BR112016028622B1 - Método para medir o peso de uma composição de revestimento de passivação - Google Patents
Método para medir o peso de uma composição de revestimento de passivação Download PDFInfo
- Publication number
- BR112016028622B1 BR112016028622B1 BR112016028622-7A BR112016028622A BR112016028622B1 BR 112016028622 B1 BR112016028622 B1 BR 112016028622B1 BR 112016028622 A BR112016028622 A BR 112016028622A BR 112016028622 B1 BR112016028622 B1 BR 112016028622B1
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- coating composition
- weight
- fact
- silane
- substrate
- Prior art date
Links
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 title claims abstract description 90
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 55
- 239000000758 substrate Substances 0.000 claims abstract description 102
- 238000002161 passivation Methods 0.000 claims abstract description 71
- 238000000576 coating method Methods 0.000 claims description 77
- 229910000077 silane Inorganic materials 0.000 claims description 74
- BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N Silane Chemical compound [SiH4] BLRPTPMANUNPDV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 69
- 229910052751 metal Inorganic materials 0.000 claims description 62
- 239000002184 metal Substances 0.000 claims description 62
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 claims description 57
- -1 titanium alkoxide Chemical class 0.000 claims description 29
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 27
- 239000010960 cold rolled steel Substances 0.000 claims description 24
- 238000005033 Fourier transform infrared spectroscopy Methods 0.000 claims description 22
- 238000002835 absorbance Methods 0.000 claims description 15
- 238000005259 measurement Methods 0.000 claims description 14
- 238000009304 pastoral farming Methods 0.000 claims description 12
- 238000001228 spectrum Methods 0.000 claims description 9
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims description 7
- 229910052726 zirconium Inorganic materials 0.000 claims description 7
- 239000002253 acid Substances 0.000 claims description 6
- RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N silicic acid Chemical compound O[Si](O)(O)O RMAQACBXLXPBSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 229910001335 Galvanized steel Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 239000008397 galvanized steel Substances 0.000 claims description 5
- 229910044991 metal oxide Inorganic materials 0.000 claims description 5
- 150000004706 metal oxides Chemical class 0.000 claims description 5
- ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N ethanolate;zirconium(4+) Chemical compound [Zr+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] ASBGGHMVAMBCOR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N titanium ethoxide Chemical compound [Ti+4].CC[O-].CC[O-].CC[O-].CC[O-] JMXKSZRRTHPKDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N Magnesium Chemical compound [Mg] FYYHWMGAXLPEAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910000831 Steel Inorganic materials 0.000 claims description 2
- HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N Zinc Chemical compound [Zn] HCHKCACWOHOZIP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910001297 Zn alloy Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 2
- 230000000996 additive effect Effects 0.000 claims description 2
- 229910052782 aluminium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N aluminium Chemical compound [Al] XAGFODPZIPBFFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 229910052749 magnesium Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011777 magnesium Substances 0.000 claims description 2
- 239000003002 pH adjusting agent Substances 0.000 claims description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 claims description 2
- 239000010959 steel Substances 0.000 claims description 2
- 229910052725 zinc Inorganic materials 0.000 claims description 2
- 239000011701 zinc Substances 0.000 claims description 2
- 239000010936 titanium Substances 0.000 claims 3
- 229910052719 titanium Inorganic materials 0.000 claims 3
- 238000004876 x-ray fluorescence Methods 0.000 claims 1
- 238000003908 quality control method Methods 0.000 abstract description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 92
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 39
- 125000004435 hydrogen atom Chemical group [H]* 0.000 description 28
- 239000001257 hydrogen Substances 0.000 description 24
- 229910052739 hydrogen Inorganic materials 0.000 description 24
- 239000000243 solution Substances 0.000 description 22
- 239000000975 dye Substances 0.000 description 21
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 18
- 125000003545 alkoxy group Chemical group 0.000 description 17
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 17
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 15
- OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N Carbon Chemical compound [C] OKTJSMMVPCPJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N Titan oxide Chemical compound O=[Ti]=O GWEVSGVZZGPLCZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 14
- 231100001244 hazardous air pollutant Toxicity 0.000 description 13
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical compound OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N ethylene glycol Natural products OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 11
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 10
- 238000011088 calibration curve Methods 0.000 description 9
- 229910000420 cerium oxide Inorganic materials 0.000 description 9
- 125000000753 cycloalkyl group Chemical group 0.000 description 9
- 239000010408 film Substances 0.000 description 9
- BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N oxo(oxoceriooxy)cerium Chemical compound [Ce]=O.O=[Ce]=O BMMGVYCKOGBVEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 239000012855 volatile organic compound Substances 0.000 description 9
- 125000003710 aryl alkyl group Chemical group 0.000 description 8
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 8
- 150000002367 halogens Chemical class 0.000 description 8
- 239000000725 suspension Substances 0.000 description 8
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N Acetic acid Chemical compound CC(O)=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N Hydrogen Chemical compound [H][H] UFHFLCQGNIYNRP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 7
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 description 7
- ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 2-Butanone Chemical compound CCC(C)=O ZWEHNKRNPOVVGH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropylurea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(N)=O LVACOMKKELLCHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N Silicium dioxide Chemical compound O=[Si]=O VYPSYNLAJGMNEJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 125000002777 acetyl group Chemical group [H]C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 6
- 125000000732 arylene group Chemical group 0.000 description 6
- BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N butan-2-ol Chemical compound CCC(C)O BTANRVKWQNVYAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N isocyanuric acid Chemical compound OC1=NC(O)=NC(O)=N1 ZFSLODLOARCGLH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 6
- 125000000962 organic group Chemical group 0.000 description 6
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 6
- LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropylurea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(N)=O LVNLBBGBASVLLI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acetate Chemical compound CCOC(C)=O XEKOWRVHYACXOJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 238000001157 Fourier transform infrared spectrum Methods 0.000 description 5
- KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N N,N,N',N'-tetramethylethylenediamine Chemical compound CN(C)CCN(C)C KWYHDKDOAIKMQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical compound CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 5
- VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K cerium(3+);triacetate Chemical compound [Ce+3].CC([O-])=O.CC([O-])=O.CC([O-])=O VGBWDOLBWVJTRZ-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 5
- 239000000463 material Substances 0.000 description 5
- 239000003921 oil Substances 0.000 description 5
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 description 5
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical compound CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N silylurea Chemical class NC(=O)N[SiH3] IYMSIPPWHNIMGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 1-methoxypropan-2-ol Chemical compound COCC(C)O ARXJGSRGQADJSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-2,4-diol Chemical compound CC(O)CC(C)(C)O SVTBMSDMJJWYQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 150000007945 N-acyl ureas Chemical class 0.000 description 4
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical group [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N Zirconium Chemical compound [Zr] QCWXUUIWCKQGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N Zirconium dioxide Chemical compound O=[Zr]=O MCMNRKCIXSYSNV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 239000002671 adjuvant Substances 0.000 description 4
- 125000005140 aralkylsulfonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 125000004391 aryl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 4
- 229910052794 bromium Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000001951 carbamoylamino group Chemical group C(N)(=O)N* 0.000 description 4
- 229910052801 chlorine Inorganic materials 0.000 description 4
- ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N coumarin Chemical compound C1=CC=C2OC(=O)C=CC2=C1 ZYGHJZDHTFUPRJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 description 4
- 239000012153 distilled water Substances 0.000 description 4
- 239000007850 fluorescent dye Substances 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 230000007062 hydrolysis Effects 0.000 description 4
- 238000006460 hydrolysis reaction Methods 0.000 description 4
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- 238000007654 immersion Methods 0.000 description 4
- 229910052740 iodine Inorganic materials 0.000 description 4
- 238000012417 linear regression Methods 0.000 description 4
- 238000002156 mixing Methods 0.000 description 4
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 4
- 150000004756 silanes Chemical class 0.000 description 4
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 4
- 125000003808 silyl group Chemical group [H][Si]([H])([H])[*] 0.000 description 4
- 239000003381 stabilizer Substances 0.000 description 4
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 description 4
- QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-1-ol Chemical compound CCC(C)CO QPRQEDXDYOZYLA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 2-methylbutan-2-ol Chemical compound CCC(C)(C)O MSXVEPNJUHWQHW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N Acetone Chemical compound CC(C)=O CSCPPACGZOOCGX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N Benzene Chemical compound C1=CC=CC=C1 UHOVQNZJYSORNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N Dimethyl ether Chemical compound COC LCGLNKUTAGEVQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N Isopropanol Chemical compound CC(C)O KFZMGEQAYNKOFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N N,N-Dimethylformamide Chemical compound CN(C)C=O ZMXDDKWLCZADIW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910018557 Si O Inorganic materials 0.000 description 3
- HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M Sodium hydroxide Chemical compound [OH-].[Na+] HEMHJVSKTPXQMS-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 3
- YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N Toluene Chemical compound CC1=CC=CC=C1 YXFVVABEGXRONW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229960000583 acetic acid Drugs 0.000 description 3
- 238000004590 computer program Methods 0.000 description 3
- 239000008367 deionised water Substances 0.000 description 3
- 229910021641 deionized water Inorganic materials 0.000 description 3
- MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol Chemical compound OCCOCCO MTHSVFCYNBDYFN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 3
- 125000000524 functional group Chemical group 0.000 description 3
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 description 3
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 3
- 150000002894 organic compounds Chemical group 0.000 description 3
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 3
- 238000002360 preparation method Methods 0.000 description 3
- 238000007761 roller coating Methods 0.000 description 3
- LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N silicon monoxide Inorganic materials [Si-]#[O+] LIVNPJMFVYWSIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N (+/-)-1,3-Butanediol Chemical compound CC(O)CCO PUPZLCDOIYMWBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 1,1,2,2-tetrachloroethane Chemical compound ClC(Cl)C(Cl)Cl QPFMBZIOSGYJDE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HSDGFGSXXVWDET-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(3-trimethoxysilylpropyl)urea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(=O)NCCC[Si](OC)(OC)OC HSDGFGSXXVWDET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 1-benzofuran Chemical compound C1=CC=C2OC=CC2=C1 IANQTJSKSUMEQM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-butoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCO OAYXUHPQHDHDDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxyethoxy)ethanol Chemical compound COCCOCCO SBASXUCJHJRPEV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-ethoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCOCCOCCOCCO WFSMVVDJSNMRAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 3H-indole Chemical compound C1=CC=C2CC=NC2=C1 RKJUIXBNRJVNHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N Acetamide Chemical compound CC(N)=O DLFVBJFMPXGRIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M Acetate Chemical compound CC([O-])=O QTBSBXVTEAMEQO-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- 229910000838 Al alloy Inorganic materials 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N Butadiene Chemical compound C=CC=C KAKZBPTYRLMSJV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N Dimethyl phthalate Chemical compound COC(=O)C1=CC=CC=C1C(=O)OC NIQCNGHVCWTJSM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N Ethylbenzene Chemical compound CCC1=CC=CC=C1 YNQLUTRBYVCPMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N N-Pentanol Chemical compound CCCCCO AMQJEAYHLZJPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N O-Xylene Chemical group CC1=CC=CC=C1C CTQNGGLPUBDAKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N Para-Xylene Chemical group CC1=CC=C(C)C=C1 URLKBWYHVLBVBO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229910008051 Si-OH Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910002808 Si–O–Si Inorganic materials 0.000 description 2
- 229910006358 Si—OH Inorganic materials 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N Stilbene Natural products C=1C=CC=CC=1/C=C/C1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-VAWYXSNFSA-N 0.000 description 2
- PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N Styrene Chemical compound C=CC1=CC=CC=C1 PPBRXRYQALVLMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N Tert-Butanol Chemical compound CC(C)(C)O DKGAVHZHDRPRBM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N Tetraethyl orthosilicate Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)OCC BOTDANWDWHJENH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N Trichloroethylene Chemical group ClC=C(Cl)Cl XSTXAVWGXDQKEL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N Zinc monoxide Chemical compound [Zn]=O XLOMVQKBTHCTTD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N acetylacetone Chemical compound CC(=O)CC(C)=O YRKCREAYFQTBPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000002378 acidificating effect Effects 0.000 description 2
- 125000004183 alkoxy alkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000004397 aminosulfonyl group Chemical group NS(=O)(=O)* 0.000 description 2
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 2
- 238000005102 attenuated total reflection Methods 0.000 description 2
- WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N butane-1,4-diol Chemical compound OCCCCO WERYXYBDKMZEQL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000001721 carbon Chemical group 0.000 description 2
- YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N catechol Chemical compound OC1=CC=CC=C1O YCIMNLLNPGFGHC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 2
- 238000004587 chromatography analysis Methods 0.000 description 2
- 239000012459 cleaning agent Substances 0.000 description 2
- 229960000956 coumarin Drugs 0.000 description 2
- 235000001671 coumarin Nutrition 0.000 description 2
- RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N cumene Chemical compound CC(C)C1=CC=CC=C1 RWGFKTVRMDUZSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004966 cyanoalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- 238000005238 degreasing Methods 0.000 description 2
- SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N diacetone alcohol Chemical compound CC(=O)CC(C)(C)O SWXVUIWOUIDPGS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000009792 diffusion process Methods 0.000 description 2
- 238000007598 dipping method Methods 0.000 description 2
- JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N epsilon-caprolactam Chemical compound O=C1CCCCCN1 JBKVHLHDHHXQEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-hydroxypropanoate Chemical compound CCOC(=O)C(C)O LZCLXQDLBQLTDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000001495 ethyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])* 0.000 description 2
- 239000007789 gas Substances 0.000 description 2
- 230000014509 gene expression Effects 0.000 description 2
- 239000012362 glacial acetic acid Substances 0.000 description 2
- 150000002334 glycols Chemical class 0.000 description 2
- 125000002768 hydroxyalkyl group Chemical group 0.000 description 2
- HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N isophorone Chemical compound CC1=CC(=O)CC(C)(C)C1 HJOVHMDZYOCNQW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 2
- IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N m-xylene Chemical group CC1=CC=CC(C)=C1 IVSZLXZYQVIEFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N methanoic acid Natural products OC=O BDAGIHXWWSANSR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000000956 methoxy group Chemical group [H]C([H])([H])O* 0.000 description 2
- 125000002496 methyl group Chemical group [H]C([H])([H])* 0.000 description 2
- REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N mofebutazone Chemical group O=C1C(CCCC)C(=O)NN1C1=CC=CC=C1 REOJLIXKJWXUGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N n-Hexane Chemical compound CCCCCC VLKZOEOYAKHREP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N nitrobenzene Chemical compound [O-][N+](=O)C1=CC=CC=C1 LQNUZADURLCDLV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000003973 paint Substances 0.000 description 2
- IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N pentachlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C(Cl)=C(Cl)C(Cl)=C1Cl IZUPBVBPLAPZRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N pentan-2-ol Chemical compound CCCC(C)O JYVLIDXNZAXMDK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920001296 polysiloxane Polymers 0.000 description 2
- 239000002244 precipitate Substances 0.000 description 2
- 238000002203 pretreatment Methods 0.000 description 2
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 2
- LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N propylene glycol methyl ether acetate Chemical compound COCC(C)OC(C)=O LLHKCFNBLRBOGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004805 propylene group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([*:1])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 2
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 2
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 2
- 238000005507 spraying Methods 0.000 description 2
- PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N stilbene Chemical compound C=1C=CC=CC=1C=CC1=CC=CC=C1 PJANXHGTPQOBST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 235000021286 stilbenes Nutrition 0.000 description 2
- 238000003756 stirring Methods 0.000 description 2
- JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCOCC1CO1 JXUKBNICSRJFAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOCC1CO1 BPSIOYPQMFLKFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000004178 (C1-C4) alkyl group Chemical group 0.000 description 1
- UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 1,1,1-trichloroethane Chemical compound CC(Cl)(Cl)Cl UOCLXMDMGBRAIB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PSEQNBSZQJBUPZ-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-tris(3-triethoxysilylpropyl)urea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(=O)N(CCC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC PSEQNBSZQJBUPZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LYXIOBHSJIPRTF-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-tris(3-trimethoxysilylpropyl)urea Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCNC(=O)N(CCC[Si](OC)(OC)OC)CCC[Si](OC)(OC)OC LYXIOBHSJIPRTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRGOVVOWVXKTAV-UHFFFAOYSA-N 1,1,3-tris[3-(diethoxymethylsilyl)propyl]urea Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]CCCN(C(=O)NCCC[SiH2]C(OCC)OCC)CCC[SiH2]C(OCC)OCC FRGOVVOWVXKTAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PCBFLGCGQJZONK-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCN(C(N)=O)CCC[Si](OCC)(OCC)OCC PCBFLGCGQJZONK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SDNMHJLZMMQMRL-UHFFFAOYSA-N 1,1-bis[3-[di(propan-2-yloxy)methylsilyl]propyl]urea Chemical compound C(C)(C)OC(OC(C)C)[SiH2]CCCN(C(=O)N)CCC[SiH2]C(OC(C)C)OC(C)C SDNMHJLZMMQMRL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 1,2-Dichloroethane Chemical compound ClCCCl WSLDOOZREJYCGB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 1,2-dibromoethane Chemical compound BrCCBr PAAZPARNPHGIKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWOVEJBDMKHZQK-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(3-trimethoxysilylpropyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCN1C(=O)N(CCC[Si](OC)(OC)OC)C(=O)N(CCC[Si](OC)(OC)OC)C1=O QWOVEJBDMKHZQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HOBIHBQJHORMMP-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis(3-triethoxysilylpropyl)urea Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCCNC(=O)NCCC[Si](OCC)(OCC)OCC HOBIHBQJHORMMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ADQVDENPLNWINA-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[3-(diethoxymethylsilyl)propyl]urea Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]CCCNC(=O)NCCC[SiH2]C(OCC)OCC ADQVDENPLNWINA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CMGYQLJKCGKFPR-UHFFFAOYSA-N 1,3-bis[3-[di(propan-2-yloxy)methylsilyl]propyl]urea Chemical compound CC(C)OC(OC(C)C)[SiH2]CCCNC(=O)NCCC[SiH2]C(OC(C)C)OC(C)C CMGYQLJKCGKFPR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BGPJLYIFDLICMR-UHFFFAOYSA-N 1,4,2,3-dioxadithiolan-5-one Chemical compound O=C1OSSO1 BGPJLYIFDLICMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 1-(1-butoxypropan-2-yloxy)propan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)OCC(C)O CUVLMZNMSPJDON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZVDJGAZWLUJOJW-UHFFFAOYSA-N 1-(4-ethenylphenyl)ethyl-trimethoxysilane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C(C)C1=CC=C(C=C)C=C1 ZVDJGAZWLUJOJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 1-butoxybutane Chemical compound CCCCOCCCC DURPTKYDGMDSBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 1-butoxypropan-2-ol Chemical compound CCCCOCC(C)O RWNUSVWFHDHRCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-ol Chemical compound CCOCC(C)O JOLQKTGDSGKSKJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 1-ethoxypropan-2-yl acetate Chemical compound CCOCC(C)OC(C)=O LIPRQQHINVWJCH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KWDCKLXGUZOEGM-UHFFFAOYSA-N 1-methoxy-3-(3-methoxypropoxy)propane Chemical compound COCCCOCCCOC KWDCKLXGUZOEGM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVRXNIBQZAKZTE-UHFFFAOYSA-N 1-methylidene-2h-naphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(=C)CC=CC2=C1 WVRXNIBQZAKZTE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940054273 1-propoxy-2-propanol Drugs 0.000 description 1
- FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 1-propoxypropan-2-ol Chemical compound CCCOCC(C)O FENFUOGYJVOCRY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 1H-1,2,3-Triazole Chemical compound C=1C=NNN=1 QWENRTYMTSOGBR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 1H-benzimidazole Chemical compound C1=CC=C2NC=NC2=C1 HYZJCKYKOHLVJF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IUYYVMKHUXDWEU-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylpentane-1,1-diol Chemical compound CC(C)CC(C)(C)C(O)O IUYYVMKHUXDWEU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- USPMMJODHSTVIM-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethyl-6-phenyldiazenylaniline Chemical compound NC1=C(C)C(C)=CC=C1N=NC1=CC=CC=C1 USPMMJODHSTVIM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LINPIYWFGCPVIE-UHFFFAOYSA-N 2,4,6-trichlorophenol Chemical compound OC1=C(Cl)C=C(Cl)C=C1Cl LINPIYWFGCPVIE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 2,4-D Chemical compound OC(=O)COC1=CC=C(Cl)C=C1Cl OVSKIKFHRZPJSS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NFSJJHVWUGRIHQ-UHFFFAOYSA-N 2-(2-ethoxyethoxy)ethyl acetate Chemical compound [CH2]COCCOCCOC(C)=O NFSJJHVWUGRIHQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methoxy-5-methylphenyl)ethanamine Chemical compound COC1=CC=C(C)C=C1CCN SMZOUWXMTYCWNB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JECYNCQXXKQDJN-UHFFFAOYSA-N 2-(2-methylhexan-2-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCC(C)(C)OCC1CO1 JECYNCQXXKQDJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 2-(2-propoxyethoxy)ethanol Chemical compound CCCOCCOCCO DJCYDDALXPHSHR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 2-Ethyl-1,3-hexanediol Chemical compound CCCC(O)C(CC)CO RWLALWYNXFYRGW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 2-METHOXYETHANOL Chemical compound COCCO XNWFRZJHXBZDAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 2-Propenoic acid Natural products OC(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OVOUKWFJRHALDD-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-acetyloxyethoxy)ethoxy]ethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOCCOCCOC(C)=O OVOUKWFJRHALDD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-butoxyethoxy)ethoxy]ethanol Chemical compound CCCCOCCOCCOCCO COBPKKZHLDDMTB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(2-hydroxypropoxy)propoxy]propan-1-ol Chemical compound CC(O)COC(C)COC(C)CO LCZVSXRMYJUNFX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 2-acetyloxyethyl acetate Chemical compound CC(=O)OCCOC(C)=O JTXMVXSTHSMVQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 2-butoxyethanol Chemical compound CCCCOCCO POAOYUHQDCAZBD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 2-ethoxyethanol Chemical compound CCOCCO ZNQVEEAIQZEUHB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940093475 2-ethoxyethanol Drugs 0.000 description 1
- WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 2-methoxyethoxysilane Chemical compound COCCO[SiH3] WGRZHLPEQDVPET-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ALRXDIKPRCRYAU-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropan-2-ol Chemical compound CC(C)(C)O.CC(C)(C)O ALRXDIKPRCRYAU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 2-methylpropane-1,3-diol Chemical compound OCC(C)CO QWGRWMMWNDWRQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FGLBSLMDCBOPQK-UHFFFAOYSA-N 2-nitropropane Chemical compound CC(C)[N+]([O-])=O FGLBSLMDCBOPQK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003903 2-propenyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])=C([H])[H] 0.000 description 1
- YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 2-propoxyethanol Chemical compound CCCOCCO YEYKMVJDLWJFOA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 3-triethoxysilylpropanenitrile Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)CCC#N GBQYMXVQHATSCC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FJOXQKVALKYBMA-UHFFFAOYSA-N 3-trihydroxysilylpropylurea Chemical group NC(=O)NCCC[Si](O)(O)O FJOXQKVALKYBMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl 2-methylprop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C(C)=C XDLMVUHYZWKMMD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 3-trimethoxysilylpropyl prop-2-enoate Chemical compound CO[Si](OC)(OC)CCCOC(=O)C=C KBQVDAIIQCXKPI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 4-(3-methoxyphenyl)aniline Chemical compound COC1=CC=CC(C=2C=CC(N)=CC=2)=C1 OSWFIVFLDKOXQC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 4-methyl-2-pentanol Chemical compound CC(C)CC(C)O WVYWICLMDOOCFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N Acrylamide Chemical compound NC(=O)C=C HRPVXLWXLXDGHG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M Acrylate Chemical compound [O-]C(=O)C=C NIXOWILDQLNWCW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N Acrylonitrile Chemical compound C=CC#N NLHHRLWOUZZQLW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N Allyl chloride Chemical compound ClCC=C OSDWBNJEKMUWAV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N Aziridine Chemical compound C1CN1 NOWKCMXCCJGMRR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N Bis(2-chloroethyl)ether Chemical compound ClCCOCCCl ZNSMNVMLTJELDZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UAPGWQJHKGJLSH-UHFFFAOYSA-N C(C)OC(OCC)[SiH2]CCCN(C(=O)N)CCC[SiH2]C(OCC)OCC Chemical compound C(C)OC(OCC)[SiH2]CCCN(C(=O)N)CCC[SiH2]C(OCC)OCC UAPGWQJHKGJLSH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052684 Cerium Inorganic materials 0.000 description 1
- VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M Chloride anion Chemical compound [Cl-] VEXZGXHMUGYJMC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N Dihydrogen disulfide Chemical compound SS BWGNESOTFCXPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N Ethyl acrylate Chemical compound CCOC(=O)C=C JIGUQPWFLRLWPJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N Isobutene Chemical group CC(C)=C VQTUBCCKSQIDNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M Methacrylate Chemical compound CC(=C)C([O-])=O CERQOIWHTDAKMF-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Chemical compound CC(C)CC(C)=O NTIZESTWPVYFNL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N Methyl isobutyl ketone Natural products CCC(C)C(C)=O UIHCLUNTQKBZGK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910019142 PO4 Inorganic materials 0.000 description 1
- ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N Pentane-1,5-diol Chemical compound OCCCCCO ALQSHHUCVQOPAS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 108010009736 Protein Hydrolysates Proteins 0.000 description 1
- 239000004115 Sodium Silicate Substances 0.000 description 1
- 229930182558 Sterol Natural products 0.000 description 1
- UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N Tetraethylene glycol, Natural products OCCOCCOCCOCCO UWHCKJMYHZGTIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GNVMUORYQLCPJZ-UHFFFAOYSA-M Thiocarbamate Chemical compound NC([S-])=O GNVMUORYQLCPJZ-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910003088 Ti−O−Ti Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000007983 Tris buffer Substances 0.000 description 1
- XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N Vinyl acetate Chemical compound CC(=O)OC=C XTXRWKRVRITETP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N Vinyl chloride Chemical compound ClC=C BZHJMEDXRYGGRV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920004482 WACKER® Polymers 0.000 description 1
- GUJDCTBDGKPYAP-UHFFFAOYSA-N [C+]1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3CC12 Chemical compound [C+]1=CC=CC=2OC3=CC=CC=C3CC12 GUJDCTBDGKPYAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RYJVFUGREMUAON-UHFFFAOYSA-N [ClH]1[ClH][ClH][ClH][ClH][ClH]1 Chemical compound [ClH]1[ClH][ClH][ClH][ClH][ClH]1 RYJVFUGREMUAON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005299 abrasion Methods 0.000 description 1
- HITZGLBEZMKWBW-UHFFFAOYSA-N ac1n8rtr Chemical group C1CC2OC2CC1CC[Si](O1)(O2)O[Si](O3)(C4CCCC4)O[Si](O4)(C5CCCC5)O[Si]1(C1CCCC1)O[Si](O1)(C5CCCC5)O[Si]2(C2CCCC2)O[Si]3(C2CCCC2)O[Si]41C1CCCC1 HITZGLBEZMKWBW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000009825 accumulation Methods 0.000 description 1
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 1
- 150000004703 alkoxides Chemical class 0.000 description 1
- 125000004453 alkoxycarbonyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000005078 alkoxycarbonylalkyl group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004390 alkyl sulfonyl group Chemical group 0.000 description 1
- IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N allene Chemical group C=C=C IYABWNGZIDDRAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004458 analytical method Methods 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical group [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005282 brightening Methods 0.000 description 1
- QNCMDFVHPFYZNK-UHFFFAOYSA-N butan-1-ol;2-methylpropan-1-ol Chemical compound CCCCO.CC(C)CO QNCMDFVHPFYZNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000000484 butyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000006227 byproduct Substances 0.000 description 1
- DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N carbamodithioic acid Chemical compound NC(S)=S DKVNPHBNOWQYFE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003917 carbamoyl group Chemical group [H]N([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 1
- 150000001732 carboxylic acid derivatives Chemical class 0.000 description 1
- GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N cerium Chemical compound [Ce] GWXLDORMOJMVQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RAQMDDCCMXOAHL-UHFFFAOYSA-N cerium(3+) oxygen(2-) nitrate Chemical compound [O--].[Ce+3].[O-][N+]([O-])=O RAQMDDCCMXOAHL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLPAXDFEDGIXCC-UHFFFAOYSA-M cerium(3+);oxygen(2-);acetate Chemical compound [O-2].[Ce+3].CC([O-])=O VLPAXDFEDGIXCC-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 239000008119 colloidal silica Substances 0.000 description 1
- 238000006482 condensation reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007739 conversion coating Methods 0.000 description 1
- 238000012937 correction Methods 0.000 description 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 description 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 description 1
- 229910052593 corundum Inorganic materials 0.000 description 1
- 125000000582 cycloheptyl group Chemical group [H]C1([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])C1([H])[H] 0.000 description 1
