ATE528694T1 - Vorrichtung zur erzeugung von extremer uv- strahlung mit einem kontaminationsfänger und verfahren zur reinigung von zinn in einer solchen vorrichtung - Google Patents
Vorrichtung zur erzeugung von extremer uv- strahlung mit einem kontaminationsfänger und verfahren zur reinigung von zinn in einer solchen vorrichtungInfo
- Publication number
- ATE528694T1 ATE528694T1 AT09786568T AT09786568T ATE528694T1 AT E528694 T1 ATE528694 T1 AT E528694T1 AT 09786568 T AT09786568 T AT 09786568T AT 09786568 T AT09786568 T AT 09786568T AT E528694 T1 ATE528694 T1 AT E528694T1
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- contamination
- catcher
- radiation
- generating extreme
- cleaning tin
- Prior art date
Links
- 238000011109 contamination Methods 0.000 title abstract 3
- 238000004140 cleaning Methods 0.000 title 1
- 238000000034 method Methods 0.000 title 1
- 230000005855 radiation Effects 0.000 title 1
- ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N Tin Chemical compound [Sn] ATJFFYVFTNAWJD-UHFFFAOYSA-N 0.000 abstract 1
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 abstract 1
- 238000005260 corrosion Methods 0.000 abstract 1
- 230000007797 corrosion Effects 0.000 abstract 1
Classifications
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/20—Exposure; Apparatus therefor
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/708—Construction of apparatus, e.g. environment aspects, hygiene aspects or materials
- G03F7/70908—Hygiene, e.g. preventing apparatus pollution, mitigating effect of pollution or removing pollutants from apparatus
- G03F7/70916—Pollution mitigation, i.e. mitigating effect of contamination or debris, e.g. foil traps
-
- G—PHYSICS
- G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
- G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
- G03F7/00—Photomechanical, e.g. photolithographic, production of textured or patterned surfaces, e.g. printing surfaces; Materials therefor, e.g. comprising photoresists; Apparatus specially adapted therefor
- G03F7/70—Microphotolithographic exposure; Apparatus therefor
- G03F7/70008—Production of exposure light, i.e. light sources
- G03F7/70033—Production of exposure light, i.e. light sources by plasma extreme ultraviolet [EUV] sources
-
- H—ELECTRICITY
- H01—ELECTRIC ELEMENTS
- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
- H01L21/02—Manufacture or treatment of semiconductor devices or of parts thereof
- H01L21/027—Making masks on semiconductor bodies for further photolithographic processing not provided for in group H01L21/18 or H01L21/34
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/002—Supply of the plasma generating material
-
- H—ELECTRICITY
- H05—ELECTRIC TECHNIQUES NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
- H05G—X-RAY TECHNIQUE
- H05G2/00—Apparatus or processes specially adapted for producing X-rays, not involving X-ray tubes, e.g. involving generation of a plasma
- H05G2/001—Production of X-ray radiation generated from plasma
- H05G2/009—Auxiliary arrangements not involved in the plasma generation
- H05G2/0094—Reduction, prevention or protection from contamination; Cleaning
Landscapes
- Physics & Mathematics (AREA)
- Engineering & Computer Science (AREA)
- Plasma & Fusion (AREA)
- Optics & Photonics (AREA)
- General Physics & Mathematics (AREA)
- Atmospheric Sciences (AREA)
- Health & Medical Sciences (AREA)
- Epidemiology (AREA)
- Public Health (AREA)
- Life Sciences & Earth Sciences (AREA)
- Environmental & Geological Engineering (AREA)
- Manufacturing & Machinery (AREA)
- Condensed Matter Physics & Semiconductors (AREA)
- Computer Hardware Design (AREA)
- Microelectronics & Electronic Packaging (AREA)
- Power Engineering (AREA)
- Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)
- Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
- X-Ray Techniques (AREA)
- Cleaning In General (AREA)
Applications Claiming Priority (2)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| EP08104787 | 2008-07-18 | ||
| PCT/IB2009/053009 WO2010007569A1 (en) | 2008-07-18 | 2009-07-10 | Extreme uv radiation generating device comprising a contamination captor |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| ATE528694T1 true ATE528694T1 (de) | 2011-10-15 |
Family
ID=41211922
