BR112015021485B1

BR112015021485B1 - método de remoção de revestimentos polimerizados para unhas humanas, revestimento polimerizado para unhas humanas com uma removibilidade melhorada e sistema de duas embalagens

Info

Publication number: BR112015021485B1
Application number: BR112015021485A
Authority: BR
Inventors: Lein George; Kozacheck Joseph; Steffier Larry
Original assignee: Mycone Dental Supply Company Inc
Priority date: 2013-03-14
Filing date: 2014-03-14
Publication date: 2020-05-05
Also published as: EP2968090A4; ES2881100T3; EP2968090A1; EP2968090B1; JP2019070022A; WO2014152964A1; BR112015021485A2; JP2016517433A

Abstract

resumo da patente de invenção para: método de remoção de revestimentos polimerizados para unhas humanas, revestimento polimerizado para unhas humanas com uma removibilidade melhorada e sistema de duas embalagens. método para remover das unhas um revestimento cosmético polimerizado por radiação, que compreende a aplicação de um sistema solvente compreendendo um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo em um revestimento de unhas polimerizado. um sistema de duas embalagens que compreende uma primeira embalagem contendo uma composição de revestimento de unhas polimerizável compreendendo um oligômero (met)acrílico, monômero (met)acrílico, ou uma mistura de um oligômero (met)acrílico e um monômero (met)acrílico, e um fotoiniciador, em que o oligômero ou monômero possuem um grupo ionizável ácido ou básico, e uma segunda embalagem contendo um sistema de solvente para remover a composição de revestimento polimerizável para unhas depois de esta ter sido aplicada em uma unha e curada por radiação, em que o sistema de solvente compreende um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo. é também revelada uma composição de revestimento curável por radiação para as unhas humanas.

Description

Relatório Descritivo da Patente de Invenção para: MÉTODO DE REMOÇÃO DE REVESTIMENTOS POLIMERIZADOS PARA UNHAS HUMANAS, REVESTIMENTO POLIMERIZADO PARA UNHAS HUMANAS COM UMA REMOVIBILIDADE MELHORADA E SISTEMA DE DUAS EMBALAGENS. REFERÊNCIAS CRUZADAS A PEDIDOS RELACIONADOS [001] Este pedido reivindica a prioridade do pedido provisório n.° 61/782 468 apresentado em 14 de março de 2013, e do pedido provisório n.° 61/872 088 apresentado em 30 de agosto de 2013.

[002] ANTECEDENTES DA INVENÇÃO [003] A presente invenção refere-se a revestimentos cosméticos polimerizados para unhas humanas e em particular a uma removibilidade melhorada dos mesmos.

[004] Revestimentos cosméticos para unhas humanas curáveis por radiação são tipicamente aplicados em salões de manicure profissionais, onde os manicuros aplicam um revestimento de gel nas unhas das mãos ou dos pés e expõem o revestimento a radiação de luz ultravioleta para endurecer o revestimento, resultando em um revestimento muito mais durável do que o obtido com esmalte para unhas à base de solventes. Enquanto os esmaltes para unhas à base de solventes são facilmente removidos com um solvente como a acetona, os revestimentos cosméticos polimerizados são concebidos para serem bastante duráveis e muitas vezes não são fáceis de remover em comparação com o verniz para unhas de secagem ao ar livre. Têm sido propostas várias soluções para o problema da removibilidade de revestimentos cosméticos polimerizados para unhas humanas, como, por exemplo, Rosenberg na patente dos EUA 3 928 113, que propõe a aplicação de um revestimento primário constituído por um polímero solúvel em água ou expansível em água em um sistema de solvente, seguido da aplicação e subsequente cura de uma composição de verniz para unhas fotocurável. Na publicação de patente 2011/0182838, Thong, et al. divulgam revestimentos cosméticos polimerizados para unhas naturais e artificiais que apresentam uma

2/15 removibilidade melhorada com solventes e que compreendem um (met)acrilato reativo, um (met)acrilato de uretano reativo, um monometacrilato de polipropilenoglicol reativo, um copolímero de polimetilmetacrilato-ácido polimetacrílico, dianidrido piromelítico e dimetacrilato de glicerilo, um polímero solúvel em um solvente não reativo, em um solvente não reativo que endurece sob radiação para a forma de um termofixo acrílico tendo vazios que contêm um polímero solúvel em solvente. No entanto, há problemas inerentes às técnicas de Rosenberg e de Thong et al. e a outras abordagens do estado da técnica que a presente invenção resolve. A técnica de Rosenberg, por exemplo, tem o problema de uma elevada sensibilidade à água uma vez que o revestimento primário não é resistente à água e provoca o levantamento de todo o sistema de revestimento quando exposto a água. Nenhuma das referências descreve ácidos ou bases no sistema de solvente utilizado para a remoção.

