BR102019025378B1 - Composição, processo para produzir uma composição e uso da mesma - Google Patents
Composição, processo para produzir uma composição e uso da mesma Download PDFInfo
- Publication number
- BR102019025378B1 BR102019025378B1 BR102019025378-9A BR102019025378A BR102019025378B1 BR 102019025378 B1 BR102019025378 B1 BR 102019025378B1 BR 102019025378 A BR102019025378 A BR 102019025378A BR 102019025378 B1 BR102019025378 B1 BR 102019025378B1
- Authority
- BR
- Brazil
- Prior art keywords
- composition
- fact
- amines
- alcohol
- amine
- Prior art date
Links
- 239000000203 mixture Substances 0.000 title claims abstract description 60
- 238000000034 method Methods 0.000 title claims abstract description 4
- 150000001412 amines Chemical class 0.000 claims abstract description 47
- 229920000647 polyepoxide Polymers 0.000 claims abstract description 27
- 239000003822 epoxy resin Substances 0.000 claims abstract description 24
- 125000004122 cyclic group Chemical group 0.000 claims abstract description 21
- 125000000467 secondary amino group Chemical group [H]N([*:1])[*:2] 0.000 claims abstract description 13
- 125000005233 alkylalcohol group Chemical group 0.000 claims abstract description 8
- -1 aromatic radical Chemical class 0.000 claims description 39
- 150000003254 radicals Chemical class 0.000 claims description 32
- WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N Benzyl alcohol Chemical class OCC1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 18
- LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N Ethanol Chemical compound CCO LFQSCWFLJHTTHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 15
- 125000003277 amino group Chemical group 0.000 claims description 13
- 125000002887 hydroxy group Chemical group [H]O* 0.000 claims description 10
- 239000004848 polyfunctional curative Substances 0.000 claims description 10
- GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N Piperazine Chemical compound C1CNCCN1 GLUUGHFHXGJENI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 8
- 125000002947 alkylene group Chemical group 0.000 claims description 8
- 235000019445 benzyl alcohol Nutrition 0.000 claims description 8
- FQUYSHZXSKYCSY-UHFFFAOYSA-N 1,4-diazepane Chemical compound C1CNCCNC1 FQUYSHZXSKYCSY-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N Methanol Chemical group OC OKKJLVBELUTLKV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 6
- 239000000654 additive Substances 0.000 claims description 6
- 125000002015 acyclic group Chemical group 0.000 claims description 5
- 239000007795 chemical reaction product Substances 0.000 claims description 5
- CLBJZAWCBRAMRZ-UHFFFAOYSA-N 2-piperidin-2-ylpiperidine Chemical compound N1CCCCC1C1NCCCC1 CLBJZAWCBRAMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N N-Butanol Chemical group CCCCO LRHPLDYGYMQRHN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N Pyridine Chemical compound C1=CC=NC=C1 JUJWROOIHBZHMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 4
- WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N phenyl(114C)methanol Chemical group O[14CH2]C1=CC=CC=C1 WVDDGKGOMKODPV-ZQBYOMGUSA-N 0.000 claims description 4
- 239000000853 adhesive Substances 0.000 claims description 3
- 230000001070 adhesive effect Effects 0.000 claims description 3
- XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) cyclohexane-1,2-dicarboxylate Chemical compound C1CCCC(C(=O)OCC2OC2)C1C(=O)OCC1CO1 XFUOBHWPTSIEOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 3
- 238000005266 casting Methods 0.000 claims description 3
- 239000008199 coating composition Substances 0.000 claims description 3
- 239000002131 composite material Substances 0.000 claims description 3
- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims description 3
- 229920000962 poly(amidoamine) Polymers 0.000 claims description 3
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims description 3
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims description 3
- 229910052717 sulfur Inorganic materials 0.000 claims description 3
- GLUABPSZMHYCNO-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,3a,4,5,6,6a-octahydropyrrolo[3,2-b]pyrrole Chemical compound N1CCC2NCCC21 GLUABPSZMHYCNO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- QFCMBRXRVQRSSF-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,3a,4,5,6,6a-octahydropyrrolo[3,4-c]pyrrole Chemical compound C1NCC2CNCC21 QFCMBRXRVQRSSF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JPOVEXSHVNWPRM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,5a,6,7,8,9,9a,10,10a-tetradecahydrophenazine Chemical compound N1C2CCCCC2NC2C1CCCC2 JPOVEXSHVNWPRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SAJIWHKJMCWNFA-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,6a,7,8,9,10,10a,10b-tetradecahydro-4,7-phenanthroline Chemical compound C1CC2NCCCC2C2C1NCCC2 SAJIWHKJMCWNFA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- RXYRNRQEFMJQOV-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydro-2,6-naphthyridine Chemical compound C1NCCC2CNCCC21 RXYRNRQEFMJQOV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XVBWSIVJQVABMM-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydro-2,7-naphthyridine Chemical compound C1CNCC2CNCCC21 XVBWSIVJQVABMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MDEXMBGPIZUUBI-UHFFFAOYSA-N 1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydroquinoxaline Chemical compound N1CCNC2CCCCC21 MDEXMBGPIZUUBI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ITWBWJFEJCHKSN-UHFFFAOYSA-N 1,4,7-triazonane Chemical compound C1CNCCNCCN1 ITWBWJFEJCHKSN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DNXNNXUNSOIEQP-UHFFFAOYSA-N 1,4,8-triazaspiro[4.5]decane Chemical compound N1CCNC11CCNCC1 DNXNNXUNSOIEQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- AIIGJUUIWYQTJQ-UHFFFAOYSA-N 1,4-diazaspiro[4.5]decane Chemical compound N1CCNC11CCCCC1 AIIGJUUIWYQTJQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LMDQVCXQVURDCK-UHFFFAOYSA-N 1-piperidin-4-yl-N-(piperidin-4-ylmethyl)methanamine Chemical compound C1CNCCC1CNCC1CCNCC1 LMDQVCXQVURDCK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- CWQMSINVLYQBEQ-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylimidazolidine Chemical compound CC1(C)NCCN1 CWQMSINVLYQBEQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PIPWSBOFSUJCCO-UHFFFAOYSA-N 2,2-dimethylpiperazine Chemical compound CC1(C)CNCCN1 PIPWSBOFSUJCCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UWQVPLPJLRBXRH-UHFFFAOYSA-N 2,3,3a,4,5,6,7,7a-octahydro-1h-pyrrolo[3,2-c]pyridine Chemical compound C1NCCC2NCCC21 UWQVPLPJLRBXRH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KSCPLKVBWDOSAI-UHFFFAOYSA-N 2,3,4,4a,5,6,7,7a-octahydro-1h-pyrrolo[3,4-b]pyridine Chemical compound N1CCCC2CNCC21 KSCPLKVBWDOSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- ICGDKKACLISIAM-UHFFFAOYSA-N 2,3,5,6-tetramethylpiperazine Chemical compound CC1NC(C)C(C)NC1C ICGDKKACLISIAM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OMEMBAXECFIRSG-UHFFFAOYSA-N 2,3,5-trimethylpiperazine Chemical compound CC1CNC(C)C(C)N1 OMEMBAXECFIRSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- COWPTMLRSANSMQ-UHFFFAOYSA-N 2,3-dimethylpiperazine Chemical compound CC1NCCNC1C COWPTMLRSANSMQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NSMWYRLQHIXVAP-UHFFFAOYSA-N 2,5-dimethylpiperazine Chemical compound CC1CNC(C)CN1 NSMWYRLQHIXVAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LYGGRLTYCRTJOP-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethyl-1,2,3,4,4a,5,6,7,8,8a-decahydropyrazino[2,3-b]pyrazine Chemical compound N1C(C)CNC2NC(C)CNC21 LYGGRLTYCRTJOP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IFNWESYYDINUHV-UHFFFAOYSA-N 2,6-dimethylpiperazine Chemical compound CC1CNCC(C)N1 IFNWESYYDINUHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KCKUZYPQEGUWNK-UHFFFAOYSA-N 2-(piperidin-2-ylmethyl)piperidine Chemical compound C1CCCNC1CC1CCCCN1 KCKUZYPQEGUWNK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 2-[1,3-bis(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(OCC1OC1)COCC1CO1 SYEWHONLFGZGLK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)butoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CCC)OCC1CO1 HPILSDOMLLYBQF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- HSDVRWZKEDRBAG-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)hexoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(CCCCC)OCC1CO1 HSDVRWZKEDRBAG-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 2-[[3-(oxiran-2-ylmethoxy)-2,2-bis(oxiran-2-ylmethoxymethyl)propoxy]methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCC(COCC1OC1)(COCC1OC1)COCC1CO1 PLDLPVSQYMQDBL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- DXOHZOPKNFZZAD-UHFFFAOYSA-N 2-ethylpiperazine Chemical compound CCC1CNCCN1 DXOHZOPKNFZZAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- KMRLPKVQSAHVSQ-UHFFFAOYSA-N 2-methyl-1,4-diazepane Chemical compound CC1CNCCCN1 KMRLPKVQSAHVSQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpiperazine Chemical compound CC1CNCCN1 JOMNTHCQHJPVAZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UQIXYRYDDGPJRI-UHFFFAOYSA-N 2-morpholin-2-ylmorpholine Chemical compound C1NCCOC1C1OCCNC1 UQIXYRYDDGPJRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 2-phenyl-4,5-dihydro-1h-imidazole Chemical compound N1CCN=C1C1=CC=CC=C1 BKCCAYLNRIRKDJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GXXKZNABQGUBCX-UHFFFAOYSA-N 2-piperazin-1-yl-n-(2-piperazin-1-ylethyl)ethanamine Chemical compound C1CNCCN1CCNCCN1CCNCC1 GXXKZNABQGUBCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GBNSORAUUDWAQH-UHFFFAOYSA-N 2-piperidin-2-ylpiperazine Chemical compound N1C(CCCC1)C1NCCNC1 GBNSORAUUDWAQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- NQHVTVSAFRAXPA-UHFFFAOYSA-N 2-pyrrolidin-2-ylpyrrolidine Chemical compound C1CCNC1C1NCCC1 NQHVTVSAFRAXPA-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LKDJYZBKCVSODK-UHFFFAOYSA-N 3,8-diazabicyclo[3.2.1]octane Chemical compound C1NCC2CCC1N2 LKDJYZBKCVSODK-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 3-piperidin-1-ylpropane-1,2-diol Chemical compound OCC(O)CN1CCCCC1 MECNWXGGNCJFQJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 4-(3-piperidin-4-ylpropyl)piperidine Chemical compound C1CNCCC1CCCC1CCNCC1 OXEZLYIDQPBCBB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- XUTHRJJZMHXMFR-UHFFFAOYSA-N 4-(piperidin-4-ylmethyl)piperidine Chemical compound C1CNCCC1CC1CCNCC1 XUTHRJJZMHXMFR-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- FAUAZXVRLVIARB-UHFFFAOYSA-N 4-[[4-[bis(oxiran-2-ylmethyl)amino]phenyl]methyl]-n,n-bis(oxiran-2-ylmethyl)aniline Chemical compound C1OC1CN(C=1C=CC(CC=2C=CC(=CC=2)N(CC2OC2)CC2OC2)=CC=1)CC1CO1 FAUAZXVRLVIARB-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- PRNRUOJLUPUJDN-UHFFFAOYSA-N 4-piperidin-4-ylpiperidine Chemical compound C1CNCCC1C1CCNCC1 PRNRUOJLUPUJDN-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LQWQILRMAADMQS-UHFFFAOYSA-N 4a,8a-dimethyl-1,2,3,4,5,6,7,8-octahydropyrazino[2,3-b]pyrazine Chemical compound N1CCNC2(C)NCCNC21C LQWQILRMAADMQS-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- VMJOIXFVKVPLRQ-UHFFFAOYSA-N 6-methyl-1,4-diazepane Chemical compound CC1CNCCNC1 VMJOIXFVKVPLRQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N Bisphenol A diglycidyl ether Chemical compound C=1C=C(OCC2OC2)C=CC=1C(C)(C)C(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 LCFVJGUPQDGYKZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N Propylene oxide Chemical compound CC1CO1 GOOHAUXETOMSMM-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 150000003938 benzyl alcohols Chemical class 0.000 claims description 2
- XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N bisphenol F diglycidyl ether Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1CC(C=C1)=CC=C1OCC1CO1 XUCHXOAWJMEFLF-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- 238000009835 boiling Methods 0.000 claims description 2
- 239000000470 constituent Substances 0.000 claims description 2
- HTFFABIIOAKIBH-UHFFFAOYSA-N diazinane Chemical compound C1CCNNC1 HTFFABIIOAKIBH-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N propan-1-ol Chemical group CCCO BDERNNFJNOPAEC-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N pyrazolidine Chemical compound C1CNNC1 USPWKWBDZOARPV-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N pyridine Natural products COC1=CC=CN=C1 UMJSCPRVCHMLSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims description 2
- IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N Ethylene oxide Chemical compound C1CO1 IAYPIBMASNFSPL-UHFFFAOYSA-N 0.000 claims 1
- 150000001875 compounds Chemical class 0.000 description 22
- 239000004593 Epoxy Substances 0.000 description 21
- RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N Diethyl ether Chemical compound CCOCC RTZKZFJDLAIYFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 18
- LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N Ethylene glycol Chemical compound OCCO LYCAIKOWRPUZTN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 16
- IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N bisphenol A Chemical compound C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 IISBACLAFKSPIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 12
- 150000001298 alcohols Chemical class 0.000 description 9
- GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N diglycidyl ether Chemical class C1OC1COCC1CO1 GYZLOYUZLJXAJU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N haloperidol Chemical compound C1CC(O)(C=2C=CC(Cl)=CC=2)CCN1CCCC(=O)C1=CC=C(F)C=C1 LNEPOXFFQSENCJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 150000002989 phenols Chemical class 0.000 description 9
- 125000003118 aryl group Chemical group 0.000 description 8
- PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N bisphenol F Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1CC1=CC=C(O)C=C1 PXKLMJQFEQBVLD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 8
- 125000000217 alkyl group Chemical group 0.000 description 7
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 7
- WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N hydroxyacetaldehyde Natural products OCC=O WGCNASOHLSPBMP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 7
- 150000005846 sugar alcohols Polymers 0.000 description 7
- PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N Glycerine Chemical compound OCC(O)CO PEDCQBHIVMGVHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 239000003054 catalyst Substances 0.000 description 6
- 150000002170 ethers Chemical class 0.000 description 6
- 229920000768 polyamine Polymers 0.000 description 6
- IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N aminoethylpiperazine Chemical compound NCCN1CCNCC1 IMUDHTPIFIBORV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 125000000623 heterocyclic group Chemical group 0.000 description 5
- QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N nitrogen group Chemical group [N] QJGQUHMNIGDVPM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 5
- 229920006395 saturated elastomer Polymers 0.000 description 5
- 239000002253 acid Substances 0.000 description 4
- 125000004432 carbon atom Chemical group C* 0.000 description 4
- 125000003700 epoxy group Chemical group 0.000 description 4
- 125000005842 heteroatom Chemical group 0.000 description 4
- 125000002924 primary amino group Chemical group [H]N([H])* 0.000 description 4
- GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N resorcinol Chemical compound OC1=CC=CC(O)=C1 GHMLBKRAJCXXBS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 4
- BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N Epichlorohydrin Chemical compound ClCC1CO1 BRLQWZUYTZBJKN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N Formaldehyde Chemical compound O=C WSFSSNUMVMOOMR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N Oxalic acid Chemical compound OC(=O)C(O)=O MUBZPKHOEPUJKR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N Phenol Chemical compound OC1=CC=CC=C1 ISWSIDIOOBJBQZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N Propylene glycol Chemical compound CC(O)CO DNIAPMSPPWPWGF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 150000007513 acids Chemical class 0.000 description 3
- 150000001299 aldehydes Chemical class 0.000 description 3
- 125000001931 aliphatic group Chemical group 0.000 description 3
- 238000009472 formulation Methods 0.000 description 3
- 125000003055 glycidyl group Chemical group C(C1CO1)* 0.000 description 3
- RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N imidazole Natural products C1=CNC=N1 RAXXELZNTBOGNW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 3
- 229910052757 nitrogen Inorganic materials 0.000 description 3
- 239000002904 solvent Substances 0.000 description 3
- 125000001424 substituent group Chemical group 0.000 description 3
- OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound O=C1N(CC2OC2)C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 OUPZKGBUJRBPGC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 2-(butoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCOCC1CO1 YSUQLAYJZDEMOT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 2-(chloromethyl)oxirane;4-[2-(4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound ClCC1CO1.C=1C=C(O)C=CC=1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1 KUBDPQJOLOUJRM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YCUKMYFJDGKQFC-UHFFFAOYSA-N 2-(octan-3-yloxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCC(CC)OCC1CO1 YCUKMYFJDGKQFC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 2-[1-(oxiran-2-ylmethoxy)propan-2-yloxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C)COCC1CO1 HDPLHDGYGLENEI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 3-(aminomethyl)-3,5,5-trimethylcyclohexan-1-amine Chemical compound CC1(C)CC(N)CC(C)(CN)C1 RNLHGQLZWXBQNY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 4,4'-diaminodiphenylmethane Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=C(N)C=C1 YBRVSVVVWCFQMG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-sulfonyldiphenol Chemical class C1=CC(O)=CC=C1S(=O)(=O)C1=CC=C(O)C=C1 VPWNQTHUCYMVMZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N Aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1 PAYRUJLWNCNPSJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N Atomic nitrogen Chemical compound N#N IJGRMHOSHXDMSA-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007848 Bronsted acid Substances 0.000 description 2
- KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M Carbamate Chemical compound NC([O-])=O KXDHJXZQYSOELW-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 2
- BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L Carbonate Chemical compound [O-]C([O-])=O BVKZGUZCCUSVTD-UHFFFAOYSA-L 0.000 description 2
- RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N Diethylenetriamine Chemical compound NCCNCCN RPNUMPOLZDHAAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N Hydrazine Chemical compound NN OAKJQQAXSVQMHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N Hydroquinone Chemical compound OC1=CC=C(O)C=C1 QIGBRXMKCJKVMJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000006683 Mannich reaction Methods 0.000 description 2
- NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N Piperidine Chemical compound C1CCNCC1 NQRYJNQNLNOLGT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 229920003171 Poly (ethylene oxide) Polymers 0.000 description 2
- KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N Terephthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=C(C(O)=O)C=C1 KKEYFWRCBNTPAC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N Trimethylolpropane Chemical compound CCC(CO)(CO)CO ZJCCRDAZUWHFQH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N Urea Chemical compound NC(N)=O XSQUKJJJFZCRTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N [3-(aminomethyl)phenyl]methanamine Chemical compound NCC1=CC=CC(CN)=C1 FDLQZKYLHJJBHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N adipic acid Chemical compound OC(=O)CCCCC(O)=O WNLRTRBMVRJNCN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 125000003342 alkenyl group Chemical group 0.000 description 2
- 125000000304 alkynyl group Chemical group 0.000 description 2
- 150000004982 aromatic amines Chemical class 0.000 description 2
- 150000004945 aromatic hydrocarbons Chemical class 0.000 description 2
- 239000004202 carbamide Substances 0.000 description 2
- 125000003739 carbamimidoyl group Chemical group C(N)(=N)* 0.000 description 2
- 229910052799 carbon Inorganic materials 0.000 description 2
- 125000003178 carboxy group Chemical group [H]OC(*)=O 0.000 description 2
- 150000001735 carboxylic acids Chemical class 0.000 description 2
- 239000011248 coating agent Substances 0.000 description 2
- 238000000576 coating method Methods 0.000 description 2
- 238000009833 condensation Methods 0.000 description 2
- 230000005494 condensation Effects 0.000 description 2
- 150000001924 cycloalkanes Chemical class 0.000 description 2
- 150000001925 cycloalkenes Chemical class 0.000 description 2
- DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N decane Chemical compound CCCCCCCCCC DIOQZVSQGTUSAI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 238000007872 degassing Methods 0.000 description 2
- 150000004985 diamines Chemical class 0.000 description 2
- 239000003085 diluting agent Substances 0.000 description 2
- 150000002148 esters Chemical class 0.000 description 2
- 230000009477 glass transition Effects 0.000 description 2
- 229960005150 glycerol Drugs 0.000 description 2
- 235000011187 glycerol Nutrition 0.000 description 2
- 125000002795 guanidino group Chemical group C(N)(=N)N* 0.000 description 2
- 229910052736 halogen Inorganic materials 0.000 description 2
- NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N hexane-1,6-diamine Chemical compound NCCCCCCN NAQMVNRVTILPCV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000007788 liquid Substances 0.000 description 2
- 239000003607 modifier Substances 0.000 description 2
- ITZPOSYADVYECJ-UHFFFAOYSA-N n'-cyclohexylpropane-1,3-diamine Chemical compound NCCCNC1CCCCC1 ITZPOSYADVYECJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N pentaerythritol Chemical compound OCC(CO)(CO)CO WXZMFSXDPGVJKK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N phthalic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1C(O)=O XNGIFLGASWRNHJ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 239000000049 pigment Substances 0.000 description 2
- 229920000058 polyacrylate Polymers 0.000 description 2
- 239000004417 polycarbonate Substances 0.000 description 2
- 229920000515 polycarbonate Polymers 0.000 description 2
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 2
- 239000000047 product Substances 0.000 description 2
- YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N salicylic acid Chemical compound OC(=O)C1=CC=CC=C1O YGSDEFSMJLZEOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 2
- 150000003839 salts Chemical class 0.000 description 2
- 150000003335 secondary amines Chemical group 0.000 description 2
- 231100000419 toxicity Toxicity 0.000 description 2
- 230000001988 toxicity Effects 0.000 description 2
- MLCJWRIUYXIWNU-OWOJBTEDSA-N (e)-ethene-1,2-diamine Chemical compound N\C=C\N MLCJWRIUYXIWNU-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- FDMXADMEKAUMIV-NSCUHMNNSA-N (e)-prop-1-ene-1,2-diamine Chemical compound C\C(N)=C/N FDMXADMEKAUMIV-NSCUHMNNSA-N 0.000 description 1
- QBIAZVPERXOGAL-OWOJBTEDSA-N (e)-prop-1-ene-1,3-diamine Chemical compound NC\C=C\N QBIAZVPERXOGAL-OWOJBTEDSA-N 0.000 description 1
