BR112020004508A2 - sistema de revestimento para revestir um substrato ótico, método do mesmo e substrato óptico revestido - Google Patents

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Abstract

Um sistema de revestimento (10) para revestir um substrato óptico tem um aparelho de identificação (40) configurado para identificar uma orientação de pelo menos uma marca na superfície do substrato óptico; um aparelho de revestimento (30) configurado para aplicar pelo menos um material de revestimento em pelo menos uma porção do substrato óptico em um padrão predeterminado por uma deposição controlada do pelo menos um material de revestimento em forma de gotícula atomizada; e um braço de posicionamento robótico (80) configurado para mover o substrato óptico do aparelho de identificação (40) para o aparelho de revestimento (30) e posicionar o substrato óptico em uma orientação predeterminada em relação ao aparelho de revestimento (30) com base na orientação de a pelo menos uma marca. O sistema de revestimento (10) pode ter um segundo aparelho de revestimento, como um aparelho de revestimento por rotação.

Description

“SISTEMA DE REVESTIMENTO PARA REVESTIR UM SUBSTRATO ÓTICO, MÉTODO DO MESMO E SUBSTRATO ÓPTICO REVESTIDO”
ANTECEDENTES DA INVENÇÃO Campo de invenção
[0001] A presente invenção se refere a um aparelho e método para revestir um artigo óptico. Em particular, a presente invenção se refere a um revestidor a jato de tinta para aplicar um revestimento ao artigo óptico e a um método de usar o revestidor a jato de tinta para revestir o artigo óptico. Descrição do estado da técnica
[0002] Os processos de revestimento a jato de tinta e as máquinas de revestimento a jato de tinta associadas, geralmente chamadas de revestidores a jato de tinta, são normalmente usadas para fornecer um revestimento uniforme em um substrato. Os processos de revestimento a jato de tinta foram usados para formar substratos revestidos, como lentes, incluindo lentes ópticas. Com certas lentes ópticas, deve-se tomar um cuidado especial com relação à orientação da lente óptica em relação à máquina de revestimento. Por exemplo, ao aplicar revestimentos de gradiente a lentes ópticas progressivas com peças com diferentes distâncias focais ou lentes com bordas acabadas, é importante a orientação da lente em relação à direção na qual o revestimento de gradiente é aplicado. O efeito de revestimento em gradiente fornece uma vantagem funcional, pois as lentes ópticas geralmente têm uma densidade de cores mais alta na parte superior da lente para melhor visualização à distância, com menos densidade de cores na parte inferior da lente e um efeito estético para moda e estilo.
[0003] É desejável desenvolver um novo sistema de revestimento tendo uma máquina de revestimento a jato de tinta que possa orientar a lente óptica em uma posição predeterminada para aplicar um revestimento à lente óptica. É ainda desejável desenvolver um método de revestimento das lentes ópticas usando um sistema de revestimento desse tipo.
SUMÁRIO DA INVENÇÃO
[0004] De acordo com a presente invenção, pode ser fornecido um sistema de revestimento para revestir um substrato óptico. O sistema de revestimento pode ter um aparelho de identificação configurado para identificar uma orientação de pelo menos uma marca na superfície do substrato óptico; um aparelho de revestimento configurado para aplicar pelo menos um material de revestimento em pelo menos uma porção do substrato óptico em um padrão predeterminado por uma deposição controlada do pelo menos um material de revestimento em forma de gotícula atomizada; e um braço de posicionamento robótico configurado para mover o substrato óptico do aparelho de identificação para o aparelho de revestimento e posicionar o substrato óptico em uma orientação predeterminada em relação ao aparelho de revestimento com base na orientação de a pelo menos uma marca.
[0005] De acordo com a presente invenção, o aparelho de identificação pode ter pelo menos um sensor para determinar a orientação de pelo menos uma marca. O pelo menos um sensor pode ser um sensor óptico. O aparelho de identificação pode ter uma mesa retroiluminada. O braço de posicionamento robótico ou a estação de identificação pode mover o substrato óptico para a orientação predeterminada. O aparelho de revestimento pode ser um aparelho de revestimento a jato de tinta piezoelétrico ou um aparelho de impressão a jato de tinta térmica. O aparelho de revestimento pode ter um ou mais cartuchos cheios com pelo menos um material de revestimento. O sistema de revestimento pode ter pelo menos uma estação de cura, em que cada estação de cura é configurada independentemente para curar pelo menos parcialmente pelo menos um material de revestimento aplicado ao substrato óptico. Cada estação de cura pode ter, independentemente, pelo menos uma dentre (i) uma estação de cura térmica; (ii) uma estação de cura por UV; (iii) uma estação de cura por infravermelho; e (iv) combinações de pelo menos dois dentre (i), (ii) e (iii).
[0006] De acordo com a presente invenção, o sistema de revestimento pode ter uma estação de lavagem e secagem. A estação de lavagem e secagem pode ser configurada para lavar e secar seletivamente cada substrato óptico e pode ser acessível pelo braço de posicionamento robótico. O sistema de revestimento também pode ter uma estação de pré- tratamento configurada para aumentar a umidade do substrato óptico para promover a adesão de pelo menos um material de revestimento ao substrato óptico. A estação de pré-tratamento pode ser acessível pelo braço de posicionamento robótico. A estação de pré-tratamento pode ser um dispositivo de descarga de plasma ou um dispositivo de descarga de coroa. O sistema de revestimento pode ter um segundo aparelho de revestimento, em que o segundo aparelho de revestimento é um aparelho de revestimento por rotação.
[0007] De acordo com a presente invenção, um método para revestir um substrato óptico pode incluir identificar uma orientação de pelo menos uma marca na superfície de um substrato óptico usando um aparelho de identificação, mover o substrato óptico para um aparelho de revestimento e posicionar o substrato óptico em uma orientação predeterminada em relação ao aparelho de revestimento com base na orientação de pelo menos uma marca e aplicar pelo menos um material de revestimento em pelo menos uma porção do substrato óptico usando o aparelho de revestimento. O pelo menos um material de revestimento pode ser aplicado em um padrão predeterminado por uma deposição controlada do pelo menos um material de revestimento na forma de gotículas atomizadas. Um substrato óptico revestido pode ter pelo menos uma superfície pelo menos parcialmente revestida com pelo menos um material de revestimento, definido de acordo com o método da reivindicação
14.
[0008] As características que caracterizam a presente invenção são apontadas com particularidade nas reivindicações, as quais são anexadas e fazem parte desta divulgação. Estas e outras características da invenção, suas vantagens operacionais e os objetos específicos obtidos com seu uso serão entendidos mais completamente a partir da descrição detalhada a seguir na qual as modalidades não limitativas da invenção são ilustradas e descritas.
BREVE DESCRIÇÃO DOS DESENHOS
[0009] A FIG. 1 é uma vista em perspectiva traseira representativa de um artigo óptico de acordo com alguns exemplos da presente invenção;
[0010] A FIG. 2 é uma vista em perspectiva representativa de um sistema de revestimento de acordo com alguns exemplos da presente invenção;
[0011] A FIG. 3 é uma vista em plana esquemática representativa de um sistema de revestimento de acordo com alguns exemplos da presente invenção;
[0012] A FIG. 4 é uma vista em plana esquemática representativa de um exemplo modificado de um segundo aparelho de revestimento da FIG. 3.
[0013] A FIG. 5 é uma vista em seção representativa de uma plataforma de reservatório de revestimento indexável que contém uma pluralidade de reservatórios de revestimento e uma unidade de distribuição do segundo aparelho de revestimento da FIG. 4; e
[0014] A FIG. 6 é uma vista em seção representativa de um reservatório de revestimento do segundo aparelho de revestimento da FIG. 4.
[0015] Nas FIGS. 1-6, caracteres similares se referem aos mesmos componentes e elementos, conforme o caso, a menos que seja indicado de outra forma.
DESCRIÇÃO DETALHADA DA INVENÇÃO
[0016] Conforme usado na especificação e nas reivindicações, a forma singular de "a", "uma", “um” e "o" inclui referentes plurais, a menos que o contexto indique claramente o contrário.
[0017] Termos espaciais ou direcionais, como "esquerdo", "direito", "interno", "externo", "acima", "abaixo" e similares, não devem ser considerados como limitativos, pois a invenção pode assumir várias orientações alternativas.
[0018] Todos os números usados na especificação e reivindicações devem ser entendidos como modificados em todas as instâncias pelo termo "cerca de". O termo "cerca de" significa uma faixa de mais ou menos dez por cento do valor declarado.
[0019] Salvo quando indicado de outro modo, todas as faixas ou razões reveladas no presente documento devem ser entendidas como abrangentes de qualquer e todas as subfaixas ou sub-razões subsumidas nas mesmas. Por exemplo, uma faixa declarada ou razão de "1 para 10" deve ser considerada como incluindo qualquer e todas as subfaixas entre (e incluindo) o valor mínimo de 1 e o valor máximo de 10; ou seja, todas as subfaixas ou sub- razões que começam com um valor mínimo de 1 ou mais e que terminam com um valor máximo de 10 ou menos, como, porém sem limitação 1 a 6,1, 3,5 a 7,8 e 5,5 a 10.
[0020] Os termos "primeiro", "segundo" e similares não se referem a nenhuma ordem ou cronologia específica, mas sim a diferentes condições, propriedades ou elementos.
[0021] Todos os documentos aqui mencionados são "incorporados a título de referência" na sua totalidade.
[0022] O termo "pelo menos" significa "maior que ou igual a". O termo "não maior que" significa "menor que ou igual a".
[0023] O termo "inclui" é sinônimo de "compreende".
[0024] O termo “óptico” significa pertencer ou ser associado à luz e/ou visão. Por exemplo, de acordo com vários exemplos não limitativos divulgados pelo presente documento, o elemento, artigo ou dispositivo óptico pode ser escolhido a partir de elementos oftálmicos, artigos e dispositivos, elementos de exibição, artigos e dispositivos, viseiras, janelas e espelhos.
