RU2009104747A - Способ изготовления решетки аберрационных оптических элементов - Google Patents

Способ изготовления решетки аберрационных оптических элементов Download PDF

Info

Publication number
RU2009104747A
RU2009104747A RU2009104747/28A RU2009104747A RU2009104747A RU 2009104747 A RU2009104747 A RU 2009104747A RU 2009104747/28 A RU2009104747/28 A RU 2009104747/28A RU 2009104747 A RU2009104747 A RU 2009104747A RU 2009104747 A RU2009104747 A RU 2009104747A
Authority
RU
Russia
Prior art keywords
substrate
matrix
processing
total
elements
Prior art date
Application number
RU2009104747/28A
Other languages
English (en)
Other versions
RU2443003C2 (ru
Inventor
Стивен Р. ЧЕПМЭН (US)
Стивен Р. ЧЕПМЭН
Кейджиан Кевин ХУАНГ (US)
Кейджиан Кевин ХУАНГ
Фенг ВУ (US)
Фенг ВУ
Original Assignee
Эйвери Деннисон Корпорейшн (Us)
Эйвери Деннисон Корпорейшн
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Эйвери Деннисон Корпорейшн (Us), Эйвери Деннисон Корпорейшн filed Critical Эйвери Деннисон Корпорейшн (Us)
Publication of RU2009104747A publication Critical patent/RU2009104747A/ru
Application granted granted Critical
Publication of RU2443003C2 publication Critical patent/RU2443003C2/ru

Links

Classifications

    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/12—Reflex reflectors
    • G02B5/122—Reflex reflectors cube corner, trihedral or triple reflector type
    • G02B5/124—Reflex reflectors cube corner, trihedral or triple reflector type plural reflecting elements forming part of a unitary plate or sheet
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B29—WORKING OF PLASTICS; WORKING OF SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE IN GENERAL
    • B29D—PRODUCING PARTICULAR ARTICLES FROM PLASTICS OR FROM SUBSTANCES IN A PLASTIC STATE
    • B29D11/00—Producing optical elements, e.g. lenses or prisms
    • B29D11/00605—Production of reflex reflectors
    • G—PHYSICS
    • G02—OPTICS
    • G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B5/00—Optical elements other than lenses
    • G02B5/12—Reflex reflectors
    • G02B5/122—Reflex reflectors cube corner, trihedral or triple reflector type

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Health & Medical Sciences (AREA)
  • Manufacturing & Machinery (AREA)
  • Ophthalmology & Optometry (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
  • Optical Elements Other Than Lenses (AREA)
  • Laser Beam Processing (AREA)
  • Illuminated Signs And Luminous Advertising (AREA)

Abstract

1. Способ изготовления подложки (110/210) для сборки с образованием технологического инструмента (М10) для изготовления матрицы (18) искаженных оптических элементов (20), включающий: ! обеспечение подложки (110/210), имеющей первую поверхность (116/216) с расположенными на ней формирующими элементами (120/220), геометрия которых соответствует геометрии неискаженных оптических элементов (20') в аналогичной матрице (18”); и ! контролируемую обработку локализованного участка (130/230) на первой поверхности подложки (110/210) в достаточной степени для искажения формирующих элементов (120/220) в месте (140/240), подвергнутом воздействию, включающем локализованный участок (130/230) и окружающем его, ! причем указанная контролируемая обработка представляет собой добавление, удаление, модифицирование, искривление, деформирование или разрушение, производимые контролируемым способом; ! локализованный участок представляет собой весьма малый участок на матрице, подвергаемой контролируемой обработке; ! указанное место, подвергнутое воздействию, представляет собой участок, включающий локализованный участок и окружающий его, причем формирующие элементы искажают в результате контролируемой обработки на локализованном участке, а ! изменение формирующих элементов 120/220 в месте (140/240), подвергнутом воздействию, не является одинаковым и варьируется в зависимости от расстояния до локализованного участка (130/230). ! 2. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку осуществляют таким образом, что матрица (18) имеет большее среднее геометрическое расхождение, чем аналогичная матрица (18'). ! 3. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку осуществляют таким образом, �

Claims (38)