- ZTXDHEQQZVFGPK-UHFFFAOYSA-N 1,2,4-tris(oxiran-2-ylmethyl)-1,2,4-triazolidine-3,5-dione Chemical compound C1OC1CN1C(=O)N(CC2OC2)C(=O)N1CC1CO1 ZTXDHEQQZVFGPK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 1,2,6-Hexanetriol Chemical compound OCCCCC(O)CO ZWVMLYRJXORSEP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 1,3,5-tris(2-hydroxyethyl)-1,3,5-triazinane-2,4,6-trione Chemical compound OCCN1C(=O)N(CCO)C(=O)N(CCO)C1=O BPXVHIRIPLPOPT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 1,4-dioxonaphthalene Natural products C1=CC=C2C(=O)C=CC(=O)C2=C1 FRASJONUBLZVQX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 1,5-dihydroxynaphthalene Chemical compound C1=CC=C2C(O)=CC=CC2=C1O BOKGTLAJQHTOKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 1-[(2-hydroxynaphthalen-1-yl)methyl]naphthalen-2-ol Chemical compound C1=CC=C2C(CC3=C4C=CC=CC4=CC=C3O)=C(O)C=CC2=C1 ZPANWZBSGMDWON-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 1-methylsulfonylpiperidin-4-one Chemical compound CS(=O)(=O)N1CCC(=O)CC1 RTBFRGCFXZNCOE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 2,2,2-tetramine Chemical compound NCCNCCNCCN VILCJCGEZXAXTO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCUZDQXWVYNXHD-UHFFFAOYSA-N 2,2,4-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCCC(C)CC(C)(C)CN JCUZDQXWVYNXHD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 2,4,4-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound NCC(C)CC(C)(C)CCN DPQHRXRAZHNGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OEZORRJIKFZSAD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)propane-1,3-diamine Chemical compound CC1(C)CC(C(CN)CN)CC(C)(C)N1 OEZORRJIKFZSAD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 2-(2,4-dinitroanilino)-4-methylpentanoic acid Chemical compound CC(C)CC(C(O)=O)NC1=CC=C([N+]([O-])=O)C=C1[N+]([O-])=O STMDPCBYJCIZOD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YZUMRMCHAJVDRT-UHFFFAOYSA-N 2-(hexadecoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCOCC1CO1 YZUMRMCHAJVDRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 2-(methoxymethyl)oxirane Chemical compound COCC1CO1 LKMJVFRMDSNFRT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZXJBWUAALADCRI-UHFFFAOYSA-N 2-(octadecoxymethyl)oxirane Chemical compound CCCCCCCCCCCCCCCCCCOCC1CO1 ZXJBWUAALADCRI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 2-[(2-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound NC1=CC=CC=C1CC1=CC=CC=C1N OHKOAJUTRVTYSW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UTNMPUFESIRPQP-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-aminophenyl)methyl]aniline Chemical compound C1=CC(N)=CC=C1CC1=CC=CC=C1N UTNMPUFESIRPQP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-methylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C)=CC=C1OCC1OC1 CUFXMPWHOWYNSO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DEVITEWVQCISFK-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-octylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(CCCCCCCC)=CC=C1OCC1OC1 DEVITEWVQCISFK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GXANCFOKAWEPIS-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-phenylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1OC1COC(C=C1)=CC=C1C1=CC=CC=C1 GXANCFOKAWEPIS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 2-[(4-tert-butylphenoxy)methyl]oxirane Chemical compound C1=CC(C(C)(C)C)=CC=C1OCC1OC1 HHRACYLRBOUBKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 2-[2-(oxiran-2-ylmethoxy)ethoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCOCC1CO1 AOBIOSPNXBMOAT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VLKXLWGYPOUERV-UHFFFAOYSA-N 2-[3-(oxiran-2-ylmethoxy)propoxymethyl]oxirane Chemical compound C1OC1COCCCOCC1CO1 VLKXLWGYPOUERV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 2-methylpentane-1,5-diamine Chemical compound NCC(C)CCCN JZUHIOJYCPIVLQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 3,2,3-tetramine Chemical compound NCCCNCCNCCCN RXFCIXRFAJRBSG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 3,3',5,5'-tetrabromobisphenol A Chemical compound C=1C(Br)=C(O)C(Br)=CC=1C(C)(C)C1=CC(Br)=C(O)C(Br)=C1 VEORPZCZECFIRK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 3-[2-(3-aminopropoxy)ethoxy]propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCOCCCN POTQBGGWSWSMCX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JCEZOHLWDIONSP-UHFFFAOYSA-N 3-[2-[2-(3-aminopropoxy)ethoxy]ethoxy]propan-1-amine Chemical compound NCCCOCCOCCOCCCN JCEZOHLWDIONSP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 3-[4-(3-aminopropyl)piperazin-1-yl]propan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCN(CCCN)CC1 XUSNPFGLKGCWGN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- UVLSCMIEPPWCHZ-UHFFFAOYSA-N 3-piperazin-1-ylpropan-1-amine Chemical compound NCCCN1CCNCC1 UVLSCMIEPPWCHZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSMHTOCQXUAUFB-UHFFFAOYSA-N 3-tert-butyl-4-[2-(2-tert-butyl-4-hydroxyphenyl)propan-2-yl]phenol Chemical compound CC(C)(C)C1=CC(O)=CC=C1C(C)(C)C1=CC=C(O)C=C1C(C)(C)C QSMHTOCQXUAUFB-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 4,4'-Dihydroxybenzophenone Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(=O)C1=CC=C(O)C=C1 RXNYJUSEXLAVNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 4-(4-hydroxyphenoxy)phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1OC1=CC=C(O)C=C1 NZGQHKSLKRFZFL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DLYLVPHSKJVGLG-UHFFFAOYSA-N 4-(cyclohexylmethyl)cyclohexane-1,1-diamine Chemical compound C1CC(N)(N)CCC1CC1CCCCC1 DLYLVPHSKJVGLG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-amino-3-methylcyclohexyl)methyl]-2-methylcyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)C(C)CC1CC1CC(C)C(N)CC1 IGSBHTZEJMPDSZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-aminocyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-amine Chemical compound C1CC(N)CCC1CC1CCC(N)CC1 DZIHTWJGPDVSGE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WXQZLPFNTPKVJM-UHFFFAOYSA-N 4-[(4-hydroxycyclohexyl)methyl]cyclohexan-1-ol Chemical compound C1CC(O)CCC1CC1CCC(O)CC1 WXQZLPFNTPKVJM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 4-[2-(4-hydroxycyclohexyl)propan-2-yl]cyclohexan-1-ol Chemical compound C1CC(O)CCC1C(C)(C)C1CCC(O)CC1 CDBAMNGURPMUTG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 4-[bis(4-hydroxyphenyl)methyl]phenol Chemical compound C1=CC(O)=CC=C1C(C=1C=CC(O)=CC=1)C1=CC=C(O)C=C1 WFCQTAXSWSWIHS-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QTKDDPSHNLZGRO-UHFFFAOYSA-N 4-methylcyclohexane-1,3-diamine Chemical compound CC1CCC(N)CC1N QTKDDPSHNLZGRO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RREANTFLPGEWEN-MBLPBCRHSA-N 7-[4-[[(3z)-3-[4-amino-5-[(3,4,5-trimethoxyphenyl)methyl]pyrimidin-2-yl]imino-5-fluoro-2-oxoindol-1-yl]methyl]piperazin-1-yl]-1-cyclopropyl-6-fluoro-4-oxoquinoline-3-carboxylic acid Chemical compound COC1=C(OC)C(OC)=CC(CC=2C(=NC(\N=C/3C4=CC(F)=CC=C4N(CN4CCN(CC4)C=4C(=CC=5C(=O)C(C(O)=O)=CN(C=5C=4)C4CC4)F)C\3=O)=NC=2)N)=C1 RREANTFLPGEWEN-MBLPBCRHSA-N 0.000 description 1
- YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 7-oxabicyclo[4.1.0]heptan-4-ylmethyl 7-oxabicyclo[4.1.0]heptane-4-carboxylate Chemical compound C1CC2OC2CC1C(=O)OCC1CC2OC2CC1 YXALYBMHAYZKAP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 8-methyl Nonanoic acid Chemical compound CC(C)CCCCCCC(O)=O OAOABCKPVCUNKO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229930185605 Bisphenol Natural products 0.000 description 1
- 101100516563 Caenorhabditis elegans nhr-6 gene Proteins 0.000 description 1
- 239000009261 D 400 Substances 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N D-Glucitol Natural products OC[C@H](O)[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-FSIIMWSLSA-N 0.000 description 1
- FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N D-glucitol Chemical compound OC[C@H](O)[C@@H](O)[C@H](O)[C@H](O)CO FBPFZTCFMRRESA-JGWLITMVSA-N 0.000 description 1
- VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N Ethene Chemical compound C=C VGGSQFUCUMXWEO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000005977 Ethylene Substances 0.000 description 1
- IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N Nonylphenol Natural products CCCCCCCCCC1=CC=C(O)C=C1 IGFHQQFPSIBGKE-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N Phenyl glycidyl ether Chemical compound C1OC1COC1=CC=CC=C1 FQYUMYWMJTYZTK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N Phosphorus Chemical compound [P] OAICVXFJPJFONN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920002614 Polyether block amide Polymers 0.000 description 1
- 239000004721 Polyphenylene oxide Substances 0.000 description 1
- 229920002472 Starch Polymers 0.000 description 1
- AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N Styrene oxide Chemical compound C1OC1C1=CC=CC=C1 AWMVMTVKBNGEAK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N Succinic acid Natural products OC(=O)CCC(O)=O KDYFGRWQOYBRFD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N Sulfur Chemical compound [S] NINIDFKCEFEMDL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N Tetrahydrofuran Chemical compound C1CCOC1 WYURNTSHIVDZCO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N [1-(hydroxymethyl)cyclohexyl]methanol Chemical compound OCC1(CO)CCCCC1 ORLQHILJRHBSAY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000001361 adipic acid Substances 0.000 description 1
- 235000011037 adipic acid Nutrition 0.000 description 1
- IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N adipic acid dihydrazide Chemical compound NNC(=O)CCCCC(=O)NN IBVAQQYNSHJXBV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002009 allergenic effect Effects 0.000 description 1
- DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N alpha-linolenic acid Chemical compound CC\C=C/C\C=C/C\C=C/CCCCCCCC(O)=O DTOSIQBPPRVQHS-PDBXOOCHSA-N 0.000 description 1
- 235000020661 alpha-linolenic acid Nutrition 0.000 description 1
- 125000003368 amide group Chemical group 0.000 description 1
- JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N anhydrous glutaric acid Natural products OC(=O)CCCC(O)=O JFCQEDHGNNZCLN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000005013 aryl ether group Chemical group 0.000 description 1
- 125000004429 atom Chemical group 0.000 description 1
- QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N atomic oxygen Chemical compound [O] QVGXLLKOCUKJST-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N biphenyl-4,4'-diol Chemical group C1=CC(O)=CC=C1C1=CC=C(O)C=C1 VCCBEIPGXKNHFW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- OTBHHUPVCYLGQO-UHFFFAOYSA-N bis(3-aminopropyl)amine Chemical compound NCCCNCCCN OTBHHUPVCYLGQO-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2-dicarboxylate Chemical compound C=1C=CC=C(C(=O)OCC2OC2)C=1C(=O)OCC1CO1 JRPRCOLKIYRSNH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- NEPKLUNSRVEBIX-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,4-dicarboxylate Chemical compound C=1C=C(C(=O)OCC2OC2)C=CC=1C(=O)OCC1CO1 NEPKLUNSRVEBIX-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N bis(oxiran-2-ylmethyl) hexanedioate Chemical compound C1OC1COC(=O)CCCCC(=O)OCC1CO1 KBWLNCUTNDKMPN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000031709 bromination Effects 0.000 description 1
- 238000005893 bromination reaction Methods 0.000 description 1
- HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N butan-1-amine Chemical compound CCCCN HQABUPZFAYXKJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N butanedioic acid Chemical compound O[14C](=O)CC[14C](O)=O KDYFGRWQOYBRFD-NUQCWPJISA-N 0.000 description 1
- 229940072282 cardura Drugs 0.000 description 1
- 239000004359 castor oil Substances 0.000 description 1
- 235000019438 castor oil Nutrition 0.000 description 1
- 230000003197 catalytic effect Effects 0.000 description 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000005660 chlorination reaction Methods 0.000 description 1
- 150000001923 cyclic compounds Chemical class 0.000 description 1
- IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N cyclohex-3-ene-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCC=CC1C(O)=O IFDVQVHZEKPUSC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-diamine Chemical compound NC1CCCCC1N SSJXIUAHEKJCMH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N cyclohexane-1,2-dicarboxylic acid Chemical compound OC(=O)C1CCCCC1C(O)=O QSAWQNUELGIYBC-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Chemical compound C1CCCC2OC21 ZWAJLVLEBYIOTI-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N cyclohexene oxide Natural products O=C1CCCC=C1 FWFSEYBSWVRWGL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000006704 dehydrohalogenation reaction Methods 0.000 description 1
- 235000014113 dietary fatty acids Nutrition 0.000 description 1
- ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N diethanolamine Chemical group OCCNCCO ZBCBWPMODOFKDW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000000539 dimer Substances 0.000 description 1
- PVAONLSZTBKFKM-UHFFFAOYSA-N diphenylmethanediol Chemical class C=1C=CC=CC=1C(O)(O)C1=CC=CC=C1 PVAONLSZTBKFKM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N dodecan-1-ol Chemical compound CCCCCCCCCCCCO LQZZUXJYWNFBMV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RUZYUOTYCVRMRZ-UHFFFAOYSA-N doxazosin Chemical compound C1OC2=CC=CC=C2OC1C(=O)N(CC1)CCN1C1=NC(N)=C(C=C(C(OC)=C2)OC)C2=N1 RUZYUOTYCVRMRZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002118 epoxides Chemical class 0.000 description 1
- 229930195729 fatty acid Natural products 0.000 description 1