[0025] O termo “oftálmico(a)” significa pertencer ou estar associado ao olho e visão. Os exemplos não limitativos de artigos oftálmicos ou elementos incluem lentes corretivas e não corretivas, incluindo visão ou lentes multifocais, que podem ser lentes multifocais ou segmentadas ou não segmentadas (como, porém sem limitação, lentes bifocais, lentes trifocais e lentes progressivas), bem como outros elementos usados para corrigir, proteger ou intensificar (cosmeticamente ou de outro modo) visão, incluindo sem limitação, lentes de contato, lentes intraoculares, lentes de aumento e lentes protetoras ou visores.
[0026] Como usado no presente documento, os termos "lente" e "lentes" significam e abrangem pelo menos lentes individuais, pares de lentes, lentes parcialmente formadas (ou semiacabadas), lentes totalmente formadas (ou acabadas) e espaços em branco da lente.
[0027] Como usado no presente documento, o termo "uma marca" significa uma ou mais marcas.
[0028] Como usado no presente documento, o termo “fotocrômico(a)” e termos semelhantes, como “composto fotocrômico” significa ter um espectro de absorção para uma radiação pelo menos visível que varia em resposta à absorção de radiação pelo menos actínica. Além disso, como usado no presente documento, o termo “material fotocrômico” significa qualquer substância que está adaptada para exibir propriedades fotocrômicas (como, adaptada para ter um espectro de absorção para uma radiação pelo menos visível que varia em resposta a uma absorção da radiação pelo menos actínica) e que inclui pelo menos um composto fotocrômico.
[0029] Como usado no presente documento, o termo "transparente", como usado em conexão com um substrato, película, material e/ou revestimento, significa que o substrato indicado (como revestimento, película e/ou material) tem a propriedade de transmitir luz sem dispersão apreciável, para que os objetos que estão além sejam visivelmente observáveis.
[0030] Como usado no presente documento, o termo "revestimento" significa uma película suportada derivada a partir de um material de revestimento escoável, que pode opcionalmente ter uma espessura uniforme e exclui especificamente folhas poliméricas. Como usado no presente documento, os termos "camada" e "película" cada um abrange ambos os revestimentos (como uma camada de revestimento ou uma película de revestimento) e folhas, e uma camada pode incluir uma combinação de camadas separadas, incluindo subcamadas e/ou sobrecamadas. De acordo com alguns exemplos, e como usado no presente documento, o termo "revestimento" significa, dentro do contexto apropriado, o processo de aplicação de um material (ou materiais) de revestimento ao substrato para formar um revestimento (ou camada de revestimento).
[0031] Como usado no presente documento, os termos "cura", "curado" e termos relacionados, significam que pelo menos uma porção dos componentes polimerizáveis e/ou reticuláveis que formam uma composição curável são pelo menos parcialmente polimerizados e/ou reticulados. De acordo com alguns exemplos, o grau de reticulação pode variar a partir de 5% a 100% da reticulação completa. De acordo com alguns exemplos adicionais, o grau de reticulação pode variar a partir de 30% a 95%, como 35% a 95% ou 50% a 95% ou 50% a 85% da reticulação completa. O grau de reticulação pode variar entre qualquer combinação desses valores inferiores e superiores citados, inclusive os valores citados.
[0032] Como usado no presente documento, o termo "IR" significa infravermelho, como radiação infravermelha.
[0033] Como usado no presente documento, o termo "UV" significa ultravioleta, como radiação ultravioleta.
[0034] A discussão da invenção pode descrever certas características como sendo "particularmente" ou "preferencialmente" dentro de certas limitações (por exemplo, "preferencialmente", "mais preferencialmente" ou "ainda mais preferencialmente", dentro de certas limitações). Deve ser entendido que a invenção não está limitada a essas limitações particulares ou preferenciais, mas abrange todo o escopo da divulgação.
[0035] A invenção compreende, consiste em, ou consiste essencialmente nos seguintes exemplos da invenção, em qualquer combinação. Vários exemplos da invenção podem ser discutidos separadamente. No entanto, deve ser entendido que isso é simplesmente para facilitar a ilustração e a discussão. Na prática da invenção, um ou mais aspectos da invenção descritos em um exemplo podem ser combinados com um ou mais aspectos da invenção descritos em um ou mais dos outros exemplos. Sistema de revestimento
[0036] Com referência às FIGS. 2-3, um sistema de revestimento 10 é mostrado de acordo com alguns exemplos da presente invenção. O sistema de revestimento 10, como descrito pelo presente documento, e de acordo com alguns exemplos, fornece uma máquina de revestimento a jato de tinta de baixo custo e pequena escala (como produzir até 100 substratos revestidos por hora) que pode incluir uma estação de pré-tratamento de superfície (como, mas não limitado a, uma estação de pré-tratamento com plasma) que limpa e reveste (utilizando um ou mais de vários revestimentos e combinações de revestimentos) e que utiliza um ou mais dos vários métodos de cura diferentes (como UV, IR e/aparelhos de cura térmica) ou as combinações dos mesmos. O sistema de revestimento 10 da presente invenção pode, com alguns exemplos, ser operado com a formação de correntes de resíduos mínimos e/ou materiais residuais.
[0037] O sistema de revestimento 10 da presente invenção pode, com alguns exemplos, ser utilizado para a produção de substratos ópticos, cada qual independentemente tendo o mesmo ou diferentes materiais de revestimento aplicados ao mesmo. Em alguns exemplos, o sistema de revestimento 10 da presente invenção pode ser pelo menos parcialmente automatizado e opcionalmente incorporado aos sistemas de rastreamento e controle de produtos reconhecidos na técnica.
[0038] Com referência às FIGS. 2-3, o sistema de revestimento 10 geralmente possui um alojamento 20 para suportar várias estações que definem o sistema de revestimento 10. O alojamento 20 pode ser pelo menos parcialmente fechado ou aberto. De acordo com alguns exemplos, o sistema de revestimento 10 tem um aparelho de revestimento 30 para revestir o substrato e uma estação de identificação 40 para determinar uma orientação do substrato. Uma estação de cura 50 é fornecida para curar o substrato revestido. Opcionalmente, o sistema de revestimento 10 tem uma estação de pré-tratamento 60 e/ou uma estação de lavagem e secagem 70. Um braço de posicionamento, tal como um braço de posicionamento robótico 80, é fornecido para mover o substrato óptico entre várias estações do sistema de revestimento 10. Substrato óptico
[0039] O sistema de revestimento 10 pode, com alguns exemplos, ser usado para revestir uma variedade de substratos, como, entre outros, substratos ópticos. Exemplos de substratos ópticos que podem ser revestidos com o sistema de revestimento 10 da presente invenção incluem, porém sem limitação, lentes ópticas, lentes de prescrição, que em cada caso podem ser lentes acabadas, lentes inacabadas ou espaços em branco da lente. De acordo com alguns exemplos adicionais, as lentes ópticas revestidas com o sistema de revestimento 10 da presente invenção têm um diâmetro de 50-85 mm com curvaturas posteriores variadas (como de 1/2 base até 10 base). Para referência, uma lente acabada é aquela que terá a superfície frontal e traseira da lente formada (geralmente por moagem e polimento) no contorno desejado, enquanto uma lente semiacabada terá apenas uma superfície (por exemplo, a parte superior) finalizada.. As lentes acabadas e inacabadas geralmente passam por processamento adicional, como revestimento com material fotocrômico, revestimentos duros, camadas de tingimento, camadas de planarização (geralmente categorizadas como camadas de revestimento que fornecem propriedades ópticas, estéticas ou protetoras), além de serem afiadas para se ajustar à forma desejada, ou outro processamento para acoplar a um quadro ou estrutura de suporte.
[0040] Com referência às FIGS. 1, o substrato óptico 100, tem uma superfície frontal ou superior 102, uma superfície traseira ou inferior 104 e uma superfície lateral 106 que se estende entre a superfície superior 102 e a superfície inferior 104. Quando o substrato óptico 100 é uma lente oftálmica, a superfície inferior 104 é oposta ao olho de um indivíduo usando o substrato óptico 100, a superfície lateral 106 normalmente reside dentro de uma armação de suporte e a superfície superior 102 face incidente (não mostrada) pelo menos uma porção da qual passa através do substrato óptico 100 e no olho do indivíduo. Com alguns aspectos, pelo menos uma da superfície superior 102, a superfície inferior 104 e a superfície lateral 106 podem ser convexas, côncavas ou planas.
[0041] O substrato óptico 100 que é revestido com o método da presente invenção pode, com alguns exemplos, ser formado a partir de e incluir correspondentemente materiais orgânicos, materiais inorgânicos ou combinações dos mesmos (por exemplo, materiais compósitos).
[0042] Exemplos de materiais orgânicos que podem ser utilizados como substratos ópticos 100 de acordo com vários exemplos da presente invenção, incluem materiais poliméricos, como homopolímeros e copolímeros, preparados a partir dos monômeros e misturas de monômeros divulgados na Patente U.S. nº 5.962.617 e na Patente U.S. nº 5.658.501 da coluna 15, linha 28 a coluna 16, linha 17. Por exemplo, esses materiais poliméricos podem ser materiais poliméricos termoplásticos ou termoendurecíveis, podem ser transparentes ou opticamente claros e podem ter qualquer índice de refração necessário. Exemplos desses monômeros e polímeros divulgados incluem: monômeros de poliol (carbonato de alila), por exemplo, carbonatos de alila diglicol, como dietilenoglicol bis (carbonato de alil), cujo monômero é vendido sob a marca registrada CR-39 pela PPG Industries, Inc.; polímeros de poliuréia-poliuretano (poliuréia-uretano), que são preparados, por exemplo, pela reação de um pré-polímero de poliuretano e um agente de cura com diamina, uma composição para um desses polímeros sendo vendida sob a marca comercial TRIVEX pela PPG Industries, Inc; monômero de carbonato terminado em poliol (met) acriloílo; monômeros de dimetacrilato de dietileno glicol; monómeros de metacrilato de fenol etoxilados; monômeros de diisopropenil benzeno; monômeros de triacrilato de trimetilolpropano etoxilado; monómeros de bismetacrilato de etileno glicol; monômeros de poli (etileno glicol) bismetacrilato; monômeros de acrilato de uretano; poli (dimetacrilato de bisfenol A etoxilado); poli (acetato de vinila); Álcool polivinílico); poli (cloreto de vinilo); poli (cloreto de vinilideno); polietileno; polipropileno; poliuretanos; politiouretanos; policarbonatos termoplásticos, como a resina ligada a carbonato derivada de bisfenol A e fosgênio, um desses materiais sendo vendido sob a marca comercial LEXAN; poliésteres, como o material vendido sob a marca comercial MYLAR; poli (tereftalato de etileno); polivinil butiral; poli (metacrilato de metila), como o material vendido sob a marca registrada PLEXIGLAS, e polímeros preparados pela reação de isocianatos polifuncionais com polietióis ou monômeros de poliepissulfeto, homopolimerizados ou co-e/ou terpolimerizados com polietióis, poli-isocianatos, poli-isotiocianatos ou etilenomicamente opcionalmente monômeros de vinil contendo aromáticos halogenados. Também são contemplados copolímeros de tais monômeros e misturas dos polímeros descritos e copolímeros com outros polímeros, por exemplo, para formar copolímeros em bloco ou produtos de rede interpenetrantes.
