BRPI0714441A2 - mÉtodo para fabricaÇço de um conjunto de elementos àpticos incomuns - Google Patents

Abstract

MÉTODO PARA FABRICAÇçO DE UM CONJUNTO DE ELEMENTOS àPTICOS INCOMUNS. A presente invenção refere-se a um método para fabricação de um conjunto (18) de elementos ópticos incomuns (20). O método compreende as etapas de fornecimento de um substrato possuindo uma superfície inicial com elementos formadores, e controlados a partir do funcionamento de uma região localizada na primeira superficie do substrato. O funcionamento controlado possui uma magnitude suficiente para deformar um ou mais elementos de formação em um local afetado ao redor da região localizada.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para "MÉTODO PARA FABRICAÇÃO DE UM CONJUNTO DE ELEMENTOS ÓPTICOS IN- COMUNS".

A presente invenção refere-se a um revestimento retrorreflexivo que é usado para refletir luz a partir de um ponto de origem e de volta a um ponto de observação. Por exemplo, em uma aplicação para segurança em estradas (por exemplo, uma placa na estrada, um marcador no asfalto), o farol dianteiro de um veículo reflete-se de volta aos olhos do motorista do veículo. Quando a luz é refletida de volta ao ponto de observação, o ângulo de divergência α pode variar de 0o a mais de 3o em qualquer ângulo rotacio- nal ε fornecido.

O valor do ângulo de divergência α e do ângulo rotacional ε em qualquer situação fornecida depende da geometria da origem (por exemplo, o farol dianteiro) e o observador (por exemplo, o motorista), e a distância da origem/observador (por exemplo, o veículo) ao revestimento retrorreflexivo. Por exemplo, o ângulo de divergência α para o farol dianteiro direito de um caminhão e seu motorista a uma distância de cerca de 40 metros de uma placa na estrada será de aproximadamente 3o, enquanto o ângulo de diver- gência α para o farol dianteiro esquerdo de um automóvel e seu motorista a uma distância de cerca de 600 metros de uma placa na estrada será de a- proximadamente 0.05°. O valor do ângulo rotacional ε será diferente para os faróis dianteiros direito e esquerdo de um veículo, e também dependerá da geometria do veículo e do motorista e da posição da placa na estrada.

O revestimento retrorreflexivo ideal usado em placas de estrada produzirá um padrão de luz retrorrefletida possuindo intensidade suficiente por uma variação adequada de ângulos de divergência α e uma ampla vari- edade de ângulos de rotação ε. Por exemplo, mesmo uma placa de estrada retrorreflexiva não-urbana deve retrorrefletir a luz através de um ângulo de divergência α a partir do farol dianteiro direito de um caminhão de volta a seu motorista a uma distância de cerca de 120 metros a partir da placa na estrada. Da mesma forma, se o revestimento estiver em orientação randômi- ca em uma placa na estrada, a retrorreflexão é necessária em todos os valo- res do ângulo rotacional ε.

Para aumentar a divergência geométrica média de um material retrorreflexivo, a introdução de aberrações intencionais nos elementos retror- reflexivos é conhecida. Por exemplo, com microcubos, as aberrações podem ser introduzidas e isso pode resultar em ângulos diedrais que se desviam levemente de 90°. Historicamente, essas aberrações originaram US3712706, US4775219, US4938563, US6015214, US2003/007815A1, etc. US6871966 descreve um método de introdução de geometrias produtoras de aberrações por funcionamento controlado do substrato master após mo- delagem ou por funcionamento controlado de substratos de cópias feitas a partir do substrato master. (Esta patente está designada ao cessionário da presente invenção e sua descrição completa está aqui incorporada por refe- rência). Especificamente, o substrato é trabalhado em regiões localizadas em sua superfície carregadora de não-elementos (exemplo, a superfície o- posta à superfície na qual os elementos de formação são carregados) a uma magnitude suficiente para mudar a geometria dos elementos ópticos na su- perfície oposta carregadora de elementos. SUMÁRIO DA INVENÇÃO