1. Способ изготовления подложки (110/210) для сборки с образованием технологического инструмента (М10) для изготовления матрицы (18) искаженных оптических элементов (20), включающий:
обеспечение подложки (110/210), имеющей первую поверхность (116/216) с расположенными на ней формирующими элементами (120/220), геометрия которых соответствует геометрии неискаженных оптических элементов (20') в аналогичной матрице (18”); и
контролируемую обработку локализованного участка (130/230) на первой поверхности подложки (110/210) в достаточной степени для искажения формирующих элементов (120/220) в месте (140/240), подвергнутом воздействию, включающем локализованный участок (130/230) и окружающем его,
причем указанная контролируемая обработка представляет собой добавление, удаление, модифицирование, искривление, деформирование или разрушение, производимые контролируемым способом;
локализованный участок представляет собой весьма малый участок на матрице, подвергаемой контролируемой обработке;
указанное место, подвергнутое воздействию, представляет собой участок, включающий локализованный участок и окружающий его, причем формирующие элементы искажают в результате контролируемой обработки на локализованном участке, а
изменение формирующих элементов 120/220 в месте (140/240), подвергнутом воздействию, не является одинаковым и варьируется в зависимости от расстояния до локализованного участка (130/230).
2. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку осуществляют таким образом, что матрица (18) имеет большее среднее геометрическое расхождение, чем аналогичная матрица (18').
3. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку осуществляют таким образом, что матрица (18) имеет суммарное световозвращение, составляющее по меньшей мере 90% от суммарного световозвращения аналогичной матрицы (18').
4. Способ по п.1, в котором матрица (18) имеет суммарное световозвращение, составляющее по меньшей мере 94% от суммарного световозвращения аналогичной матрицы (18').
5. Способ по п.1, в котором матрица (18) имеет суммарное световозвращение, составляющее по меньшей мере 98% от суммарного световозвращения аналогичной матрицы (18”).
6. Способ по п.1, в котором оптические элементы (20) представляют собой световозвращающие элементы.
7. Способ по п.1, в котором оптические элементы (20) представляют собой угловые кубические элементы.
8. Способ по п.1, в котором оптические элементы (20) представляют собой микрооптические элементы.
9. Способ по п.1, в котором оптические элементы (20) представляют собой микрокубы.
10. Способ по п.1, в котором в результате вышеуказанной стадии обработки двугранный угол по меньшей мере одного из формирующих элементов (120/120/220) не равен 90°.
11. Способ по п.1, в котором подложка (110) представляет собой исходную подложку.
12. Способ по п.1, в котором подложка (110) представляет собой копию другой подложки (110/210).
13. Способ по п.1, в котором подложка (210) представляет собой сборочную подложку.
14. Способ по п.1, в котором при осуществлении вышеуказанной обработки копия (110/210), изготовленная методом гальванопластики, по-прежнему прикреплена к подложке (110/210).
15. Способ по п.1, в котором степень обработки является небольшой, так что гладкость поверхностей (122/222) формирующих элементов (120/220), по существу, не нарушена.
16. Способ по п.1, в котором степень обработки является небольшой, так что острота граней (126/226) формирующих элементов (120/220), по существу, не нарушена.
17. Способ по п.1, в котором толщина подложки (110/210) лежит в диапазоне примерно от 0,01 до 2,0 мм.
18. Способ по п.1, в котором толщина подложки (110/210) лежит в диапазоне примерно от 2,0 до 10,0 мм.
19. Способ по п.1, в котором толщина подложки (110/210) больше чем примерно 10,0 мм.
20. Способ по п.1, в котором подложка (110/210) выполнена из металла.
21. Способ по п.20, в котором металл представляет собой никель, полученный методом гальванопластики.
22. Способ по п.1, в котором подложка (110/210) выполнена из пластмассы.
23. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку выполняют путем применения давления.
24. Способ по п.23, в котором вышеуказанное применение давления вызывает локализованную деформацию подложки (110/210).
25. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку выполняют путем применения энергии.
26. Способ по п.25, в котором в качестве применяемой энергии используют энергию, выбранную между лазерной энергией и сфокусированной тепловой энергией.
27. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку выполняют путем применения химикатов.
28. Способ по п.1, в котором вышеуказанную обработку выполняют посредством бомбардировки частицами.
29. Способ по п.1, в котором вышеуказанная обработка включает обработку большого количества локализованных участков (130/230) на первой поверхности подложки (110/210).
30. Способ по п.29, в котором степень обработки является одинаковой по меньшей мере на некоторых из указанных локализованных участков (130/230).
31. Способ по п.29, в котором степень обработки варьируют по меньшей мере на некоторых из указанных локализованных участков (130/230).
32. Способ изготовления инструмента (410) для получения матрицы (18) искаженных оптических элементов (20), включающий сборку подложки (110/210), изготовленной способом по любому из пп.1-31, или ее копии или копий с образованием технологического инструмента (М10).
33. Способ изготовления матрицы (18) искаженных оптических элементов (20), включающий использование технологического инструмента (М10), изготовленного способом согласно п.32, для формирования матрицы (18) световозвращающих элементов (20).
34. Промежуточный формирующий сборочный блок (110/210) для получения световозвращающего покрытия (10), включающий первую подложку (110/210), изготовленную способом согласно любому из пп.1-31, и копию подложки (110), изготовленную методом гальванопластики на первой подложке (110/210).
35. Световозвращающее покрытие (10), включающее слой материала (12), имеющий переднюю поверхность (14) и заднюю поверхность (16), на которой сформирована матрица (18) световозвращающих элементов (20) по п.34.
36. Световозвращающее покрытие (10) по п.35, в котором матрица (18) имеет суммарное световозвращение, составляющее по меньшей мере 90% от суммарного световозвращения аналогичной матрицы (18').
37. Световозвращающее покрытие (10) по п.35, в котором матрица (18) имеет суммарное световозвращение, составляющее по меньшей мере 94% от суммарного световозвращения аналогичной матрицы (18').
38. Световозвращающее покрытие (10) по п.35, в котором матрица (18) имеет суммарное световозвращение, составляющее по меньшей мере 98% от суммарного световозвращения аналогичной матрицы (18').
RU2009104747/28A 2006-07-17 2007-07-05 Способ изготовления матрицы искаженных оптических элементов RU2443003C2 (ru)