[0043] Com alguns exemplos da presente invenção, o substrato óptico 100 pode ser um substrato oftálmico. Exemplos de materiais orgânicos adequados para uso na formação de substratos oftálmicos incluem polímeros conhecidos na técnica que são úteis como substratos oftálmicos, como resinas ópticas orgânicas que são usadas para preparar peças vazadas opticamente claras para aplicações ópticas, como lentes oftálmicas.
[0044] Exemplos de materiais inorgânicos que podem ser utilizados como substratos ópticos 100 com alguns exemplos da presente invenção incluem vidros, minerais, cerâmica e metais. Com alguns exemplos, o substrato óptico 100 pode incluir vidro. Em outros exemplos, o substrato óptico 100 pode ter uma superfície refletora, por exemplo, um substrato de cerâmica polida, substrato de metal ou substrato mineral. Em outros exemplos, um revestimento ou camada refletiva (por exemplo, uma camada de metal, como uma camada de prata) pode ser depositada ou aplicada a uma superfície de um substrato inorgânico ou orgânico para torná-lo reflexivo ou melhorar sua refletividade.
[0045] Os substratos ópticos 100 que podem ser utilizados com o método de acordo com alguns exemplos da presente invenção também podem incluir substratos não pintados, coloridos, polarizados linearmente, polarizados circularmente, polarizados circularmente, elipticamente polarizados, fotocrômicos ou fotocromáticos coloridos. Como usado no presente documento com referência aos substratos ópticos 100, o termo "não colorido" significa substratos ópticos que são essencialmente livres de adições de agentes de coloração (como corantes convencionais) e têm um espectro de absorção para a radiação visível que não varia significativamente em resposta à radiação actínica. Além disso, com referência aos substratos ópticos 100, o termo "colorido" significa substratos que possuem uma adição de agentes de coloração (como corantes convencionais) e um espectro de absorção para radiação visível que não varia significativamente em resposta à radiação actínica. Marca
[0046] Com referência continuada à FIG. 1, pelo menos um indício, como pelo menos uma marca 110, pode ser fornecida no substrato óptico 100. Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser modelada para definir uma marca de referência óptica que um profissional pode usar como ponto de referência para corresponder uma potência do substrato óptico 100 à prescrição do usuário. Em outros exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser um indício, como um logotipo. Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser usada pelo sistema de revestimento 10 para determinar uma orientação do substrato óptico 100 em relação a pelo menos um componente do sistema de revestimento 10. Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser um par de marcas 110 usadas para identificar um local/orientação de pelo menos uma característica do substrato óptico 100, como a progressividade do substrato óptico 100 (isto é, localização de um transição suave entre partes do substrato óptico 100 com diferentes distâncias focais). Quando um revestimento de gradiente é aplicado a um substrato óptico progressivo 100, deve-se tomar cuidado especial para orientar o revestimento de gradiente em relação à localização de diferentes distâncias focais do substrato óptico 100. O substrato óptico 100 pode ser posicionado em uma orientação desejada em relação ao pelo menos um componente do sistema de revestimento 10 com base na orientação da pelo menos uma marca 110.
[0047] A pelo menos uma marca 110 pode ser fornecida em uma superfície do substrato óptico 100, como a superfície superior 102, a superfície inferior 104 e/ou a superfície lateral 106. Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 é formada como um recurso topográfico que pode se projetar a partir da superfície externa do substrato óptico 100 ou um recurso topográfico que é recuado na superfície externa do substrato óptico 100. Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser formada monoliticamente no substrato óptico 100, como, por exemplo, por moldagem. Em outros exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser formada no substrato óptico 100 gravando, gravando ou de acordo com outros métodos conhecidos pelos especialistas no campo para imprimir a desejada pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100.
[0048] Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser aplicada a pelo menos uma superfície do substrato óptico 100. Por exemplo, a pelo menos uma marca 110 pode ser aplicada de forma adesiva, impressa, escrita ou de outro modo aplicada a pelo menos uma superfície do substrato óptico 100.
[0049] Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 pode ser fornecida em um transportador 120 que é separado do a partir do substrato óptico 100. O transportador pode ser aplicado de forma removível ou não removível em pelo menos uma superfície do substrato óptico 100. Por exemplo, o transportador 120 pode ser uma fita adesiva que é removivelmente aplicada a uma ou mais da superfície superior 102, superfície inferior 104 e/ou superfície lateral 106 do substrato óptico 100. O transportador 120 pode ser aplicado a pelo menos uma superfície do substrato óptico 100 durante o processo de revestimento. Depois que o substrato óptico 100 é revestido, o transportador 120 pode ser removido. O transportador 120 pode ser transparente ou translúcido, de modo que a pelo menos uma marca 110 possa ser facilmente identificada.
[0050] A pelo menos uma marca 110 pode ser formada como uma matriz de uma pluralidade de marcas individuais 110 que, juntas, definem os limites da marca 110. Quando uma pluralidade de marcas 110 é fornecida na superfície externa do substrato óptico 100, a pluralidade de marcas 110 pode ser fornecida em um mesmo plano ou em planos diferentes. A pelo menos uma marca 110 pode estar na forma de padrões e desenhos. Exemplos de padrões e desenhos incluem, porém sem limitação, letras e números a partir de um ou mais idiomas. Em alguns exemplos, a pelo menos uma marca 110 está na forma de um código de barras unidimensional e/ou um código de barras bidimensional. Braço de posicionamento robótico
[0051] Com referência às FIGS. 3, o movimento do substrato óptico 100 entre várias estações do sistema de revestimento 10 pode ser automatizado com um braço de posicionamento robótico 80. Em alguns exemplos, uma pluralidade de braços de posicionamento robótico 80 pode ser fornecida. O braço de posicionamento robótico 80 está configurado para engatar o substrato óptico 100 de uma maneira que mantém uma posição central conhecida do substrato óptico 100, como dentro de cerca de 2 mm, e move o substrato óptico 100 entre diferentes estações do sistema de revestimento 10. A posição central conhecida do substrato óptico 100 pode ser mantida como resultado de uma combinação da precisão do braço de posicionamento robótico 80 e do posicionamento inicial adequado do substrato óptico 100, como o posicionamento do substrato óptico 100 com base no orientação da pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100.
[0052] O braço de posicionamento robótico 80 pode ter uma ou mais seções 80a, 80b que são móveis, independentemente, em relação a uma base 82 do braço de posicionamento robótico 80. As uma ou mais seções 80a, 80b podem ser rotativas ou transladáveis em relação à base 82. As uma ou mais seções 80a, 80b do braço de posicionamento robótico 80 definem um envelope no qual o braço de posicionamento robótico 80 opera para colocar o substrato óptico 100 em qualquer local dentro do envelope. Desejavelmente, o braço de posicionamento robótico 80 é configurado de modo que todas as estações do sistema de revestimento 10 estejam dentro do envelope do braço de posicionamento robótico 80. O uso do braço de posicionamento robótico 80 permite que o sistema de revestimento 10 seja totalmente automatizado dentro do envelope do braço de posicionamento robótico 80 e minimiza danos a, como marcação das superfícies do substrato óptico 100, em comparação com um processo manual, como um processo totalmente manual.
[0053] O substrato óptico 100 pode estar úmido ou seco quando captado pelo braço de posicionamento robótico 80. Em alguns exemplos, quando úmido, o substrato óptico 100 inclui uma ou mais camadas de revestimento úmido sobre o mesmo, que não são duras, como sendo pegajosas e/ou não curadas. Em alguns exemplos adicionais, quando seco, o substrato óptico 100 está livre de camadas de revestimento ou inclui uma ou mais camadas de revestimento secas que são duras (e não pegajosas), como sendo curadas. Em vários exemplos, o braço de posicionamento robótico 80 é configurado para captar o substrato óptico 100 entrando em contato com pelo menos uma superfície do substrato óptico.
[0054] De acordo com alguns exemplos, uma porção inferior e/ou lateral dos elementos de garra 84 do braço de posicionamento robótico 80 engata e prende a superfície inferior 104 e/ou a superfície lateral 106 do substrato óptico 100 durante a captação úmida (quando o substrato óptico 100 está úmido). Em exemplos adicionais, uma porção superior e/ou lateral dos elementos de garra 84 do braço de posicionamento robótico 80 engata e prende a superfície superior 102 e/ou a superfície lateral 106 do substrato óptico 100 durante a captação seca (quando o substrato óptico 100 está seco). Em exemplos adicionais, a porção inferior e/ou lateral dos elementos de garra 84 do braço de posicionamento robótico 80 engata e prende a superfície inferior 104 e/ou a superfície lateral 106 do substrato óptico 100 durante a captação úmida ou captação seca do mesmo. A superfície inferior 104 do substrato óptico 100 pode ter um elemento adesivo 112 que está configurado para fixar o substrato óptico 100 aos elementos de garra 84 do braço de posicionamento robótico 80. O elemento adesivo 112 pode ser aderido de forma removível à superfície inferior 104 do substrato óptico 100. Por exemplo, o elemento adesivo 112 pode ser conectado adesivamente ao substrato óptico 100 durante o processamento do substrato óptico 100 no sistema de revestimento 10. Depois da etapa de processamento final, o elemento adesivo 112 pode ser removido a partir da superfície inferior 104 do substrato óptico
100.