- 239000000194 fatty acid Substances 0.000 description 1
- 150000004665 fatty acids Chemical class 0.000 description 1
- ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N glycerol triricinoleate Natural products CCCCCC[C@@H](O)CC=CCCCCCCCC(=O)OC[C@@H](COC(=O)CCCCCCCC=CC[C@@H](O)CCCCCC)OC(=O)CCCCCCCC=CC[C@H](O)CCCCCC ZEMPKEQAKRGZGQ-XOQCFJPHSA-N 0.000 description 1
- VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N glycidyl methacrylate Chemical class CC(=C)C(=O)OCC1CO1 VOZRXNHHFUQHIL-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 125000003630 glycyl group Chemical group [H]N([H])C([H])([H])C(*)=O 0.000 description 1
- 150000001469 hydantoins Chemical class 0.000 description 1
- 229930195733 hydrocarbon Natural products 0.000 description 1
- 150000002430 hydrocarbons Chemical class 0.000 description 1
- MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N imidazoline Chemical compound C1CN=CN1 MTNDZQHUAFNZQY-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002462 imidazolines Chemical class 0.000 description 1
- 229910017053 inorganic salt Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000001282 iso-butane Substances 0.000 description 1
- 150000002576 ketones Chemical class 0.000 description 1
- GKQPCPXONLDCMU-CCEZHUSRSA-N lacidipine Chemical compound CCOC(=O)C1=C(C)NC(C)=C(C(=O)OCC)C1C1=CC=CC=C1\C=C\C(=O)OC(C)(C)C GKQPCPXONLDCMU-CCEZHUSRSA-N 0.000 description 1
- 229960004488 linolenic acid Drugs 0.000 description 1
- KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N linolenic acid Natural products CC=CCCC=CCC=CCCCCCCCC(O)=O KQQKGWQCNNTQJW-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000004519 manufacturing process Methods 0.000 description 1
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 1
- WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N methanone Chemical compound O=[14CH2] WSFSSNUMVMOOMR-NJFSPNSNSA-N 0.000 description 1
- LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N n'-[2-[2-[2-(2-aminoethylamino)ethylamino]ethylamino]ethyl]ethane-1,2-diamine Chemical compound NCCNCCNCCNCCNCCN LSHROXHEILXKHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SCZVXVGZMZRGRU-UHFFFAOYSA-N n'-ethylethane-1,2-diamine Chemical compound CCNCCN SCZVXVGZMZRGRU-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N n'-methylpropane-1,3-diamine Chemical compound CNCCCN QHJABUZHRJTCAR-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N n,n',n'-trimethylhexane-1,6-diamine Chemical compound CNCCCCCCN(C)C ZETYUTMSJWMKNQ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N n-[4-(1,3-benzoxazol-2-yl)phenyl]-4-nitrobenzenesulfonamide Chemical class C1=CC([N+](=O)[O-])=CC=C1S(=O)(=O)NC1=CC=C(C=2OC3=CC=CC=C3N=2)C=C1 SYSQUGFVNFXIIT-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- ZMVMYBGDGJLCHV-UHFFFAOYSA-N n-methyl-4-[[4-(methylamino)phenyl]methyl]aniline Chemical compound C1=CC(NC)=CC=C1CC1=CC=C(NC)C=C1 ZMVMYBGDGJLCHV-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N naphthalene-2,6-dicarboxylic acid Chemical compound C1=C(C(O)=O)C=CC2=CC(C(=O)O)=CC=C21 RXOHFPCZGPKIRD-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 150000002825 nitriles Chemical group 0.000 description 1
- 125000004433 nitrogen atom Chemical group N* 0.000 description 1
- SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N nonylphenol Chemical compound CCCCCCCCCC1=CC=CC=C1O SNQQPOLDUKLAAF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 229920003986 novolac Polymers 0.000 description 1
- 235000006408 oxalic acid Nutrition 0.000 description 1
- 239000001301 oxygen Substances 0.000 description 1
- FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N papa-hydroxy-benzoic acid Natural products OC(=O)C1=CC=C(O)C=C1 FJKROLUGYXJWQN-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000002688 persistence Effects 0.000 description 1
- 150000004986 phenylenediamines Chemical class 0.000 description 1
- 229910052698 phosphorus Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011574 phosphorus Substances 0.000 description 1
- 150000004885 piperazines Chemical class 0.000 description 1
- 239000004014 plasticizer Substances 0.000 description 1
- 229920001610 polycaprolactone Polymers 0.000 description 1
- 239000004632 polycaprolactone Substances 0.000 description 1
- 229920000570 polyether Polymers 0.000 description 1
- 229920001223 polyethylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229920001228 polyisocyanate Polymers 0.000 description 1
- 239000005056 polyisocyanate Substances 0.000 description 1
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 1
- 229920000193 polymethacrylate Polymers 0.000 description 1
- 229920005862 polyol Polymers 0.000 description 1
- 150000003077 polyols Chemical class 0.000 description 1
- 229920001451 polypropylene glycol Polymers 0.000 description 1
- 229960004063 propylene glycol Drugs 0.000 description 1
- 235000013772 propylene glycol Nutrition 0.000 description 1
- 239000011253 protective coating Substances 0.000 description 1
- 239000002994 raw material Substances 0.000 description 1
- 230000009257 reactivity Effects 0.000 description 1
- 229960004889 salicylic acid Drugs 0.000 description 1
- 238000007086 side reaction Methods 0.000 description 1
- 239000000600 sorbitol Substances 0.000 description 1
- 235000019698 starch Nutrition 0.000 description 1
- 239000008107 starch Substances 0.000 description 1
- 239000000126 substance Substances 0.000 description 1
- 239000000758 substrate Substances 0.000 description 1
- 239000011593 sulfur Substances 0.000 description 1
- 125000001302 tertiary amino group Chemical group 0.000 description 1
- UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N tetrahydrophthalic acid Natural products OC(=O)C1=C(C(O)=O)CCCC1 UFDHBDMSHIXOKF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 231100000331 toxic Toxicity 0.000 description 1
- 230000002588 toxic effect Effects 0.000 description 1
- ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M triflate Chemical compound [O-]S(=O)(=O)C(F)(F)F ITMCEJHCFYSIIV-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N trimethylolethane Chemical compound OCC(C)(CO)CO QXJQHYBHAIHNGG-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- YNOWBNNLZSSIHM-UHFFFAOYSA-N tris(oxiran-2-ylmethyl) benzene-1,2,4-tricarboxylate Chemical compound C=1C=C(C(=O)OCC2OC2)C(C(=O)OCC2OC2)=CC=1C(=O)OCC1CO1 YNOWBNNLZSSIHM-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N xylylenediamine group Chemical group C=1(C(=CC=CC1)CN)CN GKXVJHDEWHKBFH-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
Classifications
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08L—COMPOSITIONS OF MACROMOLECULAR COMPOUNDS
- C08L63/00—Compositions of epoxy resins; Compositions of derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/56—Amines together with other curing agents
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/5046—Amines heterocyclic
- C08G59/5053—Amines heterocyclic containing only nitrogen as a heteroatom
- C08G59/5073—Amines heterocyclic containing only nitrogen as a heteroatom having two nitrogen atoms in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/62—Alcohols or phenols
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
- C08G59/22—Di-epoxy compounds
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/20—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the epoxy compounds used
- C08G59/32—Epoxy compounds containing three or more epoxy groups
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/5046—Amines heterocyclic
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/5046—Amines heterocyclic
- C08G59/5053—Amines heterocyclic containing only nitrogen as a heteroatom
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08G—MACROMOLECULAR COMPOUNDS OBTAINED OTHERWISE THAN BY REACTIONS ONLY INVOLVING UNSATURATED CARBON-TO-CARBON BONDS
- C08G59/00—Polycondensates containing more than one epoxy group per molecule; Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups
- C08G59/18—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing
- C08G59/40—Macromolecules obtained by polymerising compounds containing more than one epoxy group per molecule using curing agents or catalysts which react with the epoxy groups ; e.g. general methods of curing characterised by the curing agents used
- C08G59/50—Amines
- C08G59/5046—Amines heterocyclic
- C08G59/5053—Amines heterocyclic containing only nitrogen as a heteroatom
- C08G59/508—Amines heterocyclic containing only nitrogen as a heteroatom having three nitrogen atoms in the ring
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09D—COATING COMPOSITIONS, e.g. PAINTS, VARNISHES OR LACQUERS; FILLING PASTES; CHEMICAL PAINT OR INK REMOVERS; INKS; CORRECTING FLUIDS; WOODSTAINS; PASTES OR SOLIDS FOR COLOURING OR PRINTING; USE OF MATERIALS THEREFOR
- C09D163/00—Coating compositions based on epoxy resins; Coating compositions based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C09—DYES; PAINTS; POLISHES; NATURAL RESINS; ADHESIVES; COMPOSITIONS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR; APPLICATIONS OF MATERIALS NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- C09J—ADHESIVES; NON-MECHANICAL ASPECTS OF ADHESIVE PROCESSES IN GENERAL; ADHESIVE PROCESSES NOT PROVIDED FOR ELSEWHERE; USE OF MATERIALS AS ADHESIVES
- C09J163/00—Adhesives based on epoxy resins; Adhesives based on derivatives of epoxy resins
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/04—Oxygen-containing compounds
- C08K5/05—Alcohols; Metal alcoholates
-
- C—CHEMISTRY; METALLURGY
- C08—ORGANIC MACROMOLECULAR COMPOUNDS; THEIR PREPARATION OR CHEMICAL WORKING-UP; COMPOSITIONS BASED THEREON
- C08K—Use of inorganic or non-macromolecular organic substances as compounding ingredients
- C08K5/00—Use of organic ingredients
- C08K5/16—Nitrogen-containing compounds
- C08K5/17—Amines; Quaternary ammonium compounds
Landscapes
- Chemical & Material Sciences (AREA)
- Organic Chemistry (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Chemical Kinetics & Catalysis (AREA)
- Medicinal Chemistry (AREA)
- Polymers & Plastics (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Materials Engineering (AREA)
- Wood Science & Technology (AREA)
- Epoxy Resins (AREA)
- Paints Or Removers (AREA)
- Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
Abstract
a presente invenção se refere a composições que compreendem pelo menos uma resina epóxi, pelo menos uma amina que tem pelo menos dois grupos amino secundários que são, ambos, parte de um sistema de anel orgânico, e pelo menos um álcool alquílico opcionalmente substituído por pelo menos um radical aromático e/ou por pelo menos um radical alquenila, a processos para produção dos mesmos e ao uso dos mesmos.
Description
[0001] As resinas epóxi, especialmente aquelas que são preparadas a partir de bisfenol A e epicloridrina, são matérias-primas conhecidas para a produção de resinas de fundição de alta qualidade, composições de revestimento, compósitos e adesivos. As resinas epóxi aromáticas curadas com poliaminas não têm apenas resistência a solvente e produto químico satisfatória, mas também capacidade de aderência satisfatória em muitos substratos.
[0002] A cura de sistemas de revestimento de epóxi-amina pode ser acelerada usando os catalisadores (documentos US 3.492.269 A, US 5.470.896 A, GB 1.105.772 A).
[0003] Os documentos EP 0 083 813 A1, EP 2 957 584 A1, US 5.441.000 A, US 5.629.380 A, WO 96/09352 A1 revelam a cura catalisada de resinas epóxi com várias aminas.
[0004] Os documentos CN 106905816 A, CN 106833261 A, JP H08-113876 A, DE 1 954 701 A1, CA 2 165 585 A1 e US 3.055.901 A revelam a cura livre de catalisador de resinas epóxi com aminoetilpiperazina.
[0005] O documento EP 0 969 030 A1 revela sistemas de revestimento de epóxi/amina em que o componente de amina é uma amina alifática. As composições podem incluir um catalisador. Nos exemplos, aminoetilpiperazina também é usada como endurecedor.
[0006] O documento US 4.775.734 um revela a cura de resinas epóxi com, entre outros, aminoetilpiperazina, bis(aminopropil)piperazina ou piperidina usando quantidades catalíticas de tetrafluoroborato ou sais de hexafluorofosfato de várias aminas.
[0007] O documento EP 3 255 078 A1 revela composições de resina epóxi que compreendem pelo menos um composto de epóxi, 2-(2,2,6,6-tetrametilpiperidin-4-il)propano-1,3- diamina e, opcionalmente, um catalisador que pode ser um sal inorgânico, entre outros.