Applications Claiming Priority (4)

Application Number Priority Date Filing Date Title
US80752006P 2006-07-17 2006-07-17
US60/807,520 2006-07-17
US82939506P 2006-10-13 2006-10-13
US60/829,395 2006-10-13

Publications (2)

Publication Number Publication Date
RU2009104747A true RU2009104747A (ru) 2010-08-27
RU2443003C2 RU2443003C2 (ru) 2012-02-20

Family

ID=38686773

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
RU2009104747/28A RU2443003C2 (ru) 2006-07-17 2007-07-05 Способ изготовления матрицы искаженных оптических элементов

Country Status (8)

Country Link
US (1) US10989845B2 (ru)
EP (1) EP2047304A1 (ru)
KR (1) KR101469292B1 (ru)
AU (1) AU2007275492B2 (ru)
BR (1) BRPI0714441B1 (ru)
RU (1) RU2443003C2 (ru)
WO (1) WO2008011279A1 (ru)
ZA (1) ZA200900911B (ru)

Families Citing this family (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO2011060086A1 (en) 2009-11-12 2011-05-19 3M Innovative Properties Company Irradiation marking of retroreflective sheeting
US11559540B2 (en) * 2010-07-28 2023-01-24 Janssen Pharmaceutica Nv Method of determining acute myeloid leukemia response to treatment with farnesyltransferase inhibitors
WO2012069889A1 (pt) 2010-11-24 2012-05-31 Universidade De Aveiro Processo integrado de extracção de proteínas e arabinoxilanas da dreche cervejeira
US9463601B2 (en) 2011-05-31 2016-10-11 3M Innovative Properties Company Cube corner sheeting having optically variable marking
KR20140035454A (ko) 2011-05-31 2014-03-21 쓰리엠 이노베이티브 프로퍼티즈 캄파니 불연속 형상을 갖는 미세구조화 공구의 제조 방법, 및 그로부터 제조된 용품
CN103561930B (zh) 2011-05-31 2016-05-18 3M创新有限公司 用于制备相异图案固化微结构化制品的方法
PL3283281T3 (pl) * 2015-04-15 2022-01-17 Avery Dennison Corporation Wentylowana taśma narzędziowa do produkcji strukturalnych powierzchni
KR101817709B1 (ko) 2016-05-27 2018-02-22 한국광기술원 Uv경화 소재를 이용한 패턴 금형 제조방법
CN116165750B (zh) * 2023-01-28 2023-06-27 中山市美速光电技术有限公司 一种用于生产具有不同间距的光纤阵列的制造系统