- 125000004956 cyclohexylene group Chemical group 0.000 description 1
- 238000000151 deposition Methods 0.000 description 1
- 230000001687 destabilization Effects 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical compound OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N diethoxy-methyl-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propyl]silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)CCCOCC1CO1 OTARVPUIYXHRRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N diethylene glycol monoethyl ether Chemical compound CCOCCOCCO XXJWXESWEXIICW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N dimethyl phthalate Natural products CC(=O)OC1=CC=CC=C1OC(C)=O FBSAITBEAPNWJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229960001826 dimethylphthalate Drugs 0.000 description 1
- SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N dipropylene glycol Chemical compound OCCCOCCCO SZXQTJUDPRGNJN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000006185 dispersion Substances 0.000 description 1
- 238000004821 distillation Methods 0.000 description 1
- 239000012990 dithiocarbamate Substances 0.000 description 1
- 238000004710 electron pair approximation Methods 0.000 description 1
- 238000005516 engineering process Methods 0.000 description 1
- 230000007613 environmental effect Effects 0.000 description 1
- FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(triethoxy)silane Chemical compound CCO[Si](OCC)(OCC)C=C FWDBOZPQNFPOLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N ethenyl(trimethoxy)silane Chemical compound CO[Si](OC)(OC)C=C NKSJNEHGWDZZQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N ethenyl(tripropoxy)silane Chemical compound CCCO[Si](OCCC)(OCCC)C=C NNBRCHPBPDRPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-diethoxy-methylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C=C)OCC MBGQQKKTDDNCSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N ethenyl-ethoxy-dimethylsilane Chemical compound CCO[Si](C)(C)C=C JEWCZPTVOYXPGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001301 ethoxy group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])O* 0.000 description 1
- ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N ethoxymethanedithioic acid Chemical compound CCOC(S)=S ZOOODBUHSVUZEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SIROFXFFYKASGY-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-(2-butoxyethoxy)acetate Chemical compound CCCCOCCOCC(=O)OCC SIROFXFFYKASGY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SVBSJWKYFYUHTF-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-butoxyacetate Chemical compound CCCCOCC(=O)OCC SVBSJWKYFYUHTF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-ethoxyacetate Chemical compound CCOCC(=O)OCC CKSRFHWWBKRUKA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N ethyl 2-methoxyacetate Chemical compound CCOC(=O)COC JLEKJZUYWFJPMB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940116333 ethyl lactate Drugs 0.000 description 1
- 239000007888 film coating Substances 0.000 description 1
- 238000009501 film coating Methods 0.000 description 1
- 235000019253 formic acid Nutrition 0.000 description 1
- 229910021485 fumed silica Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000005484 gravity Effects 0.000 description 1
- 229940051250 hexylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 239000012943 hotmelt Substances 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical group 0.000 description 1
- 125000001183 hydrocarbyl group Chemical group 0.000 description 1
- ORTFAQDWJHRMNX-UHFFFAOYSA-N hydroxidooxidocarbon(.) Chemical group O[C]=O ORTFAQDWJHRMNX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000011261 inert gas Substances 0.000 description 1
- 238000002329 infrared spectrum Methods 0.000 description 1
- 230000010354 integration Effects 0.000 description 1
- 125000000959 isobutyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(C([H])([H])[H])C([H])([H])* 0.000 description 1
- 125000001449 isopropyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 229920001427 mPEG Polymers 0.000 description 1
- FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N maleic anhydride Chemical compound O=C1OC(=O)C=C1 FPYJFEHAWHCUMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 150000002739 metals Chemical class 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N neopentyl alcohol Chemical compound CC(C)(C)CO KPSSIOMAKSHJJG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940078552 o-xylene Drugs 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- 238000010422 painting Methods 0.000 description 1
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N pent‐4‐en‐2‐one Natural products CC(=O)CC=C PNJWIWWMYCMZRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000013500 performance material Substances 0.000 description 1
- 125000001997 phenyl group Chemical group [H]C1=C([H])C([H])=C(*)C([H])=C1[H] 0.000 description 1
- 125000000843 phenylene group Chemical group C1(=C(C=CC=C1)*)* 0.000 description 1
- NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K phosphate Chemical compound [O-]P([O-])([O-])=O NBIIXXVUZAFLBC-UHFFFAOYSA-K 0.000 description 1
- 239000010452 phosphate Substances 0.000 description 1
- 238000006552 photochemical reaction Methods 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 239000000047 product Substances 0.000 description 1
- ZQBVUULQVWCGDQ-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol;propan-2-ol Chemical compound CCCO.CC(C)O ZQBVUULQVWCGDQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000001436 propyl group Chemical group [H]C([*])([H])C([H])([H])C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N propylene Chemical group CC=C QQONPFPTGQHPMA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004040 pyrrolidinones Chemical class 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 230000001105 regulatory effect Effects 0.000 description 1
- PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N rhodamine B Chemical compound [Cl-].C=12C=CC(=[N+](CC)CC)C=C2OC2=CC(N(CC)CC)=CC=C2C=1C1=CC=CC=C1C(O)=O PYWVYCXTNDRMGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229940043267 rhodamine b Drugs 0.000 description 1
- 125000002914 sec-butyl group Chemical group [H]C([H])([H])C([H])([H])C([H])(*)C([H])([H])[H] 0.000 description 1
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 1
- 239000000377 silicon dioxide Substances 0.000 description 1
- 235000019795 sodium metasilicate Nutrition 0.000 description 1
- NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N sodium silicate Chemical compound [Na+].[Na+].[O-][Si]([O-])=O NTHWMYGWWRZVTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229910052911 sodium silicate Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011343 solid material Substances 0.000 description 1
- 239000006076 specific stabilizer Substances 0.000 description 1
- 150000003432 sterols Chemical class 0.000 description 1
- 235000003702 sterols Nutrition 0.000 description 1
- 125000000472 sulfonyl group Chemical group *S(*)(=O)=O 0.000 description 1
- 125000000383 tetramethylene group Chemical group [H]C([H])([*:1])C([H])([H])C([H])([H])C([H])([H])[*:2] 0.000 description 1
- 150000003553 thiiranes Chemical class 0.000 description 1
- 239000010409 thin film Substances 0.000 description 1
- 150000003568 thioethers Chemical class 0.000 description 1
- DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N toluene 2,4-diisocyanate Chemical compound CC1=CC=C(N=C=O)C=C1N=C=O DVKJHBMWWAPEIU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N triethoxy(methyl)silane Chemical compound CCO[Si](C)(OCC)OCC CPUDPFPXCZDNGI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N triethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OCC)(OCC)OCC)CCC2OC21 UDUKMRHNZZLJRB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol Chemical compound OCCOCCOCCO ZIBGPFATKBEMQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N triethylene glycol monomethyl ether Chemical compound COCCOCCOCCO JLGLQAWTXXGVEM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N trimethoxy-[2-(7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-yl)ethyl]silane Chemical compound C1C(CC[Si](OC)(OC)OC)CCC2OC21 DQZNLOXENNXVAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000004072 triols Chemical class 0.000 description 1
- HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-L trithiocarbonate Chemical compound [S-]C([S-])=S HIZCIEIDIFGZSS-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 1
- 239000012989 trithiocarbonate Substances 0.000 description 1
- 125000000391 vinyl group Chemical group [H]C([*])=C([H])[H] 0.000 description 1
- 229920002554 vinyl polymer Polymers 0.000 description 1
- 238000011179 visual inspection Methods 0.000 description 1
- 239000012991 xanthate Substances 0.000 description 1
- 239000008096 xylene Substances 0.000 description 1
- 150000003738 xylenes Chemical class 0.000 description 1
- 229910001845 yogo sapphire Inorganic materials 0.000 description 1
Images
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
- G01B11/00—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques
- G01B11/02—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness
- G01B11/06—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material
- G01B11/0616—Measuring arrangements characterised by the use of optical techniques for measuring length, width or thickness for measuring thickness ; e.g. of sheet material of coating
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01G—WEIGHING
- G01G7/00—Weighing apparatus wherein the balancing is effected by magnetic, electromagnetic, or electrostatic action, or by means not provided for in the preceding groups
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01G—WEIGHING
- G01G9/00—Methods of, or apparatus for, the determination of weight, not provided for in groups G01G1/00 - G01G7/00
- G01G9/005—Methods of, or apparatus for, the determination of weight, not provided for in groups G01G1/00 - G01G7/00 using radiations, e.g. radioactive
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/17—Systems in which incident light is modified in accordance with the properties of the material investigated
- G01N21/25—Colour; Spectral properties, i.e. comparison of effect of material on the light at two or more different wavelengths or wavelength bands
- G01N21/31—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry
- G01N21/35—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light
- G01N21/3563—Investigating relative effect of material at wavelengths characteristic of specific elements or molecules, e.g. atomic absorption spectrometry using infrared light for analysing solids; Preparation of samples therefor
-
- G—PHYSICS
- G01—MEASURING; TESTING
- G01N—INVESTIGATING OR ANALYSING MATERIALS BY DETERMINING THEIR CHEMICAL OR PHYSICAL PROPERTIES
- G01N21/00—Investigating or analysing materials by the use of optical means, i.e. using sub-millimetre waves, infrared, visible or ultraviolet light
- G01N21/84—Systems specially adapted for particular applications
- G01N21/8422—Investigating thin films, e.g. matrix isolation method
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- General Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Biochemistry (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Immunology (AREA)
- Pathology (AREA)
- Analytical Chemistry (AREA)
- Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
- Mathematical Physics (AREA)
- Electromagnetism (AREA)
- Toxicology (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Investigating Or Analysing Materials By Optical Means (AREA)
- Chemical Treatment Of Metals (AREA)
Abstract
método para determinar o peso e a espessura de uma composição de revestimento de passivação em um substrato. a presente invenção refere-se a um método para medir o peso de uma composição de revestimento de passivação em um substrato móvel com interrupção mínima. o método da presente invenção é especialmente útil para o controle de qualidade eficaz em um ambiente industrial.
Description
[001]A presente invenção refere-se a um método para determinar o peso e a espessura de uma composição de revestimento de passivação em um substrato. Particularmente, a invenção refere-se a uma composição de revestimento de passivação em um substrato de metal, em que o substrato de metal é uma operação de bobina móvel.
[002]Uma variedade de composições de revestimento de passivação comerciais é conhecida para preparar superfícies de metal para prevenir a corrosão e melhorar a adesão de tintas ou outros revestimentos à superfície. Por exemplo, revestimentos de pré-tratamento de silano são usados em aplicações comerciais para fornecer propriedades anticorrosivas às superfícies de metal e/ou para preparar as superfícies de metal antes das operações de pintura. Entretanto, os pré- tratamentos de silano são extremamente difíceis de detectar por inspeção visual humana porque os pré-tratamentos de silano são incolores quando aplicados, e em pesos de revestimento muito baixos.
[003]Métodos para determinar a presença de películas finas em um substrato são conhecidos. Certos corantes fluorescentes em revestimentos de película de metal foram usados para determinar se ou não o revestimento foi aplicado à superfície. Especificamente, os agentes abrilhantadores fluorescentes estilbeno e cumarina são adicionados em um revestimento de metal livre de cromo e, depois de cobrir o metal com o revestimento, o metal é visto sob luz ultravioleta (UV) e a presença de revestimento é detectada a olho nu. Os métodos são úteis em sua capacidade de determinar se um revestimento foi aplicado em um substrato. Os métodos foram desenvolvidos envolvendo determinação quantitativa da espessura do revestimento, uma matéria de controle de qualidade importante. Embora o uso possível de estilbeno e cumarina em determinações quantitativas de espessura de um revestimento não seja preferido, porque foi descoberto que estes compostos frequentemente não exibem a precisão necessária em seu uso em um sistema calibrado para determinar a espessura do revestimento que é necessária em uma espessura comercialmente factível do sistema de medição de revestimento. A fluorescência nativa do revestimento pode interferir com a medição de intensidade de fluorescência do revestimento.
[004]Métodos para determinar espessura de películas de óleo transparentes em superfícies de metal por detecção de compostos fluorescentes misturados no óleo também são conhecidos. Entretanto, devido à natureza de películas de óleo, estes métodos não são precisos e, portanto, não são adequadamente reproduzíveis para a determinação da espessura de um revestimento formador de película secável, seco, curável ou curado em um substrato. A camada de óleo não é, tipicamente, mantida na superfície do substrato se camadas adicionais de um revestimento são necessárias no substrato coberto com óleo, tal como um pré- revestimento, um primer ou uma cobertura de cor.
[005]É mais difícil determinar o peso e a espessura de uma composição de revestimento de passivação em um substrato móvel, por exemplo, uma operação de bobina móvel, sem interromper significantemente o movimento do substrato.
[006]Consequentemente, existe uma necessidade de ser capaz de detectar prontamente a presença, peso e espessura da composição de revestimento de passivação como um aspecto essencial de controle de qualidade.
[007]De acordo com um aspecto da invenção, é fornecido um método para medir o peso de uma composição de revestimento de passivação em um substrato compreendendo as etapas de: (i) aplicar uma composição de revestimento de passivação em um substrato para obter uma composição de revestimento de passivação de amostra; (ii) medir um espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier da composição de revestimento de passivação de amostra; (iii) obter um padrão de calibração usando um espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier de uma ou mais amostras de calibração tendo um peso pré-determinado da composição de revestimento de passivação no substrato; e, (iv) comparar o espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier com o padrão de calibração para resultar em uma medição do peso da composição de revestimento de passivação de amostra no substrato.
[008]O método da presente invenção fornece medições exatas do peso e a espessura de um substrato móvel com interrupção mínima. O método da presente invenção é especialmente útil para o controle de qualidade eficaz em um ambiente industrial.
[009]A FIG. 1 mostra correlação do sinal de FTIR com um segundo de tempo de aquisição de padrões de calibração # 2 a 5.
[010]Na descrição e reivindicações aqui, os seguintes termos e expressões devem ser entendidos como indicados aqui abaixo.
[011]Também será entendido que qualquer faixa numérica relatada aqui se destina a incluir todas as sub-faixas dentro daquela faixa e qualquer combinação de pontos finais das ditas faixas ou sub-faixas.
[012]Todos os métodos descritos aqui podem ser realizados em qualquer ordem adequada a menos que de outro modo indicado ou claramente contrário ao contexto. O uso aqui de quaisquer e todos os exemplos ou linguagem de exemplificação (por exemplo, tal como), se destina meramente para melhor ilustrar a invenção e não representa uma limitação no escopo da invenção a menos que de outro modo reivindicado. Nenhuma linguagem na descrição deve ser interpretada como indicando qualquer elemento não-reivindicado como essencial à pratica da invenção.
[013]Será entendido ainda que qualquer composto, material ou substância que é expressa ou implicitamente divulgado na descrição e/ou relatado em uma reivindicação como pertencendo um grupo de compostos estrutural, composicional e/ou funcionalmente relacionados, materiais ou substâncias incluem representativos individuais do grupo e todas as combinações dos mesmos.