[0008] Constatou-se que aminas que têm pelo menos dois grupos amino secundários que são, ambos, parte de um sistema de anel inorgânico são capazes particularmente de curar rapidamente as composições de resina epóxi.
[0009] Os documentos US 8.951.619 B2 e US 9.006.385 B2 revelam, entre outros, a cura livre de catalisador de resinas epóxi com piperazinas não substituídas, entre outros.
[0010] O documento WO 2017/074810 A1 revela composições que compreendem uma resina epóxi, uma polieteramida e um endurecedor de amina adicional que pode ser um imidazol ou imidazolina, entre outros. Também é usado um catalisador de triflato metálico.
[0011] O documento EP 18172950.0, não publicado até a data, revela uma composição de baixo teor de alquilfenol que compreende pelo menos uma resina epóxi, pelo menos uma amina que tem pelo menos dois grupos amino secundários que são, ambos, parte de um sistema de anel inorgânico e pelo menos um sal de um ácido de Br0nsted forte. O documento EP 18172954.2, não publicado até a data, revela uma composição de baixo teor de alquilfenol que compreende pelo menos uma resina epóxi, pelo menos uma amina que tem pelo menos dois grupos amino secundários que são parte de um sistema de anel inorgânico, e pelo menos um sal de um ácido de Br0nsted muito forte.
[0012] O documento US 2012/0010330 A1 revela a cura de uma resina epóxi com, entre outros, uma diamina cíclica selecionada a partir de piperazina e homopiperazina na presença de pelo menos 10 % de um alquilfenol a fim de aumentar a reatividade da composição e reduzir o ponto de transição de vidro Tg (alquilfenol atua como um plastificante). No entanto, as desvantagens do uso de aditivos contendo fenol são sua alergenicidade e sua toxicidade.
[0013] Um fator comum adicional nas composições da técnica anterior consiste no fato de que curam muito lentamente ou apenas a temperaturas altas e não são reativas o suficiente.
[0014] Para muitas aplicações, no entanto, é importante que a cura de superfície ou cura completa prossiga particular e rapidamente ou, além disso, a temperaturas baixas. Em primeiro lugar, a produtividade pode ser aumentada ou, além disso, a próxima etapa de processamento pode ser acelerada. A última é importante particularmente em regiões frias a fim, por exemplo, de fornecer às embarcações ou tubulações um revestimento de proteção à corrosão, de modo que a operação continuada também seja possível no inverno.
[0015] O problema abordado no presente contexto consiste, assim, no fato de fornecer sistemas epóxi que reagem muito mais rapidamente sob as mesmas condições que as formulações conhecidas até a data e têm uma baixa temperatura de transição de vidro Tg. Um outro problema abordado consistiu no fato de fornecer formulações epóxi que parcial ou completamente curam mais rapidamente do que é possível até a data a temperaturas bem abaixo da temperatura ambiente. Também seria desejável se fossem muito substancialmente livres de aditivos tóxicos e alérgicos.
[0016] Esses presentes problemas são solucionados pelas composições de acordo com a invenção que compreendem a) pelo menos uma resina epóxi, b) pelo menos uma amina cíclica que tem pelo menos dois grupos amino secundários que são, ambos, parte de um sistema de anel orgânico, e c) pelo menos um álcool alquílico opcionalmente substituído por pelo menos um radical aromático e/ou por pelo menos um radical alquenila.
[0017] A composição contém, de preferência, menos que 5 % em peso, adicionalmente de preferência, menos que 3 % em peso, com base na massa total da composição, de fenóis substituídos ou não substituídos. Adicionalmente de preferência, as composições da invenção continuam a ser livres de fenol, o que significa que não contêm quaisquer fenóis ou fenóis substituídos. Entende-se aqui por fenóis substituídos aqueles compostos estruturalmente derivados de fenol. Mais particularmente, as composições de acordo com a invenção não contêm, de preferência, quaisquer fenóis alquilados. As composições livres de fenol ou de baixo teor de fenol correspondentes têm a vantagem de baixos níveis de toxicidade e alergenicidade.
[0018] Componente a) é pelo menos uma resina epóxi. Todos os compostos de epóxi são adequados em princípio para esse propósito.
[0019] Os compostos de epóxi adequados são descritos, por exemplo, no documento EP 675 185 A2. Os compostos úteis são uma variedade dos compostos conhecidos que contêm mais que um grupo epóxi, de preferência, dois grupos epóxi, por molécula. Esses compostos de epóxi podem ser saturados ou insaturados e alifáticos, cicloalifáticos, aromáticos ou heterocíclicos e também podem ter grupos hidroxila. Os mesmos podem, adicionalmente, conter tais substituintes que não causam quaisquer reações colaterais problemáticas sob condições de mistura ou reação, por exemplo, substituintes de alquila ou arila ou frações de éter.
[0020] Os compostos de epóxi preferenciais aqui são éteres glicidílicos que derivam de fenóis poli-hídricos, especialmente bisfenóis e novolaks, e que têm massas molares com base no número de grupos epóxi ME ("pesos equivalentes de epóxi", "valor de EV") entre 100 e 1500 g/eq, mas especialmente entre 150 e 250 g/eq.
[0021] Os compostos de epóxi particularmente preferenciais se derivam de resorcinol, hidroquinona, 2,2- bis(4-hidroxifenil)propano (bisfenol A), misturas de isômero de di-hidroxidifenilmetano (bisfenol F), 4,4'-di- hidroxidifenilciclo-hexano, 4,4'-di-hidroxi-3,3'- dimetildifenilpropano, 4,4'-di-hidroxidifenila, 4,4'-di- hidroxibenzofenona, bis(4-hidroxifenil)-1,1-etano, bis(4- hidroxifenil)-1,1-isobutano, 2,2-bis(4-hidroxi-terc- butilfenil)propano, bis(2-hidroxinaftil)metano, 1,5-di- hidroxinaftaleno, tris(4-hidroxifenil)metano, bis(4- hidroxifenil) éter, bis(4-hidroxifenil)sulfona, e os produtos de clorinação e bromação dos compostos anteriormente mencionados (por exemplo, tetrabromobisfenol A).
[0022] Uma preferência muito particular é dada ao uso de diglicidil éteres líquidos à base de bisfenol A e bisfenol F tendo um peso equivalente de epóxi de 150 a 200 g/eq.
[0023] Também é possível com preferência ao uso de éteres poliglicidílicos de poliálcoois, por exemplo, éter etano-1,2-diol diglicidílico, éter propano-1,2-diol diglicidílico, éter propano-1,3-diol diglicidílico, éter butanodiol diglicidílico, éter pentanodiol diglicidílico (incluindo éter neopentil glicol diglicidílico), éter hexanodiol diglicidílico, éter dietileno glicol diglicidílico, éter dipropileno glicol diglicidílico, éteres polioxialquileno glicol diglicidílicos maiores, por exemplo, éteres polioxietileno glicol diglicidílicos maiores e éteres polioxipropileno glicol diglicidílicos, éteres co-polioxietileno-propileno glicol diglicidílicos, éteres polioxitetrametileno glicol diglicidílicos, éteres poliglicidílicos de glicerol, de hexano-1,2,6-triol, de trimetilolpropano, de trimetiloletano, de pentaeritritol ou de sorbitol, éteres poliglicidílicos de polióis oxialquilados (por exemplo, de glicerol, trimetilolpropano, pentaeritritol, entre outros), éteres diglicidílicos de ciclo-hexanodimetanol, de bis(4-hidroxiciclo-hexil)metano e de 2,2-bis(4-hidroxiciclo-hexil)propano, éteres poliglicidílicos de óleo de rícino, tris(2- hidroxietil)isocianurato de triglicidila.
[0024] Os componentes úteis adicionais a) incluem: compostos de poli(N-glicidila) que podem ser obtidos por desidro-halogenação dos produtos de reação de epicloro- hidrina e aminas, como anilina, n-butilamina, bis(4- aminofenil)metano, m-xililenodiamina ou bis(4- metilaminofenil)metano. No entanto, os compostos de poli(N- glicidila) também incluem isocianurato de triglicidila, triglicidilurazol e oligômeros dos mesmos, derivados de N,N'-diglicidila de cicloalquilenoureias e derivados de diglicidila de hidantoínas.
[0025] Além disso, também é possível com preferência ao uso de ésteres poliglicidílicos de ácidos policarboxílicos que são obtidos pela reação de epicloro-hidrina ou compostos de epóxi similares com um ácido policarboxílico alifático, cicloalifático ou aromático, como ácido oxálico, ácido succínico, ácido adípico, ácido glutárico, ácido ftálico, ácido tereftálico, ácido tetra-hidroftálico, ácido hexa-hidroftálico, ácido naftaleno-2,6-dicarboxílico e dicarboxilatos de diglicidila maiores, por exemplo, ácido linolênico dimerizado ou trimerizado. Os exemplos são adipato de diglicidila, ftalato de diglicidila e hexa- hidroftalato de diglicidila.
[0026] Também são preferenciais ésteres glicidílicos de ácidos carboxílicos insaturados e ésteres epoxidados de álcoois insaturados ou ácidos carboxílicos insaturados. Além dos éteres poliglicidílicos, é possível usar pequenas quantidades de monoepóxidos, por exemplo éter metil glicidílico, éter butil glicidílico, éter alil glicidílico, éter etil-hexil glicidílico, éteres glicidílicos alifáticos de cadeia longa, por exemplo, éter cetil glicidílico e éter estearil glicidílico, éteres monoglicidílicos de uma mistura de álcool isomérico superior, éteres glicidílicos de uma mistura de C12 a C13 álcoois, éter fenil glicidílico, éter cresil glicidílico, éter p-terc- butilfenil glicidílico, éter p-octilfenil glicidílico, éter p-fenilfenil glicidílico, éteres glicidílicos de um álcool laurílico alcoxilado, e também monoepóxidos, como hidrocarbonetos monoinsaturados epoxidados (óxido de butileno, óxido de ciclo-hexeno, óxido de estireno), em proporções em massa de até 30 % em peso, de preferência, 10 % a 20 % em peso, com base na massa dos éteres poliglicidílicos.
[0027] Uma enumeração detalhada dos compostos de epóxi adequados pode ser encontrada no livro de mão "Epoxidverbindungen und Epoxidharze" [Epoxy Compounds and Epoxy Resins] por A. M. Paquin, Springer Verlag, Berlin 1958, Capítulo IV, e em Lee Neville "Handbook of Epoxy Resins", 1967, Capítulo 2.
[0028] Os compostos de epóxi úteis incluem de preferência éteres glicidílicos e ésteres glicidílicos, epóxidos alifáticos, éteres diglicidílicos baseados em bisfenol A e/ou bisfenol F e metacrilatos de glicidila. Outros exemplos desses epóxidos são isocianurato de triglicidila (TGIG, nome comercial: ARALDIT 810, Huntsman), misturas de tereftalato de diglicidila e trimelitato de triglicidila (nome comercial: ARALDIT PT 910 e 912, Huntsman), ésteres glicidílicos de Ácido versático (nome comercial: CARDURA E10, Shell), 3’,4’-epoxiciclo- hexanocarboxilato de 3,4-epoxiciclo-hexilmetila (ECC), éter etil-hexil glicidílico, éter butil glicidílico, éter pentaeritritil tetraglicidílico (nome comercial: POLYPOX R 16, UPPC AG), e outros produtos de Polypox que têm grupos epóxi livres.
[0029] Também é possível usar misturas dos compostos de epóxi mencionados.
[0030] As resinas epóxi particularmente preferenciais são poliepóxidos baseados em éter diglicidílico de bisfenol A, éter diglicidílico de bisfenol F, 4,4'-metilenobis[N,N- bis(2,3-epoxipropil)anilina], éter hexanodiol diglicidílico, éter butanodiol diglicidílico, éter trimetilolpropano triglicidílico, éter propano-1,2,3-triol triglicidílico, éter pentaeritritol tetraglicidílico e hexa-hidroftalato de diglicidila.
[0031] É dada preferência ao uso de misturas dos compostos de epóxi mencionados acima como componente A).