Family Cites Families (22)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3684348A (en) 1970-09-29 1972-08-15 Rowland Dev Corp Retroreflective material
US3712706A (en) 1971-01-04 1973-01-23 American Cyanamid Co Retroreflective surface
US3833285A (en) 1973-05-22 1974-09-03 Amerace Esna Corp Retrodirective reflector visible over wide range of observation angles
US5156863A (en) * 1982-09-30 1992-10-20 Stimsonite Corporation Continuous embossing belt
US4478769A (en) 1982-09-30 1984-10-23 Amerace Corporation Method for forming an embossing tool with an optically precise pattern
US4775219A (en) 1986-11-21 1988-10-04 Minnesota Mining & Manufacturing Company Cube-corner retroreflective articles having tailored divergence profiles
US4938563A (en) 1986-11-21 1990-07-03 Minnesota Mining And Manufacturing Company High efficiency cube corner retroflective material
US5450235A (en) 1993-10-20 1995-09-12 Minnesota Mining And Manufacturing Company Flexible cube-corner retroreflective sheeting
US6258443B1 (en) * 1994-09-28 2001-07-10 Reflexite Corporation Textured retroreflective prism structures and molds for forming same
US6143224A (en) 1995-05-18 2000-11-07 Reflexite Corporation Method for forming a retroreflective sheeting
CA2224095C (en) 1995-06-09 2007-03-27 Kenneth L. Smith Tiled retroreflective sheeting
US6048255A (en) * 1995-08-22 2000-04-11 Seagate Technology, Inc. Pulsed laser surface treatments for magnetic recording media
US5770124A (en) * 1996-04-30 1998-06-23 Minnesota Mining And Manufacturing Company Method of making glittering cube-corner retroreflective sheeting
US6015214A (en) 1996-05-30 2000-01-18 Stimsonite Corporation Retroreflective articles having microcubes, and tools and methods for forming microcubes
US6287670B1 (en) * 1999-01-11 2001-09-11 3M Innovative Properties Company Cube corner cavity based retroreflectors and methods for making same
KR20040020919A (ko) 2001-06-11 2004-03-09 애버리 데니슨 코포레이션 그루브 파동 방법에 의해 이루어진 제어된 디버전스를갖는 역반사기
JP2003302510A (ja) * 2002-04-05 2003-10-24 Three M Innovative Properties Co 反射シート
US6871966B2 (en) 2002-12-12 2005-03-29 Avery Dennison Corporation Retroreflector with controlled divergence made by the method of localized substrate stress
US6902280B2 (en) 2002-12-17 2005-06-07 Avery Dennison Corporation Tri-level cube corner ruling
US6884371B2 (en) * 2003-03-06 2005-04-26 3M Innovative Properties Company Method of making retroreflective sheeting and articles
JP4437749B2 (ja) 2005-01-06 2010-03-24 シャープ株式会社 コーナーキューブアレイの製造方法
WO2007040725A1 (en) * 2005-09-26 2007-04-12 Avery Dennison Corporation Retroreflective sheeting comprising a divergence enhancing layer

Also Published As

Publication number Publication date
EP2047304A1 (en) 2009-04-15
BRPI0714441A2 (pt) 2013-02-26
KR101469292B1 (ko) 2014-12-04
US10989845B2 (en) 2021-04-27
AU2007275492B2 (en) 2012-05-17
ZA200900911B (en) 2010-02-24
AU2007275492A1 (en) 2008-01-24
WO2008011279A1 (en) 2008-01-24
WO2008011279B1 (en) 2008-03-20
US20080012162A1 (en) 2008-01-17
BRPI0714441B1 (pt) 2018-07-17
RU2443003C2 (ru) 2012-02-20
KR20090031472A (ko) 2009-03-25

Similar Documents

Publication Publication Date Title
RU2009104747A (ru) Способ изготовления решетки аберрационных оптических элементов
US7029134B2 (en) Retroreflector with controlled divergence made by the method of localized substrate stress
TWI567426B (zh) 製造用於ｅｕｖ投影曝光設備之反射光學構件的方法及此型式之構件
CN109641315A (zh) 激光加工方法以及一种利用多区段聚焦透镜切割或裁切晶圆之系统
JP4808780B2 (ja) 光を均質化するための装置
EP1767965A1 (en) Electromagnetic wave shielding grid polarizer and its manufacturing method and grid polarizer manufacturing method
JPH02249631A (ja) 回折性コンタクトレンズおよび眼内レンズの製造システムならびにその製造方法
WO1999023526A1 (en) Improved ophthalmic lens
JP2013511369A5 (ru)
KR20090004884A (ko) 코팅 방법
WO2019189225A1 (ja) 拡散素子、照明モジュールおよび非球面レンズの加工方法
CN109117553B (zh) 一种适用于等强度激光冲击的光束能量分布判定方法
DE102012020452A1 (de) Fertigung von Brillengläsern mit geschützten Mikrostrukturen
TW200515010A (en) Tilt error reducing aspherical single lens homogenizer
CN110753596B (zh) 用于对透明易碎的工件进行基于激光的分离的装置和方法
CN104379329B (zh) 用于制备逆向反射制品的工具
JPWO2020250300A1 (ja) 表面に微細凹凸構造を備えたプラスチック素子の製造方法
JP2007313694A (ja) 反射防止フィルム成形用エンボスロールの製造方法
DE102019202222B4 (de) Ablenkspiegel aus Diamant sowie Verfahren zur Herstellung
DE102005030001B4 (de) Reflektorvorrichtung zur Fokussierung
DE102009033497A1 (de) Optisches Bauteil aus synthetischen Quarz und Verfahren zur Herstellung des Bauteils
US20200241188A1 (en) Optical devices with nanowire grid polarizer on a curved surface and methods of making and using
KR20180058888A (ko) 내장형 메타 구조체 제조방법
UA119707C2 (uk) Спосіб виготовлення оптичного дифузора
JP2006133713A (ja) 導光板のパターン加工方法及びその装置