[0055] De acordo com alguns exemplos, o braço de posicionamento robótico 80 pode ser configurado para engatar e fixar um transportador 86 configurado para fixar de maneira removível o substrato óptico 100 ao mesmo. Por exemplo, os elementos de garra 84 do braço de posicionamento robótico 80 engatam e prendem o transportador 86 para transportar o transportador 86 entre várias estações do sistema de revestimento 10. O transportador 86 pode ter pelo menos uma superfície de transporte 88 para engatar em pelo menos uma superfície do substrato óptico
100.
Estação de Identificação
[0056] Com referência continuada à FIG. 3, o sistema de revestimento 10 tem um aparelho ou estação de inspeção 40 configurada para identificar pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100. Como discutido pelo presente documento, a pelo menos uma marca 110 pode ser formada diretamente sobre a superfície do substrato óptico 100, ou pode ser formada em um transportador 120 que é removível ou não removivelmente conectado a pelo menos uma superfície do substrato óptico 100. A estação de inspeção 40 pode ser usada para identificar uma orientação de pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100. Com base na orientação da pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100, o substrato óptico 100 pode ser posicionado em uma ou mais estações 40 em uma orientação predeterminada em relação a uma ou mais estações 40 do sistema de revestimento 10.
[0057] Em alguns exemplos, a estação de identificação 40 tem pelo menos um sensor 42 para identificar a pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100. Por exemplo, o pelo menos um sensor 42 pode ser um sensor óptico, como uma câmera. O sensor óptico 42 pode ser configurado para capturar a imagem do substrato óptico 100. Um algoritmo de identificação pode ser usado para identificar a pelo menos uma marca 110 da imagem do substrato óptico 100 tomada por pelo menos um sensor 42. O algoritmo de identificação pode ser usado, por exemplo, para identificar uma orientação de pelo menos uma marca 110 em relação a uma orientação de uma marca conhecida 45 na estação de inspeção 40. O pelo menos um sensor 42 pode ser móvel em relação ao substrato óptico 100. Por exemplo, o pelo menos um sensor 42 pode ser movido em relação ao substrato óptico 100, como por translação em uma direção ao longo de um ou mais eixos do sistema de coordenadas cartesianas (eixos X, Y, Z) ou por rotação em torno do um ou mais eixos do sistema de coordenadas cartesianas, para posicionar o substrato óptico 100 dentro do campo de visão de pelo menos um sensor 42, em que a pelo menos uma marca 110 pode ser claramente detectada pelo pelo menos um sensor 42.
[0058] Em alguns exemplos, a estação de identificação 40 pode ter uma superfície de suporte 44 para suportar o substrato óptico 100 durante a identificação de pelo menos uma marca 110. A superfície de suporte 44 pode ser uma superfície de suporte transparente ou translúcida que é retroiluminada por uma fonte de luz 46. A retroiluminação da superfície de suporte 44 ajuda a aumentar o contraste entre o substrato óptico 100 e o ambiente circundante para identificar mais facilmente a marca 110. A superfície de suporte 44 pode ser móvel em relação ao pelo menos um sensor 42. Por exemplo, a superfície de suporte 44 com o substrato óptico 100 posicionado nela pode ser movida em relação a pelo menos um sensor 42, como por translação em uma direção ao longo de um ou mais eixos do sistema de coordenadas cartesianas ou por rotação em torno do mesmo ou mais eixos do sistema de coordenadas cartesianas, para posicionar o substrato óptico 100 dentro do campo de visão de pelo menos um sensor 42, em que a pelo menos uma marca 110 pode ser claramente detectada por pelo menos um sensor 42. Em alguns exemplos, quer a superfície de suporte 44 como o pelo menos um sensor 42 podem ser móveis para posicionar o substrato óptico 100 dentro do campo de visão do pelo menos um sensor 42 em que a pelo menos uma marca 110 pode ser claramente detectada por pelo menos um sensor 42.
[0059] Com base na determinação da orientação da pelo menos uma marca 110 na superfície do artigo óptico 100, o braço de posicionamento robótico 80 pode ser usado para mover o artigo óptico 100 para uma ou mais estações 40 em uma orientação predeterminada em relação à uma ou mais estações do sistema de revestimento 10. O braço de posicionamento robótico 80 está configurado para engatar o substrato óptico 100 de uma maneira que mantém uma orientação conhecida do substrato óptico 100 e move o substrato óptico 100 entre a estação de identificação 40 e pelo menos outra estação do sistema de revestimento 10 com base nesta orientação conhecida. A orientação conhecida do substrato óptico 100 pode ser mantida como resultado de uma combinação da precisão do braço de posicionamento robótico 80 e do posicionamento inicial adequado do substrato óptico 100, como o posicionamento do substrato óptico 100 com base no orientação da pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100. Em alguns exemplos, o braço de posicionamento robótico 80 pode rotacionar os elementos de garra 84 para se orientar para captar o substrato óptico 100 em uma posição predeterminada do substrato óptico 100 em relação ao braço de posicionamento robótico 80 com base na posição do pelo menos um marca 110. Em outros exemplos, pelo menos uma porção da estação de identificação 40, como uma plataforma de rotação 48, pode girar para rotacionar o substrato óptico 100 em relação ao braço de posicionamento robótico 80 em uma posição predeterminada com base na orientação da pelo menos uma marca 110 Em outros exemplos, quer o braço de posicionamento robótico 80 como a plataforma de rotação 48 podem girar para orientar o substrato óptico 100 em relação ao braço de posicionamento robótico 80 em uma posição predeterminada com base na orientação da pelo menos uma marca 110. Estação de Pré-Tratamento
[0060] Com referência continuada à FIG. 3, o sistema de revestimento 10 tem uma estação de pré-tratamento 60, tal como uma câmara de plasma 62. Após a inspeção do substrato óptico 100 na estação de identificação 40, o braço de posicionamento robótico 80 engata no substrato óptico 100 e move-o para a estação de pré-tratamento 60. O braço de posicionamento robótico 80 pode, opcionalmente, posicionar o substrato óptico 100 na estação de pré-tratamento 60 em uma orientação predeterminada em relação à estação de pré-tratamento 60 com base na orientação de pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100.
[0061] O tratamento de superfície de plasma realizado dentro da câmara 62 pode ser selecionado a partir de um ou mais métodos de tratamento de superfície de plasma reconhecidos na técnica, incluindo, mas sem se limitar a, tratamento de coroa, tratamento de plasma atmosférico, tratamento de pressão atmosférica, tratamento de plasma de chama e/ou tratamento com plasma químico. Em alguns exemplos, o tratamento de superfície realizado na câmara 62 é um tratamento com plasma de oxigênio. O processo de tratamento de superfície envolve, em alguns exemplos, o tratamento da superfície do substrato óptico 100 para promover a umidade e melhorar a adesão de um revestimento que é subsequentemente aplicado e formado sobre ele. A câmara 62, em alguns exemplos, inclui uma série de suportes de substrato óptico que engatam na borda para permitir o tratamento superficial máximo dos substratos ópticos 100 na câmara 62. A câmara 62, com alguns exemplos, é operada sob condições de atmosfera reduzida e, correspondentemente, o tratamento de superfície pode ser conduzido como um processo descontínuo.
[0062] Os tratamentos por plasma, incluindo tratamentos de coroa, fornecem um método limpo e eficiente de alterar as propriedades da superfície de um substrato óptico 100, como rugosidade e/ou alteração química de uma ou mais superfícies, sem alterar as propriedades do substrato óptico 100. Em alguns exemplos, um ou mais gases inertes (como, sem limitação, argônio e/ou nitrogênio) e/ou um ou mais gases reativos (como, sem limitação, oxigênio, CO e/ou CO 2 ) podem ser usados como o gás na câmara 62 a partir da qual o plasma é formado. Gases inertes, com alguns exemplos, enrugam a superfície do substrato óptico 100. Gases reativos, como o oxigênio, com alguns exemplos, podem tanto enrugar quanto alterar quimicamente a superfície exposta ao plasma, por exemplo, formando grupos hidroxila e/ou carboxila na superfície tratada.
[0063] Com alguns exemplos, o uso de oxigênio no processo de tratamento de superfície do plasma pode fornecer um grau eficaz de rugosidade física e modificação química da superfície do substrato óptico 100, o que pode melhorar a adesão sem afetar negativamente outras propriedades, como propriedades ópticas, do substrato óptico 100. O ar atmosférico também pode ser usado para formar o gás plasmático e, com alguns exemplos, é um gás reativo. A extensão da rugosidade da superfície e/ou modificação química é, com alguns exemplos, uma função do gás de plasma e das condições operacionais da câmara 62, incluindo o período de tempo do tratamento da superfície. Com alguns exemplos, os substratos ópticos 100 são expostos a um tratamento de superfície de plasma por 1 a 5 minutos, como na câmara 62, o que resulta na formação de substratos ópticos tratados com superfície 100 que são posteriormente processados no aparelho de revestimento 30. O tratamento de superfície dos substratos ópticos 100 dentro da câmara 62 também pode remover contaminantes estranhos presentes na superfície dos mesmos. A presença de certos contaminantes da superfície pode, com alguns exemplos, reduzir indesejadamente a energia da superficial da superfície do substrato óptico 100. Uma energia superficial alta, que pode resultar após a remoção dos contaminantes da superfície, promove a umidade do revestimento, com alguns exemplos.