[0032] As aminas b) úteis que têm pelo menos dois grupos amina secundários que são, ambos, parte de um sistema de anel orgânico em princípio incluem todos os compostos que têm pelo menos dois grupos amino cíclicos secundários. Além disso, as aminas b), como carreador de NH, também podem ter grupos amino secundários primários ou acíclicos adicionais. De preferência, no entanto, as aminas usadas nas composições de acordo com a invenção não têm quaisquer grupos amino secundários primários ou acíclicos adicionais, o que significa que têm exclusivamente pelo menos dois grupos amino secundários que são parte de um sistema de anel orgânico. Além disso, no entanto, as aminas usadas de acordo com a invenção também podem ter grupos amino terciários que não são reativos.
[0033] Entende-se por um "sistema de anel orgânico" aquele sistema heterocíclico que pode ter um, dois ou pelo menos três heterociclos contendo nitrogênio (opcionalmente fundidos a não heterociclos ou heterociclos não contendo nitrogênio). O sistema de anel orgânico também pode ter heteroátomos diferentes do nitrogênio nos ciclos contendo nitrogênio, especialmente oxigênio, enxofre e/ou fósforo. Entende-se por "um ciclo contendo nitrogênio” no presente contexto aquele ciclo contendo nitrogênio simples ou ciclo contendo nitrogênio simples que compartilha uma ligação de anel com um heterociclo não contendo nitrogênio, um cicloalcano, um cicloalqueno ou um hidrocarboneto aromático (isto é, um ciclo contendo nitrogênio ao qual um heterociclo não contendo nitrogênio, um cicloalcano, um cicloalqueno ou um hidrocarboneto aromático é opcionalmente fundido).
[0034] As aminas que têm pelo menos dois grupos amino secundários também podem ser produtos de reação correspondentes de compostos que têm grupos amino cíclicos secundários e, opcionalmente, grupos amino secundários primários ou acíclicos adicionais com grupos reativos em relação aos grupos NH, especialmente mono- e poliepóxidos (adutos), poli-isocianatos, policarbodi-imidas, fenóis (reaç de Mannich com aldeídos e cetonas), e fenóis substituídos (troca de uma base de Mannich), poliésteres, ácidos policarboxílicos, poliacrilatos e polimetacrilatos.
[0035] Em uma modalidade preferencial, as aminas b) são aminas que têm pelo menos dois grupos amino cíclicos secundários, dos quais pelo menos dois pertencem a diferentes ciclos. Com mais preferência, as aminas b) são aminas que têm dois a quatro grupos amino cíclicos secundários em dois a quatro ciclos diferentes. Entende-se também, de preferência, por aminas correspondentes que têm pelo menos dois ciclos diferentes aqueles heterociclos fundidos compostos por pelo menos dois heterociclos simples.
[0036] Com máxima preferência, os pelo menos dois grupos amino cíclicos secundários pertencem ao mesmo ciclo.
[0037] As aminas ainda adicionalmente preferenciais b) têm a fórmula (I) em que - R1 a R4 é H ou um radical orgânico, e - X = -(Y1)m-(A1)n-(Y2)o-(A2)p-(Y3)q-(A3)r-( Y4)s, (II) em que, independentemente entre si, o m, n, o, p, q, r e s = 0 ou 1, o A1, A2, A3 = radical de alquileno ou alquenileno e o Y1, Y2, Y3, Y4 = NR5, PR5, O ou S, com R5 independentemente = H ou radical orgânico, o em que quaisquer dois radicais orgânicos selecionados a partir de R1 a R5 e quaisquer radicais presente nos radicais de alquileno e/ou alquenileno A1, A2, A3 também podem formar um ou mais anéis adicionais, - com a condição de que pelo menos um dos radicais selecionados a partir de Y1, Y2, Y3, Y4 presentes é NR5 com R5 = H.
[0038] As aminas cíclicas são saturadas ou parcialmente insaturadas em relação ao anel mostrado na fórmula (I). As aminas correspondentes reagem mais rapidamente que as aminas aromáticas e imidazolinas não abrangidas pela fórmula. Os anéis adicionais opcionalmente presentes na amina cíclica podem não ser apenas saturados ou insaturados, mas também aromáticos. De preferência, os anéis adicionais opcionalmente presentes no sistema cíclico são não aromáticos, isto é, saturados ou insaturados.
[0039] As aminas cíclicas preferenciais são saturadas em relação ao anel mostrado na fórmula (I).
[0040] De preferência, pelo menos um dos átomos de carbono adjacentes ao grupo amino fixado a anel = H, isto é, pelo menos um dos radicais R1, R2, R3 e R4 = H. Adicionalmente de preferência, pelo menos dois dos radicais R1, R2, R3 e R4 = H. De preferência, pelo menos três e mais, de preferência, todos os radicais R1, R2, R3 e R4 = H. As aminas correspondentemente não substituídas reagem mais rapidamente que as outras aminas.
[0041] No radical X, se presente, A1, A2 e A3 são independentemente radicais de alquileno ou alquenileno. Esses podem, por sua vez, portar radicais orgânicos. Se os próprios radicais de alquileno e/ou alquenileno tiverem um ou mais radicais orgânicos, quaisquer dois radicais orgânicos são selecionados a partir dos radicais orgânicos nos radicais de alquileno e/ou alquenileno que também podem formar um ou mais anéis adicionais entre si ou com quaisquer radicais R1 a R5 orgânicos presentes.
[0042] Os radicais selecionados a partir de R1 a R5 presentes e quaisquer radicais presentes nos radicais de alquileno e/ou alquenileno A1, A2, A3 são substituídos por pelo menos um grupo NHR6 ou NH2, em que R6 = radical orgânico. Isso significa que, mesmo na fórmula (I), bem como os pelo menos dois grupos amino cíclicos, também pode haver grupos amino secundários primários ou acíclicos adicionais.
[0043] De preferência, A1, A2 e A3, se presente, cada um tem independentemente a fórmula (III) 1. -(CR7R8)x-(CR9=CR10)y-(CR11R12)z- (III) em que, independentemente entre si, - R7, R8, R9, R10, R11 e R12 = H ou radical orgânico e - 1 < x + y + z < 7.
[0044] Os índices x, y e z, de acordo com sua persistência em relação ao radical A1, A2 e A3, podem, de preferência, também ser referidos como índices x1, y1 e z1, como x2, y2 e z2 e como x3, y3 e z3.
[0045] De preferência, X tem um comprimento de cadeia de 2 a 15 átomos. De preferência, a soma total de todos x, ^-y e z e de m, o, q e s tem um valor de 2 a 15, adicionalmente de preferência, um valor de 2 a 8, ainda adicionalmente de preferência, um valor de 2 a 5 e, com máxima preferência, um valor de 2 a 4. Em outras palavras, de preferência, 2 < m + o + q + s + x1 + ^-y1 + z1 + x2 + ^-y2 + z2 + x3 + ^-y3 + z3 < 15. Adicionalmente de preferência, 2 < m + o + q + s + x1 + ^-y1 + z1 + x2 + ^-y2 + z2 + x3 + ^-y3 + z3 < 8, adicionalmente de preferência, 2 < m + o + q + s + x1 + ^-y1 + z1 + x2 + ^-y2 + z2 + x3 + ^-y3 + z3 < 5, com máxima preferência, 2 < m + o + q + s + x1 + ^-y1 + z1 + x2 + ^-y2 + z2 + x3 + ^-y3 + z3 < 4.
[0046] As aminas da fórmula (I) são compostos (opcionalmente bi/poli)cíclicos visto que ambos os átomos de carbono adjacentes ao grupo amino são fixados em qualquer lado ao radical de (hetero)alquileno substituído da fórmula (II).
[0047] Adicionalmente de preferência, a fórmula (I), bem como o átomo de nitrogênio do grupo NH fixado a anel, não tem mais que um heteroátomo adicional no ciclo, isto é, X tem, de preferência, a fórmula (IIa) X = -(CR7R8)x-(Y)o-(CR11R12)z- (IIa) com - x e z = 0, 1, 2, 3, 4, 5, 6 ou 7, - o = 1, - 2 < x + o + z < 15 - R7, R8, R11, R12 = H ou radical orgânico e - Y = NH.
[0048] Com máxima preferência, na fórmula (IIa), x = z = 1.
[0049] Correspondentemente, no caso em que, quaisquer dois radicais orgânicos na fórmula (I) selecionados a partir de R1 a R8, R11 e R12 também podem formar um ou mais anéis adicionais.
[0050] Os radicais R1, R2, R3, R4, R5, R6, R7, R8, R9, R10, R11 e R12 podem ser radicais orgânicos. Os radicais orgânicos preferenciais são radicais alquila, alquenila, alquinila, arila ou aralquila. Esses podem ser substituídos por heteroátomos dentro de seus substituintes de cadeia e/ou doadores. Os radicais orgânicos preferenciais são radicais alquila, alquenila, alquinila, arila ou aralquila que podem portar um ou mais grupos éter, carboxila, amino, amido, ureia, carbamato, carbonato, amidino ou guanidino dentro da cadeia. Além disso, os radicais orgânicos preferenciais podem ter um ou mais substituintes selecionados a partir de radicais hidroxila, radicais nitrila, radicais de halogênio e radicais orgânicos, em que os últimos contêm grupos éter, carboxila, amino, amido, ureia, carbamato, carbonato, amidino ou guanidino ou podem ser substituídos por radicais hidroxila, nitrila ou halogênio.
[0051] As aminas particularmente preferenciais b) são selecionadas a partir do grupo que consiste em 3,7- diazabiciclo[4.3.0]nonano, 2,8-diazabiciclo[4.3.0]nonano, 2-fenil-2-imidazolina, 3,8-diazabiciclo[3.2.1]octano, 2,2'- bisimidazolidina, 1H-octa-hidroimidazo[4,5-c]piridina, 1,4,8-triazaspiro[4.5]decano, 1,4-diazaspiro[4.5]decano, pirazolidina, 2,2-dimetilimidazolidina, 1,4,7- triazaciclononano, deca-hidro-2,6-dimetilpirazino[2,3- b]pirazina, hexa-hidropiridazina, deca-hidro-4a,8a- dimetilpirazino[2,3-b]pirazina, 4,4'- metilenobis[piperidina], 2,2'-metilenobis[piperidina], tetradeca-hidro-4,7-fenantrolina, 2,2'-bipiperidina, 4,4'- bipiperidina, tetradeca-hidrofenazina, deca- hidroquinoxalina, 1,5-deca-hidronaftiridina, octa-hidro-1H- ciclopentapirazina, 2,2'-bipirrolidina, piperazina, 2- metilpiperazina, 2,2-dimetilpiperazina, 2,3- dimetilpiperazina, 2-etilpiperazina, 2,5-dimetilpiperazina, 2,6-dimetilpiperazina, 2,6-diazabiciclo[3.3.0]octano, 3,7- diazabiciclo[3.3.0]octano, 2,3,5,6-tetrametilpiperazina, 2,3,5-trimetilpiperazina, 2,2'-bipiperidina, 2-(2- piperidinil)piperazina, 2,2‘-bimorfolina, deca-hidro-2,6- naftiridina, deca-hidro-2,7-naftiridina, homopiperazina, 2- metil-homopiperazina, 6-metil-1,4-diazepano, bis[2- (piperazin-1-il)etil]amina, 1,2-dipiperazinoetano, 1,3- bis(4-piperidil)propano e N-(4-piperidinilmetil)-4- piperidinametanamina.
[0052] Com máxima preferência, a amina b) é homopiperazina.
[0053] Os álcoois alquílicos C) opcionalmente substituídos por pelo menos um radical aromático e/ou por pelo menos um radical alquenila (referidos doravante no presente documento como “álcoois”) são compostos que têm pelo menos um grupo OH fixado à alquila. Assim, os álcoois C) têm um grupo alquila que porta pelo menos um grupo OH. O álcool alquílico pode consistir exclusivamente em grupo alquila e grupo (ou grupos) OH. Alternativamente, o álcool alquílico também pode ter grupos alquila substituídos por pelo menos um radical aromático e/ou pelo menos um radical alquenila. É dada preferência aos álcoois que têm apenas um grupo OH, isto é, monoálcoois, especialmente aqueles selecionados a partir do grupo que consiste em metanol, etanol, propanol, butanol, álcool benzílico, álcoois benzílicos substituídos e produtos de reação de álcool benzílico com óxido de etileno ou óxido de propileno. No entanto, também pode ser vantajoso usar poliálcoois, especialmente aqueles selecionados a partir do grupo que consiste em etileno glicol, propileno glicol, polietileno glicóis, polipropileno glicóis, poliálcoois de poliéster, poliálcoois de poliéter, poliálcoois de policarbonato, poliálcoois de policaprolactona e poliálcoois de poliacrilato.
