eixo 13. Em particular, cada uma das aberturas de mancai de gás 16 pode ser formada como canais na primeira superfície 11a 25 seguindo um arco do segundo anel 52.

Como mostrado, o tamanho de cada uma das aberturas de mancai de gás 16 pode ser o mesmo. No entanto, este precisa ser o caso. Igualmente, deve ser apreciado que qualquer número de aberturas de mancai de gás pode ser usado. Em particular, se desejado, uma única abertura de mancai de gás pode ser fornecida, por exemplo, que é anular em 30 formato. No entanto, a divisão do mancai de gás em várias aberturas de mancai de gás distribuídas em torno da primeira superfície pode aperfeiçoar de modo benéfico a estabilidade da separação entre as primeira e segunda superfícies 11a, 12a.

A pressão do gás que sai das aberturas de mancai de gás 16 pode ser a mesma. Alternativamente, pode ser desejável que a pressão para algumas das aberturas de mancai 35 de gás 16 seja diferente das outras das aberturas de mancai de gás 16. Por exemplo, pode ser desejável que a pressão do gás das aberturas de mancai de gás 16 adjacentes às aberturas 23 na primeira superfície 11a que são conectadas a uma fonte de subpressão seja maior que a pressão de gás nas aberturas de mancai de gás 16 que são adjacentes às aberturas 23 na primeira superfície 11a que são conectadas a um suprimento de fluido de pressão positiva ou aberturas de mancai de gás 16 que não são adjacentes a uma abertura 23 na primeira superfície que é conectada a um orifício de entrada 47.

No caso em que é desejável fornecer pressões de gás diferentes para as aberturas de mancai de gás 16, suprimentos de gás separados podem ser conectados ás aberturas de mancai de gás que devem ter pressões diferentes e/ou válvulas podem ser fornecidas a fim de ajustar a pressão em cada uma das aberturas de mancai de gás.

Será apreciado que, em qualquer caso, pode ser desejável fornecer uma válvula ajustável que está associada com cada uma das aberturas de mancai de gás a fim de permitir sintonia fina da válvula de distribuição rotativa durante a formação de um sistema que usa uma válvula de distribuição rotativa de acordo com a presente invenção. As válvulas ajustáveis podem, por exemplo, ser reguladores de pressão. Estas podem assegurar que o suprimento de pressão para o mancai de gás é consistente e não flutua dependendo de variações de suprimento.

Alternativa ou adicionalrnente, pode ser desejável fornecer um sistema no qual a pressão de gás na abertura de mancai de gás 16 pode ser ajustada durante a operação da válvula de distribuição rotativa. Consequentemente, um sistema de controle tal como aqueles descritos nas Figuras 4a e 4b pode ser usado. No sistema da Figura 4a, os primeiro e segundo suprimentos de gás de pressão controlável 61, 62 são fornecidos. As aberturas de mancai de gás 16a, 16b que devem ter uma primeira pressão de gás são conectadas no primeiro suprimento de gás de pressão controlável 61 e aberturas de mancai de gás 16c, 16d, 16e que devem ter uma segunda pressão de gás independentemente controlável são conectadas no segundo suprimento de gás de pressão controlável 62. Ambos os suprimentos de gás de pressão controlável 61, 62 podem, ser conectados a um controlador 63.

Alternativamente, como mostrado na Figura 4b, um único suprimento de gás 65 pode suprir todas as aberturas de mancai de gás. No entanto, um primeiro conjunto de aberturas de mancai de gás 16a, 16b pode ser conectado a uma primeira válvula de controle de pressão 66 e um segundo conjunto de aberturas de mancai de gás 16c, 16d, 16e, que devem ter uma pressão independentemente controlada, pode ser conectado a uma segunda válvula de pressão controlável 67. Neste caso, o controlador 63 pode controlar a operação das válvulas de controle de pressão 66, 67 a fim de controlar a pressão nas aberturas de mancai de gás 16.

Será apreciado que o controlador 63 pode realizar várias outras funções, por exemplo, monitorar a velocidade de rotação da segunda superfície 12a e controlar o atuador 44 a fim de fornecer uma velocidade rotacional exigida, monitorar a separação das primeira e segunda superfícies 11a, 12a e ajustar a operação do mancai de gás, se exigido, a fim de manter a separação desejada.

Independente de se um sistema de controle é usado ou, neste caso, a natureza do sistema de controle usado para controlar o mancai de gás, pode ser desejável fornecer um restritor de fluxo de gás 68 para cada uma das aberturas de mancai de gás 16. Tal restritor ' 5 de fluxo de gás pode estar disposto para restringir o fluxo de gás das aberturas de mancai de gás 16 de acordo com a pressão de gás. Isto pode ser simplesmente fornecido por um estrangulamento no ponto em que uma linha de suprimento de gás se abre nas aberturas de mancai de gás 16.