[014]Como usado aqui, o termo “bare metal” refere-se a superfícies de metal que não foi tratado com a conversão ou composição de revestimento de passivação da invenção e não foi pintado. Como usado aqui, a expressão “revestimento de passivação” deverá ser entendida ser sinônimo com “revestimento de conversão”.
[015]Será entendido aqui que qualquer composição de revestimento de passivação conhecida ou comercialmente usada pode ser utilizada aqui. Exemplos de composições de revestimento de passivação incluem revestimentos contendo silano, revestimentos de alcóxido de metal, tais como tetraetóxido de titânio e tetraetóxido de zircônio, revestimentos de ácido fluorozircônico e revestimentos de ácido fluorotitânico.
[016]Um revestimento contendo silano é uma composição de revestimento compreendendo pelo menos um composto selecionado a partir do grupo que consiste de silano organofuncional, hidrolisado do silano organofuncional e condensado do silano organofuncional. Será entendido aqui que a composição de revestimento contendo silano pode incluir uma mistura de dois ou mais compostos selecionados a partir do grupo que consiste de silanos organofuncionais, hidrolisados e condensados.
[017]Em uma forma de realização, a composição de revestimento contend silano contém um silano organof uncional tendo a Fórmula (I) geral em que X é um grupo organofuncional de valência, incluindo grupos mono-, di- ou polivalentes; cada ocorrência de R1é independentemente um grupo orgânico divalente linear, ramificado ou cíclico de até 12 átomos de carbono, mais especificamente até 10 átomos de carbono, e mais especificamente de até 8 átomos de carbono e opcionalmente contendo um ou mais heteroátomos, tais como os exemplos não limitantes de O, N, P, Cl, Br, I e S, com a condição de que X e o átomo de silício do grupo silila sejam ligados ao grupo R1através de uma ligação covalente a um átomo de carbono de R1, desse modo formando uma ponte entre o grupo organofuncional X e o grupo silila; cada ocorrência de R2é independentemente uma alquila, alquila substituída por alcóxi, arila ou aralquila, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente de até 12 átomos de carbono e mais especificamente de até 8 átomos de carbono; cada R3é independentemente uma acetila, alquila ou alquila substituída por alcóxi, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente até 12 átomos de carbono e mais especificamente até 8 átomos de carbono ou hidrogênio; r é um número inteiro de 1 a 4, mais especificamente 1 ou 2 e mais especificamente 1; e a é 0, 1 ou 2, mais especificamente 0 ou 1 e mais especificamente 0.
[018]Um hidrolisado da Fórmula (I) é onde pelo menos um R3é independentemente um hidrogênio. Um condensado é um polissiloxano formado a partir da reação de pelo menos dois hidrolisados da Fórmula (I), que são ligados juntos através de uma ligação Si-O-Si.
[019]Exemplos não limitantes de R1são grupos metileno, etileno, propileno, isopropileno, butileno, isobutileno, ciclo-hexileno e fenileno.
[020]Em uma forma de realização, X é um grupo funcional, tais como os exemplos não limitantes de amino, mercapto, glicidóxi, epoxiciclo-hexila, epoxiciclo- hexiletila, hidroxila, epissulfeto, acrilato, metacrilato, ureido, tioureido, vinila, alila, tiocarbamato, ditiocarbamato, éter, tioéter, dissulfeto, trissulfeto, tetrassulfeto, pentassulfeto, hexassulfeto, xantato, tritiocarbonato, ditiocarbonato, cianurato, isocianurato, -NHC(=O)OR5ou -NHC(=O)SR5onde R5é um grupo hidrocarbila monovalente contendo de 1 a 12 átomos de carbono, mais especificamente de 1 a 8 átomos de carbono ou um grupo -R1Si(R2)a(OR3)3-a, em que cada ocorrência de R1é independentemente um grupo orgânico divalente linear, ramificado ou cíclico de até 12 átomos de carbono, mais especificamente até 10 átomos de carbono, e mais especificamente de até 8 átomos de carbono e opcionalmente contendo um ou mais heteroátomos, tais como os exemplos não limitantes de O, N, P, Cl, Br, I e S, com a condição de que -NHC(=O)O- ou -NHC(=O)S- e o átomo de silício do grupo silila sejam ligados ao grupo R1através de uma ligação covalente a um átomo de carbono de R1, desse modo formando uma ponte entre o grupo organofuncional X e o grupo silila; cada ocorrência de R2é independentemente uma alquila, alquila substituída por alcóxi, arila ou aralquila, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente de até 12 átomos de carbono e mais especificamente de até 8 átomos de carbono, cada R3é independentemente um hidrogênio, acetila, alquila ou alquila substituída por alcóxi, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente até 12 átomos de carbono e mais especificamente até 8 átomos de carbono ou hidrogênio; e a é 0, 1 ou 2, mais especificamente 0 ou 1 e mais especificamente 0.
[021]Em uma forma de realização, o conjunto de grupos organofuncionais univalentes aqui inclui, mas não é limitado a, -NH2, -SH, -O-CH2-C2H3O, -CH2-CH2- C6H9O, -C6H9O, -NR(C=O)OR, -O(C=O)NRR, -NR(C=O)NR2, (-N)(NR)(NR)C3O3, onde (-N)(NR)(NR)C3O3representa um anel isocianurato monovalente, C2H3O representa um oxirano, C6H9O representa 7-oxa-[4,1,0]ciclo-heptila, cada ocorrência de R é independentemente selecionada a partir do grupo que consiste de hidrogênio, alquila de 1 a 6 átomos de carbono, cicloalquila de 3 a 10 átomos de carbono, alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, arileno de 6 a 10 átomos de carbono ou alcarileno de 7 a 12 átomos de carbono.
[022]Em uma outra forma de realização aqui, o conjunto de grupos organofuncionais divalentes aqui inclui, mas não é limitado a, carbamato, -(- )N(C=O)OR, ureido -NR(C=O)NR-, e isocianurato divalente, (-N)2(NR)C3O3 onde R é independentemente selecionado a partir do grupo de hidrogênio, alquila de 1 a 6 átomos de carbono, cicloalquila de 3 a 10 átomos de carbono, alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, arileno de 6 a 10 ou alcarileno de 7 a 12 átomos de carbono.
[023]Ainda em uma outra forma de realização aqui, o conjunto de grupos organofuncionais trivalentes aqui inclui, mas não é limitado a, carbamato, (- )2NC(=O)O-, ureido, (-)2NC(=O)NR-, e isocianurato trivalente (-N)3C3O3, em que cada ocorrência de R é independentemente selecionada a partir do grupo que consiste de hidrogênio, alquila de 1 a 6 átomos de carbono, cicloalquila de 3 a 10 átomos de carbono, alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, arileno de 6 a 10 átomos de carbono, ou alcarileno de 7 a 12 átomos de carbono.
[024]Em uma outra forma de realização aqui, o conjunto de grupos organofuncionais tetravalentes aqui inclui, mas não é limitado a ureido, (- )2N(C=O)N(-)2.
[025]Em uma forma de realização específica, o silano organofuncional é ureido univalente -NR(C=O)NR2, ureido divalente -NR(C=O)NR- e (-)2N(C=O)NR2, ureido trivalente (-)2NC(=O)NR-, ureido tetravalente (-)2N(C=O)N(-)2 e isocianurato trivalente (-N)3C3O3 onde R é independentemente selecionado a partir do grupo de hidrogênio, alquila de 1 a 6 átomos de carbono, cicloalquila de 3 a 10 átomos de carbono, alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, arileno de 6 a 10 ou alcarileno de 7 a 12 átomos de carbono.
[026]Em uma forma de realização específica, r é um número inteiro de 1 a 4 e especificamente de 2 a 4, e mais especificamente 3 a 4.
[027]Em uma forma de realização, o revestimento contendo solução de silano contém ureido silanos tendo a Fórmula (II) geral: RO ou condensados de tal silano, em que cada ocorrência de R é independentemente selecionada a partir do grupo que consiste de hidrogênio, alquila de 1 a 6 átomos de carbono, cicloalquila de 3 a 10 átomos de carbono, alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, arileno de 6 a 10 átomos de carbono ou alcarileno de 7 a 12 átomos de carbono, cada ocorrência de R1é independentemente um grupo orgânico divalente linear, ramificado ou cíclico de até 12 átomos de carbono, mais especificamente até 10 átomos de carbono, e mais especificamente de até 8 átomos de carbono e opcionalmente contendo um ou mais heteroátomos, tais como os exemplos não limitantes de O, N, P, Cl, Br, I e S; cada ocorrência de R2é independentemente uma alquila, alquila substituída por alcóxi, arila ou aralquila, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente de até 12 átomos de carbono e mais especificamente de até 8 átomos de carbono, cada R3é independentemente um hidrogênio, acetila, alquila ou alquila substituída por alcóxi, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente até 12 átomos de carbono e mais especificamente até 8 átomos de carbono ou hidrogênio; e a é 0, 1 ou 2, mais especificamente 0 ou 1 e mais especificamente 0.
[028]Um condensado da Fórmula (II) tem a Fórmula (III) geral: em que cada ocorrência de R é independentemente selecionada a partir do grupo que consiste de hidrogênio, alquila de 1 a 6 átomos de carbono, cicloalquila de 3 a 10 átomos de carbono, alquenila de 2 a 6 átomos de carbono, arileno de 6 a 10 átomos de carbono ou alcarileno de 7 a 12 átomos de carbono, cada ocorrência de R1é independentemente um grupo orgânico divalente linear, ramificado ou cíclico de até 12 átomos de carbono, mais especificamente até 10 átomos de carbono, e mais especificamente de até 8 átomos de carbono e opcionalmente contendo um ou mais heteroátomos, tais como os exemplos não limitantes de O, N, P, Cl, Br, I e S; cada ocorrência de R2é independentemente uma alquila, alquila substituída por alcóxi, arila ou aralquila, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente de até 12 átomos de carbono e mais especificamente de até 8 átomos de carbono, cada R3é independentemente um hidrogênio, acetila, alquila ou alquila substituída por alcóxi, cada uma contendo até 16 átomos de carbono, mais especificamente até 12 átomos de carbono e mais especificamente até 8 átomos de carbono ou hidrogênio; e cada ocorrência de a é independentemente 0, 1 ou 2, mais especificamente 0 ou 1 e mais especificamente 0; cada ocorrência de b é independentemente 1, 2 ou 3, mais especificamente 2 ou 3, com a condição de que a + b = 3, e n sejam 2 a 25, mais especificamente 2 a 8 e mais especificamente 3 a 5.
[029]Preferivelmente, R é hidrogênio, R1é metileno, etileno ou propileno e R3é individualmente escolhido a partir do grupo que consiste de hidrogênio, etila, metila, propila, iso-propila, butila, iso-butila, sec-butila, e acetila.
[030]O ureido silano particularmente preferido utilizado na invenção é Y- ureidopropiltrimetoxissilano tendo a Fórmula (IV) geral:
[031]Este composto é comercialmente disponível sob a designação “silano Silquest A-1524” a partir de Momentive Performance Materials. 3- Ureidopropiltrietoxissilano também pode ser usado para preparar os hidrolisados, em que pelo menos um do grupo Si-OCH3 reage com água para formar um grupo Si- OH, ou um condensado, em que pelo menos dois hidrolisados reagem entre si para formar um polisiloxano. 3-Ureidopropiltrietioxissilano puro é um material sólido ceroso. Um solvente pode ser usado para dissolver o sólido ceroso. 3- Ureidopropiltrietoxissilano comercialmente disponível é dissolvido em metanol, e como um resultado, não é um composto puro, mas contém tanto grupos metóxi e etóxi ligados ao mesmo átomo de silício. Quando completamente hidrolisado, o hidrolisado é 3-ureidopropilsilanotriol.
[032]Em uma forma de realização aqui, o silano organofuncional usado para preparar a composição de revestimento contendo silano ou o hidrolisado ou o condensado é selecionado a partir do grupo que consiste de vinilmetildietoxissilano, viniltrimetoxissilano, vinildimetiletoxissilano, viniltrietoxissilano, viniltripropoxisilano, vinil-tris(2-metoxietoxissilano), estiriletiltrimetoxissilano, gama- acriloxipropiltrimetoxissilano, gama-(acriloxipropil)metildimetoxissilano, gama- metacriloxipropiltrimetoxissilano, gama-metacriloxipropiltrietoxissilano, gama- metacriloxipropilmetildimetoxissilano, gama-metacriloxipropilmetildietoxissilano, gama-metacriloxipropil-tris-(2-metoxietóxi)silano, beta-(3,4-epoxiciclo- hexil)etiltrimetoxissilano, beta-(3,4-epoxiciclo-hexil)etiltrietoxissilano, gama- glicidoxipropiltrimetoxissilano, gama-glicidoxipropiltrietoxissilano, gama- glicidoxipropilmetildietoxissilano, gama-glicidoxipropilmetildimetoxissilano, gama- mercaptopropiltrimetoxissilano, gama-mercaptopropiltrietoxissilano, gama-tio- ureidopropildimetoxietoxissilano, gama-ureidopropilmetoxidietoxissilano, gama- ureidopropilmetildimetoxissilano, gama-ureidopropilmetildietoxissilano, gama- ureidopropilmetilmetoxietoxissilano, gama-carbamatopropiltrimetoxissilano, gama- carbamatopropiltrietoxissilano, isocianurato propiltrimetoxissilano, bis- (trimetoxisililpropil)ureia, bis-(trietoxisililpropil)ureia, 2-cianoetiltrimetoxissilano, 2- cianoetiltrietoxissilano e combinações dos mesmos.
[033]Em uma forma de realização específica, o silano organofuncional usado para preparar a composição de revestimento contendo silano, ou o hidrolisado ou o condensado é selecionado a partir do grupo que consiste de gama- ureidopropiltrimetoxissilano, gama-ureidopropiltrietoxissilano, gama- ureidopropildimetoxietoxissilano, gama-ureidopropilmetoxidietoxissilano, gama- ureidopropilmetildimetoxissilano, gama-ureidopropilmetildietoxissilano, gama- ureidopropilmetilmetoxietoxissilano, N,N’-bis-(3-trietoxisililpropil)ureia, N,N’-bis-(3- trimetoxisililpropil)ureia, N,N’-bis-(3-dietoximetilsililpropil)ureia, N,N’-bis-(3-di- isopropoximetilsililpropil)ureia, N,N-bis-(3-trietoxisililpropil)ureia, N,N-bis-(3- trimetoxisililpropil)ureia, N,N-bis-(3-dietoximetilsililpropil)ureia, N,N-bis-(3-di- isopropoximetilsililpropil)ureia, N,N,N’-tris-(3-trietoxisililpropil)ureia, N,N,N’-tris-(3- trimetoxisililpropil)ureia, N,N,N’-tris-(3-dietoximetilsililpropil)ureia, N,N,N’-tris-(3-di- isopropoxisililpropil)ureia, N,N,N,’N’-tetracis-(3-trietoxisililpropil)ureia, N,N,N,’N’- tetracis-(3-trimetoxisililpropil)ureia, N,N,N,’N’-tetracis-(3-dietoximetilsililpropil)ureia, N,N,N,’N’-tetracis-(3-di-isopropoximetilsililpropil)ureia, tris-(3- trimetoxisililpropil)isocianurato, e combinações dos mesmos.