[005] SUMÁRIO DA INVENÇÃO [006] A presente invenção compreende, em um aspecto, um método para remover das unhas um revestimento cosmético de unhas polimerizado por radiação, em que o revestimento compreende um composto que contém um grupo ácido ou básico ou um sal e que não é removível por água, método esse que compreende a aplicação de um sistema de solvente constituído por um solvente orgânico contendo hidróxilo no revestimento cosmético polimerizado.

[007] DESCRIÇÃO DETALHADA [008] Em algumas formas de realização da invenção, o sistema de solvente compreende também um solvente sem hidróxilo. Em algumas formas de realização da invenção, o sistema de solvente compreende uma mistura de água e um solvente orgânico solúvel em água.

[009] Em algumas formas de realização da invenção, o sistema de solvente compreende um composto constituído por um grupo ácido, um grupo básico ou um sal e um solvente contendo hidróxilo.

[010] Em algumas formas de realização da invenção, o sistema de

3/15 solvente compreende um composto constituído por um grupo ácido, um grupo básico ou um sal, um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo.

[011] Em algumas formas de realização da invenção, o sistema de solvente compreende um composto contendo um grupo ácido, um grupo básico ou um sal e um solvente sem hidróxilo.

[012] Em algumas formas de realização da invenção, o sistema de solvente compreende um composto constituído por um grupo ácido, um grupo básico ou um sal e uma mistura de água e de um solvente solúvel em água.

[013] Os solventes contendo hidróxilo preferidos são o metanol, o etanol, e o isopropanol, opcionalmente diluídos com água. O etanol é um solvente contendo hidróxilo especialmente preferido. Os solventes sem hidróxilo preferidos, quando presentes, são a acetona e o acetato de etilo.

[014] Em algumas formas de realização, solventes contendo hidróxilo e um ou mais solventes sem hidróxilo, como a acetona, são misturados e atuam na remoção de um revestimento cosmético polimerizado de forma mais eficaz do que apenas acetona.

[015] Em algumas formas de realização, água e um ou mais solventes sem hidróxilo, como a acetona, são misturados e atuam na remoção de um revestimento cosmético polimerizado de forma mais eficaz do que apenas acetona.

[016] Em certas formas de realização, o sistema de solvente compreende um composto contendo um contra-íon de um grupo iônico ou ionizável presente no revestimento cosmético polimerizado.

[017] Em algumas formas de realização, as composições de revestimento curadas por radiação compreendem oligômeros ou polímeros reativos que contêm grupos ácidos, básicos ou catiônicos, em que o revestimento pode ser removido com solventes sem hidróxilo. Os oligômeros e polímeros contêm segmentos monoméricos e são feitos por métodos de polimerização aniônica, catiônica, de radicais ou de condensação, em que pelo menos 5 unidades monoméricas estão incluídas no material final. Os oligômeros e polímeros

4/15 preferidos têm pelo menos 20 unidades monoméricas no material final. Os materiais contêm grupos vinilo que podem ser incorporados na película após a cura por radiação ou após o revestimento. São preferidos os grupos de vinilo (met)acrílico. Por (met)acrílico entende-se grupos vinilo acrílicos e metacrílicos. Prevê-se que o uso desses materiais no revestimento melhore a aderência global do revestimento à superfície da unha.

[018] Em certas formas de realização, o sistema de solvente compreende um composto constituído por um grupo básico ou ácido ou respectivo sal. O grupo básico pode ser, por exemplo, uma amina, especialmente quando o revestimento cosmético polimerizado contém um grupo ácido em forma neutra ou ionizada, a qual se encontra presente em certas formas de realização. Por exemplo, o sistema de solventes pode compreender trietanolamina ou um seu sal, e o revestimento cosmético polimerizado pode conter um grupo ácido, tal como um ácido carboxílico, ácido sulfônico, ou ácido à base de fósforo, ou um seu sal.

[019] Em outras formas de realização, o sistema de solvente compreende um composto contendo um grupo ácido ou sal de um grupo ácido, e o revestimento cosmético polimerizado contém um grupo básico ou um cátion. Por exemplo, o sistema de solvente pode compreender um grupo ácido tal como um ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido fosfórico, ácido clorídrico, ácido acético e/ou ácido cítrico ou um sal do ácido, e o revestimento cosmético polimerizado pode conter um grupo básico, tal como um grupo amina, um sal de amina, um grupo de amônio quaternário ou um sal de fosfônio. Em outras formas de realização, o sistema de solvente compreende um composto constituído por um grupo ácido ou sal de um grupo ácido e um solvente sem hidróxilo.