O uso de um restritor de fluxo de gás pode ainda aperfeiçoar a estabilidade do con10 trole da separação entre as primeira e segunda superfícies 11a, 12a. Em particular, quando a separação entre as superfícies aumenta, a taxa de fluxo de gás sobe, aumentando a queda de pressão através do restritor. Por sua vez, isto reduz a pressão que atua entre as superfícies, causando a redução da separação. Deve ser apreciado que a colocação dos restritores de fluxo de gás pode ser usada no controle do mancai de gás e sua resposta a vari15 ações de carga. Será ainda apreciado que tamanhos diferentes de restritores podem ser usados para as aberturas de mancai de gás em localizações diferentes, especialmente se a carga do mancai de gás é diferente em localizações diferentes. Isto pode ocorrer, por exemplo, como um resultado de variações na geometria das aberturas nas primeira e segunda superfícies e suas conexões com fontes diferentes.

A estabilidade dinâmica de rotação das duas superfícies pode ser um fator significante no desenho de uma junta de suprimento rotativa ou válvula de distribuição rotativa de acordo com a presente invenção. Em particular, se não é fornecida estabilidade suficiente, a velocidade de rotação das duas superfícies pode precisar ser limitada o que, dependendo de seu uso, pode não ser satisfatório.

Em geral, as aberturas de mancai de gás devem ser dispostas para distribuir a pressão de gás para a superfície de mancai de ar sem ocasionar estabilidade dinâmica. O gás presente no mancai é compressível e pode permitir uma situação na qual uma parte oscila com relação à segunda. Isto é conhecido como martelo de ar.

A fim de maximizar a estabilidade das duas superfícies, o restritor de fluxo de gás 30 pode ser disposto tão perto quanto possível das aberturas de mancai de gás, minimizando o volume de gás no espaço entre o restritor de fluxo de gás e a abertura.

A estabilidade dinâmica pode também ser aumentada minimizando a separação entre as duas superfícies. Isto pode aumentar a área efetiva como discutido acima. Além do mais, quando as duas superfícies estão próximas, um filme fino de gás pode ser aprisiona35 do, fornecendo amortecimento forte do movimento relativo das superfícies. Será apreciado que tal amortecimento aumentará a estabilidade. No entanto, quanto menor a separação entre as duas superfícies, maior as tolerâncias de fabricação exigidas para as duas superfí cies, aumentando o custo de produção da junta de suprimento rotativa ou válvula de distribuição de suprimento e aumentando o custo de manutenção.

O formato, disposição e layout das aberturas de mancai de gás podem também afetar a estabilidade da rotação. Por exemplo, dispor as aberturas de mancai de gás mais afas‘ 5 tadas do eixo de rotação da segunda superfície com relação à primeira superfície pode aumentar a estabilidade. Igualmente. Usar um número maior das aberturas de mancai de gás que são menores em tamanho pode também aumentar a estabilidade. Consequentemente, pode ser necessário equilibrar o custo de fornecer um número maior de aberturas de mancai de gás com o custo de usinar as primeira e segunda superfícies com uma tolerância relati10 vamente alta tal que a separação entre elas pode ser reduzida.

Como representado na Figura 2, o segundo anel 52 no qual as aberturas de mancai de gás 16 podem estar localizadas mais afastadas do eixo de rotação 13 que o primeiro anel 51 no qual as aberturas 23 na primeira superfície estão localizadas, maximizando a distância das aberturas de mancai de gás do eixo de rotação. No entanto, isto pode ser invertido. 15 Além do mais, as aberturas de mancai de gás e as aberturas na primeira superfície 1a que são conectadas nos orifícios de entrada 21 podem ser dispostas em mais que um anel circundando o eixo 13.

Independente da configuração da junta de suprimento rotativa ou válvula de distribuição de suprimento, ela pode ser usada em uma variedade de circunstâncias. Em particu20 lar, pode ser usada em um aparelho de manipulação de produtos. Na fabricação de muitos produtos, a automação de uma variedade de processos pode ser usada para assegurar que os custos de produção sejam mantidos em um mínimo. Igualmente, a automação dos processos de transferência pode também ser usada para assegurar que os custos são minimizados. Consequentemente, a disposição do aparelho de manipulação de produto, por e25 xemplo, para manipular produtos durante a fabricação, transporte, teste e/ou inspeção pode ser uma parte importante de um sistema de produção. Como mostrado na Figura 3, uma junta de suprimento rotativa ou uma válvula de distribuição rotativa de acordo com a presente invenção pode ser usada na formação de um aparelho de manipulação de produtos.