[0054] Os álcoois preferenciais são líquidos à temperatura ambiente. Os álcoois particularmente preferenciais têm um ponto de ebulição de pelo menos 200 °C a 0,1013 MPa (1013 mbar).
[0055] O álcool é, com máxima preferência, álcool benzílico.
[0056] O componente C está, de preferência, presente em tal quantidade em que a contribuição desse álcool para a concentração total de grupos OH é pelo menos 1,3 mol/l, de preferência, pelo menos 1,4 mol/l. Adicionalmente de preferência, a contribuição desse álcool para a concentração total de grupos OH é pelo menos 1,5 mol/l e, muito especialmente de preferência, pelo menos 1,6 mol/l e, ainda adicionalmente de preferência, pelo menos 1,8 mol/l. A concentração correspondente pode ser derivada do peso de partida correspondente.
[0057] A proporção do álcool, especialmente do álcool benzílico, é, de preferência, pelo menos 20 % em peso, com mais de preferência, pelo menos 30 % em peso e, com máxima preferência, pelo menos 40 % em peso da formulação geral.
[0058] De preferência, as composições de acordo com a invenção também podem incluir d) aminas que não têm pelo menos dois grupos amina secundários como parte de um sistema de anel orgânico, e/ou e) auxiliares ou aditivos adicionais.
[0059] Tais aminas d) são, de preferência, di ou poliaminas. Estes podem ser compostos monoméricos, oligoméricos e/ou poliméricos. Os compostos monoméricos ou oligoméricos preferenciais são selecionados a partir do grupo que consiste em diaminas, triaminas e tetraminas. O grupo amina das di ou poliaminas d) pode ser fixado a um átomo de carbono primário, secundário ou terciário, de preferência, a um átomo de carbono primário ou secundário. Também é possível usar misturas de di e/ou poliaminas como componente d).
[0060] Os componentes d) usados podem, de preferência, ser as seguintes aminas, em separado ou em misturas: • aminas alifáticas, especialmente as polialquilenopoliaminas, de preferência selecionadas a partir de etileno-1,2-diamina, propileno-1,2-diamina, propileno-1,3-diamina, butileno-1,2-diamina, butileno- 1,3-diamina, butileno-1,4-diamina, 2- (etilamino)etilamina, 3-(metilamino)propilamina, dietilenotriamina, trietilenotetramina, pentaetileno- hexamina, trimetil-hexametilenodiamina, 2,2,4-trimetil- hexametilenodiamina, 2,4,4-trimetil- hexametilenodiamina, 2-metilpentanodiamina, hexametilenodiamina, N-(2-aminoetil)etano-1,2-diamina, N-(3-aminopropil)propano-1,3-diamina, N,N’’-1,2- etanodi-ilbis(1,3-propanodiamina), dipropilenotriamina, di-hidrazida adípica e hidrazina; • oxialquilenopoliaminas, de preferência selecionadas a partir de polioxipropilenodiamina e polioxipropilenotriamina (por exemplo, Jeffamine® D230, Jeffamine® D-400, Jeffamine® T-403, Jeffamine® T- 5000), 1,13-diamino-4,7,10-trioxatridecano, 4,7- dioxadecano-1,10-diamina; • cicloaminas alifáticas, de preferência selecionadas a partir de isoforonadiamina (3,5,5-trimetil-3- aminometilciclo-hexilamina), 4,4'-diaminodiciclo- hexilmetano, 2,4'-diaminodiciclo-hexilmetano e 2,2'- diaminodiciclo-hexilmetano, sozinho ou em misturas dos isômeros, 3,3'-dimetil-4,4'-diaminodiciclo-hexilmetano, N-ciclo-hexil-1,3-propanodiamina, 1,2-diaminociclo- hexano, 3-(ciclo-hexilamino)propilamina, TCD diamina (3(4),8(9)-bis(aminometil)triciclo[5.2.1.02,6]decano), 4-metilciclo-hexano-1,3-diamina, • aminas que têm um grupo amino cíclico e pelo menos um grupo amino secundário ou primário acíclico, de preferência, 1-(3-aminoetil)piperazina (AEP), 1-(3- aminopropil)piperazina; • aminas aralifáticas, de preferência, xililenodiaminas; • aminas aromáticas, de preferência, fenilenodiaminas, especialmente fenileno-1,3-diamina e fenileno-1,4- diamina, e 4,4'-diaminodifenilmetano, 2,4'- diaminodifenilmetano, 2,2'-diaminodifenilmetano, opcionalmente em separado ou em misturas dos isômeros; • endurecedores de aduto, especialmente produtos de reação de compostos de epóxi, especialmente éteres glicidílicos de bisfenol A e F, com amina em excesso; • endurecedores de poliamidoamina, especialmente endurecedores de poliamidoamina obtidos por condensação de ácidos mono e policarboxílicos com poliaminas, muito especialmente por condensação de ácidos graxos de dímero com polialquilenopoliaminas; • endurecedores de base de Mannich, especialmente endurecedores de base de Mannich obtidos pela reação de mono- ou fenóis poli-hídricos com aldeídos, especialmente formaldeído, e poliaminas; e • bases de Mannich, especialmente baseadas em fenol e/ou resorcinol, formaldeído e m-xililenodiamina, e também N-aminoetilpiperazina e misturas de N- aminoetilpiperazina com nonilfenol e/ou álcool benzílico, fenalcaminas que são obtidas em uma reação de Mannich a partir de cardanóis, aldeídos e aminas.
[0061] Também é possível usar misturas das di ou poliaminas mencionadas acima como componente d).
[0062] Os auxiliares e admisturas adicionais preferenciais e) podem ser os compostos usuais na química epóxi. Os auxiliares e as admisturas preferenciais e) são pigmentos, solventes, agentes de nivelamento, modificadores, agentes de desgaseificação, agentes de achatamento, diluentes reativos e catalisadores, por exemplo, ácido salicílico.
[0063] Em uma modalidade preferencial, nenhuma amina d) é usada. Em uma modalidade preferencial, nenhum modificador adicional está presente. Em uma modalidade preferencial, nenhum catalisador é usado. Com máxima preferência, os auxiliares e as admisturas possíveis são assim limitados a pigmentos, solventes, agentes de nivelamento, agentes de desgaseificação, agentes de achatamento e diluentes reativos.
[0064] A composição de componentes a) a e) na composição de acordo com a invenção tem, de preferência, as seguintes porcentagens em peso, com base na massa total da composição: a) resina epóxi 30-89 % b) amina cíclica 1-50 % c) álcool 10-40 %, d) amina adicional 0-59 % e e) auxiliares ou aditivos adicionais 0-59 %.
[0065] De preferência, adicionalmente, as porcentagens em peso das aminas b) com base na massa total das aminas b) e d) têm pelo menos 10 % em peso, com mais preferência, pelo menos 30 % em peso, ainda com mais preferência, pelo menos 50 % em peso e, ainda com mais preferência, pelo menos 70 % em peso.
[0066] A invenção fornece adicionalmente um processo para produzir uma composição de acordo com a invenção, em que pelo menos uma resina epóxi a), pelo menos uma amina cíclica b) e pelo menos um álcool c) são misturados uns com os outros.
[0067] A invenção fornece adicionalmente o uso das composições de acordo com a invenção como resina de fundição, composição de revestimento, compósito ou adesivo ou como um constituinte dos mesmos.
[0068] 100 partes de homopiperazina (Aldrich) são intimamente misturadas com 66 partes de álcool benzílico e 380 partes de Epikote 828 (equivalente de epóxi 190, Hexion) e um DSC é tomado imediatamente depois disso.
[0069] 100 partes de homopiperazina (Aldrich) são intimamente misturadas com 400 partes de álcool benzílico e com 380 partes de Epikote 828 (equivalente de epóxi 190, Hexion) e um DSC é tomado imediatamente depois disso.
[0070] No Exemplo 2, o pico exotérmico é inferior, visto que é o desvio desse pico exotérmico. A composição de acordo com o Exemplo 2 é, assim, mais reativa que aquela de acordo com o Exemplo 1.
Claims (16)
1. Composição caracterizada por compreender a) uma resina epóxi, b) uma amina compreendendo dois grupos amino secundários que são, ambos, parte de um sistema de anel orgânico, e c) um álcool alquílico, ou um álcool alquílico substituído com um radical aromático e/ou com um radical alquenila, em que o dito álcool alquílico compreende 1,3 mol/l de uma concentração total de grupos OH.
2. Composição, de acordo com a reivindicação 1, caracterizada pelo fato de que a resina epóxi a) é um poliepóxido com base em éter diglicidílico de bisfenol A, éter diglicidílico de bisfenol F, 4,4'-metilenobis[N,N- bis(2,3-epoxipropil)anilina], éter hexanodiol diglicidílico, éter butanodiol diglicidílico, éter trimetilolpropano triglicidílico, éter propano-1,2,3-triol triglicidílico, éter pentaeritritol tetraglicidílico ou hexa-hidroftalato de diglicidila.
3. Composição, de acordo com a reivindicação 1 ou 2, caracterizada pelo fato de que todos os grupos amino cíclicos secundários b) pertencem ao mesmo ciclo.
4. Composição, de acordo com a reivindicação 3, caracterizada pelo fato de que a amina b) tem a fórmula (I) em que - R1 a R4 é H ou um radical orgânico, e - X = –(Y1)m-(A1)n-(Y2)o-(A2)p-(Y3)q-(A3)r-(Y4)s, (II) onde, independentemente entre si, o m, n, o, p, q, r e s = 0 ou 1, o A1, A2, A3 = radical de alquileno ou alquenileno e o Y1, Y2, Y3, Y4 = NR5, PR5, O ou S, com R5 independentemente = H ou radical orgânico, - com a condição de que pelo menos um dos radicais selecionados a partir de Y1, Y2, Y3, Y4 presentes é NR5 com R5 = H.
5. Composição, de acordo com a reivindicação 4, caracterizada pelo fato de que quaisquer dois radicais orgânicos selecionados a partir de R1 a R5 e quaisquer radicais presente nos radicais de alquileno e/ou alquenileno A1, A2, A3 também podem formar um ou mais anéis adicionais.
6. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que a amina b) é selecionada a partir do grupo que consiste em 3,7-diazabiciclo[4.3.0]nonano, 2,8- diazabiciclo[4.3.0]nonano, 2-fenil-2-imidazolina, 3,8- diazabiciclo[3.2.1]octano, 2,2'-bisimidazolidina, 1H-octa- hidroimidazo[4,5-c]piridina, 1,4,8-triazaspiro[4.5]decano, 1,4-diazaspiro[4.5]decano, pirazolidina, 2,2- dimetilimidazolidina, 1,4,7-triazaciclononano, deca-hidro- 2,6-dimetilpirazino[2,3-b]pirazina, hexa-hidropiridazina, deca-hidro-4a,8a-dimetilpirazino[2,3-b]pirazina, 4,4'- metilenobis[piperidina], 2,2'-metilenobis[piperidina], tetradeca-hidro-4,7-fenantrolina, 2,2'-bipiperidina, 4,4'- bipiperidina, tetradeca-hidrofenazina, deca- hidroquinoxalina, 1,5-deca-hidronaftiridina, octa-hidro-1H- ciclopentapirazina, 2,2'-bipirrolidina, piperazina, 2- metilpiperazina, 2,2-dimetilpiperazina, 2,3- dimetilpiperazina, 2-etilpiperazina, 2,5-dimetilpiperazina, 2,6-dimetilpiperazina, 2,6-diazabiciclo[3.3.0]octano, 3,7- diazabiciclo[3.3.0]octano, 2,3,5,6-tetrametilpiperazina, 2,3,5-trimetilpiperazina, 2,2'-bipiperidina, 2-(2- piperidinil)piperazina, 2,2‘-bimorfolina, deca-hidro-2,6- naftiridina, deca-hidro-2,7-naftiridina, homopiperazina, 2- metil-homopiperazina, 6-metil-1,4-diazepano, bis[2- (piperazin-1-il)etil]amina, 1,2-dipiperazinoetano, 1,3- bis(4-piperidil)propano e N-(4-piperidinilmetil)-4- piperidinametanamina.
7. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que o álcool c) tem apenas um grupo OH.
8. Composição, de acordo com a reivindicação 7, caracterizada pelo fato de que o álcool c) é selecionado a partir do grupo que consiste em metanol, etanol, propanol, butanol, álcool benzílico, álcoois benzílicos substituídos e produtos de reação de álcool benzílico com óxido de etileno ou óxido de propileno.
9. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que o ponto de ebulição do álcool c) é 200 °C ou maior que 0,1013 MPa (1013 mbar).
10. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que o álcool c) é álcool benzílico.
11. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada por incluir também d) aminas que estão ausentes ou que tem apenas um grupo amino secundário como parte de um sistema de anel orgânico, e/ou e) auxiliares ou aditivos adicionais.
12. Composição, de acordo com a reivindicação 11, caracterizada pelo fato de que as aminas d) são selecionadas a partir de - aminas alifáticas, - oxialquilenopoliaminas - cicloaminas alifáticas, - aminas que têm um grupo amino cíclico e pelo menos um grupo amino secundário ou primário acíclico, - aminas aralifáticas, - aminas aromáticas - endurecedores de aduto, - endurecedores de poliamidoamina - endurecedores de base de Mannich e - bases de Mannich.
13. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações anteriores, caracterizada pelo fato de que a composição inclui componentes a) a e) nas seguintes porcentagens em peso, com base na massa total da composição: a) resina epóxi 30-89 % b) amina cíclica 1-50 % c) álcool 10-40 % d) amina adicional 0-59 % e e) auxiliares ou aditivos adicionais 0-59 %.
14. Composição, de acordo com qualquer uma das reivindicações 11-13, caracterizada pelo fato de que a porcentagem em peso das aminas b) com base na massa total das aminas b) e d) é de 10% a 100% em peso.
15. Processo para produzir uma composição conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1-14, caracterizado pelo fato de que uma resina epóxi a) , uma amina cíclica b) e um álcool c) são misturados uns com os outros.
16. Uso caracterizado por ser de uma composição conforme definida em qualquer uma das reivindicações 1-14 como resina de fundição, composição de revestimento, compósito ou adesivo ou como um constituinte dos mesmos.
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
EP18209073.8A EP3660069B1 (de) | 2018-11-29 | 2018-11-29 | Schnell härtende epoxysysteme |
EP18209073.8 | 2018-11-29 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
BR102019025378A2 BR102019025378A2 (pt) | 2020-07-07 |
BR102019025378B1 true BR102019025378B1 (pt) | 2024-03-12 |
Family
ID=64901278
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
BR102019025378-9A BR102019025378B1 (pt) | 2018-11-29 | 2019-11-29 | Composição, processo para produzir uma composição e uso da mesma |
Country Status (8)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US20200172723A1 (pt) |
EP (1) | EP3660069B1 (pt) |
JP (1) | JP2020084192A (pt) |
KR (1) | KR20200064937A (pt) |
CN (1) | CN111234182A (pt) |
BR (1) | BR102019025378B1 (pt) |
MX (1) | MX2019013887A (pt) |
RU (1) | RU2019138000A (pt) |
Families Citing this family (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
EP3569629B1 (de) | 2018-05-17 | 2022-07-06 | Evonik Operations GmbH | Schnell härtende epoxysysteme |
US11286335B2 (en) | 2018-05-17 | 2022-03-29 | Evonik Operations Gmbh | Fast-curing epoxy systems |
EP3569630B1 (de) | 2018-05-17 | 2022-08-03 | Evonik Operations GmbH | Schnell härtende epoxysysteme |
US11359048B2 (en) | 2018-05-17 | 2022-06-14 | Evonik Operations Gmbh | Fast-curing epoxy systems |
CN115231589B (zh) * | 2021-04-22 | 2023-10-31 | 中国石油化工股份有限公司 | 一种fer结构分子筛材料及其制备方法和应用 |
Family Cites Families (31)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US3055901A (en) | 1961-05-18 | 1962-09-25 | Jefferson Chem Co Inc | Preparation of aminoethylpiperazine |
GB1105772A (en) | 1964-03-26 | 1968-03-13 | Dynamit Nobel Ag | Process for hardening polyepoxides |
DE1954701C3 (de) | 1969-10-30 | 1973-10-31 | Gyl-Labor Dr. Karl Ney Kg, 8031 Walchstadt | Verfahren zur Herstellung von Epoxyd polyaddukten |
CA1205250A (en) | 1981-12-14 | 1986-05-27 | Harold E. De La Mare | Heat-curable epoxy compositions and their use in preparing formed articles |
US4775734A (en) | 1987-08-12 | 1988-10-04 | Ashland Oil, Inc. | Non-nucleophilic acid salts of amines as cure accelerators |
TW275070B (pt) | 1992-12-22 | 1996-05-01 | Ciba Geigy Ag | |
DE4410786A1 (de) | 1994-03-28 | 1995-10-05 | Hoechst Ag | Elastisches Epoxidharz-Härter-System |
US5441000A (en) | 1994-04-28 | 1995-08-15 | Vatsky; Joel | Secondary air distribution system for a furnace |
MX9701950A (es) | 1994-09-19 | 1997-06-28 | Minnesota Mining & Mfg | Composicion adhesiva de epoxi. |
US5629380A (en) | 1994-09-19 | 1997-05-13 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Epoxy adhesive composition comprising a calcium salt and mannich base |
JP3003521B2 (ja) | 1994-10-19 | 2000-01-31 | 東レ株式会社 | 炭素繊維およびその製造方法 |
GB9425557D0 (en) | 1994-12-19 | 1995-02-15 | Fogh Kenneth B | Method for the prevention of cathodic disbondment |
GB2332202A (en) * | 1997-12-09 | 1999-06-16 | Courtaulds Coatings | Curable epoxy resin compositions |
EP0969029B1 (en) | 1998-06-05 | 2003-11-26 | Basf Corporation | Novel polycarbodiimide polymers and their use as adhesive intermediate layers in automotive coatings |
JP2001348419A (ja) * | 2000-06-06 | 2001-12-18 | Nagase Chemtex Corp | リサイクル可能なエポキシ樹脂組成物 |
DE102009028019A1 (de) * | 2009-02-04 | 2010-08-05 | Evonik Degussa Gmbh | Härtbare Zusammensetzungen auf Basis von Epoxidharzen und hetero-poly-cyclischen Polyaminen |
CN102356110B (zh) * | 2009-03-17 | 2013-12-18 | 陶氏环球技术有限责任公司 | 含有环状二胺的可固化组合物及其固化产品 |
US9006385B2 (en) | 2010-09-01 | 2015-04-14 | Dow Global Technologies Llc | Elastomeric epoxy materials and the use thereof |
US9279032B2 (en) * | 2010-09-01 | 2016-03-08 | Air Products And Chemicals, Inc. | Low temperature curable epoxy compositions |
WO2012030339A1 (en) | 2010-09-01 | 2012-03-08 | Dow Global Technologies Llc | Elastomeric insulation materials and the use thereof in subsea applications |
JP6136245B2 (ja) * | 2012-12-21 | 2017-05-31 | 東ソー株式会社 | エポキシ硬化剤用アミン組成物 |
EP2752437A1 (de) * | 2013-01-08 | 2014-07-09 | Sika Technology AG | Härter für emissionsarme Epoxidharz-Produkte |
US9862798B2 (en) * | 2013-09-30 | 2018-01-09 | Evonik Degussa Gmbh | Epoxy liquid curing agent compositions |
EP2957584B1 (en) | 2014-06-17 | 2017-03-01 | 3M Innovative Properties Company | Rapid curing epoxy adhesive compositions |
US10221344B2 (en) * | 2015-03-23 | 2019-03-05 | Sika Technology Ag | Amine for rapid-curing epoxy resin compositions |
EP3162829B1 (en) | 2015-10-29 | 2018-08-15 | 3M Innovative Properties Company | Rapid curing and high thixotropy epoxy adhesive compositions |
EP3255078B1 (de) | 2016-06-10 | 2018-08-15 | Evonik Degussa GmbH | Epoxidharz-zusammensetzung enthaltend 2-(2,2,6,6-tetramethylpiperidin-4-yl)propan-1,3-diamin als härter |
CN106833261A (zh) | 2016-12-28 | 2017-06-13 | 安徽燎原电器设备制造有限公司 | 一种耐热耐腐蚀配电柜外壳用环氧涂料 |
CN106905816B (zh) | 2017-03-06 | 2020-02-28 | 华东理工大学 | 超疏水疏油涂料及其制备方法和使用方法 |
EP3569630B1 (de) * | 2018-05-17 | 2022-08-03 | Evonik Operations GmbH | Schnell härtende epoxysysteme |
EP3569629B1 (de) * | 2018-05-17 | 2022-07-06 | Evonik Operations GmbH | Schnell härtende epoxysysteme |
-
2018
- 2018-11-29 EP EP18209073.8A patent/EP3660069B1/de active Active
-
2019
- 2019-11-15 US US16/684,969 patent/US20200172723A1/en not_active Abandoned
- 2019-11-21 MX MX2019013887A patent/MX2019013887A/es unknown
- 2019-11-25 RU RU2019138000A patent/RU2019138000A/ru unknown
- 2019-11-28 KR KR1020190155042A patent/KR20200064937A/ko unknown
- 2019-11-28 CN CN201911190359.9A patent/CN111234182A/zh active Pending
- 2019-11-29 JP JP2019216874A patent/JP2020084192A/ja active Pending
- 2019-11-29 BR BR102019025378-9A patent/BR102019025378B1/pt active IP Right Grant
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
KR20200064937A (ko) | 2020-06-08 |
US20200172723A1 (en) | 2020-06-04 |
EP3660069B1 (de) | 2024-01-03 |
CN111234182A (zh) | 2020-06-05 |
JP2020084192A (ja) | 2020-06-04 |
RU2019138000A (ru) | 2021-05-25 |
BR102019025378A2 (pt) | 2020-07-07 |
MX2019013887A (es) | 2020-11-11 |
EP3660069A1 (de) | 2020-06-03 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
BR102019025378B1 (pt) | Composição, processo para produzir uma composição e uso da mesma | |
US11370877B2 (en) | Fast-curing epoxy systems | |
US11370876B2 (en) | Fast-curing epoxy systems | |
US11359048B2 (en) | Fast-curing epoxy systems | |
US11286335B2 (en) | Fast-curing epoxy systems | |
US6329473B1 (en) | Amine-modified epoxy resin composition | |
TWI460201B (zh) | 包含環氧樹脂及胺類與胍衍生物之混合物的摻合物 | |
JP6159014B2 (ja) | ヒドロキシアルキルアミノシクロアルカンを含む1成分形エポキシ硬化剤 | |
JP6320410B2 (ja) | 反応性エポキシ系における置換されたベンジルアルコールの使用 | |
JP4942937B2 (ja) | エポキシ樹脂組成物 | |
JP5409612B2 (ja) | エポキシドの硬化のための触媒 | |
JP2022145636A (ja) | 水性エポキシ硬化剤 | |
JP2016500742A (ja) | エチレンアミンエポキシ硬化剤 | |
BR112019009678A2 (pt) | agente de cura, composição curável, e, artigo curado. | |
ES2945162T3 (es) | Agente de curado para resinas epoxi | |
JP6813562B6 (ja) | 硬化性組成物 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
B03A | Publication of a patent application or of a certificate of addition of invention [chapter 3.1 patent gazette] | ||
B06W | Patent application suspended after preliminary examination (for patents with searches from other patent authorities) chapter 6.23 patent gazette] | ||
B09A | Decision: intention to grant [chapter 9.1 patent gazette] | ||
B16A | Patent or certificate of addition of invention granted [chapter 16.1 patent gazette] |
Free format text: PRAZO DE VALIDADE: 20 (VINTE) ANOS CONTADOS A PARTIR DE 29/11/2019, OBSERVADAS AS CONDICOES LEGAIS |