[0064] Após o tratamento da superfície por plasma na câmara 62, os substratos ópticos tratados com a superfície 100 são removidos e podem opcionalmente ser submetidos a inspeção visual e/ou automatizada antes da colocação em uma unidade de carregamento 64. Os substratos ópticos 100 são encaminhados ao longo de um caminho de transporte 66 na unidade de carregamento 64, que pode ser alcançada por meio de um transportador, como uma correia transportadora. Os substratos ópticos 100 são encaminhados ao longo do caminho de transporte 66 até engatar uma bolsa de posicionamento
68. A unidade de carregamento 64 enfileira os substratos ópticos 100 e impede que os substratos ópticos 100 danifiquem um ao outro (como se engatando/esfregando/batendo um no outro) enquanto apresentam e introduzem sequencialmente cada substrato óptico individual 100 na bolsa de posicionamento 68. As bordas da bolsa de posicionamento 68 são configuradas, como angulares, para posicionar cada substrato óptico individual 100 em uma posição pré-selecionada (como uma posição ou localização centralizada) em relação à largura da bolsa de posicionamento 68. A bolsa de posicionamento 68 também inclui, com alguns exemplos, pelo menos um (como pelo menos dois) sensor de proximidade (como sensores de quebra de feixe 69) que identifica a borda anterior e/ou borda posterior de cada substrato óptico individual 100 e faz com que o caminho de transporte 66 pare quando o substrato óptico 100 é detectado e determinado para ser adequadamente posicionado (como centralizado) dentro do bolso de posicionamento 68. Estação de Lavagem e Secagem
[0065] Com referência continuada à FIG. 3, o sistema de revestimento 10, opcionalmente, tem uma estação de lavagem e secagem 70. Após o tratamento de superfície do substrato óptico 100 na estação de pré- tratamento 60, o braço de posicionamento robótico 80 engata no substrato óptico 100 e move-o para a estação de lavagem e secagem 70. O braço de posicionamento robótico 80 pode, opcionalmente, posicionar o substrato óptico 100 na estação de lavagem e secagem 70 em uma orientação predeterminada em relação à estação de lavagem e secagem 70 com base na orientação de pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100.
[0066] Em alguns exemplos, a estação de lavagem e secagem 70 tem um mandril de rotação 72, que pode ser um mandril de vácuo de rotação com alguns exemplos, dentro de um alojamento 74 da estação de lavagem e secagem 70. O mandril de rotação 72 pode rotacionar em altas velocidades, como até 4.000 rpm, com alguns exemplos. Após fixar o substrato óptico 100 no mandril de rotação 72, uma cobertura 76 é movida para uma posição fechada e os bocais de pulverização de água de alta pressão 78 são ativados com o substrato óptico 100 mantido no mandril de rotação 72. Em alguns exemplos, os bocais de pulverização de água de alta pressão 78 podem ser angulados em relação à superfície do substrato óptico 100. Dessa maneira, toda a superfície superior e a borda do substrato óptico 100 podem ser limpas, como com água deionizada sob condições de pressão elevada, como cerca de
1.000 psi, com alguns exemplos. O mandril de rotação 72 pode rotacionar durante a lavagem por pulverização para garantir uma limpeza uniforme do substrato óptico 100. Os parâmetros de lavagem, como pressão do líquido, tempo de lavagem e velocidade de rotação, podem ser programáveis e podem variar com base em parâmetros, como o tipo e/ou tamanho do substrato óptico 100, tratamento com plasma e/ou processos de revestimento subsequentes.
[0067] Depois da lavagem, o substrato óptico 100 pode, com alguns exemplos, ser seco na estação de lavagem e secagem 70 por um ou mais métodos de secagem, incluindo, entre outros, rotação de alta velocidade do mandril de rotação 72 e/ou bocal de ar de alta velocidade (s) 79, que podem ser bocais de ar filtrados 79. Os parâmetros de secagem podem ser programados de maneira similar àquelas associadas aos parâmetros de lavagem, com alguns exemplos. Aparelho de revestimento
[0068] Com referência continuada à FIG. 3, o aparelho de revestimento 30, como um aparelho de impressão a jato de tinta, está configurado para aplicar um material de revestimento na forma de gotículas extremamente finas em uma superfície de impressão, como uma ou mais superfícies do substrato óptico 100. Depois da lavagem e secagem do substrato óptico 100, o braço de posicionamento robótica 80 reengata o substrato óptico 100 e move-o para o aparelho de revestimento 30. O braço de posicionamento robótico 80 pode posicionar o substrato óptico 100 no aparelho de revestimento 30 em uma orientação predeterminada em relação ao aparelho de revestimento 30 com base na orientação de pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100. Desta maneira, o substrato óptico 100 pode ser alinhado em uma orientação desejada em relação ao aparelho de revestimento 30. O braço de posicionamento robótico 80 pode mover o substrato óptico 100 para a estação de identificação 40 antes de posicionar o substrato óptico 100 no aparelho de revestimento 30, a fim de determinar a orientação da pelo menos uma marca 110 na superfície do substrato óptico 100, tal que o substrato óptico 100 pode ser posicionado em uma orientação predeterminada em relação ao aparelho de revestimento 30 com base na orientação de pelo menos uma marca 110. Por exemplo, o substrato óptico 100 pode ser disposto de modo que a pelo menos uma marca 110 seja substancialmente paralela, perpendicular ou disposta em qualquer outra orientação em relação a uma direção na qual um material de revestimento é aplicado ao substrato óptico 100 usando o aparelho de revestimento 30.
[0069] Um aparelho de descarga associado ao aparelho de revestimento 30, como uma ou mais cabeças de impressão, possui um ou mais bocais 78 associados a ele. Cada um dos bocais 78 é configurado para descarregar controlávelmente uma única gotícula do material de revestimento, continuamente ou sob demanda. No sistema sob demanda, a descarga de gotículas é controlada por um controlador 39 tendo um perfil de descarga de gotículas predeterminado. Por exemplo, o controlador pode controlar o tamanho da gotícula (volume de material de revestimento) e a velocidade com que a gotícula é formada e entregue. Em alguns aspectos, as uma ou mais cabeças de impressão podem ser fornecidas com um ou mais elementos piezoelétricos que fornecem um mecanismo para formar e descarregar as gotículas das uma ou mais cabeças de impressão. Uma tensão aplicada a um ou mais elementos piezoelétricos, como uma tensão de controle determinada pelo controlador 39, altera a forma de um ou mais elementos piezoelétricos, gerando um pulso de pressão no material de revestimento, o que força uma gotícula do revestimento material do bocal 78. Em outros aspectos, as uma ou mais cabeças de impressão podem ter pelo menos uma câmara 62, incluindo um aquecedor. Uma gotícula é ejetada a partir da câmara quando um pulso de tensão é passado através do aquecedor, como uma tensão de controle determinada pelo controlador 39. Tal diferencial de tensão causa uma rápida vaporização do material de revestimento na câmara 62 e forma uma bolha. A formação da bolha causa um diferencial de pressão dentro da câmara 62, impulsionando assim uma gotícula do material de revestimento na superfície do revestimento. O controlador 39 direciona uma ou mais cabeças de impressão para gerar gotículas sob demanda. Dessa maneira, o tempo, a posição e o volume do material de revestimento fornecido por unidade de área da superfície de impressão podem ser controlados.
[0070] Cada gotícula descarregada do bocal 78 da cabeça de impressão é depositada na superfície do substrato óptico 100 na forma de um único ponto. Assim, um conjunto de gotículas depositadas cria uma matriz que permite que um padrão seja formado. Dessa maneira, toda ou porções de uma superfície de impressão pode ser revestida. Quando uma ou mais porções da superfície de impressão são impressas, vários desenhos, como caracteres, números, imagens ou similares, podem ser formados na superfície de impressão. Quando toda a superfície de impressão é impressa, o conjunto de gotículas depositadas forma uma camada do material de revestimento na superfície de impressão, como o substrato óptico 100.
[0071] Com referência continuada à FIG. 3, o aparelho de revestimento 30 tem um suporte de substrato 32 e uma ou mais cabeças de impressão 34. Em alguns exemplos, o suporte de substrato 32 pode ser configurado para reter com segurança o substrato óptico 100 durante a operação de impressão. Em alguns exemplos, o suporte de substrato 32 pode ser configurado para reter uma armação, como uma armação de óculos, tendo o substrato óptico 100 montado nela.
[0072] O suporte de substrato 32 pode ser fixado a uma base móvel 36 que move o suporte de substrato 32, juntamente com o substrato óptico 100 fixado ao mesmo, em relação a uma ou mais cabeças de impressão
34. A base móvel 36 pode ser móvel em uma direção linear em um, dois ou três eixos. Adicionalmente, ou em alternativa, a base móvel 36 pode ser rotativa em torno de um, dois ou três eixos. Desta maneira, a base móvel 36 pode ter até seis graus de liberdade para mover o suporte do substrato 32 em relação a uma ou mais cabeças de impressão 34, a fim de posicionar o substrato óptico 100 em uma posição predeterminada em relação à uma ou mais cabeças de impressão 34. A base móvel 36 pode ser movida manualmente, ou seu movimento pode ser controlado por um ou mais motores.
[0073] Em outros exemplos, o suporte de substrato 32 pode ser estacionário, enquanto as uma ou mais cabeças de impressão 34 são fornecidas com uma base móvel 36 para mover as uma ou mais cabeças de impressão 34 em relação ao suporte de substrato 32. Cada cabeça de impressão 34 pode ser móvel independentemente de qualquer outra cabeça de impressão 34. Similar ao suporte de substrato 32, as uma ou mais cabeças de impressão 34 podem ser móveis em até seis direções (translação em três eixos e rotação em torno de três eixos). Em outros exemplos, quer o suporte do substrato 32 e as uma ou mais cabeças de impressão 34 podem ser móveis em uma base móvel 36. Em outros exemplos, quer o suporte do substrato 32 e as uma ou mais cabeças de impressão 34 podem ser estacionárias.