Por exemplo, um retentor de produto 45 pode ser montado em um ou mais ou todos 30 os orifícios de saída 31. Consequentemente, o retentor de produto 45 pode ser pelo menos periodicamente conectado por fluxo de fluido em um ou mais orifícios de entrada 21. Em particular, portanto, se um orifício de entrada 21 é conectado a uma fonte de subpressão, o retentor de produto 45 é, de modo correspondente, periodicamente conectado por fluxo de fluido na fonte de subpressão.

O retentor de produto 45 pode incluir uma parte de recepção 46 tendo um formato que corresponde com pelo menos uma parte de um produto 47. Um canal 48 pode ser fornecido entre a parte de recepção de produto 46 e o orifício de saída 31. Consequentemente, quando o orifício de saída e conectado na fonte de subpressão por meio da junta de suprimento rotativa ou válvula de distribuição rotativa, o produto 47 pode ser preso pela subpressão na parte de recepção de produto 46.

Será apreciado que tal disposição pode ser usada em uma variedade de situações. * 5 Por exemplo, em uma disposição usando uma junta de suprimento rotativa, o retentor de produto 45 pode ser continuamente conectado por fluxo de fluido na fonte de subpressão. Consequentemente, o produto 47 pode ser mantido firmemente na parte de recepção de produto 46 até ser fisicamente removido da parte de recepção de produto.

Alternativa ou adicionalrnente,. O retentor de produto 45 pode ser usado em conjunto to com uma válvula de distribuição rotativa em que, para uma data parte do ciclo de serviço, o retentor de produto 45 é conectado por fluxo de fluido a uma fonte de subpressão. Neste caso, o produto 47 é preso na parte de recepção de produto. No entanto, o retentor de produto 44 pode não estar conectado por fluxo de fluido na fonte de subpressão para outra parte do ciclo de serviço. Neste caso, o produto 47 pode cair longe da parte d recepção de pro15 duto 46 durante esta parte do ciclo de serviço.

Em uma variação adicional, durante uma parte adicional do ciclo de serviço, o retentor d produto 45 pode ser conectado para fluxo de fluido para um orifício de entrada diferente, conectado a um suprimento de pressão positiva. A pressão positiva pode, por exemplo, ser usada para expelir ativamente o produto 47 da parte de recepção de produto 46.

Alternativamente, no entanto, o aparelho de manipulação de produto pode ser configurado tal que, antes do retentor de produto 45 ser conectado na fonte de pressão positiva, o produto 47 cai afastado a parte de recepção de produto 46. Neste caso, a fonte de pressão positiva pode ser usada para fornecer um fluxo de gás, ou outro fluido, para o retentor de produto 45 a fim de remover quaisquer detritos que podem permanecer, por exemplo, na parte de 25 recepção de produto 46.

Em uma disposição particular, o retentor de produto 45 pode ser configurado para rodar com relação à segunda superfície, pelo menos enquanto retém o produto 47 na parte de recepção de produto 46. Tal disposição pode permitir que a provisão de um sistema de inspeção que inspeciona substancialmente todo o produto 47 que se estende da parte de 30 recepção de produto 46.

Será apreciado que o aparelho de manipulação de produto tal como aquela discutida acima pode ser fornecida para uma variedade de produtos diferentes. Por exemplo, o aparelho de manipulação de produto tal como aquele discutido acima pode ser fornecido para manipular produtos farmacêuticos tais como pílulas e cápsulas.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Junta de suprimento rotativa, tendo um ou mais orifícios de saída (31) e um ou mais orifícios de entrada (21) configurados para fornecer uma conexão para fluxo de fluido entre um ou mais orifícios de saída e um ou mais orifícios de entrada, a junta de suprimento

5 rotativa incluindo:

primeira e segunda superfícies (11 a, 12a), configuradas para rodar com relação uma a outra e para ter formatos correspondentes tal que, durante a rotação relativa das primeira e segunda superficies, uma separação substancíalmente constante pode ser mantida entre as primeira e segunda superfícies;

10 em que cada um dos drtos um ou mais orifícios de entrada (21) è conectado por fluxo de fiuido em pelo menos uma abertura (23) na primeira superfície (11a);

cada um dos ditos um ou mais orifícios de saída (31) é conectado por fluxo de fluído para pelo menos uma abertura (33) na segunda superfície (12a):

quando as primeira e segunda superfícies (lia, 12a) rodam com relação uma da

15 outra, pelo menos uma abertura (23) na primeira superfície (1la) é pelo menos periodicamente pelo menos parcialmente ailnhada com pelo menos uma abertura (33) na segunda superfície (12a), permitindo um fluxo de fluido de um ara outro; e

CARACTERIZADA por um manca! de gás, fornecido entre as primeira e segunda superfícies (11a_y 12a), configurado para fornecer uma força de rolamento entre as primeira e 20 segunda superfícies.
2. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADA pelo fato de que as aberturas (23, 33) nas primeira e segunda superfícies são dispostas tal que, quando as primeira e segunda superfícies (11a, 12a) rodam com reiação uma a outra, um ciclo de serviço exigido de conexão para fluxo de fluido entre um ou

25 mais orifícios de entrada (21) e os um ou mais orifícios de saída (31) é fornecido.
3. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADA pelo fato de que é adaptada de modo que pelo menos um dos orifícios de entrada (21) pode ser conectado a uma fonte de subpressâo,
4. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 3.