[034]Em uma forma de realização específica, o silano organofuncional usado para preparar o revestimento contendo solução de silano, ou o hidrolisado ou o condensado é selecionado a partir do grupo que consiste de gama- ureidopropiltrimetoxissilano, gama-ureidopropiltrietoxissilano, gama- ureidopropildimetoxietoxissilano, gama-ureidopropilmetoxidietoxissilano, gama- ureidopropilmetildimetoxissilano, gama-ureidopropilmetildietoxissilano, gama- ureidopropilmetilmetoxietoxissilano e combinações dos mesmos.
[035]Em uma outra forma de realização aqui, uma composição de revestimento contendo silano que contém pelo menos um silano organofuncional, hidrolisado ou condensado, tem poluentes atmosféricos perigosos (HAPs) em um nível de HAPs de especificamente menos do que 1 por cento em peso, mais especificamente menos do que 0,2 por cento em peso, ainda mais especificamente menos do que 0,05 por cento em peso e mais especificamente menos do que 0,01 por cento em peso, as ditas porcentagens em peso sendo com base no peso total da composição.
[036]A remoção de HAP pode ser realizada através da difusão com um gás inerte, tal como o exemplo não limitante de nitrogênio. Em uma forma de realização mais específica, tal difusão pode ser conduzida por um período de 2 a 96 horas, mais especificamente de 4 a 72 horas, ainda mais especificamente de 6 a 48 horas e mais especificamente de 8 a 24 horas. Em uma outra forma de realização aqui, algumas outras técnicas que podem ser usadas aqui para a remoção de HAP são pressão reduzida e/ou destilação.
[037]Em uma forma de realização específica aqui, HAPs são quaisquer compostos usados em tintas que foram identificados como HAPs em Clean Air Act Amendments de 1990 dos Estados Unidos da América. Em uma forma de realização específica, HAPs podem ser subprodutos formados a partir da hidrólise de silano organofuncional (a) descrito acima. Em uma forma de realização específica, HAPs incluem acetamida, acrilamida, ácido acrílico, acrilonitrila, cloreto de alila, anilina, benzeno, 1,3-butadieno, caprolactama, catecol, cumeno, 1,2-dicloroetano, éter dicloroetílico, dietanolamina, dimetilamino-azobenzeno, dimetilfomamida, dimetilftalato, epicloro-hidrina, acrilato de etila, etil benzeno, dibrometo de etileno, etilenimina, formaldeído, hexaclorabenzeno, n-hexano, hidroquinona, isoforona, anidrido maleico, metanol, metil etil cetona, metil isobutil cetona, cloreto de metileno, naftaleno, nitrobenzeno, 2-nitropropano, pentaclorofenol, fenol, óxido de propileno, estireno, 1,1,2,2-tetracloroetano, tolueno, di-isocianato de 2,4-tolueno, 1,1,1- tricloroetano, tricloroetileno, 2,4,6-triclorofenol, acetato de vinila, cloreto de vinila, xilenos, m-xileno, o-xileno, p-xileno e combinações dos mesmos. Um exemplo é a liberação de metanol a partir da hidrólise de gama-ureidopropiltrimetoxissilano.
[038]A quantidade de HAPs na composição é determinada por um método cromatográfico gasoso, em que uma quantidade pesada de um padrão interno é adicionada a uma quantidade pesada de composição para quantificar a quantidade de HAPs. A identidade dos HAPs na composição é determinada a partir dos tempos de retenção dos componentes de HAPs, que foram determinados usando padrões de HAPs puros. O fator de resposta para cada componente de HAPs foi determinado por método cromatográfico gasoso usando uma amostra pesada do padrão de HAPs puros e uma amostra pesada do padrão interno. O padrão interno é um composto orgânico que tem um tempo de retenção diferente do que os de HAPs, silano organofuncional, hidrolisado e/ou condensado que estão presentes na composição e é solúvel na composição.
[039]Em uma outra forma de realização específica, uma composição de revestimento contendo silano, que contém pelo menos um silano organofuncional, hidrolisado ou condensado, tem níveis de HAPs de especificamente menos do que 1 por cento em peso, mais especificamente menos do que 0,2 por cento em peso, ainda mais especificamente menos do que 0,05 por cento em peso e mais especificamente menos do que 0,01 por cento em peso, as ditas porcentagens em peso sendo com base no peso total da composição, e são baixas em composto orgânico volátil (VOC). VOC é qualquer composto orgânico que participa em quaisquer reações fotoquímicas atmosféricas; que é qualquer composto orgânico exceto aqueles, que a Agência de Proteção Ambiental dos Estados Unidos da América (EPA) designa como tendo reatividade fotoquímica insignificante. Em uma forma de realização mais específica, VOC pode ser selecionado a partir do grupo que consiste de metanol, etanol, n-propanol, 2-propanol, n-butanol, 2-butanol, terc- butanol e combinações dos mesmos. Em uma outra forma de realização aqui, baixo em VOC é um nível de VOC de especificamente menos do que 10 por cento em peso, mais especificamente menos do que 5 por cento em peso, ainda mais especificamente menos do que 2 por cento em peso e mais especificamente menos do que 1 por cento em peso, as ditas porcentagens em peso sendo com base no peso total da composição.
[040]Na aplicação de revestimentos, tais como na aplicação de revestimentos às superfícies de metal, VOC é calculado de acordo com Método 24 EPA a partir da porcentagem não-volátil, com correções em solventes e água isentos. O teor não-volátil é medido com base em Padrões D2369 e D3960 ASTM. Em uma forma de realização, uma amostra pesada de material é colocada em um prato e colocada em um forno de convecção a 110 °C por 1 hora. O peso remanescente no prato é, em seguida, determinado. O VOC é determinado subtraindo o peso remanescente no prato a partir da amostra pesada e, em seguida, dividindo a diferença pela amostra pesada. A porcentagem de VOC é determinada multiplicando o quociente por 100 %.
[041]Em uma forma de realização, a composição de revestimento contendo silano contém ainda um sol contendo óxido coloidal, tal como um sol de óxido de metal ou um sol de sílica. Em certa forma de realização, os sóis preferivelmente incluem partículas de óxido de sílica e/ou cério. Em um aspecto preferido da invenção, agentes estabilizantes são adicionados à composição de revestimento contendo silano para realçar a estabilidade do produto e validade.
[042]O material de sol de sílica compreende sílica coloidal aquosa preferivelmente com pH ácido. Materiais de sol de sílica exemplares podem ser adquiridos a partir de Cabot Corporation e a partir de outros fornecedores, tais como Wacker Chemie, Degussa, Nissan Chemical e Nalco Chemical Company. Um exemplo de um sol de sílica eficaz, Cab-O-Sperse A205, é uma dispersão aquosa de sílica fumada de alta pureza em uma água deionizada. Este sol tem um pH de cerca de 5 a 7 e um teor de sólidos de cerca de 12 %. A viscosidade é <100 cPs e a gravidade específica é cerca de 1,07.
[043]Sóis de óxido de cério exemplares também são comercialmente disponíveis. Geralmente, estes compreendem partículas de óxido de cério em suspensão coloidal aquosa. Sóis de óxido de cério comercialmente disponíveis que podem ser mencionados como exemplares incluem nitrato de óxido de cério coloidal e acetato de óxido de cério, ambos disponíveis a partir de Rhodia e aqueles disponíveis a partir de Nyacol Nano Technologies Inc. O sol de acetato de óxido de cério preferido inclui cerca de 20 % de partículas de óxido de cério. Sóis de óxido de cério exemplares incluem aqueles tendo tamanhos de partícula de menos do que cerca de 100 nm. Os pHs exemplares são na ordem de cerca de 1 a 9. Outros sóis de óxido de metal, tais como ZnO, ZrO2, TiO2 e Al2O3 também podem ser mencionados.
[044]Em ainda uma outra forma de realização, a composição de revestimento contendo silano compreende ainda um agente estabilizante. Um hospedeiro de agentes estabilizantes pode ser mencionado como exemplar. Por exemplo, álcoois, glicóis, trióis, polióis, éteres glicílicos, ésteres, cetonas, pirrolidonas, e polietersilanos são exemplares. Estabilizadores específicos incluem: etanol, 1-propanol, 2-propanol (i-propanol), 2-metil-1-propanol (i-butanol), 2-metil-2- propanol (terc-butanol), 1-butanol, 2-butanol, 2-metil-1-butanol, 2-metil-2-butanol, 2,2-dimetil-1-propanol, 1-pentanol, 2-pentanol, 4-metil-2-pentanol; glicóis incluindo: propileno glicol, 1,3-butanodiol, 1,4-butano diol, 2-metil-1,3-propanodiol, 2-metil-2,4- pentanodiol (hexileno glicol), dietileno glicol, trietileno glicol, tetraetileno glicol, poli(etileno glicol), dipropileno glicol, tripropileno glicol, poli(propileno glicol), 1,5- pentanodiol, esterdiol 204, 2,2,4-trimetilpentanodiol, 2-etil-1,3-hexanodiol, glicerol, glicerol etoxilado, glicerol etoxilado-co-propoxilado triol, glicerol propoxilado, pentaeritritol, éteres glicílicos tais como 1-metóxi-2-propanol (éter metílico de propileno glicol), 1-etóxi-2-propanol, 1-propóxi-2-propanol, 1-butóxi-2-propanol, 2- metoxietanol, 2-etoxietanol, 2-propoxietanol, 2-butoxietanol, 2-(2-metoxietóxi)etanol, 2-(2-etoxietóxi)etanol, 2-(2-propoxietóxi)etanol, (butil carbitol) de 2-(2- butoxietóxi)etanol, éter di(propileno glicol)butílico, (éter tri(etileno glicol)monometílico) de metoxitriglicol, (éter tri(etileno glicol)monoetílico) de etoxitriglicol, éter (tri(etileno glicol)monobutílico de butoxitriglicol, (éter poli(etileno glicol)metílico) de metoxipolietilenoglicol, éter poli(etileno glicol)butílico, poli(etileno glicol)dimetiléter, poli(etileno glicol-co-propileno glicol), éter poli(etileno glicol-co- propileno glicol)monobutílico, éter poli(propileno glicol)monobutílico, di(propileno glicol)dimetiléter; ésteres incluindo macetato de etila, acetato de etila, lactato de etila, 2-metoxiacetato de etila, 2-etoxiacetato de etila, 2-butoxiacetato de etila, 2-(2- metoxietóxi)acetato de etila, 2-(2-etoxietóxi)acetato de etila, 2-(2-butoxietóxi)acetato de etila, diacetato de glicol, diacetato de trietileno glicol, acetato de éter metílico de propileno glicol (acetato de 1-metóxi-2-propanol), acetato de éter etílico de propileno glicol, e cetonas incluindo acetona, metil etil cetona, 2,4-pentano diona, diacetona álcool e poliéter silanos incluindo Silquest A-1230.
[045]Adicionalmente, os compostos silano alcoxilado C1-C4 podem ser incluídos como um adjuvante opcional ao revestimento contendo solução de silano para fornecer ligações Si-O adicionais. Estes compostos adjuvantes podem ser representados pela Fórmula (V) em que R26é um grupo hidrocarboneto monovalente tendo de 1 a 10 átomos de carbono ou OR27e cada R27é independentemente escolhido de alquila C1-C4. Exemplos específicos incluem tetraetilortosilicato (TEOS) e metiltrietoxissilano. Estes compostos adjuvantes hidrolisarão em solução para fornecer uma fonte de ligações Si-O.
[046]Em uma outra forma de realização, a composição de revestimento contendo silano compreende: (a) ureido silano e/ou formas hidrolisadas do mesmo entre 0,01 a 80 por cento em peso; (b) partículas de óxido de metal coloidal e/ou sol de sílica entre 0,001 a 36 por cento em peso; e, (c) porcentagem de aditivo de estabilização opcional em uma quantidade de até 25 por cento em peso, e (d) composto silano alcoxilado opcional e/ou hidrolisado do mesmo em uma quantidade de até 25 por cento em peso; (e) agentes de ajuste pH opcionais em uma quantidade de até 2 por cento em peso; e (d) restante sendo água, em que as porcentagens em peso são fundamentadas no peso total da composição de revestimento contendo silano. O peso da composição é, em total, 100 por cento em peso. O pH das composições de sol pode preferivelmente variar de 1 a 7, mais especificamente, de 3 a 6,5.
[047]Em uma outra forma de realização, as composições de revestimento contendo silano têm a seguinte faixa (em porcentagem em peso) dos componentes: (a’) 3 a 60 por cento em peso de ureido silano e/ou forma hidrolisada do mesmo; (b’) 0,001 a 10 % em peso de partículas de óxido de Si e/ou Ce; (c’) 1 a 15 por cento em peso de agente estabilizante; (d’) 1 a 15 por cento em peso de adjuvante; (e’) até 2 % em peso de agentes reguladores de pH; e (f’) restante sendo água, em que as porcentagens em peso são fundamentadas no peso total da composição de revestimento contendo silano.
[048]Em uma forma de realização, o revestimento contendo solução de silano contém ainda um corante orgânico solúvel em água (e) que não interferirá com a composição de revestimento. Em particular, o corante orgânico solúvel em água (e) não formará precipitados ou resultará em gelificação da suspensão na temperatura de 25 °C por um período de pelo menos 48 horas, mais especificamente, por um período de 48 horas a pelo menos 18 meses. Em uma forma de realização, corante orgânico solúvel em água (e) não resultará em desestabilização da suspensão coloidal aquosa de óxido de metal coloidal, especialmente suspensão coloidal aquosa de óxido de cério. Em uma forma de realização, o corante orgânico solúvel em água (e) é tal que tem um contra-íon de acetato. Em uma outra forma de realização aqui, o corante orgânico solúvel em água (e) é estável, que significa que o corante não formará precipitados ou resultará em gelificação da suspensão na temperatura de 25 °C por um período de pelo menos 48 horas, mais especificamente, por um período de 48 horas a pelo menos 18 meses.
[049]Em uma forma de realização específica, o corante orgânico solúvel em água (e) tem uma carga positiva e contra-íon derivado de um ácido carboxílico contendo de 1 a 6 átomos de carbono, mais especificamente de 1 a 3 átomos de carbono, tais como os exemplos não limitantes de ácido fórmico, ácido acético e semelhantes.