[020] Em outras formas de realização, um revestimento polimerizável contendo grupos ácidos, básicos ou catiônicos pode ser aplicado na unha ou em outro revestimento curado ou seco, e deixado sem curar ou apenas parcialmente curado. Nesta forma de realização, outro revestimento contendo

5/15 ou não grupos ácidos, básicos ou catiônicos é depois aplicado e os dois revestimentos são então curados.

[021] Em outro aspecto, a invenção compreende um sistema de duas embalagens constituído por uma primeira embalagem contendo uma composição de revestimento para unhas polimerizável por radiação composta por um fotoiniciador e um oligômero ou polímero (met)acrílico, monômero (met)acrílico, ou composta por uma mistura de um oligômero ou polímero (met)acrílico e de um monômero (met)acrílico, em que o monômero ou oligômero possui um grupo ionizável ácido ou básico, um sal do referido grupo, ou um grupo catiônico. A primeira embalagem pode também compreender um aditivo não polimerizável contendo um grupo ionizável ácido ou básico ou um sal. A segunda embalagem compreende um sistema de solvente para a remoção da composição de revestimento de unhas polimerizável depois de esta ter sido aplicada em uma unha e curada por radiação, em que o sistema de solvente compreende o sistema de solvente atrás descrito.

[022] O oligômero, polímero, monômero, e/ou aditivos na composição de revestimento polimerizável podem ter um grupo ácido, básico ou catiônico ou um sal do grupo ácido ou básico, e neste caso a segunda embalagem pode compreender um sistema de solvente para remover a composição de revestimento de unhas polimerizável depois de esta ter sido aplicada nas unhas e curada por radiação, em que o sistema de solvente compreende um composto que pode servir para neutralizar ou atuar como contra-íon de um grupo ácido, básico ou catiônico. O grupo ácido pode ser um grupo com base em carboxilo, ácido sulfônico ou fosfônico e o grupo básico pode ser uma amina. O grupo catiônico pode ser, por exemplo, um grupo amônio quaternário. [023] O grupo ácido ou básico ou sal pode ser incorporado de várias maneiras na composição de revestimento polimerizável. Exemplos típicos, mas não limitativos incluem a incorporação de monômeros contendo grupos ácidos ou básicos ou seus sais.

[024] Exemplos de monômeros insaturados polimerizáveis úteis na

6/15 presente invenção incluem ácido acrílico, ácido metacrílico, ácido estirenosulfónico, ácido maleico, monoésteres de ácido maleico, ácido fumárico, monoésteres de ácido fumárico, acrilato de dimetilaminoetilo, metacrilato de dimetilaminoetilo, acrilato de dimetilaminopropilo, metacrilato de dimetilaminopropilo, metacriloíletilo betaína, ácido 2-acrilamido-2metilpropanossulfónico, sais de 2-(acriloíloxi)etiltrimetilamônio, sais de acrilamidopropiltrimónio, N-(3-dimetilaminopropil)-2-propenamida, ácido itacónico, monoésteres de ácido itacónico, acrilato de dietilaminoetilo, metacrilato de dietilaminoetilo, vinilpiridina, acrilato de aminoetilo, metacrilato de aminoetilo, aminoestireno, dimetilaminoestireno, ácido crotónico, (met)acrilato de fosfoetilo, sais de monômero de dialidimetilamônio, glicidilmetacrilato de N-tolilglicina, (met)acrilato de hidroxialquilo e produtos de adição de dimetacrilato de glicerol de anidridos, incluindo anidridos dos ácidos succínico, maleico, ftálico, trimelítico, e priromelítico.

[025] Os oligômeros e polímeros não reativos produzidos a partir destes monômeros são também úteis na presente invenção. Estes materiais podem ser homopolímeros destes monômeros, ou copolímeros de um ou mais destes monômeros com outros monômeros. Uma grande variedade de outros monômeros pode ser usada para formar copolímeros a partir dos atrás referidos materiais. Em geral, estes polímeros e oligômeros são formados por métodos de polimerização de radicais.