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT09786568T ATE528694T1 (de) | 2008-07-18 | 2009-07-10 | Vorrichtung zur erzeugung von extremer uv- strahlung mit einem kontaminationsfänger und verfahren zur reinigung von zinn in einer solchen vorrichtung |
Country Status (7)
| Country | Link |
|---|---|
| US (1) | US8891058B2 (de) |
| EP (1) | EP2300879B1 (de) |
| JP (1) | JP5657535B2 (de) |
| KR (1) | KR101642269B1 (de) |
| CN (1) | CN102099746B (de) |
| AT (1) | ATE528694T1 (de) |
| WO (1) | WO2010007569A1 (de) |
Families Citing this family (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP6395832B2 (ja) | 2013-08-02 | 2018-09-26 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 放射源用コンポーネント、関連した放射源およびリソグラフィ装置 |
| WO2021236413A1 (en) | 2020-05-18 | 2021-11-25 | Wangs Alliance Corporation | Germicidal lighting |
| US11027038B1 (en) | 2020-05-22 | 2021-06-08 | Delta T, Llc | Fan for improving air quality |
Family Cites Families (20)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| DE3586244T2 (de) * | 1984-12-26 | 2000-04-20 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Vorrichtung zur Erzeugung von Weich-Röntgenstrahlen durch ein Hochenergiebündel. |
| GB2204063A (en) * | 1987-04-29 | 1988-11-02 | Capper Pass Limited | Refining of tin |
| DE19743311A1 (de) * | 1996-09-30 | 1998-04-02 | Fraunhofer Ges Forschung | Target für die Erzeugung gepulster Röntgen- und Extrem-UV-Strahlung (EUV), Verfahren zur Erzeugung eines solchen Targets sowie seine Verwendung |
| NL1008352C2 (nl) * | 1998-02-19 | 1999-08-20 | Stichting Tech Wetenschapp | Inrichting, geschikt voor extreem ultraviolet lithografie, omvattende een stralingsbron en een verwerkingsorgaan voor het verwerken van de van de stralingsbron afkomstige straling, alsmede een filter voor het onderdrukken van ongewenste atomaire en microscopische deeltjes welke door een stralingsbron zijn uitgezonden. |
| FR2799667B1 (fr) * | 1999-10-18 | 2002-03-08 | Commissariat Energie Atomique | Procede et dispositif de generation d'un brouillard dense de gouttelettes micrometriques et submicrometriques, application a la generation de lumiere dans l'extreme ultraviolet notamment pour la lithographie |
| US7405416B2 (en) | 2005-02-25 | 2008-07-29 | Cymer, Inc. | Method and apparatus for EUV plasma source target delivery |
| SG129259A1 (en) * | 2002-10-03 | 2007-02-26 | Asml Netherlands Bv | Radiation source lithographic apparatus, and device manufacturing method |
| AU2003303542A1 (en) | 2003-01-02 | 2004-07-29 | Jmar Research Inc. | Method and apparatus for generating a membrane target for laser produced plasma |
| DE10342239B4 (de) | 2003-09-11 | 2018-06-07 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren und Vorrichtung zum Erzeugen von Extrem-Ultraviolettstrahlung oder weicher Röntgenstrahlung |
| EP1624467A3 (de) * | 2003-10-20 | 2007-05-30 | ASML Netherlands BV | Lithographiegerät und Verfahren zur Herstellung eines Bauteils |
| JP4222996B2 (ja) * | 2003-11-11 | 2009-02-12 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | 汚染を抑制したリソグラフィ装置、デバイス製造方法、及びこれらによって製造されたデバイス |
| US7567379B2 (en) | 2004-04-29 | 2009-07-28 | Intel Corporation | Technique to prevent tin contamination of mirrors and electrodes in an EUV lithography system |
| JP4337648B2 (ja) * | 2004-06-24 | 2009-09-30 | 株式会社ニコン | Ｅｕｖ光源、ｅｕｖ露光装置、及び半導体デバイスの製造方法 |
| DE102005023060B4 (de) | 2005-05-19 | 2011-01-27 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Gasentladungs-Strahlungsquelle, insbesondere für EUV-Strahlung |
| WO2007002170A2 (en) | 2005-06-21 | 2007-01-04 | Starfire Industries Llc | Microdischarge light source configuration and illumination system |
| US7365349B2 (en) * | 2005-06-27 | 2008-04-29 | Cymer, Inc. | EUV light source collector lifetime improvements |
| JP4710463B2 (ja) | 2005-07-21 | 2011-06-29 | ウシオ電機株式会社 | 極端紫外光発生装置 |
| US7501642B2 (en) * | 2005-12-29 | 2009-03-10 | Asml Netherlands B.V. | Radiation source |
| DE102006027856B3 (de) * | 2006-06-13 | 2007-11-22 | Xtreme Technologies Gmbh | Anordnung zur Erzeugung von extrem ultravioletter Strahlung mittels elektrischer Entladung an regenerierbaren Elektroden |
| NL1036595A1 (nl) * | 2008-02-28 | 2009-08-31 | Asml Netherlands Bv | Device constructed and arranged to generate radiation, lithographic apparatus, and device manufacturing method. |