[0074] Um substrato óptico não revestido 100 pode ser carregado no suporte de substrato 32 usando o braço de posicionamento robótico 80 antes de revestir a superfície do substrato óptico 100 usando as uma ou mais cabeças de impressão 34. O substrato óptico revestido 100 pode então ser removido a partir do suporte de substrato 32 usando o braço de posicionamento robótico 80 para permitir que um subsequente substrato óptico não revestido 100 seja carregado. Em alguns exemplos, uma pluralidade de suportes de substrato 32 (não mostrados) pode ser fornecida em uma base móvel em movimento contínuo 36, de modo que uma pluralidade de substratos ópticos 100 possa ser revestida em um processo contínuo.
[0075] Cada cabeça de impressão 34 está em comunicação fluida com um reservatório de armazenamento 38. Quando o aparelho de revestimento 30 tem mais de uma cabeça de impressão 34, reservatórios de armazenamento individuais 38 podem ser fornecidos para cada cabeça de impressão 34. Cada reservatório de armazenamento 38 está configurado para armazenar um material de revestimento a ser entregue às uma ou mais cabeças de impressão 34. Deste modo, é possível imprimir uma pluralidade de materiais de revestimento diferentes ao mesmo tempo usando uma pluralidade de cabeças de impressão 34 para gerar vários revestimentos ou misturas de diferentes materiais de revestimento. Vários dispositivos adicionais, como aquecedores, misturadores ou similares, podem ser associados a cada reservatório de armazenamento 38 para preparar o material de revestimento antes da entrega às uma ou mais cabeças de impressão 34. Em alguns exemplos, a viscosidade do material de revestimento pode ser controlada, como aumentando ou reduzindo a viscosidade do material de revestimento, antes de carregar o material de revestimento no reservatório de armazenamento 38. Em alguns exemplos, o aquecimento do material de revestimento no coletor ou no reservatório da cabeça de impressão 38 também pode ser usado para controlar a viscosidade do revestimento antes de entregar o material de revestimento às uma ou mais cabeças de impressão 34.
[0076] Com referência continuada à FIG. 3, uma pluralidade de cabeças de impressão 34 pode ser disposta em uma matriz. A pluralidade de cabeças de impressão 34 pode ser disposta paralela uma à outra em uma direção que é angulada em relação a uma direção na qual o substrato óptico 100 é movido em relação às cabeças de impressão 34. O deslocamento das cabeças de impressão 34 em um ângulo em relação à direção na qual o substrato óptico 100 é movido em relação às cabeças de impressão 34 permite uma cobertura completa dos substratos ópticos 100 de várias formas e tamanhos. Em alguns exemplos, as cabeças de impressão 34 podem ser dispostas linearmente próximas uma da outra em uma direção substancialmente paralela ou perpendicular à direção na qual o substrato óptico 100 é movido em relação às cabeças de impressão 34.
[0077] Durante o processo de revestimento, o material de revestimento pode ser aplicado no substrato óptico 100 em uma única passagem na qual o substrato óptico 100 é mantido estacionário e as uma ou mais cabeças de impressão 34 são movidas, ou nas quais o substrato óptico 100 é movido e as uma ou mais cabeças de impressão 34 são mantidas estacionárias ou nas quais o substrato óptico 100 e as uma ou mais cabeças de impressão 34 são movidas ou mantidas estacionárias. A única passagem pode ser realizada usando uma única cabeça de impressão 34 ou várias cabeças de impressão 34. Em alguns exemplos, o material de revestimento pode ser aplicado no substrato óptico 100 em duas ou mais passagens na qual o substrato óptico 100 é mantido estacionário e as uma ou mais cabeças de impressão 34 são movidas, ou nas quais o substrato óptico 100 é movido e as uma ou mais cabeças de impressão 34 são mantidas estacionárias ou nas quais o substrato óptico 100 e as uma ou mais cabeças de impressão 34 são movidas ou mantidas estacionárias. Duas ou mais passagens podem ser realizadas usando uma única cabeça de impressão 34 ou várias cabeças de impressão 34.
[0078] Em vários exemplos, as uma ou mais cabeças de impressão 34 podem ser controladas para aplicar um padrão predeterminado por uma deposição controlada do pelo menos um material de revestimento na forma de gotícula atomizada. Por exemplo, as uma ou mais cabeças de impressão 34 podem ser controladas para formar pelo menos uma zona de influência da luz no substrato óptico 100, definindo assim um padrão de gradiente. Como usado no presente documento, o termo "zona de influência da luz" se refere a uma porção de um substrato óptico 100 tendo uma capacidade de exibir uma ou mais propriedades ópticas quando a luz entra em contato ou atravessa o substrato óptico 100. Exemplos não limitativos de propriedades de influência da luz incluem alterações reversíveis fotocrômicas e/ou fotocrômicas- dicróicas, cor/matiz, polarização ou combinações das mesmas. As uma ou mais cabeças de impressão 34 podem aplicar uma composição de revestimento sobre o substrato óptico 100 para formar pelo menos uma zona de influência da luz com um gradiente de cor/matiz. Como usado no presente documento, "gradiente de cor/matiz" se refere a um aumento ou diminuição na magnitude ou grau de cor/matiz ao longo de pelo menos uma zona de influência da luz. O substrato óptico 100 pode ser formado com qualquer combinação das zonas e propriedades de influência da luz não limitativas descritas anteriormente. Além disso, o substrato óptico 100 pode compreender qualquer número desejado de zonas de influência da luz, incluindo, mas não limitado a, duas ou mais, três ou mais ou quatro ou mais zonas de influência da luz. O número e os tipos de zonas de influência da luz podem ser selecionados com base no uso desejado do substrato óptico 100.
[0079] Em vários exemplos, as uma ou mais cabeças de impressão 34 podem ser controladas para aplicar espessura uniforme ou não uniforme de uma camada revestida. Por exemplo, as uma ou mais cabeças de impressão 34 podem aplicar um revestimento com uma espessura substancialmente uniforme sobre uma superfície revestida inteira do substrato óptico 100. Em alguns exemplos, a quantidade de aplicação do material de revestimento pode ser controlada em várias regiões do substrato óptico 100 para contabilizar o movimento do material de revestimento em uma superfície curva do substrato óptico 100. Por exemplo, em um substrato óptico convexo 100, a quantidade de aplicação do material de revestimento em uma porção radialmente interna do substrato óptico 100 pode ser maior que uma quantidade de aplicação do material de revestimento em uma porção radialmente externa do substrato óptico 100, a fim de formar uma camada de revestimento com uma espessura uniforme. Em outros exemplos, a camada de revestimento pode ter uma espessura não uniforme em várias porções do substrato óptico 100.
[0080] Com referência continuada à FIG. 3, o aparelho de revestimento 30 pode ter um controlador 39 para controlar a operação do aparelho de revestimento 30. O controlador 39 pode ser configurado para controlar as operações de impressão de uma ou mais cabeças de impressão 34 e/ou operações de movimento do substrato óptico 10 e/ou as uma ou mais cabeças de impressão 34. Além disso, o controlador 39 pode ser configurado para controlar as operações de enchimento e entrega do material de revestimento nos um ou mais reservatórios de armazenamento 38.
Segundo aparelho de revestimento
[0081] Em alguns exemplos, o aparelho de revestimento 30 pode ser uma pluralidade de aparelhos de revestimento 30. A pluralidade de aparelhos de revestimento 30 pode ser o mesmo tipo de aparelhos de revestimento (isto é, jato de tinta) ou diferentes tipos de aparelhos de revestimento, tais como, sem limitação, aparelhos de revestimento a jato de tinta, aparelho de revestimento por rotação e aparelhos de revestimento por imersão. Com referência às FIGS. 3, um segundo aparelho de revestimento 200, tal como um aparelho de revestimento por rotação, descrito na publicação do pedido de patente U.S. 2016/0243579, pode ser configurado para aplicar um material de revestimento sobre um substrato óptico previamente revestido ou não revestido 100. Depois do processamento do substrato óptico 100 em uma ou mais estações do sistema de revestimento 10, como a estação de lavagem e secagem 70 ou o aparelho de revestimento 30, o braço de posicionamento robótica 80 reengata o substrato óptico 100 e o move para o segundo aparelho de revestimento 200. Embora o braço de posicionamento robótico 80 possa posicionar o substrato óptico 100 no segundo aparelho de revestimento 200 em uma orientação predeterminada em relação ao segundo aparelho de revestimento 200 com base na orientação de pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100, essa operação não pode ser necessária quando o segundo aparelho de revestimento 200 for um aparelho de revestimento por rotação.
[0082] Com referência às FIGS. 4, o segundo aparelho de revestimento 200 pode ser um aparelho de revestimento por rotação com um recipiente de revestimento 202, que pode ser um mandril de vácuo de rotação 204 em algumas modalidades. O mandril de rotação 204 está configurado para receber o substrato óptico 100 dentro do recipiente de revestimento 202 e está configurado para girar o substrato óptico 100 durante o revestimento, cuja velocidade e tempo podem variar dependendo dos parâmetros, incluindo, sem limitação, o revestimento e o substrato óptico 100.
[0083] O recipiente de revestimento 202 está configurado para coletar: excesso de material de revestimento expelido a partir do substrato óptico 100 que é revestido no mesmo; e/ou expelido durante a purga dos reservatórios 206 discutidos mais adiante neste documento; e/ou materiais de limpeza que são periodicamente utilizados para limpar o recipiente de revestimento 202 (como no final da semana, dia ou turno). O segundo aparelho de revestimento 200 da presente invenção é eficaz como um sistema único para produção em pequena escala, em algumas modalidades. Um sistema de passagem única significa que os materiais coletados não precisam ser recirculados e, portanto, o material coletado do recipiente de revestimento 202, pode ser removido através de um dreno, não mostrado, não precisa ser segregado ou processado para reutilização. Um sistema de passagem única permite a troca eficiente de materiais de revestimento distintos, em algumas modalidades.
[0084] O segundo aparelho de revestimento 200 da presente invenção inclui, em algumas modalidades, uma plataforma de reservatório de revestimento indexável 208 contendo uma pluralidade de reservatórios de revestimento 206. A plataforma do reservatório de revestimento indexável 208 está configurada para indexar um reservatório de revestimento selecionado 206 em uma posição de distribuição acima do recipiente de revestimento 202, de modo que o reservatório de revestimento 206 pode ser dispensado com uma unidade de distribuição 210 na posição de distribuição, como mostrado na FIG.