A presente invenção fornece um método de produzir um conjun- to de elementos retrorreflexivos incomuns onde a superfície carregadora de elementos de um substrato possui funcionamento controlado. Estas e outras características da invenção são totalmente descritas e particularmente indi- cadas nas reivindicações. As seguintes descrições e desenhos apresenta- dos em detalhes especificam certas modalidades ilustrativas da invenção que são indicativas de algumas das várias maneiras nas quais os princípios da invenção podem ser empregados. DESENHOS

A figura 1 é uma vista lateral do revestimento retrorreflexivo que possui um conjunto de elementos retrorreflexivos incomuns de acordo com a presente invenção.

A figura 2 é uma vista da superfície da variedade de elementos retrorreflexivos incomuns. A figura 3 é uma vista a curta distância de um elemento retrorre-

flexivo.

A figura 4 é uma vista da superfície da variedade de elementos retrorreflexivos não-incomuns.

A figura 5 é um diagrama esquemático de um método de criação

do revestimento retrorreflexivo.

A figura 6 é uma vista esquemática do funcionamento controlado sendo realizado em um substrato.

A figura 7 é uma vista esquemática do funcionamento controlado sendo realizado em um substrato enquanto uma cópia eletroformada é ane- xada a ele e a um local afetado ao redor. DESCRIÇÃO DETALHADA

Referindo-se agora aos desenhos, e inicialmente às figuras 1 e 2, o revestimento retrorreflexivo 10 de acordo com a presente invenção é mostrado. O revestimento retrorreflexivo 10 compreende uma resina clara (por exemplo, acrílico, policarbonato, vinil, etc.), o material de revestimento 12 possuindo uma superfície dianteira 14 e uma superfície traseira 16 na qual um conjunto 18 de elementos retrorreflexivos incomuns 20 é formada. Os elementos retrorreflexivos 20 ilustrados são elementos cúbicos, e, mais particularmente, microcubos. Como é melhor visualizado referindo-se adicio- nalmente à figura 3, cada elemento retrorreflexivo 20 compreende três faces mutuamente perpendiculares 22 que encontrem um ápice 24 e que intersec- tam uns com os outros nas margens 26 formando três ângulos diedrais. Po- rém, outros elementos retrorreflexivos são possíveis com, e contemplados pela presente invenção. Além disso, os elementos 20 não necessitam ser retrorreflexivos, uma vez que podem ser qualquer tipo de elemento óptico (incluindo elementos micro-ópticos), onde as aberrações são intencional- mente apresentadas para fins de melhorar uma propriedade óptica.

Ao discutir outras propriedades ópticas da variedade 18 e/ou dos elementos retrorreflexivos 20, é útil usar um conjunto análoga 18' como base para comparação. A conjunto análogo 18', mostrada na figura 4, possui o mesmo padrão de variedade da variedade 18 e possui elementos retrorrefle- xivos 20' que são todos idênticos aos elementos retrorreflexivos 20 antes da aberração. Por exemplo, na modalidade do canto cúbico ilustrado, os ele- mentos retrorreflexivos 20' do conjunto análogo 18' podem cada um incluir três ângulos diedrais que são exatamente (ou quase exatamente) 90°. A conjunto análogo não-incomum 18' possuiria certas qualidades ópticas totais incluindo uma divergência geométrica média e uma retrorrefletância total.

De acordo com a presente invenção, as aberrações nos elemen- tos retrorreflexivos 20 são de magnitude suficiente para fazer com que a va- riedade 18 possua uma divergência geométrica média maior (por exemplo, pelo menos 0,2°, 0,5°, 1o, e/ou 0,1°) do que a variedade não-incomum 18' (por exemplo, 0o a 0,5°). Adicionalmente ou alternativamente, a variedade 18 pode possuir pelo menos 90%, 94% ou 98% de preservação da retrorrefle- tância total quando comparada com a variedade não-incomum 18', cujo po- Iimento e/ou precisão da margem é substancialmente o mesmo dos elemen- tos não-incomuns 20'.