[026] Para as composições de revestimento curáveis por radiação da presente invenção são igualmente úteis outros polímeros não reativos contendo grupos ácidos ou básicos ou sais. Materiais celulósicos contendo grupos carboxilo podem ser incorporados. Polímeros de condensação, tais como poliésteres, poliuretanos, poliamidas e poliureias, ou polímeros contendo misturas de grupos éster, uretano, amida e ureia podem também ser incorporados no revestimento. Por exemplo, na patente dos EUA n.° 3 412 054 descrevem-se poliuretanos que incorporam grupos ácidos. Os poliésteres contendo grupos ácidos podem ser preparados, por exemplo, por condensação

7/15 de diácidos com dióis utilizando um excesso de diácido para produzir grupos ácidos terminais. Poliamidas com grupos básicos ou ácidos podem ser preparadas por condensação de diaminas com diácidos. A variação da razão de diácido para diamina permite controlar se o polímero contém grupos ácidos ou básicos residuais. Grupos amina residuais podem ser convertidos em sais de amônio quaternário se desejado. Os polímeros obtidos por polimerização por abertura de anel, tais como poliéteres feitos a partir de óxido de etileno, óxido de polipropileno ou tetrahidrofurano, podem ser produzidos com, por exemplo, grupos básicos ou sais, pela inclusão de aziridinas na polimerização ou pela utilização de aminas como reagente inicial para formar o polímero. Estes ou outros métodos comuns podem ser usados para incorporar grupos ácidos ou básicos ou sais nos oligômeros ou polímeros úteis nas composições de revestimento da invenção.

[027] Oligômeros reativos contendo grupos ácidos ou básicos ou sais são também úteis na invenção. Estes oligômeros podem ser preparados por conversão dos oligômeros e polímeros não reativos atrás citados através de uma variedade de métodos conhecidos. Por exemplo, polímeros (met)acrílicos reativos contendo grupos ácidos podem ser preparados por inclusão de monômeros contendo hidróxilo na estrutura polimérica, seguido por reação das unidades de hidróxilo com diisocianatos e monômeros (met)acrílicos contendo hidróxilo, ou por reação das unidades de hidróxilo com isocianatos (met)acrílicos. Uretanos reativos contendo grupos ácidos podem ser preparados pela formação de pré-polímeros terminados com isocianato e contendo grupos ácidos, por exemplo, pela inclusão no pré-polímero de materiais que contenham hidróxilo e radicais carboxilo, por exemplo, 2carboxilo, 1,3-dihidroxipropano, seguido de reação do pré-polímero com monômeros (met)acrílicos contendo hidróxilo. Poliéteres reativos contendo grupos básicos podem ser preparados por reação de epóxidos e aziridinas, seguido por reação dos epóxidos com monômeros (met)acrílicos contendo grupos ácidos. Existem muitos outros métodos para formar polímeros e

8/15 oligômeros reativos contendo grupos ácidos ou básicos ou seus sais que são úteis na invenção. Exemplos de monômeros, oligômeros reativos, oligômeros não reativos e polímeros ou outros aditivos úteis na presente invenção incluem aqueles com grupos ácidos à base de ácido carboxílico, ácido sulfônico e ácido fosfônico, bem como grupos básicos tais como grupos amino, e sais destes grupos ácidos e básicos. São igualmente úteis na invenção monômeros, oligômeros reativos, oligômeros não reativos, polímeros e outros materiais que contenham grupos de amônio quaternário.

[028] Em algumas formas de realização, o oligômero ou monômero possui um grupo ácido ionizável de um ácido à base de ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido fosfônico e o sistema de solvente pode compreender um composto de amina.

[029] Os revestimentos podem também conter monômeros e oligômeros utilizados na técnica de revestimentos para unhas curáveis por radiação.

[030] Como exemplos de outros monômeros úteis constam os ésteres e amidas do ácido acrílico e metacrílico. Os ésteres de ácido acrílico e metacrílico são aqui denominados ésteres (met)acrílicos. Exemplos específicos mas não limitativos de ésteres monometil(met)acrílicos incluem: (met)acrilato de metilo, (met)acrilato de etilo, (met)acrilato de hidroxipropilo, (met)acrilato de etilo, (met)acrilato de butilo, (met)acrilato de hidroxietilo, (met)acrilato de butoxietilo, (met)acrilato de dietilaminoetilo, (met)acrilato de 2-etil-hexilo, (met)acrilato de etoxietilo, (met)acrilato de t-butilaminoetilo, (met)acrilato de metoxietilenoglicol, (met)acrilato de fosfoetilo, (met)acrilato de metoxipropilo, (met)acrilato de metoxipolietilenoglicol, (met)acrilato de fenoxietilenoglicol, (met)acrilato de fenoxipolietilenoglicol, (met)acrilato de 2-hidroxi-3phenoxipropilo, ácido 2-(met)acriloxietilsucínico, ácido 2-(met)acriloíletilftálico, ácido 2- (met)acriloíloxipropilftálico, (met)acrilato de estearilo, (met)acrilato de isobornilo, (met)acrilato de 3-cloro-2-hidroxipropilo, (met)acrilato de tetrahidrofurfurilo, (met)acrilamidas e monômeros de alilo. Exemplos específicos mas não limitativos de ésteres metacrílicos bifuncionais incluem: di(met)acrilato