5. A unidade de distribuição 210 é engatável ao reservatório de revestimento selecionado 206 na posição de dispensação para dispensar uma quantidade selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento a partir do reservatório de revestimento engatado e selecionado 206.
[0085] A plataforma do reservatório de revestimento indexável 208 é um carrossel de rotação com posições circunferenciais distintas, nas quais cada posição circunferencial distinta recebe reversivelmente um dentre a pluralidade de reservatórios de revestimento descartáveis 206. O carrossel pode, em algumas modalidades, incluir oito ou dez estações. O carrossel pode ter outros números de posições para os reservatórios 206, com algumas modalidades adicionais, tais como, mas não limitadas a, dezoito ou vinte estações. O carrossel de rotação, como mostrado, representa uma modalidade eficiente para formar e operar a plataforma do reservatório de revestimento indexável 208. Outros arranjos de indexação, no entanto, podem ser utilizados de acordo com o revestidor de rotação da presente invenção. A título de ilustração não limitativa, um rack ou linha de reservatórios 206 em movimento linear pode ser usado para formar a plataforma 208, sem limite no número de reservatórios distintos 206 que podem estar presentes em tal arranjo. O motor rotaciona a plataforma 208 pode utilizar uma variedade de mecanismos de alinhamento conhecidos na técnica, como um mecanismo de travamento de retenção com mola, para garantir que os reservatórios retidos 206 sejam movidos para posições indexadas precisas e predeterminadas, de modo que o reservatório 206 esteja na posição de dispensação abaixo e alinhado com a unidade de distribuição 210.
[0086] A FIG. 6 é uma vista em seção representativa de um reservatório de revestimento individual 206 do segundo aparelho de revestimento flexível 200. Cada reservatório de revestimento 206 inclui um cano alongado 212 contendo um pistão móvel 214 para dispensa do material de revestimento a partir do reservatório de revestimento 206 e no qual o avanço do pistão móvel 214 do reservatório de revestimento selecionado 206 na posição de de distribuição do material de revestimento do revestimento selecionado reservatório 206. Em algumas modalidades e com referência adicional à FIG. 6, cada reservatório de revestimento 206 é formado como uma seringa plástica descartável e, assim, cada reservatório de revestimento 206 distribui o revestimento através de um orifício de distribuição sem válvula 216 na extremidade distal do cano. As seringas de plástica estão disponíveis comercialmente e são particularmente adequadas para formar reservatórios 206 devido às características de distribuição precisas associadas a elas. As coberturas (não mostradas) na superfície traseira e através do orifício 86 podem ser usadas para o transporte de reservatórios cheios 206, em algumas modalidades. As coberturas também podem ser reaplicadas para remoção e armazenamento dos reservatórios 206, em algumas modalidades adicionais.
[0087] O orifício estreito 216 do reservatório 206 (em algumas modalidades em combinação com o pistão móvel 214) permite que o material de revestimento seja mantido no reservatório 206 e dispensado na ausência de uma válvula. Em algumas modalidades, o dispensador sem válvula do reservatório 206 elimina substancialmente (exceto por um único gotejamento/gota de purga) que é necessário com outros dispensadores de revestimento de centrifugação e reduz bastante a quantidade de desperdício formado durante a operação do segundo aparelho de revestimento 200.
[0088] A unidade de distribuição 210 inclui uma haste 218 alinhada com o reservatório selecionado 206 na posição de distribuição e está configurada para avançar seletivamente o pistão móvel 214 do reservatório de revestimento selecionado 206 na posição de distribuição para de distribuir uma quantidade unitária selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento a partir do reservatório de revestimento selecionado engatado
206. Em algumas modalidades, a haste 218 é um parafuso, como um parafuso alongado. Em algumas modalidades, a quantidade unitária selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento dispensado é a partir de 0,2 ml a 4 ml, ou de 0,2 a 1 ml, ou de 0,2 ml a 0,6 ml. A quantidade unitária inclui uma quantidade de revestimento e uma quantidade de purga (como uma gotícula) e pode variar dependendo dos parâmetros, incluindo, entre outros, o material de revestimento, as características do substrato, a espessura de revestimento desejada e o protocolo de revestimento.
[0089] Em algumas modalidades, o reservatório de revestimento selecionado 206 possui uma quantidade de material de revestimento que é menor do que o necessário para revestir dois substratos ópticos 100, mas mais do que o necessário para revestir um único substrato óptico 100 (isto é, menos de duas quantidades unitárias). Esta quantidade restante de material de revestimento (isto é, menos de duas quantidades unitárias) pode, em algumas modalidades, ser (i) expelida a partir do reservatório de revestimento 206 para descarte, como em um receptáculo ou dreno de descarte; ou (ii) dispensado a partir do reservatório de revestimento 206 para um substrato óptico único 100. Depois de expelir ou distribuir a quantidade restante de material de revestimento, o reservatório 206 está vazio e substancialmente livre de material de revestimento e pode ser descartado como resíduo sólido, em algumas modalidades.
[0090] A unidade de distribuição 210, com algumas modalidades, inclui um motor 220, como um motor de passo linear ou similar, para avançar com precisão o pistão móvel 214 de um reservatório de revestimento selecionado para dispensá-lo de uma quantidade predeterminada de material de revestimento. A unidade de distribuição 210 também detecta, em algumas modalidades, a posição do pistão 214, por meio da haste 218 ou outro dispositivo, antes e após o uso, de modo que a quantidade de material de revestimento que reside em cada reservatório específico 206 possa ser calculada e rastreada pelo segundo aparelho de revestimento 200. A unidade de distribuição 210 levanta a haste 218 para fora do cano 212 para permitir a indexação do carrossel da plataforma 208 para selecionar um reservatório distinto 206, em algumas modalidades. Um reservatório 206 se movendo para fora da posição de distribuição não estará vazio, mas terá nele material de revestimento para uso posterior seletivo, em algumas modalidades.
[0091] De acordo com algumas modalidades da presente invenção, a haste 218 é uma haste estacionária e o motor é móvel, como verticalmente móvel, ao longo da haste 218. O motor pode incluir uma extensão (não mostrada) que engata de maneira justa com o pistão 214. O movimento controlável do motor, como verticalmente para baixo, ao longo da haste estacionária serve para acionar o pistão 214 no reservatório 206, o que resulta na distribuição de uma quantidade selecionada (ou predeterminada) de material de revestimento do orifício 216, em algumas modalidades.
[0092] Em operação, a plataforma do reservatório de revestimento indexável 208, os reservatórios 206 e a unidade 210 são móveis como uma unidade, mostrados esquematicamente em 222, pelo menos entre: (i) uma posição de purga, em que o reservatório de revestimento selecionado 206 na posição de distribuição está acima do reservatório de revestimento 202, mas não está acima do substrato óptico 100; e (ii) pelo menos uma posição de distribuição, em que o reservatório de revestimento selecionado na posição de distribuição acima da reservatório de revestimento está acima do substrato óptico 100. O reservatório de revestimento 202 pode ser construído para incluir uma calha ou extensão que se estende até um ponto alinhado com a posição de purga. Na posição de purga, o pistão móvel 214 é avançado pela haste 218 da unidade 210 para distribuir uma gotícula de purga mínima do material de revestimento para limpar a superfície externa do menisco do material de revestimento no orifício 216 do reservatório sem válvula 206. A superfície externa do menisco pode ser exposta ao ar durante a não utilização do material de revestimento em um determinado reservatório 206, o que pode resultar em oxidação e/ou incrustações no menisco, exigindo assim a sua purga. Uma única gotícula é tudo o que é necessário para preparar o sistema de distribuição de material de revestimento purgando a parte possivelmente não homogênea do material de revestimento do orifício 216, em algumas modalidades. Após a queda inicial da purga, a plataforma do reservatório de revestimento indexável 208, os reservatórios 206 e a unidade 210 são móveis como uma única unidade, mostrada esquematicamente em 222, para pelo menos uma posição de distribuição, onde o reservatório de revestimento selecionado 206 na posição de distribuição acima do reservatório de revestimento 202 está acima do substrato óptico 100.
[0093] O movimento 222 do reservatório de distribuição selecionado 206 permite que o segundo aparelho de revestimento 200 acomode uma variedade de protocolos de distribuição para revestir o substrato óptico 100 no mandril de rotação 204 dentro do recipiente de revestimento 202. Em algumas modalidades, o material de revestimento a partir do reservatório de distribuição selecionado 206 pode ser distribuído no substrato óptico 100 no centro e/ou em uma ou mais posições selecionadas através da superfície do substrato óptico 100 (como em uma linha, espiral e/ou círculos concêntricos, através/na superfície superior do substrato óptico 100) e, em seguida, o mandril de rotação 204 é engatado para rotacionar o material de revestimento aplicado para formar uma camada de revestimento com espessura substancialmente uniforme. De acordo com algumas modalidades adicionais, simultaneamente com a rotação do mandril de rotação 204, o material de revestimento a partir do reservatório de distribuição selecionado 206 é distribuído no substrato óptico 100 no centro e/ou em uma ou mais posições selecionadas na superfície do substrato óptico 100 para formar um revestimento uniforme. Qualquer combinação desejada desses protocolos de distribuição e rotação pode ser usada com o segundo aparelho de revestimento 200. Além disso, a taxa de distribuição e a velocidade de rotação também podem variar ao longo do processo, em algumas modalidades. A distribuição intermitente e/ou a rotação do mandril a vácuo 204 podem ser usadas em algumas modalidades. Os protocolos de distribuição são, em algumas modalidades, baseados em parâmetros que incluem, mas não se limitam, a composição do substrato e/ou tratamento de superfície do mesmo, o material de revestimento aplicado e/ou os parâmetros de revestimento final desejados.