Referindo-se agora à figura 5, um método para o revestimento retrorreflexivo 10 é mostrado esquematicamente. Neste método, um substra- to em branco 100 é trabalhado para produzir um substrato master 110 que possui uma superfície 116 carregando elementos formadores 120. Os ele- mentos formadores 120 podem ser do mesmo sexo ou do sexo oposto dos elementos retrorreflexivos 20 e, em qualquer evento, possuem uma geome- tria correspondente à geometria desejada dos elementos não-incomuns 20'. Na modalidade ilustrada, o substrato master 110 inclui elementos machos 120.

O substrato master 110 é então usado para gerar (por exemplo,

por eletroformação) um ou mais substratos cópia 110. Os substratos cópia 110 possuem uma superfície 116 que carrega elementos de formação 120, que são de sexo oposto dos elementos de formação 120 do substrato mas- ter 110. Os substratos cópia 110 podem ser montados em um substrato de montagem 210. O substrato de montagem 210 pode ser usado para gerar (por exemplo, por eletroformação) os próximos substratos cópia em ordem 110, que possuem uma superfície 116 que carrega elementos de formação 120, que são do sexo oposto dos elementos de formação 220 do substrato de formação 210. Os substratos cópia de segunda ordem 110 podem ser montados juntos em um substrato de montagem 210 de segunda ordem. O substrato de montagem de segunda ordem pode ser usado para gerar (por exemplo, por eletroformação) os substratos de terceira ordem 110 e a se- qüência de cópia pode ser continuada de maneira similar até que os substra- tos cópia de produção M10 sejam produzidos. A ferramenta de produção M10 terá uma superfície variada M16 que carrega elementos de formação M20, que são do sexo oposto dos elementos retrorreflexivos 20. A ferramen- ta de produção M10 pode então ser usada para formar (por exemplo, por gofragem, moldagem, moldagem por compressão, etc.) os elementos retror- reflexivos 20 na superfície 16 da folha plástica 12 para produzir o revesti- mento retrorreflexivo 10.

Como mostrado esquematicamente na figura 6, o funcionamento controlado é realizado em pelo menos uma área localizada 130/230 na pri- meira superfície 116/216 no substrato master 110, um substrato cópia 110, e/ou um substrato de montagem 210. A etapa de funcionamento controlado pode ser realizada em uma ou mais etapas das etapas de có- pia/agrupamento. Antes da etapa de funcionamento controlado, a geometria dos elementos incomuns 20' no conjunto análogo 18'. Após a etapa de fun- cionamento controlado, os elementos de formação 120/220 no substrato tra- balhado 110/210, e os elementos de formação 110/220 nos substratos 110/210 copiados a partir do substrato trabalhado, corresponderiam aos e- Iementos retrorreflexivos incomuns 20 na variedade 18. O funcionamento controlado pode ser realizado no substrato

master 110, os substratos cópia 110, ou os substratos de montagem 210.

Os substratos 110/210 podem ser feitos de metal ou plástico. Na modalidade ilustrada, por exemplo, os substratos 110/210 podem ser feitos de níquel eletroformado. Devido à superfície carregadora de elementos 116/216 estar em funcionamento (em oposição à superfície oposta), a pre- sente invenção pode acomodar um conjunto de espessuras de substrato, mesmo maiores do que 10,00 mm. Dito isso, o substrato 110/210 pode pos- suir uma espessura na variação de 0,01 mm a 2,0 mmm e/ou na variação de 2,0 a 10,0 mm. O substrato master 110 pode ser mais espesso do que os outros substratos (por exemplo, maior do que 10,0 mm).