30 CARACTERIZADA pelo fato de que o mancai de gás è configurado para fornecer uma força entre as duas superfícies (11a, 12a) que compensa a força resultante exercida nas superfícies para uni-las, que é gerada quando o dite pelo menos um des orifícios de entrada (21) está conectado a uma fonte de subpressào.
5. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 1,

35 CARACTERIZADA pelo fato de que a junta de suprimento rotativa inclui uma estrutura de montagem (40), configurada para suportar a junta de suprimento rotativa quando a junta de suprimento rotativa é montada em outro componente;

< 2 a primeira superfície (11a) é montada na estrutura de montagem (40), tal que não roda com relação à estrutura de montagem; e a segunda superfície (12a) é montada na estrutura de montagem (40) tal que pode rodar com relação á estrutura de montagem e a primeira superfície em torno de um eixo < 13) 5 de rotação.
6. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 5, CARACTERIZADA pelo fato de que pelo menos uma das primeira e segunda superfícies (11a, 12a) é montada na estrutura de montagem (40) tal que pode mover em uma direção linear paralela ao eixo (13) de rotação da segunda superfície (12a) a fim de ajustar a sepa-

10 ração entre as primeira e segunda superfícies.
7. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADA pelo fato de que o dito mancai de gás inclui uma ou mais aberturas de manca! de gás (16) em peio menos uma das primeira e segunda superfícies (11a, 12a), que podem ser conectadas a um suprimento (17) de gás a uma pressão que é maior que a pres-

15 são ambiente, do ambiente em que a válvula de distribuição rotativa é usada a fim de fornecer um fluxo da gás (18) de mancai a partir das ditas aberturas de mancai de gás.
8. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 7, CARACTERIZADA pelo fato de que o dito mancai de gás inclui várias aberturas de mancai de gás (16) e o gás é suprido para pelo menos duas das ditas aberturas de mancai de gás

20 tal que a pressão de gás em cada uma pode ser controlada de modo independente.
9. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 7, CARACTERIZADA peio fato de que o dito mancai de gás é configurado tal que cada uma das ditas aberturas de mancai de gás (16) está associada com um restrítor de fluxo de gás respectivo (68).

25 10. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 5 e 7,

CARACTERIZADA pelo fato de que as ditas uma ou mais aberturas de mancai de gás (16) são fornecidas na dita primeira superfície (11a),

11. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 10, CARACTERIZADA peio fato de que as dita uma ou mais aberturas de mancai de gás (16)

30 são fornecidas ao longo de um anel (52) circundando o eixo de rotação (13) da segunda superfície (12a),

12. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 11, CARACTERIZADA pelo fato de que pelo menos uma dita abertura de manca! de gás (16) é configurada na forma de um canal ao longo de pelo menos parte do dito anel (52).

35 13. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 11,

CARACTERIZADA pelo fato de que a dita pelo menos uma abertura na primeira superfície (11a0), que é conectada para fluxo de fluido no dito pelo menos um orifício de entrada (21),

*. 3 é fornecida ao longo de um segundo anel (51) circundando o eixo de rotação (13) da segunda superfície (12a),

14. Junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADA peic fato de que o dito segundo anel (51) é fornecido mais perto do eixo

5 de rotação (13) da segunda superfície (12a) que o primeiro anel (52), fornecido com uma ou mais aberturas de mancai de gàs (16),

15. Aparelho de manipulação de produto, compreendendo uma junta de suprimento rotativa, de acordo com a reivindicação 3, e uma fonte de subpressão conectada ao dito pelo menos um orifício de entrada (21);
10 CARACTERIZADO pelo tato de que ainda compreende pelo menos um retentor de produto (45), montado na segunda superfície (12a) e conectado para fluxo de fluido em um dos ditos um ou mais orifícios de saída (31);

em que a junta de suprimento rotativa é configurada tal que o dito orifício de saída (31) é pelo menos periodicamente conectado para fluxo de fluido no dito pelo menos um 15 erifício de entrada (21) taí que o retentor de produto (45) è pelo menos periodicamente conectado para fluxo de fluido na dita fonte de subpressão.