9/15 de 1,4-butanodiol, di(met)acrilato de 1,6-hexanodiol, di(met)acrilato de 1,9nonanodiol, di(met)acrilato de 1,10-decanodiol, di(met)acrilato de neopentilglicol, di(met)acrilato de 2-metil-l,8-octanodiol, di(met)acrilato de glicerol, di(met)acrilato de etilenoglicol, di(met)acrilato de trietilenoglicol, di(met)acrilato de polietilenoglicol, di(met)acrilato de polipropilenoglicol, di(met)acrilato de propilenoglicol etoxilado, di(met)acrilato de polipropilenoglicol etoxilado, di(met)acrilato de polietoxipropoxi, di(met)acrilato de bisfenol A etoxilado, di(met)acrilato de bisfenol A propoxilado, di(met)acrilato de bisfenol A etoxilado propoxilado, metacrilato de glicidilo de bisfenol A, di(met)acrilatos de triciclodecanodimetanol, di(met)acrilato de glicerina, di(met)acrilato de glicerina etoxilada, bis-acrilamidas, bis-éteres alílicos, e (met)acrilatos de alilo. Exemplos de ésteres de (met)acriloílo de ordem tri ou superior incluem tri(met)acrilato de trimetilolpropano, tri(met)acrilato de glicerina etoxilada, tri(met)acrilato de trimetilolpropano etoxilado, tri(met)acrilato de ditrimetilolpropano, tri(met)acrilato de pentaeritritol, tetra(met)acrilato de pentaeritritol, tetra(met)acrilato de pentaeritritol propoxilado, tetra(met)acrilato de pentaeritritol etoxilado, penta(met)acrilato de dipentaeritritol, hexa(met)acrilato de dipentaeritritol e tri(met)acrilatos de ácido isocianúrico etoxilado.

[031] Os (met)acrilatos de uretano úteis na presente invenção possuem pelo menos dois ou mais grupos acrilo ou metacrilo e um grupo uretano. Entre os exemplos constam: uretanos à base de polióis alifáticos, aromáticos, de poliéster e poliéter, e di-isocianatos alifáticos, aromáticos, de poliéster e de poliéter terminados com grupos terminais de (met)acrilato. Pré-polímeros de isocianato podem também ser utilizados em lugar do núcleo de polioldiisocianato. Os (met)acrilatos de epóxi e (met)acrilatos de epóxi e uretano úteis na presente invenção possuem pelo menos dois ou mais grupos acrilo ou metacrilo e opcionalmente um grupo uretano. Os exemplos incluem (met)acrilatos de epóxi baseados em pré-polímeros de epóxi alifáticos ou aromáticos terminados com grupos terminais de (met)acrilato. Um espaçador de uretano alifático ou aromático pode opcionalmente ser inserido entre o epóxi

10/15 e o(s) grupo(s) terminal(is) de (met)acrilato. Os oligômeros de poliéster acrilado úteis na presente invenção possuem pelo menos dois ou mais grupos acrilo ou metacrilo e um núcleo de poliéster. Os oligômeros de poliéter acrilado úteis na presente invenção possuem pelo menos dois ou mais grupos acrilo ou metacrilo e um núcleo de poliéter. Os oligômeros de acrilato acrilado úteis na presente invenção possuem pelo menos dois ou mais grupos acrilo ou metacrilo e um núcleo poliacrílico. Estes uretanos, epóxis, poliésteres, poliéteres e acrílicos reativos podem ser obtidos de vários fornecedores, incluindo BASF Corporation, Bayer MaterialScience, Bomar Specialties Co, Cognis Corporation, Cytec Industries Inc, DSM NeoResins, Eternal Chemical Co, Ltd, IGM Resins, Rahn AG, Sartomer USA, LLC e SI Group, Inc.

[032] Para além dos atrás descritos monômeros polimerizáveis à base de (met)acrilato, outros monômeros polimerizáveis, oligômeros ou polímeros de monômeros contendo pelo menos um grupo polimerizável de radical livre na molécula podem ser utilizados no gel curável sem quaisquer limitações. Um composto possuindo pelo menos um grupo polimerizável de radical livre inclui não apenas um único componente, mas também uma mistura de monômeros polimerizáveis. Assim, podem ser utilizadas combinações de dois ou mais materiais contendo grupos polimerizáveis de radicais livres em combinação.