O funcionamento da superfície do substrato 116/216 deve adi- cionar, remover, ou modificar o material nas áreas localizadas nesta superfí- cie, ou simplesmente aplicar pressão no local, temperatura, ou outra pertur- bação. O funcionamento pode ser de um grau suficiente para causar uma mudança no estresse do material, resultando, por exemplo, em uma mudan- ça momentânea de um ou mais ângulos diedrais. Preferencialmente, o fun- cionamento da superfície de variação 116/216 é de magnitude suficiente- mente pequena para não danificar o polimento das faces e/ou precisão das margens dos elementos de formação 120/220 e/ou elementos 120/220 adja- centes. Como mostrado na figura 7, o funcionamento da superfície 116/216 de um substrato 110/210 pode ser realizado enquanto uma cópia eletrofor- mada 110/210 ainda estiver anexada a ele.

O funcionamento da superfície de variação 116/216 pode ser atingido por um conjunto de métodos, incluindo a aplicação de energia, pro- dutos químicos, ou pressão à segunda superfície. Energia pode ser aplicada, por exemplo, como energia elétrica ou calor concentrado, como por laser infravermelho. Pressão pode produzir distensão localizada envolvendo o movimento de material que preserva a massa de material enquanto cria es- tresse. A compressão de partículas (por exemplo, jato de areia bem superfi- cial) também pode ser empregada.

Como mostrado esquematicamente na figura 8, quando um fun- cionamento controlado é realizado em uma região localizada 130/2301 na primeira superfície da região do substrato, mas também naquelas em um local afetado 140/240 incluindo e cercando a área localizada 130/230. A mu- dança nos elementos de formação 120/220 no local 140/240 normalmente não será uniforme e mudará dependendo, por exemplo, da distância da área localizada 130/230. Por exemplo, no exemplo do canto cúbico ilustrado, os elementos de formação 120/220 próximos à região localizada 130/230 pode- riam possuir uma mudança maior em seus ângulos diedrais do que os ele- mentos de formação 120/220 que estão afastados da região localizada 130/230.

Como indicado acima, o funcionamento controlado é realizado em pelo menos uma região localizada 130/230. Tipicamente, uma etapa de funcionamento controlado será realizada em várias regiões localizadas 130/230 do substrato 110/210. A localização destas regiões 130/230 na su- perfície do substrato 116/216 e/ou relativas umas às outras pode estar em padrão predeterminado ou semi-randômico (por exemplo, uma distribuição que está sob controle estatístico, mas não-controlada em todos os detalhes). Adicionalmente ou alternativamente, a magnitude do funcionamento contro- lado pode ser a mesma ou diferente em cada área localizada 130/230.

Pode-se agora estimar que a presente invenção forneça um mé- todo de produzir um conjunto 18 de elementos ópticos incomuns 20. Embora a invenção tenha sido mostrada e descrita com relação a certas modalida- des de preferência, é óbvio que o equivalente e alterações e modificações óbvias ocorrerão a outros habilitados na tecnologia após a leitura e compre- ensão deste relatório descritivo. A presente invenção inclui todas as altera- ções e modificações e está limitada apenas pelo escopo das reivindicações.

Um elemento óptico é um elemento que possui uma ou mais faces que interagem com a luz.

Uma variedade é um arranjo de um grande número de elemen- tos ópticos.

Um elemento micro-óptico é um elemento óptico que possui di- mensões menores ou iguais a 1 mm.

Um elemento de canto cúbico é um elemento que compreende mutuamente a intersecção de faces (por exemplo, três faces) que possuem ângulos diedrais que possuem aproximadamente um valor predeterminado (por exemplo, 90°).

Um microcubo é um elemento de canto cúbico que possui uma área cúbica total de menos de 1 mm2. A área cúbica total é a área englobada pelo formato do cubo definido pela projeção do perímetro do elemento do canto cúbico na direção do principal raio refratado. Retro-reflexão é a reflexão onde os raios refletidos são preferen- cialmente devolvidos em direções próximas ao oposto da direção dos raios incidentes, esta propriedade sendo mantida por variações amplas da direção dos raios incidentes. Um retro-refletor é uma superfície ou aparelho que pro- duz retrorreflexão.