[050]Em uma forma de realização não limitante, o corante orgânico solúvel em água (e) tem a Fórmula (VI) geral: em que: G1é um grupo orgânico tendo de 1 a 20 átomos de carbono e contendo pelo menos um heteroátomo de oxigênio ou nitrogênio; A é um átomo de nitrogênio ou (-)3C-R*, onde R*é um grupo monovalente escolhido de grupo alquila, cicloalquila, alquenila, aralquila ou arila tendo até 10 átomos de carbono; R6é uma alquila, uma hidroxilalquila, uma alcoxialquila, uma cicloalquila, uma aralquila opcionalmente substituída com um halogênio ou grupo alcóxi, uma arila opcionalmente substituída com um halogênio ou grupo alcóxi, uma cianoalquila, uma carbamatoalquila ou um grupo carboalcoxialquila contendo até 10 átomos de carbono ou hidrogênio; R7é um grupo alquila, alcóxi, aril alquilsulfonila ou arilsulfonila contendo até 10 átomos de carbono ou hidrogênio; R8é um grupo alquila, alcóxi, aril alquilsulfonila, arilsulfonila ou aminossulfonila contendo até 10 átomos de carbono ou hidrogênio; R9é um grupo alquila, alcóxi, aril alquilsulfonila ou arilsulfonila contendo até 10 átomos de carbono ou hidrogênio; R10é um grupo alquila, alcóxi, aril alquilsulfonila ou arilsulfonila contendo até 10 átomos de carbono ou hidrogênio; R11é uma alquila, uma hidroxilalquila, uma alcoxialquila, cicloalquila, uma aralquil opcionalmente substituída com um halogênio ou grupo alcóxi, uma arila opcionalmente substituída com um halogênio ou grupo alcóxi, uma cianoalquila, uma carbamatoalquila ou um grupo alcoxicarbonilalquila contendo até 10 átomos de carbono ou hidrogênio; R12é um grupo alquila contendo de 1 a 6 átomos de carbono ou hidrogênio; n é um número inteiro de 1 a 3, mais especificamente 1 ou 2, e mais especificamente 1. Fórmula (VII) geral:
[051]Em uma forma de realização, G1é um grupo monovalente orgânico da em que: R13é um grupo alquila ou alcóxi contendo de 1 a 6 átomos de carbono, halogênio, hidrogênio ou junto com R14forma um grupo arila fundida contendo até 16 átomos de carbono, ou um anel contendo um grupo -O-CH2-O- ou grupo -O- CH2CH2-O- ligado ao anel aromático da estrutura (VII) que contém até 16 átomos de carbono; R14é um grupo alquila ou alcóxi contendo de 1 a 6 átomos de carbono, hidrogênio, halogênio, carboxila, carboalcóxi, aminocarbonila, carbamato, sulfonila, alquilsulfonila, aminossulfonila ou junto com R13ou R15forma um grupo arila fundida contendo até cerca de 16 átomos de carbono, ou um anel contendo um grupo -O- CH2-O- ou grupo -O-CH2CH2-O- ligado ao anel aromático da estrutura (V) que contém até 16 átomos de carbono; R15é um grupo alquila ou alcóxi de 1 a cerca de 6 átomos de carbono, um halogênio ou um hidrogênio ou junto com R14ou R16forma um grupo arila fundida contendo até cerca de 16 átomos de carbono, ou junto com R14ou R16forma um anel fundido contendo um grupo -O-CH2-O- ou grupo -O-CH2CH2-O- ligado ao anel aromático da estrutura (V) que contém até cerca de 16 átomos de carbono, ou um grupo monovalente de 2 a cerca de 12 átomos de carbono derivado de 2H- [1,2,3]triazol; R16é um grupo alquila ou alcóxi de 1 a cerca de 6 átomos de carbono, um halogênio ou hidrogênio ou junto com R15forma um grupo arila fundida contendo até 16 átomos de carbono, ou um anel contendo um grupo -O-CH2-O- ou grupo -O- CH2CH2-O- ligado ao anel aromático da estrutura (V) que contém até cerca de 16 átomos de carbono; e R17é um grupo alquila de 1 a cerca de 6 átomos de carbono, hidrogênio, ou um grupo fenila que é opcionalmente substituído com um grupo alquila ou alcóxi de até cerca de 8 átomos de carbono.
[052]Em uma outra forma de realização, G1é um grupo monovalente orgânico da Fórmula (VIII) geral: em que: cada R18, R19, R20, R21e R22é independentemente um grupo alquila de 1 a 6 átomos de carbono ou hidrogênio.
[053]Em uma outra forma de realização não limitante, o corante orgânico solúvel em água (e) tem a Fórmula (IX) geral: R12é um grupo alquila contendo de 1 a 6 átomos de carbono ou hidrogênio; R23é hidrogênio, um grupo alquila de 1 a 6 átomos de carbono, um grupo arila de 6 a 10 átomos de carbono, um grupo aralquila de 7 a 12 átomos de carbono ou um grupo arila de 6 a 12 átomos de carbono substituído com um grupo hidroxicarbonila (-C(=O)OH) ou um grupo alcoxicarbonila (-C(=O)OR26), onde R26é um grupo alquila de 1 a 4 átomos de carbono; R24é hidrogênio, um grupo alquila contendo 1 a 6 átomos de carbono, hidroxila ou amino tendo a estrutura -NR27R28, onde R27e R28são cada um independentemente um hidrogênio ou grupo alquila de 1 a 6 átomos de carbono; R25é hidrogênio, um grupo alquila contendo 1 a 6 átomos de carbono, hidroxila ou amino tendo a estrutura -NR27R28, onde R27e R28são cada um independentemente um hidrogênio ou grupo alquila de 1 a 6 átomos de carbono; e m é um número inteiro de 1 a 3, mais especialmente 1 ou 2, e mais especificamente 1.
[054]Em uma outra forma de realização aqui, o corante orgânico solúvel em água é derivado de xantenilio, 1H-benzoimidazol, 3H-indol, 2-alilideno-2,3-di-hidro- 1H-indol e/ou benzofurano.
[055]O corante orgânico solúvel em água usado aqui pode ser selecionado a partir do grupo que consiste de Líquido Rodamina B Amezine, Líquido Vermelho P Brilhante R Amezine, Líquido BAC Amewhite e combinações dos mesmos.
[056]O corante orgânico solúvel em água usado aqui pode ser um corante fluorescente ou meramente um corante visível. Será entendido que um corante fluorescente ainda pode ser visível a olho nu, mas um corante visível será tal que não contêm componentes fluorescentes.
[057]Se o corante orgânico solúvel em água é um corante visível, é tal que pode ter uma cor característica sob luz visível que é visivelmente detectável a olho nu em um revestimento da espessura desejada em um substrato. Isso permitiria uma determinação qualitativa de se o revestimento está presente no substrato junto com a capacidade de quantificar a espessura do revestimento de acordo com os métodos da invenção aqui.
[058]Se o corante orgânico solúvel em água é um corante fluorescente, será tal que produz uma fluorescência detectável mesmo quando pequenas quantidades do corante são usadas na suspensão estável ou onde a suspensão estável (a composição de revestimento) é muito fina. O comprimento de onda de luz que faz o corante fluorescer deve ser diferente a partir do comprimento de onda de luz emitida a partir do corante quando fluoresce. Isto garante que não existe interferência indevida com a medição da intensidade da fluorescência pela luz usada para fazer o corante fluorescer.
[059]Em uma forma de realização, a suspensão estável pode compreender ainda água, especificamente água deionizada.
[060]Em uma forma de realização, o substrato é selecionado a partir do grupo que consiste de aço laminado a frio, aço galvanizado por imersão a quente, aço eletrogalvanizado, alumínio, magnésio, liga de zinco, aço revestido com zinco e outros metais.
[061]Em uma forma de realização específica, o método para determinar o peso da composição de revestimento de passivação na superfície de um substrato de metal compreende: (i) preparar uma série de composições de revestimento de passivação com concentrações diferentes de pelo menos um de componente(s) (a)-(f) acima; (ii) revestir os mesmos substratos de metal ou diferentes com cada uma das composições de revestimento de passivação anteriores, (iii) opcionalmente, secar as composições de revestimento de passivação como aplicado a cada substrato de metal sob as mesmas condições de secagem que são usadas em qualquer procedimento de revestimento em operação conhecido ou convencional; (iv) determinar a quantidade de composição de revestimento de passivação na superfície de cada substrato de metal revestido e a área que é revestida pela composição, a quantidade de composição de revestimento de passivação sendo determinada gravimetricamente usando a equação, peso de composição de revestimento de passivação = (w2-w1)/(área de superfície revestida) se apenas um lado do substrato é revestido, ou peso de composição de revestimento de passivação = (w2-w1)/(2)(área de superfície revestida) se dois lados do substrato são revestidos; ou a quantidade de composição de revestimento de passivação sendo determinada usando o método de XRF onde a curva de calibração padrão de XRF é usada para desenvolver uma equação de regressão linear de mínimos quadrados; (v) adquirir um espectro de FTIR para cada substrato revestido de passivação de peso de composição de passivação conhecido e integrar os picos associados com um grupo funcional particular para fornecer um integral das absorbâncias; (vi) representar o peso da composição de revestimento de passivação versus o integral das absorbâncias e calcular a equação de regressão linear de mínimos quadrados; (vii) medir o peso da composição de revestimento de passivação em operação obtendo o espectro de FTIR e integrar o espectro associado com o grupo funcional para fornecer um integral das absorbâncias; (viii) usar a equação da etapa (vi) para calcular o peso da composição de revestimento de passivação no substrato de metal.
[062]A composição de revestimento de passivação pode ser aplicada à superfície do substrato por qualquer técnica de aplicação conhecida ou convencional, tal como pulverização, imersão ou revestimento por rolo em uma operação descontínua ou contínua. A temperatura da composição de revestimento de passivação na aplicação é tipicamente de 10 °C a 85 °C, e preferivelmente de 15 °C a 60 °C.
[063]Operações contínuas são tipicamente usadas na indústria de revestimento de bobina e também para aplicação de moinho. Na indústria de bobina, o substrato é limpo e enxaguado e, em seguida, usualmente contatado com a solução de revestimento por revestimento por rolo com um revestidor químico. A tira revestida é, em seguida, seca por aquecimento e pintada e cozida por processos de revestimento de bobina conhecidas ou convencionais. Aplicação de moinho da solução de composição de revestimento pode ser por imersão, pulverização ou revestimento por rolo aplicado a uma ou ambas as superfícies do substrato de metal recentemente fabricado. Composição de revestimento de passivação em excesso é tipicamente removida por rolos de espremedor. Depois que a composição de revestimento de passivação foi aplicada à superfície de metal, o metal é seco na temperatura ambiente ou em temperaturas elevadas para remover a água e promover as reações de condensação dos componentes por si só e com a superfície para formar a composição de revestimento de passivação seca e curada na superfície do substrato. Alternativamente, o substrato de metal revestido pode ser aquecido em 65 °C a 125 °C por 2 a cerca de 60 segundos para produzir um substrato revestido tendo um resíduo seco da composição de revestimento de passivação. Se o substrato já está aquecido a partir do processo de produção de fusão a quente, nenhuma pós-aplicação de aquecimento ao substrato revestido é necessária para facilitar a secagem. A temperatura e tempo para secar a composição de revestimento de passivação dependerá das características da composição de revestimento de passivação e tipo de substrato.
[064]Antes de depositar as composições de revestimento de passivação sob uma superfície do substrato de metal selecionado, a matéria externa é tipicamente removida a partir da superfície de metal limpando e desengordurando completamente a superfície. A superfície pode ser limpa por meios físicos, tais como por abrasão mecânica, ou por meios químicos, tais como limpando ou desengordurando a superfície com agentes de limpeza alcalinos ou ácidos comercialmente disponíveis, tais como metassilicato de sódio e hidróxido de sódio. Um exemplo não limitante de um agente de limpeza é CHEMKEEN 163, um limpador de fosfato, que é comercialmente disponível a partir de PPG Industries, Inc. de Pittsburgh, Pensilvânia. Após a etapa de limpeza, o substrato de metal é usualmente enxaguado com água, especificamente água deionizada, de modo a remover qualquer resíduo. O substrato de metal pode ser seco ao ar usando uma faca de ar, lampejando fora da água por breve exposição do substrato a uma temperatura alta, ou passando o substrato entre rolos de rodo.
[065]Ainda em uma outra forma de realização específica aqui, a composição de revestimento de passivação descrita aqui é aplicada à superfície de metal para resultar em um peso de composição de revestimento de passivação maior do que ou igual a 0,5 miligrama por pé quadrado (5 miligramas por metro quadrado) da superfície revestida, mais especificamente aplicada à superfície de metal revestida com um peso de composição de revestimento de passivação de 0,5 a 500 miligramas por pé quadrado (5,4 a 5,400 miligramas por metro quadrado) sendo peso mais específico de 3 a 300 miligramas por pé quadrado (32 a 3,200 miligramas por metro quadrado).
[066]Depois que a composição de revestimento de passivação é aplicada no substrato, o revestimento pode ser seco e/ou curado na temperatura ambiente ou por exposição ao calor, usando métodos conhecidos por aqueles habilitados na técnica.
[067]O padrão de calibração é produzido com uma ou mais amostras de calibração tendo um peso pré-determinado de composição de revestimento de passivação em um substrato, representativo da faixa dos pesos de composição de revestimento de passivação que são desejáveis. É preferido que um padrão de calibração mais estatisticamente significante tendo oito amostras de calibração é utilizado, incluindo duas amostras de calibração de substrato em branco, duas amostras de calibração representativas de peso alvo da composição de revestimento de passivação, duas amostras de calibração representativas de baixo peso de composição de revestimento de passivação e duas amostras de calibração representativas de alto peso de composição de revestimento de passivação. Estas amostras de calibração podem ser preparadas usando métodos de revestimento conhecidos a uma pessoa habilitada na técnica.
[068]O espectro de FTIR de energia pode ser medido por uma cabeça de ângulo rasante ou uma cabeça de reflexão total atenuada. Em uma forma de realização, o ângulo rasante é na faixa de 5 a 89 graus, mais especificamente de 60 a 89 graus, e mais especificamente de 75 a 89 graus. Em certa forma de realização, a distância entre a cabeça de ângulo rasante e o substrato é na faixa de 0 a 5 cm, mais especificamente de 0 a 2,5 cm, e mais especificamente de 0 a 1 cm.
[069]O espectro de FTIR de energia pode ser medido por um espectrômetro portátil ou um espectrômetro de posição livre. Exemplos para o espectrômetro de FTIR comercialmente disponível incluem ExoScan 4100 de Agilent.