-
2009
- 2009-07-10 CN CN200980128098.6A patent/CN102099746B/zh active Active
- 2009-07-10 WO PCT/IB2009/053009 patent/WO2010007569A1/en not_active Ceased
- 2009-07-10 US US13/003,950 patent/US8891058B2/en active Active
- 2009-07-10 AT AT09786568T patent/ATE528694T1/de not_active IP Right Cessation
- 2009-07-10 KR KR1020117003693A patent/KR101642269B1/ko active Active
- 2009-07-10 EP EP09786568A patent/EP2300879B1/de active Active
- 2009-07-10 JP JP2011518047A patent/JP5657535B2/ja active Active
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| EP2300879A1 (de) | 2011-03-30 |
| CN102099746B (zh) | 2013-05-08 |
| EP2300879B1 (de) | 2011-10-12 |
| US20110181848A1 (en) | 2011-07-28 |
| KR20110047197A (ko) | 2011-05-06 |
| US8891058B2 (en) | 2014-11-18 |
| JP5657535B2 (ja) | 2015-01-21 |
| JP2011528498A (ja) | 2011-11-17 |
| KR101642269B1 (ko) | 2016-07-26 |
| CN102099746A (zh) | 2011-06-15 |
| WO2010007569A1 (en) | 2010-01-21 |
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| EP3900401C0 (de) | Vorrichtung und verfahren zur wiedergabe einer räumlich erweiterten schallquelle oder vorrichtung und verfahren zur erzeugung eines bitstroms aus einer räumlich erweiterten schallquelle | |
| EP3467721C0 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von merkmalskarten durch verwendung von upsampling-netzwerken | |
| EP2176929A4 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von harmonischen anhand gepulster uv-laser | |
| EP2678944A4 (de) | Verfahren und vorrichtungen zur datenkomprimierung anhand von offset-basierten adaptiven rekonstruktionsstufen | |
| EP2376011A4 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von mitralklappeninsuffizienz | |
| EP3525892A4 (de) | Verfahren und vorrichtung zur erzeugung von energie unter verwendung von sturzsicherungsvorrichtungen | |
| DE102009043750A8 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Detektion von Ablagerungen im Auge | |
| ATE467672T1 (de) | Verfahren zur behandlung von bohrlöchern mit wiederverwertbaren flüssigkeiten | |
| EP2327281A4 (de) | Systeme und verfahren zur verwendung einer intensitätsmodulierten röntgenquelle | |
| DE112011105262A5 (de) | Optoelektronische Vorrichtung und Verfahren zur Herstellung von optoelektronischen Vorrichtungen | |
| DE602007012095D1 (de) | Vorrichtung und verfahren zur biologischen entfernung von selen aus wasser | |
| EP3704570C0 (de) | Vorrichtung und verfahren zur erzeugung mindestens einer zufallszahl, verwendung eines optischen parametrischen oszillators | |
| DE112010001576A5 (de) | Vorrichtung zur Erzeugung von Scherbeneis und Verfahren zur Reinigung, Entkalkung und/oder Desinfizierung einer Vorrichtung zur Erzeugung von Scherbeneis | |
| EP3807939A4 (de) | Vorrichtung und verfahren für iii-v-lichtemittierende mikropixelanordnung mit wasserstoffdiffusionssperrschicht | |
| DE112020001768A5 (de) | Verfahren und vorrichtung zur desinfektion von reinräumen | |
| EP3583072A4 (de) | Verfahren und vorrichtung zur desinfektion von wasser | |
| DE112019003354A5 (de) | Verfahren und Vorrichtung zur Reinigung und Desinfizierung von Gegenständen | |
| EP2503742A4 (de) | Verfahren zur implementierung eines gemeinsam genutzten mesh-schutzes sowie vorrichtung und optisches netzwerk damit | |
| AT506459A3 (de) | Vorrichtung und verfahren zur reinigung von schadstoffhaltigem abgas | |
| ATE547382T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur reinigung von mit sulfat-ionen und schwermetall-ionen verunreinigtem wasser | |
| EP2417620A4 (de) | Verfahren und vorrichtung zur behandlung von ausflüssen | |
| ATE528694T1 (de) | Vorrichtung zur erzeugung von extremer uv- strahlung mit einem kontaminationsfänger und verfahren zur reinigung von zinn in einer solchen vorrichtung | |
| EP3759059C0 (de) | Verfahren zur behandlung eines behälters mit einer glaswand und zugehörige vorrichtung | |
| EP4076722A4 (de) | Vorrichtung zur uv-bestrahlung von fluiden mit integriertem behälter | |
| ATE552489T1 (de) | Verfahren und vorrichtung zur überwachung und detektierung von beschichtungsdefekten einer erd- oder wasserverlegten rohrleitung |
Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| RER | Ceased as to paragraph 5 lit. 3 law introducing patent treaties |