[033] Os géis também contêm um fotoiniciador. Como exemplos podem referir-se: benzilcetonas, hidroxilcetonas monoméricas, hidroxilcetonas poliméricas, alfa-aminocetonas, óxidos de acilfosfina, metalocenos, benzofenona, derivados de benzofenona e semelhantes. Exemplos específicos incluem: 1-hidroxiciclo-hexilfenilcetona, benzofenona, 2-benzil-2-(dimetilamino)1 -(4-(4-morforlinil)fenil)- 1 -butanona, 2-metil-1 -(4-metiltio)fenil-2-(4-morforlinil)-

1-propanona, óxido de difenil(2,4,6-trimetilbenzoíl)fosfina, óxido de fenilbis(2,4,6-trimetilbenzoíl)fosfina, benzildimetilcetal, isopropiltioxantona, e misturas dos mesmos.

[034] Fotoaceleradores, tais como aminas alifáticas ou aromáticas, podem também ser incluídos no gel, bem como cargas, inibidores, plastificantes e

11/15 promotores de aderência.

[035] Os revestimentos podem também conter os habituais plastificantes, cargas, pigmentos, corantes, modificadores de reologia e estabilizadores de cor utilizados na arte.

[036] O método de remoção de um revestimento cosmético polimerizado por radiação para unhas humanas compreende a aplicação de um sistema de solvente constituído por um solvente contendo hidróxilo no revestimento da unha, em que o revestimento compreende um grupo ácido ou básico ou um sal e não é removível com água, e permitir que o solvente impregne o revestimento por um curto período de tempo, seguido por raspagem suave da unha, ou limpeza com um pano, ou lavagem com água, ou lavagem com água e sabão. O sistema de solvente pode conter um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo. Exemplos de solventes contendo hidróxilo incluem metanol, etanol e isopropanol, sendo o etanol o mais preferido. Exemplos de solventes sem hidróxilo incluem acetona e acetato de etilo. Misturas de dois ou mais, ou de qualquer um, ou ambos os solventes são também previstas.

[037] A composição de revestimento polimerizável por UV para unhas humanas pode ser um sistema especialmente formulado compreendendo um grupo iônico ou ionizável, tal como um grupo ácido, básico, sal, ou catiônico, concebido especialmente para facilitar a remoção, quando desejado, por impregnação com um sistema de solvente composto por um solvente contendo hidróxilo, bem como um solvente sem hidróxilo, tal como acetona e acetato de etilo, e opcionalmente um composto contendo um grupo básico ou ácido ou um seu sal. As aminas adequadas incluem trietanolamina e os compostos ácidos adequados são os que compreendem grupos carboxílico, sulfônico, ou fosfórico, bem como o ácido clorídrico.

[038] O revestimento polimerizado para unhas humanas pode compreender um contra-íon ao composto ácido ou básico, se presente, no sistema de solvente, por exemplo, um grupo ácido quando o sistema de solvente compreende uma amina ou outra base, ou um grupo básico, tal como

12/15 uma amina, quando o sistema de solvente compreende um ácido.

[039] A composição da invenção consiste fisicamente em um sistema ou estojo de duas embalagens, em que uma primeira embalagem contém a composição polimerizável para revestimento de unhas compreendendo um oligômero (met)acrílico, monômero (met)acrílico, polímero (met)acrílico ou uma mistura de um oligômero (met)acrílico e/ou um polímero e um monômero (met)acrílico, opcionalmente um aditivo funcional ácido ou básico ou um sal e um fotoiniciador, em que o oligômero ou monômero possui um grupo ionizável ácido ou básico, e a segunda embalagem compreende um sistema de solvente para remover a composição de revestimento de unhas polimerizável depois de esta ter sido aplicada em uma unha e curada por radiação, o sistema de solvente compreendendo um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo. Por exemplo, o oligômero, monômero ou polímero pode incluir um grupo ácido ionizável selecionado do grupo formado por ácido carboxílico, ácido sulfônico, ou ácido à base de fósforo, ou um grupo ionizável básico tal como (met)acrilato de dimetilaminoetilo ou (met)acrilato de dimetilaminopropilo, e o sistema de solvente pode compreender um composto de amina e um composto contendo hidróxilo quando o oligômero, monômero ou polímero contém um grupo ácido, ou compreender um composto ácido quando o oligômero, monômero ou polímero contém um grupo básico. A primeira embalagem e a segunda embalagem podem obviamente ser vendidas separadamente, e não é necessário que sejam comercializadas em forma de estojo, uma vez que, em alguns casos, uma variedade de sistemas de polímeros curáveis e uma variedade de sistemas de solvente poderão estar disponíveis ao consumidor.