Um elemento retrorreflexivo é um elemento óptico que produz retrorreflexão.

Um material retrorreflexivo é um material que possui uma cama- da contínua de elementos retrorreflexivos. Revestimento retrorreflexivo é um material retrorreflexivo pré-montado com um filme de espessura fina.

O eixo de iluminação é a linha média a partir do centro do retro- refletor através do ponto de origem. O ponto de origem é a localização da origem da iluminação. O centro retro-refletor é o ponto sobre ou próximo a um retro-refletor que é projetado para ser a localização do aparelho. O ângulo de entrada β é o ângulo entre o eixo de iluminação e o

eixo retro-refletor. O eixo retro-refletor é uma linha média projetada a partir do centro retro-refletor em uma direção centralmente entre as direções pre- tendidas da iluminação.

O eixo de observação é a linha média a partir do centro do retro- refletor através do ponto de observação. O ponto de observação é a locali- zação do observador.

O ângulo de divergência α é o ângulo entre o eixo de iluminação e o eixo de observação. Este ângulo também é chamado de ângulo de ob- servação, com todos os raios com uma direção fornecida de iluminação re- trorrefletida por um retro-refletor.

O ângulo rotacional ε é o ângulo em um plano perpendicular ao eixo do retro-refletor a partir do plano médio de observação ao eixo detalha- do medido em sentido anti-horário a partir de um ponto de vista no eixo re- tro-refletor. O plano médio de observação é o plano médio que se origina na linha do eixo de iluminação e contém o eixo de observação. O eixo detalha- do é uma linha média projetada a partir do centro do retro-refletor perpendi- cular ao eixo do retro-refletor. O plano médio detalhado é o plano médio que se origina na linha do eixo retro-refletor e contém o eixo detalhado.

A retrorrefletância total é a porcentagem de luz retrorrefletida pelo aparelho óptico.

Um elemento de formação é um elemento usado para formar, ou usado para formar elementos de formação para formar um elemento óptico onde o elemento de formação possuirá faces correspondentes às faces do elemento óptico a ser formado.

Um substrato é um material que possui uma superfície que car- rega um ou mais elementos ópticos ou um ou mais elementos de formação. Um elemento óptico macho é um elemento óptico onde as faces

do elemento projetam-se para fora da primeira superfície do substrato.

Um elemento óptico fêmea é um elemento óptico onde as faces do elemento rebaixam-se para dentro da primeira superfície do substrato.

Um elemento de formação macho é um elemento óptico onde as faces do elemento projetam-se para fora da primeira superfície do substrato.

Um elemento de formação fêmea é um elemento óptico onde as faces do elemento rebaixam-se para dentro da primeira superfície do subs- trato.

A espessura do substrato para um substrato que carrega ele- mentos machos é a espessura do material a partir do qual os elementos se projetam. A espessura do substrato para um substrato que carrega elemen- tos fêmeas é a espessura total do material.

Cópia é a reprodução de elementos de formação a partir de um substrato em outro substrato por, por exemplo, eletroformação, moldagem, gofragem, etc.

O substrato master é o substrato no qual os elementos de for- mação são inicialmente formados de maneira não-cópia como, por exemplo, por corte ou metragem.

A cadeia de cópia é uma série de cópias que se originam de uma entidade original (por exemplo, um substrato master) por produção de uma cópia (ou cópias) da entidade original, e então produzindo uma ou mais cópias da cópia (ou cópias) da entidade original, e assim por diante. A cópia de primeira ordem é um substrato que formou elementos diretamente copiados do substrato master.

A cópia de η ordem é um substrato que formou elementos que são cópias a partir da ligação η em uma cadeia de cópia contendo n-1 Iiga- ções cópias intermediárias entre a entidade original e a cópia de η ordem. Por exemplo, uma cópia de 3a ordem é uma cópia da cópia de 2a ordem, que era uma cópia da cópia de 1a ordem, que era uma cópia direta da entidade original.