[070]Em ainda uma outra forma de realização, o integral do espectro de FTIR é obtido integrando os picos de IR entre 1220,3 a 818,5 cm-1, usando uma cabeça de ângulo rasante ou uma cabeça de reflexão total atenuada, onde o ângulo rasante é na faixa de 5 a 89 graus, mais especificamente de 60 a 89 graus, e mais especificamente de 75 a 89 graus, a distância entre a cabeça de ângulo rasante e o substrato é na faixa de 0 a 5 cm, mais especificamente de 0 a 2,5 cm, e mais especificamente de 0 a 1 cm.
[071]O método da presente invenção é particularmente útil quando o substrato tendo a composição de revestimento de passivação é uma operação de bobina móvel. A medição da quantidade de composição de revestimento de passivação seca na superfície do substrato de metal é feita em uma operação de bobina móvel ou uma operação de bobina que é parada por uma quantidade pré- determinada de um tempo de aquisição durante a medição de peso. Um tempo de aquisição que é muito longo, que é mais longo do que 30 segundos, pode dar origem a perdas em produtividade na operação de bobina. O tempo de aquisição da presente invenção é menos do que 30 segundos, mais especificamente menos do que 5 segundos, e mais especificamente menos do que um segundo.
[072]O método da presente invenção é particularmente adequado para medir o peso da composição de revestimento de passivação na faixa de 0 para mais do que 500 miligramas por metro quadrado, mais especificamente de 10 para mais do que 500 miligramas por metro quadrado, e mais especificamente de 20 para mais do que 500 miligramas por metro quadrado (mg/m2). É observado que o substrato tendo a composição de revestimento de passivação deve ser substancialmente seco antes da medição de FTIR.
[073]Várias características da invenção são ilustradas pelos exemplos apresentados abaixo.
[074]Cinco composições de revestimento de passivação foram preparadas misturando água destilada com acetato de cério coloidal a 23 por cento em peso em água. A mistura foi agitada por 2 minutos e, em seguida, 3- ureidopropiltrimetoxissilano foi adicionado com agitação adequada por pelo menos 15 minutos na temperatura ambiente para garantir hidrólise do silano adequada. A solução de banho de silano resultante foi clara e incolor e mantida na temperatura ambiente durante o processo de revestimento. As quantidades de 23 por cento em peso de acetato de cério coloidal em água, 3-ureidopropiltrimetoxissilano e água são registradas nas Tabelas 1 e 2.
[075]Dois tipos de substratos de metal foram selecionados para tratar com as soluções de banho de silano. Os substratos foram aço laminado a frio (CRS) e aço galvanizado por imersão a quente (HDG). Painéis CRS e HDG foram obtidos a partir de AGE Laboratories. Os substratos de metal foram limpos por imersão em uma solução de limpeza alcalina padrão de pH 12, e enxaguados com água desmineralizada até uma superfície livre de água foi obtida. Os substratos de metal foram secos na temperatura ambiente.
[076]Os substratos de metal foram pesados usando um equilíbrio analítico, onde o peso foi registrado como w1, imersos na solução de banho de silano por 5 segundos, secos a 100 °C por 10 minutos e, em seguida, pesados novamente, onde o peso foi registrado como w2. A quantidade de revestimento contendo silano seco na superfície foi calculada subtraindo w1de w2e, em seguida, dividindo a diferença por 2 vezes a área de superfície das placas de metal que foram revestidas. Os pesos foram divididos por 2 para considerar que ambos os lados do substrato de metal continham na película de silano seca. A quantidade de revestimento contendo silano seco é, em seguida, relatada como miligramas por metro quadrado (mg/m2). As quantidades são registradas nas Tabelas 1 e 2.
[077]XRF foi usado para detectar e analisar o silício em substratos de CRS e HDG, isolando o pico de Si. O instrumento usado na análise foi um instrumento de Fluorescência de Raios X (XRF), Oxford Twin X usando um detector Focus -5+, disponível a partir de Oxford Instruments. As configurações do instrumento foram uma corrente de tubo de 750 μA, uma voltagem de 4kV, uma integração de pico de 1,35 a 2,12 keV, e um tempo de acumulação de 60 segundos. As intensidades relatadas, relatadas como cps, foram a média de cinco medições. Os resultados da leitura são registrados nas Tabelas 1 e 2.
[078]Uma curva de calibração padrão usando o método de XRF para cada substrato de metal foi construída representando a quantidade de revestimento contendo silano seco (mg/m2) versus os integrais do sinal (cps) calculando a regressão linear de mínimos quadrados. A equação linear para CRS e HGD são: Quantidade de revestimento contendo silano seco (mg/m2) = 0,202X (integral, cps) + 30,61 (para o substrato de CRS); e Quantidade de revestimento contendo silano seco (mg/m2) = 0,211X (integral, cps) - 204,9 (para o substrato de HDG). Tabela 1. Dados Usados para Calcular a Curva de Calibração Padrão Usando Metodologia de XRF em Substrato de CRS.
Tabela 2. Dados Usados para Calcular a Curva de Calibração Padrão Usando Metodologia de XRF em Substrato de HDG.
[079]Um novo conjunto de padrões de calibração foi feito de acordo com o método acima em substratos de CRS e HDG, exceto que a quantidade do banho contendo silano teve concentrações diferentes. As quantidades dos revestimentos contendo silano secos foram determinadas usando o método de XRF, e são relatadas em miligramas por metro quadrado. Os revestimentos contendo silano secos foram, em seguida, analisados usando uma Refletância de Ângulo Rasante de FTIR ExoScan 4100. O instrumento está disponível a partir de espectros de IR Agilent na região daquele que foi integrado foi entre 1220,3 a 818,5 cm-1. A distância entre o detector e o substrato é menos do que 2 cm e o tempo de aquisição é 1 segundo. O integral da absorvância é relatado nas Tabelas 3 e 4. A Figura 1 ilustra as alterações na intensidade (integral das absorbâncias) como as concentrações são variadas por padrões 2 a 5. Os picos que aparecem nesta região são relacionados às ligações Si-O. Em particular, os picos na região de 900 a 1000 cm-1 refere-se à absorvância de Si-OH e Si-O-metal, os picos na região de 1150 cm-1 referem-se à absorvância de Si-O-Si, e os picos na região de 1200 cm-1referem-se a Si-O-CH3. As áreas de absorvância (integrais) sob estes picos foram alcançadas usando o programa de computador fornecido por Agilent para este instrumento. Tabela 3. Dados Usados para Calcular a Curva de Calibração Padrão Usando Metodologia de FTIR em Substrato de CRS. Tabela 4. Dados Usados para Calcular a Curva de Calibração Padrão Usando Metodologia de FTIR em Substrato de HDG.
[080]Uma curva de calibração padrão usando o método de FTIR para cada substrato de metal foi construída representando a quantidade de revestimento contendo silano seco (mg/m2) versus os integrais do sinal (cps) e calculando a regressão linear de mínimos quadrados. A equação linear para CRS e HGD são: Quantidade de revestimento contendo silano seco (mg/m2) = 56,20X (integral, Abs) - 40,16 (para o substrato de CRS); e Quantidade de revestimento contendo silano seco (mg/m2) = 53,80X (integral, Abs) - 46,60 (para o substrato de HDG).
[081]As equações a partir das curvas de calibrações padrão são usadas para determinar a concentração do revestimento contendo silano seco em substratos de CRS ou HDG revestidos. Novas curvas de calibração necessitaria ser alteradas se silanos, óxidos e/ou substratos diferentes são usados. A medição é feita em operação parando brevemente a operação por um período pré-determinado de tempo ou realizando as medições conforme a operação está em movimento. As vantagens do método de FTIR é que a medição é tomada em operação com tempos de aquisição curtos ou continuamente, enquanto o método de XRF necessita que as amostras pequenas sejam cortadas a partir do substrato e inseridas no instrumento em um processo sem operação. Preparação de Padrões de Calibração para Composição de Revestimento de Passivação Contendo de Tetraetóxido de Titânio
[082]Cinco composições de revestimento são preparadas misturando água destilada com ácido acético glacial a 0,15 % e tetraetóxido de titânio. A mistura é agitada por 30 minutos. A solução de banho resultante é clara e incolor e mantém na temperatura ambiente durante o processo de revestimento.
[083]Dois tipos de substratos de metal são selecionados para tratar com as soluções de banho de titania. Os substratos são CRS e HDG. Os painéis CRS e HDG foram obtidos a partir de AGE Laboratories. Painéis de liga de alumínio foram obtidos a partir de Q-Lab Corporation. Os substratos de metal são limpos por imersão em uma solução de limpeza alcalina padrão de pH 12 e enxaguados com água desmineralizada até que uma superfície livre de água é obtida. Os substratos de metal são secos na temperatura ambiente.
[084]Os substratos de metal são pesados usando um equilíbrio analítico, onde o peso é registrado como w1, imersos na solução de banho de titania por 5 segundos, secos a 100 °C por 10 minutos e, em seguida, pesados novamente, onde o peso é registrado como w2. A quantidade de revestimento contendo titania seco na superfície é calculada subtraindo w1de w2e, em seguida, dividindo a diferença por 2 vezes a área de superfície das placas de metal que são revestidas. Os pesos são divididos por 2 para considerar que ambos os lados do substrato de metal continham a película de titania seca. A quantidade de revestimento contendo titania seco é, em seguida, relatada como miligramas por metro quadrado (mg/m2).
[085]Os revestimentos contendo titania secos são, em seguida, analisados usando uma Refletância de Ângulo Rasante de FTIR ExoScan 4100. O instrumento está disponível a partir de Agilent. A distância entre o detector e o substrato é menos do que 2 cm e o tempo de aquisição é 1 segundo. Os picos na região de 400 a 1000 cm-1referem-se a modo de alongamento de Ti-O-Ti. As áreas de absorvância (integrais) sob estes picos são alcançadas usando o programa de computador fornecido por Agilent para este instrumento. Preparação de Padrões de Calibração para Composição de Revestimento de Passivação Contendo Revestimento de Tetraetóxido de Zircônio
[086]Cinco composições de revestimento são preparadas misturando água destilada com ácido acético glacial a 0,15 % com tetraetóxido de zircônio. A mistura é agitada por 30 minutos. A solução de banho resultante é clara e incolor e mantida na temperatura ambiente durante o processo de revestimento.
[087]Dois tipos de substratos de metal são selecionados para tratar com as soluções de banho de Zr. Os substratos são CRS e HDG. Painéis de CRS e HDG são obtidos a partir de AGE Laboratories. Os painéis de liga de alumínio são obtidos a partir de Q-Lab Corporation. Os substratos de metal são limpos por imersão em uma solução de limpeza alcalina padrão de pH 12 e enxaguados com água desmineralizada até que uma superfície livre de água é obtida. Os substratos de metal são secos na temperatura ambiente.
[088]Os substratos de metal são pesados usando um equilíbrio analítico, onde o peso é registrado como w1, imersos na solução de banho de zircônio por 5 segundos, secos a 100 °C por 10 minutos e, em seguida, pesados novamente, onde o peso é registrado como w2. A quantidade de revestimento contendo zircônio seco na superfície é calculada subtraindo w1de w2e, em seguida, dividindo a diferença por 2 vezes a área de superfície das placas de metal que são revestidas. Os pesos são divididos por 2 para considerar que ambos os lados do substrato de metal continham a película de zircônio seca. A quantidade de revestimento contendo zircônio seco é, em seguida, relatada como miligramas por metro quadrado (mg/m2).
[089]Os revestimentos contendo zircônia secos são, em seguida, analisados usando uma Refletância de Ângulo Rasante de FTIR ExoScan 4100. O instrumento está disponível a partir de Agilent. A distância entre o detector e o substrato é menos do que 2 cm e o tempo de aquisição é 1 segundo. Os picos na região de 400 a 1000 cm-1refere-se a modo de alongamento de Zr-O-Zr. As áreas de absorvância (integrais) sob estes picos são alcançadas usando o programa de computador fornecido por Agilent para este instrumento.
[090]Três composições de revestimento de passivação foram preparadas misturando água destilada com acetato de cério coloidal a 23 por cento em peso em água. A mistura foi agitada por 2 minutos e, em seguida, 3- ureidopropiltrimetoxissilano foi adicionado com agitação adequada por pelo menos 15 minutos na temperatura ambiente para garantir hidrólise do silano adequada. A solução de banho de silano resultante foi clara e incolor e mantida na temperatura ambiente durante o processo de revestimento. A razão em peso do ureidossilano para o acetato de cério coloidal a 23 por cento em peso em água foi 3,0 partes de ureidosilano para 1 parte de acetato de cério coloidal a 23 por cento em peso em água. A concentração do silano e óxido de cério foi variada.
[091]Os substratos de metal foram painéis de aço laminado a frio (CRS), obtidos a partir de AGE Laboratories. Os substratos de metal foram limpos por imersão em uma solução de limpeza alcalina padrão de pH 12 e enxaguados com água desmineralizada até que uma superfície livre de água foi obtida. Os substratos de metal foram secos na temperatura ambiente. Os substratos de metal foram imersos no revestimento aquoso (solução de banho de silano) por 5 segundos e, em seguida, secos a 100 °C por 10 minutos.
[092]As quantidades dos revestimentos contendo silano secos foram determinadas usando o método de XRF, e são relatadas em miligramas por metro quadrado. Os revestimentos contendo silano secos foram, em seguida, analisados usando uma Refletância de Ângulo Rasante de FTIR ExoScan 4100. O instrumento está disponível a partir de Agilent. Espectros de IR na região daquele que foi integrado foram entre 1220,3 a 818,5 cm-1. A distância entre o detector e o substrato é menos do que 2 cm e o tempo de aquisição é 1 segundo. O integral da absorvância é relatado na Tabela 5. Usando estas absorbâncias, o peso da película de silano seca foi calculado usando a equação: Quantidade de revestimento contendo silano seco (mg/m2) = 56,20 (integral, Abs) - 40,16, que foi obtida a partir do lote de calibração padrão. As quantidades de película de silano seca que foram determinadas pelo método de XRF também foram relatadas. Os dados indicam que o método de FTIR pode ser usado para determinar as quantidades de película de silano seca na superfície de substrato de CRS e estão de bom acordo com as quantidades determinadas pelo método de XRF. Tabela 5. Determinação da Quantidade de Película de Silano Seca na Superfície de CRS.
[093]Estes exemplos devem ser interpretados como exemplares em natureza apenas e não se destinam em qualquer modo limitar as reivindicações anexas. Considera-se que uma pessoa tendo habilidade comum na técnica seria capaz de produzir variações óbvias da matéria objeto e divulgações aqui contidas que seriam por razão de tal habilidade comum dentro do escopo literal ou equitativo das reivindicações anexas.