[040] Em algumas formas de realização da composição curável por UV para revestimento de unhas humanas, a qual compreende um fotoiniciador, um monômero e/ou oligômero e um aditivo opcional, o monômero e/ou oligômero e/ou aditivo opcional possuem um grupo ácido, básico ou catiônico ionizável. Nestas formas de realização, este grupo ionizável está adaptado para melhorar

13/15 a removibilidade de um revestimento curado por sujeição da composição curável a radiação UV, o revestimento curado sendo removido quando impregnado com um sistema de solvente compreendendo um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo contendo um composto com um contra-íon ao grupo ionizável no revestimento.

[041] EXEMPLOS [042] Exemplo 1 - Preparação de oligômero [043] Um oligômero reativo foi preparado como se segue.

[044] A um frasco de reação com tampa, equipado com um agitador e sob ar seco, adicionou-se 0,6 moles de diisocianato de isoforona (IPDI), 0,160 g de DBDTL e 1,1 g de hidroxitolueno butilado (BHT). Em seguida, acrescentou-se 0,6 moles de acrilato de hidroxietilo (HEA) durante 1 hora, seguido pela adição de 0,30 moles de um diol de polibutilenoglicol com um peso molecular de 2000. Após a adição, a reação foi mantida a 80°C até deixar de se observar um pico de isocianato no espectro de infravermelho.

[045] Exemplo 2: Resultados do embebimento com oligômeros contendo ácido [046] Materiais:

[047] EMA - Metacrilato de etilo [048] HEMA - Metacrilato de hidroximetiletilo [049] Sarbox 510E35 - Um oligômero contendo ácido octafuncional diluído com triacrilato de trimetiolpropano etoxilado [050] Sarbox SB400 - Um oligômero contendo ácido octafuncional diluído com álcool PM [051] TPO - Óxido de difenil(2,4,6-trimetilbenzoíl)fosfina [052] Utilizaram-se as seguintes formulações:

Fórmula 1
Componentes	%
Oligômero do Exemplo 1	20
EMA	45

14/15

Sarbox SB400	30
TPO	5
Total	100
Fórmula 2
Componentes	%
Oligômero do Exemplo 1	20
HEMA	45
Sarbox SB400	30
TPO	5
Total	100

[053] Usando uma barra de tração, uma película de 10 milímetros de cada formulação foi aplicada em uma lâmina de vidro. O filme foi curado durante 3 minutos sob uma lâmpada ultravioleta convencional utilizada para cura em manicure. Após a cura, a lâmina foi imersa em solvente e foi medido o tempo necessário para a película se libertar completamente do vidro. A Tabela 1, em que acetona representa a arte anterior, apresenta os resultados.

Tabela 1 - Tempo requerido para embebimento
	Solvente
Fórmula	Acetona	Acetona:Metanol 50:50
1	10 min	4 min
2	> 15 min	5 min

[054] Exemplo 3 - Resultados de embebimento com pré-revestimentos contendo ácido [055] Em outro teste, utilizou-se um revestimento primário consistindo em 20% de Sarbox 510E35 dissolvido em acetato de etilo. Após a aplicação do pré-revestimento com uma escova de gel de unhas, a Fórmula 3 foi aplicada com a barra de tração (componentes em numerados na tabela a seguir).

Fórmula 3

Componentes %

15/15

TPO	5
HEMA	45
NC3050	50

[056] A película resultante foi curada como atrás descrito e os dados de embebimento foram obtidos usando o método anterior. Os resultados comparativos estão apresentados na Tabela 2 a seguir.

Tabela 2 - Tempo requerido para embebimento com pré-revestimento
	Solvente
Fórmula	Acetona	Acetona:Metanol 50:50
3	> 15 min	9 min

[057] A presente invenção, por conseguinte, está bem adaptada para a realização dos objetivos propostos e para atingir as finalidades e vantagens referidas, bem como outras que lhe são inerentes. Embora a invenção tenha sido apresentada e descrita, e definida por referência a específicas formas de realização da invenção, estas referências não significam uma limitação da invenção, nem tal limitação deverá ser inferida. Por conseguinte, a invenção será limitada apenas pelo espírito e âmbito das reivindicações anexas, dandose reconhecimento completo de equivalentes em todos os aspectos.

Claims

REIVINDICAÇÕES

1. Método para remover das unhas um revestimento cosmético polimerizado por radiação, em que primeiro uma composição de revestimento de unhas polimerizável foi aplicada a uma unha e curada por radiação caracterizado por compreender a aplicação de um sistema de solvente compreendendo um solvente contendo hidróxilo selecionado do grupo formado por metanol, etanol e água, e um solvente sem hidróxilo selecionado do grupo formado por acetona e acetato de etilo, no revestimento cosmético polimerizado.
2. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por o sistema de solvente compreender um solvente orgânico solúvel em água e água.
3. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por o sistema de solvente compreender um composto contendo um grupo básico ou ácido ou um sal do mesmo.
4. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por compreender um composto que pode servir para neutralizar ou atuar como um contraíon a um grupo ácido, básico ou catiônico.
5. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por o sistema de solvente compreender um solvente sem hidroxilo contendo um contra-íon de amina adaptado para remover um revestimento cosmético polimerizado que contém um íon ácido.
6. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por o sistema de solvente compreender um composto contendo um grupo ácido ou sal desse grupo e o revestimento cosmético polimerizado conter uma base ou um íon básico.
7. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por o sistema de solvente compreender trietanolamina e o revestimento cosmético polimerizado conter um grupo ácido selecionado do grupo formado por ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido à base de fósforo.
8. Método de acordo com a reivindicação 1, caracterizado por o sistema