A ferramenta de produção é a ferramenta que carrega os ele- mentos de formação usados para formar os elementos ópticos.

Uma aberração refere-se a uma pequena mudança na geometria de um elemento óptico. Para elementos de canto cúbico, refere-se mais es- pecificamente a uma pequena mudança em um ou mais dos ângulos die- drais do elemento, esta mudança sendo suficiente para causar uma mudan- ça na divergência geométrica média do elemento óptico ou um elemento óptico formado a partir dele ou de suas cópias.

A mudança angular produzida pela aberração normalmente será menor do que 1o. O verbo aberrar significa formar uma aberração.

Um elemento incomum é um elemento óptico ou um elemento de formação que possui uma aberração.

O funcionamento controlado é adicionar, remover, modificar, dis- torcer, deformar, ou perturbar de maneira controlada em oposição a, por e- xemplo, uma maneira randômica e/ou não intencional.

Uma área localizada é a pequena área da variedade na qual o funcionamento controlado é realizado (por exemplo, onde a energia, química ou pressão são realmente aplicadas).

Um local afetado é uma área na área que inclui e cerca a área localizada onde os elementos são aberrados como resultado de um trabalho controlado na área localizada.

Claims (38)

1. Método para um substrato (110/210) para montagem em uma ferramenta de produção (M10) para fazer um conjunto (18) de elementos ópticos incomuns (20), e dito método compreendendo as etapas de: fornecer um substrato (110/210) possuindo uma superfície inicial (116/216) com elementos de formação (120/220), em que a geometria dos elementos de formação (120/220) correspem que à geometria dos elemen- tos ópticos não-incomuns (20') em um conjunto análoga (18'); e trabalharem uma região localizada (130/230) na primeira super- fície do substrato (110/210), com o trabalho sendo de magnitude suficiente para aberrar os elementos de formação (120/220) em um local afetado (140/240), incluindo e cercando a região localizada (130/230). em que tal funcionamento controlado é adicionar, remover, modi- ficar, distorcer, deformar, ou perturbar de maneira controlada; em que, o dito região localizada é a região muito pequena na variedade em que o funcionamento controlado é realizado; em que o dito local afetado está em uma área incluindo e cer- cando a área localizada em que os elementos de formação são aberrados como resultado do funcionamento controlado na área localizada; e em que a mudança nos elementos de formação 120/220 no local afetado (140/240) não é uniforme e mudanças dependem da distância a par- tir da região localizada (130/230).

2. Método de acordo com a reivindicação anterior, em que a dita etapa de funcionamento é realizada de forma que a variedade (18) possua uma divergência média geométrica maior do que o conjunto análogo (18').

3. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações ante- riores, em que tal etapa de funcionamento é realizada de forma que a varie- dade (18) possua uma retrorrefletância que seja pelo menos 90% do conjun- to análogo (18').

4. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações ante- riores, em que a variedade (18) possui uma retrorrefletância total que seja pelo menos 94% do conjunto análogo (18').

5. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações ante- riores, em que a variedade (18) possui uma retrorrefletância total que seja pelo menos 98% do conjunto análogo (18').

6. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações ante- riores, em que os elementos ópticos (20) são elementos retrorreflexivos.

7. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações ante- riores, em que os elementos ópticos (20) são elementos de canto cúbico.

8. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações ante- riores, em que os elementos ópticos (20) são elementos micro-ópticos.

9. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações ante- riores, em que os elementos ópticos (20) são microcubos.

10. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações an- teriores, em que tais etapas de funcionamento resultam em um ângulo die- dral de um ou mais elementos formadores (120/120/220) sendo diferentes de 90°.

11. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 10, em que o substrato (110) é um substrato master.

12. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 10, em que o substrato (110) é uma cópia de outro substrato (110/210).

13. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 10, em que o substrato (210) é um substrato de montagem.

14. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações an- teriores, em que tal etapa de funcionamento é realizada enquanto uma cópia eletroformada (110/210) ainda está fixada ao substrato (110/210).

15. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações an- teriores, em que a magnitude do funcionamento é suficientemente pequena para que a polidez das faces (122/222) dos elementos de formação (120/220) não seja substancialmente danificada.

16. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações an- teriores, em que a magnitude do funcionamento é suficientemente pequena para que a precisão das margens (126/226) dos elementos de formação (120/220) não seja substancialmente danificada.

17. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 16, em que o substrato (110/210) possui uma espessura na variação de 0,01 mm a 2,0 mm.

18. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 16, em que o substrato (110/210) possui uma espessura na variação de 2,0 mm a 10,0 mm.

19. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 16, em que o substrato (110/210) possui uma espessura maior do que 10,0 mm.

20. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 19, em que o substrato (110/210) é feito de um metal.

21. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações an- teriores, em que o substrato (110/210) é níquel eletroformado.

22. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 19, em que o substrato (110/210) é feito de plástico.

23. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 19, em que a dita etapa de funcionamento é atingida por aplicação de pres- são.

24. Método de acordo com a reivindicação anterior, em que a dita aplicação de pressão induz à distorção localizada do substrato (110/210).

25. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 19, em que tal etapa de funcionamento é atingida por aplicação de energia.

26. Um método de acordo com reivindicação anterior, em que a aplicação de energia é selecionada a partir da aplicação de energia a laser e a aplicação de energia focada em calor.

27. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 19, em que tal funcionamento é atingido pela aplicação de produtos quími- cos.

28. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- 19, em que o dito funcionamento é atingido por colisão de partículas.

29. Método de acordo com qualquer uma das reivindicações 1- -19, em que a etapa de funcionamento compreende ativar uma pluralidade de áreas localizadas (130/230) na primeira superfície do substrato (110/210).

30. Método de acordo com a reivindicação 29, em que a magni- tude da etapa de funcionamento é a mesma em pelo menos algumas regi- ões de pluralidade localizadas (130/230).

31. Método de acordo com a reivindicação 29, em que a magni- tude da etapa de funcionamento varia em pelo menos algumas regiões de pluralidade localizadas (130/230).

32. Método para uma ferramenta (410) para produzir um conjun- to (18) de elementos ópticos incomuns (20), o dito método compreendendo a etapa de montar o substrato trabalhado (110/210), feito pelo método como definido em qualquer uma das reivindicações 1-32, ou cópias do mesmo, em uma ferramenta de produção (M10).

33. Método para um conjunto (18) de elementos ópticos inco- muns (20), o dito método compreendendo as etapas de usar a ferramenta de produção (M10) feita pelo método de acordo com a reivindicação 33 para formar um conjunto (18) de elementos retrorreflexivos (20).

34. Montagem de formação intermediária (110/210) para produ- zir revestimento retrorreflexivo (10), tal montagem (110/210) compreendendo um substrato inicial (110/210) feito pelo método como definido em qualquer uma das reivindicações 1-32, e um substrato cópia (110) eletroformado no primeiro substrato (110/210).

35. Revestimento retrorreflexivo (10) compreendendo uma folha de material (12) possuindo uma superfície frontal (14) e uma superfície tra- seira (16) na qual um conjunto (18) de elementos retrorreflexivos (20) são formados como estimado na reivindicação 34.

36. Revestimento retrorreflexivo (10) de acordo com reivindica- ção anterior, em que a variedade (18) possui uma retrorrefletância que é pe- lo menos 90% do conjunto análogo (18').

37. Revestimento retrorreflexivo (10) de acordo com reivindica- ção anterior, em que a variedade (18) possui uma retrorrefletância que é pe- lo menos 94% do conjunto análogo (18').

38. Revestimento retrorreflexivo (10), de acordo com as reivindi- cações 35-37, em que a variedade (18) possui uma retrorrefletância que é pelo menos 98% do conjunto análogo (18').