[0094] A plataforma indexável 208 permite que o segundo aparelho de revestimento 200 aplique uma única ou várias camadas de revestimento no substrato óptico 100 sem remover a lente do mandril de rotação 204. Em algumas modalidades e a título de ilustração não limitativa, em um primeiro estágio, uma primeira camada de revestimento é aplicada usando um reservatório selecionado 206, então o carrossel é indexado, de modo que, em um segundo estágio, um segundo material de revestimento seja aplicado sobre a primeira camada de revestimento de um reservatório distinto/separado 206. A indexação do carrossel pode ser feita com a plataforma 208 afastada a partir do alinhamento dos reservatórios 206 com o substrato óptico 100, de modo que nenhum gotejamento disperso dos reservatórios intermediários 206 interfira com o protocolo de revestimento desejado e, portanto, no segundo estágio o segundo o material de revestimento pode ser adequadamente purgado antes da distribuição sobre o substrato óptico 100. Ter dois ou mais estágios de revestimento permite ao aplicador de rotação da presente invenção aplicar e formar inúmeras combinações de camadas de revestimento empilhadas, nas quais cada camada de revestimento possui a mesma ou diferente composição e/ou a mesma ou diferente espessura em relação a uma (encostada) camada de revestimento adjacente. Estação de cura
[0095] Com referência às FIGS. 3, o sistema de revestimento 10 inclui ou integrou ao mesmo pelo menos uma estação de cura distinta 50 para curar seletiva e independentemente (como pelo menos curar parcialmente) cada revestimento aplicado ao substrato óptico 100. Depois da aplicação do material de revestimento desejado a pelo menos uma superfície do substrato óptico 100, o braço de posicionamento robótico 80 reengate o substrato óptico revestido 100 e move-o para a estação de cura 50. O braço de posicionamento robótico 80 pode, opcionalmente, posicionar o substrato óptico revestido 100 na estação de cura 50 em uma orientação predeterminada em relação à estação de cura 50 com base na orientação de pelo menos uma marca 110 no substrato óptico 100.
[0096] Em alguns exemplos mostrados na FIG. 3, a estação de cura 50 inclui pelo menos um dentre: (i) uma estação de cura térmica; (ii) uma estação de cura por UV; (iii) uma estação de cura por infravermelho; e (iv) combinações de pelo menos dois dentre (i), (ii) e (iii). Em alguns exemplos, a estação de cura por UV 50b do sistema de revestimento 10 pode ter uma gaveta deslizante com uma peça de trabalho segurando um mandril de rotação
52, como um mandril de vácuo de rotação, para recebimento seletivo de um substrato óptico desejado 100 a ser curado. Um espelho refletivo côncavo ou angular pode envolver o mandril de rotação 52 para auxiliar ou melhorar a cura da borda. Com um substrato óptico revestido 100 no mandril de rotação 52 da estação de cura por UV 50b, a gaveta é fechada e um obturador é aberto para expor o substrato óptico revestido 100 à luz UV, como a partir de um bulbo de mercúrio ou de haleto de metal. O mandril de rotação 52 pode rotacionar em várias velocidades para garantir uma cura uniforme. O tempo de cura dentro da estação de cura por UV 50b pode variar dependendo, por exemplo, do revestimento específico. A estação de cura por IR 50c pode ter uma construção similar à estação de cura por UV 50b, mas inclui uma fonte de IR apropriada. O tempo de cura dentro da estação de cura por IR 50c pode variar dependendo, por exemplo, do revestimento específico. Cada estação de cura 50, em alguns exemplos, pode incluir nela uma atmosfera selecionada a partir de uma atmosfera inerte (como, mas não se limitando a, argônio e/ou nitrogênio) e/ou uma atmosfera reativa (como, mas não se limitando a, oxigênio, CO e/ou CO2).
[0097] A estação de cura térmica 50a, em alguns exemplos, é acompanhada por um transportador de transferência 54 e uma área de descarga ou acumulação 56. Na estação de cura térmica 50a, os substratos ópticos 100 a serem curados termicamente são colocados no transportador de entrada 54, como lado a lado no transportador 54. A velocidade do transportador 54 é selecionada para que os substratos ópticos revestidos 100 tenham uma exposição de temperatura desejada dentro da estação de cura térmica 50a. O forno da estação de cura térmica 50a pode, em alguns exemplos, ser um forno elétrico e/ou um forno a gás (como um forno a gás natural). Os tempos de cura e os perfis de temperatura podem variar dependendo, por exemplo, do revestimento a ser curado. Em alguns exemplos, os substratos ópticos revestidos 100 são expostos a uma temperatura de 115° - 135°C por 20-40 minutos, como 30 minutos a 125°C dentro da estação de cura térmica 50a. Depois de pelo menos a cura parcial, os substratos ópticos revestidos 100 são encaminhados para a área de acumulação 56 projetada para acomodar um número desejado de substratos ópticos 100 sem bordas tocando no meio (como, mas não limitado a, até 30 substratos ópticos revestidos 100)
[0098] Em alguns exemplos, o transportador 54 em conjunto com o braço de posicionamento robótico 80 é usado para saída de pelo menos substratos ópticos revestidos parcialmente curados 100 da estação de cura por IR 50c e/ou estação de cura por UV 50b. Em alguns exemplos, um transportador de saída separado 54 (não mostrado) é usado para desviar a estação de cura térmica 50a para propósitos de fornecer substratos ópticos revestidos 100 para a área de acumulação 56.
[0099] Com alguns exemplos adicionais, um substrato óptico revestido e curado 100 pode ser retornado da estação de cura 50 para: (i) a estação de lavagem e secagem 70; e/ou (ii) o aparelho de revestimento 30 para a aplicação ao mesmo de um material de revestimento subsequente. O substrato óptico curado 100 pode, com alguns exemplos, ser movido a partir da área de acumulação 56 para uma área de inspeção final ou uma área de embalagem (não mostrada).
[00100] A presente invenção foi descrita com referência a detalhes específicos de modalidades particulares da mesma. Não se pretende que esses detalhes sejam considerados como limitações do escopo da invenção, desde que estejam incluídos nas reivindicações anexas..

Claims (15)

REIVINDICAÇÕES
1. Sistema de revestimento para revestir um substrato óptico, o sistema de revestimento caracterizado pelo fato de que compreende: um aparelho de identificação configurado para identificar uma orientação de pelo menos uma marca na superfície de um substrato óptico; um aparelho de revestimento configurado para aplicar pelo menos um material de revestimento em pelo menos uma porção do substrato óptico em um padrão predeterminado por uma deposição controlada do pelo menos um material de revestimento na forma de gotícula atomizada; e um braço de posicionamento configurado para mover o substrato óptico a partir do aparelho de identificação para o aparelho de revestimento e posicionar o substrato óptico em uma orientação predeterminada em relação ao aparelho de revestimento com base na orientação da pelo menos uma marca.
2. Sistema de revestimento, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que o aparelho de identificação compreende pelo menos um sensor para determinar a orientação de pelo menos uma marca.
3. Sistema de revestimento, de acordo com a reivindicação 2, caracterizado pelo fato de que o pelo menos um sensor é um sensor óptico.
4. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 3, caracterizado pelo fato de que o aparelho de identificação compreende uma mesa retroiluminada.
5. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 4, caracterizado pelo fato de que o braço de posicionamento move o substrato óptico para a orientação predeterminada.
6. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 5, caracterizado pelo fato de que a estação de identificação move o substrato óptico para a orientação predeterminada.
7. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 6, caracterizado pelo fato de que o aparelho de revestimento é um aparelho de revestimento a jato de tinta piezoelétrico ou um aparelho de impressão a jato de tinta térmica.
8. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 7, caracterizado pelo fato de que o aparelho de revestimento compreende um ou mais cartuchos cheios com pelo menos um material de revestimento.
9. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 8, caracterizado pelo fato de que compreende ainda pelo menos uma estação de cura, em que cada estação de cura é configurada independentemente para curar pelo menos parcialmente pelo menos um material de revestimento aplicado ao substrato óptico.
10. Sistema de revestimento, de acordo com a reivindicação 9, caracterizado pelo fato de que cada estação de cura compreende, independentemente, pelo menos uma dentre (i) uma estação de cura térmica; (ii) uma estação de cura por UV; (iii) uma estação de cura por infravermelho; e (iv) combinações de pelo menos dois dentre (i), (ii) e (iii).
11. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 10, caracterizado pelo fato de que compreende ainda uma estação de lavagem e secagem, em que a estação de lavagem e secagem está configurada para lavar e secar seletivamente cada substrato óptico e em que a estação de lavagem e secagem é acessível pelo braço de posicionamento.
12. Sistema de revestimento, de acordo com qualquer uma das reivindicações 1 a 11, caracterizado pelo fato de que compreende ainda uma estação de pré-tratamento, em que a estação de pré-tratamento é configurada para aumentar a umidade do substrato óptico para promover a adesão de pelo menos um material de revestimento ao substrato óptico, e em que a estação de pré-tratamento é acessível pelo braço de posicionamento.
13. Sistema de revestimento, de acordo com a reivindicação 1, caracterizado pelo fato de que compreende ainda um segundo aparelho de revestimento, em que o segundo aparelho de revestimento é um aparelho de revestimento por rotação.
14. Método para revestir um substrato óptico, o método caracterizado pelo fato de que compreende: identificar uma orientação de pelo menos uma marca na superfície de um substrato óptico usando um aparelho de identificação; mover o substrato óptico para um aparelho de revestimento e posicionar o substrato óptico em uma orientação predeterminada em relação ao aparelho de revestimento com base na orientação da pelo menos uma marca; e aplicar pelo menos um material de revestimento em pelo menos uma porção do substrato óptico usando o aparelho de revestimento, em que o pelo menos um material de revestimento é aplicado em um padrão predeterminado por uma deposição controlada do pelo menos um material de revestimento na forma de gotícula atomizada.
15. Substrato óptico revestido caracterizado pelo fato de que compreende pelo menos uma superfície pelo menos parcialmente revestida com pelo menos um material de revestimento, definido de acordo com o método da reivindicação 14.
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