Petição 870190108110, de 24/10/2019, pág. 9/11

2/3 de solvente compreender um composto contendo um grupo ácido selecionado entre ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido à base de fósforo, ácido clorídrico e ácido cítrico, e o revestimento cosmético polimerizado conter um grupo básico.
9. Sistema de duas embalagens, caracterizado por compreender uma primeira embalagem contendo uma composição de revestimento para unhas polimerizável por radiação compreendendo um oligômero (met)acrílico, polímero (met)acrílico ou monômero (met)acrílico, ou uma mistura de um oligômero (met)acrílico e/ou polímero (met)acrílico e um monômero (met)acrílico, e um fotoiniciador, em que o oligômero ou monômero possui um grupo ionizável ácido ou básico, o grupo ionizável adaptado para melhorar a removibilidade de um revestimento curado, sujeitando a composição curável à radiação UV, e uma segunda embalagem contendo um sistema de solvente para remover a composição de revestimento polimerizável para unhas depois de esta ter sido aplicada em uma unha e curada por radiação, em que o sistema de solvente compreende um solvente contendo hidróxilo, selecionado do grupo formado por metanol, etanol e água, e um solvente sem hidróxilo, selecionado do grupo formado por acetona e acetato de etilo.
10. Sistema de duas embalagens de acordo com a reivindicação 9, caracterizado por o oligômero, polímero ou monômero ter um grupo ionizável ácido ou básico e a segunda embalagem compreender um sistema de solvente para remover a composição de revestimento polimerizável para unhas depois de esta ter sido aplicada em uma unha e curada por radiação, o sistema de solvente compreendendo um composto contendo um contra-íon ao grupo ionizável presente na composição de revestimento cosmético.
11. Sistema de duas embalagens de acordo com a reivindicação 9, caracterizado por o oligômero, polímero ou monômero ter um grupo ionizável ácido selecionado do grupo formado por ácido carboxílico, ácido sulfônico, ácido à base de fósforo e o sistema de solvente compreender um composto amina e um composto contendo hidróxilo.

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12. Kit caracterizado por compreender (A) uma composição curável por radiação para revestimento das unhas humanas, compreendendo um fotoiniciador, um monômero e/ou oligômero, e um aditivo opcional, em que o monômero e/ou oligômero e/ou aditivo opcional possui um grupo ionizável ácido ou básico ou um grupo catiônico, o grupo ionizável adaptado para melhorar a removibilidade de um revestimento curado sujeitando a composição curável à radiação UV e (B) um solvente compreendendo um solvente contendo hidróxilo selecionado do grupo formado por metanol, etanol e água, e um solvente sem hidróxilo selecionado do grupo formado por acetona e acetato de etilo, em que um revestimento curado pela exposição da composição (A) à radiação UV é removível quando embebido com o sistema de solvente (B).
13. Sistema de duas embalagens, caracterizado por compreender uma primeira embalagem contendo uma composição de revestimento para unhas polimerizável por radiação compreendendo um oligômero (met)acrílico, polímero (met)acrílico ou monômero (met)acrílico, ou uma mistura de um oligômero (met)acrílico e/ou polímero (met)acrílico e um monômero (met)acrílico, e um fotoiniciador, em que o oligômero ou monômero possui um grupo ionizável ácido ou básico, e uma segunda embalagem contendo um sistema de solvente para remover a composição de revestimento polimerizável para unhas depois de esta ter sido aplicada em uma unha e curada por radiação, em que o sistema de solvente compreende um solvente contendo hidróxilo e um solvente sem hidróxilo, selecionado do grupo formado por metanol, etanol e água, e um solvente sem hidróxilo, em que o solvente contendo hidróxilo é metanol e o solvente sem hidróxilo é acetona.
14. Sistema de duas embalagens de acordo com a reivindicação 13, caracterizado por o oligômero, polímero ou monômero ter um grupo ionizável ácido selecionado do grupo formado por ácido carboxílico, ácido sulfônico e ácido à base de fósforo.