Claims (17)
1. Método para medir o peso de uma composição de revestimento de passivação de amostra selecionada do grupo consistindo em revestimento contendo silano, revestimento contendo alcóxido de titânio, revestimento contendo alcóxido de zircônio, revestimento de ácido fluorozircônico e revestimento de ácido fluorotitânico em um substrato de metal, CARACTERIZADO pelo fato de que compreende as etapas de: (i) aplicar uma composição de revestimento de passivação em um substrato de metal para obter uma composição de revestimento de passivação de amostra; (ii) medir uma integral do espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier da composição de revestimento de passivação de amostra integrando os picos de absorbância usando uma cabeça de ângulo rasante em um ângulo rasante de 5 a 89 graus; (iii) obter um padrão de calibração usando uma integral do espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier de mais que uma amostra de calibração tendo um peso pré-determinado da composição de revestimento de passivação no substrato de metal integrando os picos de absorbância usando uma cabeça de ângulo rasante em um ângulo rasante de 5 a 89 graus; e (iv) comparar a integral do espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier da etapa (ii) com o padrão de calibração da etapa (iii) para resultar em uma medição do peso da composição de revestimento de passivação de amostra no substrato de metal.
2. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a integral do espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier é medida integrando os picos de absorbância entre 1220,3 a 818,5 cm-1.
3. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a distância entre a cabeça de ângulo rasante e o substrato é na faixa de 0 a 5 cm.
4. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o espectro de energia de Infravermelho por Transformada de Fourier é medido por um espectrômetro portátil.
5. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a composição de revestimento de passivação é uma composição de revestimento contendo silano.
6. Método, de acordo com a reivindicação 5, CARACTERIZADO pelo fato de que a composição de revestimento contendo silano compreende: (a) 0,01 a 80 por cento em peso de ureido silano, e/ou formas hidrolisadas deste; (b) 0,001 a 36 por cento em peso de partículas de óxido de metal coloidal e/ou sol de sílica; (c) porcentagem de aditivo de estabilização opcional em uma quantidade de até 25 por cento em peso; e (d) composto silano alcoxilado opcional e/ou hidrolisado deste em uma quantidade de até 25 por cento em peso; (e) agentes de ajuste de pH opcionais em uma quantidade de até 2 por cento em peso; e (f) restante sendo água, em que as porcentagens em peso são baseadas no peso total da composição de revestimento contendo silano.
7. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a composição de revestimento de passivação é um revestimento contendo alcóxido de zircônio e revestimento contendo alcóxido de titânio.
8. Método, de acordo com a reivindicação 7, CARACTERIZADO pelo fato de que o revestimento contendo alcóxido de titânio é revestimento contendo tetraetóxido de titânio ou o revestimento contendo alcóxido de zircônio é revestimento contendo tetraetóxido de zircônio.
9. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que a composição de revestimento de passivação é um revestimento de ácido fluorozircônico ou revestimento de ácido fluorotitânico.
10. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o peso da composição de revestimento de passivação é na faixa de 5,4 a 5.400 miligramas por metro quadrado.
11. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o substrato é selecionado do grupo que consiste em aço laminado a frio, aço galvanizado por imersão a quente, aço eletrogalvanizado, alumínio, magnésio, liga de zinco e aço revestido com zinco.
12. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o substrato de metal tendo a composição de revestimento de passivação é substancialmente seco antes da medição de Infravermelho por Transformada de Fourier.
13. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o peso pré-determinado usado no padrão de calibração de Infravermelho por Transformada de Fourier é medido por um espectrômetro de fluorescência de raios X usando padrões de calibração de fluorescência de raios X dos substratos de metal revestido.
14. Método, de acordo com a reivindicação 1, CARACTERIZADO pelo fato de que o substrato tendo a composição de revestimento de passivação é uma linha de bobina móvel.
15. Método, de acordo com a reivindicação 14, CARACTERIZADO pelo fato de que a linha de bobina móvel é interrompida por uma quantidade pré-determinada de um tempo de aquisição durante a medição de Infravermelho por Transformada de Fourier.
16. Método, de acordo com a reivindicação 15, CARACTERIZADO pelo fato de que o tempo de aquisição é um segundo.
17. Método, de acordo com a reivindicação 15, CARACTERIZADO pelo fato de que o tempo de aquisição é menos do que um segundo.
Applications Claiming Priority (3)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
US14/319,626 US9606048B2 (en) | 2014-06-30 | 2014-06-30 | Method for determining the weight and thickness of a passivation or conversion coating on a substrate |
US14/319,626 | 2014-06-30 | ||
PCT/US2015/037642 WO2016003761A1 (en) | 2014-06-30 | 2015-06-25 | Method for determining the weight and thickness of a passivation coating composition on a substrate |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
BR112016028622A2 BR112016028622A2 (pt) | 2017-08-22 |
BR112016028622B1 true BR112016028622B1 (pt) | 2021-08-03 |
Family
ID=53539950
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
BR112016028622-7A BR112016028622B1 (pt) | 2014-06-30 | 2015-06-25 | Método para medir o peso de uma composição de revestimento de passivação |
Country Status (6)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US9606048B2 (pt) |
EP (1) | EP3161453B1 (pt) |
JP (1) | JP6595511B2 (pt) |
CN (1) | CN106461374B (pt) |
BR (1) | BR112016028622B1 (pt) |
WO (1) | WO2016003761A1 (pt) |
Families Citing this family (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
CN109716106A (zh) * | 2016-07-19 | 2019-05-03 | 惠普印迪格公司 | 打印基底上的底涂含量的评估 |
CN109557084A (zh) * | 2019-01-17 | 2019-04-02 | 南通市产品质量监督检验所 | 以镀层铁元素含量鉴定制绳镀锌钢丝镀锌方式的检测方法 |
WO2020154368A1 (en) * | 2019-01-25 | 2020-07-30 | Allied Bioscience, Inc. | Analysis of antimicrobial coatings using xrf |
CN110484129B (zh) * | 2019-07-02 | 2022-01-25 | 昆山联滔电子有限公司 | 带有防护涂层的产品及其制备方法 |
Family Cites Families (30)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4946902A (en) * | 1988-05-27 | 1990-08-07 | E. I. Du Pont De Nemours And Company | Process for the setabilization of fluoropolymers |
US4943721A (en) * | 1989-06-22 | 1990-07-24 | Measurex Corporation | Method of obtaining accurate compositional information of multi-layer compositions |
US7071174B1 (en) * | 1994-10-13 | 2006-07-04 | Cv Therapeutics, Inc. | Method and composition for inhibiting cholesterol esterase |
US5821001A (en) * | 1996-04-25 | 1998-10-13 | Ppg Industries, Inc. | Coated articles |
US6573999B1 (en) * | 2000-07-14 | 2003-06-03 | Nanometrics Incorporated | Film thickness measurements using light absorption |
JP2002105641A (ja) * | 2000-10-03 | 2002-04-10 | Murakami Corp | 複合材およびその製造方法 |
US6579472B2 (en) | 2001-07-27 | 2003-06-17 | The Boeing Company | Corrosion inhibiting sol-gel coatings for metal alloys |
DE10205751B4 (de) * | 2002-02-12 | 2004-09-30 | Robert Bosch Gmbh | Zündeinrichtung, insbesondere Zündkerze für Brennkraftmaschinen |
US20030199649A1 (en) * | 2002-03-26 | 2003-10-23 | Orbison David Robert | Method and apparatus for the controlled dilution of organometallic compounds |
US6794651B2 (en) | 2002-06-13 | 2004-09-21 | The Boeing Company | Method of measuring chromated conversion coating amount using infrared absorbance |
US6895360B2 (en) * | 2002-12-17 | 2005-05-17 | Taiwan Semiconductor Manufacturing Co., Ltd. | Method to measure oxide thickness by FTIR to improve an in-line CMP endpoint determination |
US6984825B2 (en) | 2003-02-06 | 2006-01-10 | The Boeing Company | Portable coating weight reader |
US7236243B2 (en) * | 2004-04-12 | 2007-06-26 | Michael Thomas Beecroft | Hand-held spectrometer |
US10041176B2 (en) * | 2005-04-07 | 2018-08-07 | Momentive Performance Materials Inc. | No-rinse pretreatment methods and compositions |
DE102006002224A1 (de) * | 2006-01-16 | 2007-07-19 | Schaeffler Kg | Anordnung zum Schutz eines Substrates vor Korrosion, Verfahren zu dessen Herstellung sowie Riemenscheibe |
DE102006051308A1 (de) * | 2006-10-31 | 2008-05-08 | Bayer Materialscience Ag | Verfahren zur Behandlung von Metalloberflächen |
DE102006052114A1 (de) | 2006-11-06 | 2008-05-08 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zur Bestimmung der Schichtdicke |
US7800069B2 (en) * | 2008-08-08 | 2010-09-21 | The Boeing Company | Method for performing IR spectroscopy measurements to determine coating weight/amount for metal conversion coatings |
US8633140B2 (en) * | 2009-02-27 | 2014-01-21 | The Regents Of The University Of Michigan | Functionalized polydiacetylene sensors |
US11142654B2 (en) * | 2010-11-03 | 2021-10-12 | Chemetall Gmbh | Composition and process for the generation of a clear or translucent emissive coating |
US20140017409A1 (en) * | 2011-03-30 | 2014-01-16 | Mahindra & Mahindra Limited | Corrosion resistance passivation formulation and process of preparation thereof |
CN103782160A (zh) * | 2011-09-08 | 2014-05-07 | 株式会社堀场制作所 | 气体分析装置及其使用的污垢检测方法 |
FR2981157B1 (fr) * | 2011-10-05 | 2013-10-25 | Aircelle Sa | Procede de controle non destructif d'un materiau composite a matrice organique. |
CN102507493B (zh) * | 2011-10-24 | 2013-12-25 | 上海理工大学 | 一种测定煤中的镜质组与惰质组在热解过程中相互作用的方法 |
TWI448431B (zh) * | 2011-11-18 | 2014-08-11 | Ind Tech Res Inst | 光學鈍化薄膜及其製造方法以及太陽能電池 |
CN104619367A (zh) * | 2012-05-09 | 2015-05-13 | Sio2医药产品公司 | Pecvd涂层的检查方法 |
WO2014052673A1 (en) * | 2012-09-26 | 2014-04-03 | Panalytical Inc. | Multi-sensor analysis of complex geologic materials |
CN102981109B (zh) * | 2012-11-28 | 2014-10-01 | 南方电网科学研究院有限责任公司 | 一种应用于互感器硅橡胶绝缘护套的老化程度评测方法 |
CN107573846B (zh) * | 2013-03-26 | 2021-03-12 | 莫门蒂夫性能材料股份有限公司 | 涂料组合物及测定硅烷预处理物的均匀性和厚度的方法 |
CN103439290B (zh) * | 2013-09-17 | 2015-09-23 | 桂林理工大学 | 傅里叶变换衰减全反射红外光谱在线测定挥发有机水污染物的方法 |
-
2014
- 2014-06-30 US US14/319,626 patent/US9606048B2/en active Active
-
2015
- 2015-06-25 EP EP15736128.8A patent/EP3161453B1/en active Active
- 2015-06-25 CN CN201580033723.4A patent/CN106461374B/zh not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-25 WO PCT/US2015/037642 patent/WO2016003761A1/en active Application Filing
- 2015-06-25 JP JP2016570078A patent/JP6595511B2/ja not_active Expired - Fee Related
- 2015-06-25 BR BR112016028622-7A patent/BR112016028622B1/pt not_active IP Right Cessation
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
CN106461374B (zh) | 2019-07-09 |
US20150377608A1 (en) | 2015-12-31 |
CN106461374A (zh) | 2017-02-22 |
WO2016003761A1 (en) | 2016-01-07 |
US9606048B2 (en) | 2017-03-28 |
JP6595511B2 (ja) | 2019-10-23 |
EP3161453A1 (en) | 2017-05-03 |
JP2017522547A (ja) | 2017-08-10 |
EP3161453B1 (en) | 2019-11-13 |
BR112016028622A2 (pt) | 2017-08-22 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US9676948B2 (en) | Coating composition and method for determining the uniformity and thickness of a no-rinse silane pretreatment | |
US10570519B2 (en) | Conversion coating composition comprising a dye and a method for coating a metal surface with said conversion coating composition | |
JP5274262B2 (ja) | 金属表面上の腐食保護層 | |
JP4958895B2 (ja) | リンス工程を有さない金属表面の前処理方法及びそのための組成物 | |
JP5401316B2 (ja) | 加水分解性有機官能性シランの部分および/または完全縮合物の貯蔵に安定な組成物 | |
BR112016028622B1 (pt) | Método para medir o peso de uma composição de revestimento de passivação | |
BRPI1006061B1 (pt) | Por favor alterar título do pedido PI 1006061-8 para “Composição de silano para revestimento contendo copolímeros de poliéter à base de silício, método de tratamento de superfície metálica para formar revestimento sobre a mesma, metal e artigo fabricado da mesma | |
DE102006003957A1 (de) | Wasserverdünnbare Sol-Gel-Zusammensetzung | |
PT1765836E (pt) | Composição de revestimento de alumínio | |
US20150159039A1 (en) | Radiation curable composition, and method for preparing a hybrid sol-gel layer on a surface of a substrate using said composition | |
BR112014028370B1 (pt) | Composição curável por radiação, método para preparar uma camada híbrida de sol-gel, camada híbrida de sol-gel, substrato, uso da camada híbrida de sol-gel e método para preparar um revestimento | |
US20180087162A1 (en) | Corrosion resistant surface treatment and primer system for aluminum aircraft using chromium-free inhibitors | |
JP5860830B2 (ja) | 加水分解性有機官能性シランの部分および/または完全縮合物の貯蔵に安定な組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B06U | Preliminary requirement: requests with searches performed by other patent offices: procedure suspended [chapter 6.21 patent gazette] | ||
B09A | Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette] | ||
B16A | Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette] |
Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 20 (VINTE) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 25/06/2015, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS. |
|
B21F | Lapse acc. art. 78, item iv - on non-payment of the annual fees in time |
Free format text: REFERENTE A 8A ANUIDADE. |
|
B24J | Lapse because of non-payment of annual fees (definitively: art 78 iv lpi, resolution 113/2013 art. 12) |
Free format text: EM VIRTUDE DA EXTINCAO PUBLICADA NA RPI 2728 DE 18-04-2023 E CONSIDERANDO AUSENCIA DE MANIFESTACAO DENTRO DOS PRAZOS LEGAIS, INFORMO QUE CABE SER MANTIDA A EXTINCAO DA PATENTE E SEUS CERTIFICADOS, CONFORME O DISPOSTO NO ARTIGO 12, DA RESOLUCAO 113/2013. |