CH530473A
(fr)
*
|
1969-08-19 |
1972-11-15 |
Sel Rex Corp |
Procédé pour le dépôt électrolytique d'or brillant et bain électrolytique pour la mise en oeuvre de ce proédé
|
US3669852A
(en)
*
|
1969-10-23 |
1972-06-13 |
Bell Telephone Labor Inc |
Electroplating gold
|
US3910774A
(en)
*
|
1970-08-13 |
1975-10-07 |
Gen Dynamics Corp |
Solid film lubricant and method for lubricating cycling low-high temperature friction surfaces
|
ZA734253B
(en)
*
|
1972-07-10 |
1975-02-26 |
Degussa |
Electrolytic bath
|
US3981782A
(en)
*
|
1972-07-28 |
1976-09-21 |
Johnson Matthey & Co., Limited |
Electroplating of gold and gold compounds therefor
|
CH555894A
(fr)
*
|
1972-08-10 |
1974-11-15 |
Oxy Metal Industries Corp |
Utilisation de derives organophosphores dans les bains sulfitiques pour l'electrodeposition de l'or et des alliages d'or.
|
US4012294A
(en)
*
|
1972-08-10 |
1977-03-15 |
Oxy Metal Industries Corporation |
Gold sulfite baths containing organophosphorous compounds
|
JPS5324898B2
(xx)
*
|
1972-11-13 |
1978-07-24 |
|
|
US3833487A
(en)
*
|
1972-12-22 |
1974-09-03 |
Bell Telephone Labor Inc |
Electrolytic soft gold plating
|
US3990954A
(en)
*
|
1973-12-17 |
1976-11-09 |
Oxy Metal Industries Corporation |
Sulfite gold plating bath and process
|
US4076598A
(en)
*
|
1976-11-17 |
1978-02-28 |
Amp Incorporated |
Method, electrolyte and additive for electroplating a cobalt brightened gold alloy
|
US4199416A
(en)
*
|
1977-05-03 |
1980-04-22 |
Johnson, Matthey & Co., Limited |
Composition for the electroplating of gold
|
US4366035A
(en)
*
|
1979-04-24 |
1982-12-28 |
Engelhard Corporation |
Electrodeposition of gold alloys
|
US4212708A
(en)
*
|
1979-06-05 |
1980-07-15 |
Belikin Alexandr V |
Gold-plating electrolyte
|
DE3013030C2
(de)
*
|
1980-04-03 |
1984-02-09 |
Degussa Ag, 6000 Frankfurt |
Galvanisches Bad und Verfahren zur Abscheidung hochglänzender Weißgoldüberzüge
|
US4435253A
(en)
|
1983-01-28 |
1984-03-06 |
Omi International Corporation |
Gold sulphite electroplating solutions and methods
|
DE3309397A1
(de)
*
|
1983-03-16 |
1984-09-20 |
Degussa Ag, 6000 Frankfurt |
Elektrolytisches bad zum abscheiden von niederkaraetigen, glaenzenden gold-silber-legierungsueberzuegen
|
US4465564A
(en)
*
|
1983-06-27 |
1984-08-14 |
American Chemical & Refining Company, Inc. |
Gold plating bath containing tartrate and carbonate salts
|
DE3341233A1
(de)
*
|
1983-11-15 |
1985-05-30 |
Robert Bosch Gmbh, 7000 Stuttgart |
Saures galvanisches bad zur abscheidung feiner strukturen aus weichgold sowie verfahren zur abscheidung derartiger strukturen
|
US5024733A
(en)
*
|
1989-08-29 |
1991-06-18 |
At&T Bell Laboratories |
Palladium alloy electroplating process
|
EP0525890A1
(en)
*
|
1991-07-31 |
1993-02-03 |
Calgon Corporation |
Method for solubilizing tellurium using organic acids
|
US5575900A
(en)
*
|
1995-07-03 |
1996-11-19 |
Antelman Technologies Ltd. |
Gold plating solutions
|
GB2323853B
(en)
*
|
1997-03-25 |
2002-04-24 |
Enthone Omi |
Electroplating processes compositions and deposits
|
US20050092616A1
(en)
*
|
2003-11-03 |
2005-05-05 |
Semitool, Inc. |
Baths, methods, and tools for superconformal deposition of conductive materials other than copper
|
JP4699105B2
(ja)
*
|
2005-06-24 |
2011-06-08 |
アサヒプリテック株式会社 |
金の回収方法および装置
|
US8066865B2
(en)
*
|
2008-05-19 |
2011-11-29 |
Solopower, Inc. |
Electroplating methods and chemistries for deposition of group IIIA-group via thin films
|
CH714243B1
(fr)
*
|
2006-10-03 |
2019-04-15 |
Swatch Group Res & Dev Ltd |
Procédé d'électroformage et pièce ou couche obtenue par ce procédé.
|
CH710184B1
(fr)
*
|
2007-09-21 |
2016-03-31 |
Aliprandini Laboratoires G |
Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux ou métalloïdes toxiques.
|
US8425753B2
(en)
*
|
2008-05-19 |
2013-04-23 |
Solopower, Inc. |
Electroplating methods and chemistries for deposition of copper-indium-gallium containing thin films
|
DE102008033174B3
(de)
*
|
2008-07-15 |
2009-09-17 |
Enthone Inc., West Haven |
Cyanidfreie Elektrolytzusammensetzung zur galvanischen Abscheidung einer Kupferschicht und Verfahren zur Abscheidung einer kupferhaltigen Schicht
|
ITMI20081610A1
(it)
*
|
2008-09-09 |
2010-03-10 |
Giuseppe Antognazzi |
Bagno per elettrodeposizione di oro.
|
EP2312021B1
(fr)
|
2009-10-15 |
2020-03-18 |
The Swatch Group Research and Development Ltd. |
Procédé d'obtention d'un dépôt d'alliage d'or jaune par galvanoplastie sans utilisation de métaux toxiques
|
ITFI20130057A1
(it)
*
|
2013-03-18 |
2014-09-19 |
Bluclad S R L |
Soluzione per l¿elettrodeposizione di una lega di oro e la lega da essa derivante.
|
CN103755738B
(zh)
*
|
2014-01-13 |
2016-06-01 |
孙松华 |
一种络合剂及其制备方法和用途
|
CN104233384A
(zh)
*
|
2014-09-17 |
2014-12-24 |
朱忠良 |
一种无氰电镀金镀液及使用其的电镀工艺
|
DE102019202899B3
(de)
*
|
2019-03-04 |
2019-11-14 |
Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. |
Wässrige Formulierung zum Herstellen einer Schicht aus Gold und Silber
|
CN110699713A
(zh)
*
|
2019-11-21 |
2020-01-17 |
长春黄金研究院有限公司 |
一种无氰金合金电铸液及其使用方法
|
DE112021008234T5
(de)
*
|
2021-09-16 |
2024-07-11 |
P & S, Galvasols |
Hochgeschwindigkeits-elektroformungs- /elektroplattierungsbad für reines gold
|
CN114934302A
(zh)
*
|
2022-04-27 |
2022-08-23 |
深圳市联合蓝海黄金材料科技股份有限公司 |
无氰电镀金镀液及其应用
|