AT410087B - Vorrichtung zum aufheizen von glastafeln - Google Patents

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Description

AT 410 087 B
Die Erfindung betrifft eine Vorrichtung zum Aufheizen von Glastafeln insbesondere im Zuge des Härtens und/oder Biegens von Glastafeln.
Glastafeln werden dadurch gehärtet, daß sie auf eine Temperatur über der Härtetemperatur von annähernd 600°C erhitzt und dann auf eine Temperatur, die unter der kritischen Temperatur, z.B. unter 300°C liegt, abgeschreckt werden, so daß das Glas härtende Spannungen entstehen.
Eine Vorrichtung zum Härten von Glastafeln, in der Glastafeln erhitzt und dann durch Abschrecken gehärtet werden, ist aus der WO 97/34844 A1 bekannt.
Der Erfindung liegt die Aufgabe zugrunde, eine Vorrichtung der eingangs genannten Gattung zur Verfügung zu stellen, die insbesondere als Heizzone in Anlagen zum Härten von Glas verwendet werden kann.
Gelöst wird diese Aufgabe erfindungsgemäß mit den Merkmalen des Anspruches 1.
Bevorzugte und vorteilhafte Ausgestaltungen der Erfindung sind Gegenstand der Unteransprüche.
Dank der erfindungsgemäßen Ausbildung der Vorrichtung zum Aufheizen von Glastafeln ergibt sich ein gleichmäßiges Erwärmen der Glastafeln, wobei auch der Vorteil insbesondere dadurch erreicht wird, daß die wenigstens eine der Glastafel benachbarte Heizplatte aus keramischem Werkstoff besteht, so daß diese ein relativ großes Wärmespeichervermögen besitzt und insbesondere am Beginn des Aufheizens einer Glastafel örtliche Temperaturunterschiede vermieden werden.
Wenn in der Heizplatte der erfindungsgemäßen Vorrichtung zusätzlich Löcher vorgesehen sind, durch die von der Rückseite der Heizplatte zugeführtes, erhitztes Gas, insbesondere Luft, ausströmt, dann erfolgt das Aufheizen der Glastafel besonders wirksam, da auf diese die Wärme nicht nur durch Strahlung (Heizplatten), sondern auch durch Konvektion (Gas) übertragen wird.
In einer besonders bevorzugten Ausführungsform umfaßt die erfindungsgemäße Vorrichtung an beiden Seiten der aufzuheizenden Glastafeln Heizplatten gemäß der Erfindung, wobei, soferne die Heizplatten nicht horizontal ausgerichtet sind, am unteren Ende des Bereiches zwischen den Platten eine Stütz- und Transportvorrichtung für die aufzuheizende Glastafel vorgesehen sein kann.
Ein bevorzugter Werkstoff für die erfindungsgemäßen Heizplatten ist ein keramischer Werkstoff mit hohem Abstrahlungskoeffizienten. Ein Beispiel für einen Werkstoff, aus welchem die Heizplatte bei der erfindungsgemäßen Vorrichtung bestehen kann, ist ein Werkstoff auf Basis Oxidkeramik, beispielsweise auf Basis von Silikat und/oder Aluminiumoxid. Bevorzugt für die erfindungsgemäß vorgesehene Heizplatte ist ein keramischer Werkstoff, der Silikat und Aluminiumoxid enthält.
Weitere Einzelheiten und Merkmale der Erfindung ergeben sich aus der nachstehenden Beschreibung des in der Zeichnung schematisch dargestellten Ausführungsbeispieles.
Bei der in der Zeichnung im Schnitt dargestellten Ausführungsform umfaßt die erfindungsgemäße Vorrichtung zwei zueinander parallel ausgerichtete Heizplatten 1 aus keramischem Werkstoff mit hohem Koeffizienten für die Abstrahlung von Wärme strahlen. Die Heizplatten 1 sind im gezeigten Ausführungsbeispiel gegenüber der Lotrechten um wenige Grade geneigt. Sie können aber auch flacher stehen, oder horizontal ausgerichtet sein. Weiters besteht die Möglichkeit, daß die Neigung der Heizplatten 1 verändert wird, um die Vorrichtung den jeweiligen Gegebenheiten anpassen zu können.
In den Raum 2 zwischen den Heizplatten 1 wird eine aufzuheizende Glastafel 3 bewegt, wobei die Glastafel 3 auf einer beliebig ausgebildeten Stütz- und Fördereinrichtung 4 aufsteht.
Der Abstand der Heizplatten 1 voneinander ist veränderlich (Pfeil 5), so daß dieser Abstand an die Dicke der jeweils aufzuheizenden Glasplatte 3 angepaßt werden kann. In der Regel werden die Heizplatten 1 möglichst nahe der aufzuheizenden Glastafel 3 angeordnet.
Den Heizplatten 1 sind auf ihren, von dem Raum 2, in dem eine Glastafel 3 anzuordnen ist, abgekehrten Seiten Heizeinrichtungen 6, insbesondere elektrische Heizeinrichtungen 6 in Form von Heizstäben, Heizplatten oder Heizwendeln zugeordnet, so daß die Heizplatten 1 beheizt werden können. Die so erhitzten Heizplatten 1 geben Wärme, insbesondere durch Strahlung, an die aufzuheizende Glastafel 3 ab, um sie aufzuheizen, beispielsweise auf eine Temperatur über der Härtetemperatur oder auf eine Temperatur bei der sie verformt (gebogen) werden können.
Zusätzlich und bevorzugt kann die Vorrichtung so ausgebildet sein, daß auf beiden Seiten der Glastafel 3 zwischen den Heizplatten 1 ein Gaskissen 7 ausgebildet werden kann, um die Glastafel 3 zwischen den Heizplatten 1 sicher zu führen und zu verhindern, daß die Glastafel die eine oder 2

Claims (20)

  1. AT 410 087 B die andere Heizplatte 1 berührt. Hiezu sind in den Heizplatten 1 Löcher 8 vorgesehen, so daß von der Rückseite der Heizplatten 1 her zugeführtes Gas (Pfeil 9) durch die Löcher 8 strömt (Pfeil 10) und die Gaskissen 7 ausbildet. Vorteilhaft ist dabei, daß zugeführtes und die Gaskissen 7 zwischen der Glastafel 3 und den Heizplatten 1 bildendes Gas (meist Luft) durch die Heizeinrichtungen 6 erhitzt wird. So wird auf die aufzuheizende Glastafel 8 Wärme nicht nur durch von den Heizplatten 1 abgegebene Wärmestrahlung, sondern auch durch Konvektion übertragen. Bevorzugt ist es, wenn die Heizeinrichtungen 6 in an den Rückseiten der Heizplatten 1 vorgesehenen Gehäusen 11 untergebracht sind, die mit dem die Gaskissen 7 bildenden Gas beaufschlagt werden. So sind Wärmeverluste weitestgehend vermieden, da Gas nur durch die Löcher 8 in den Heizplatten 1 in den Raum 2, in dem eine Glastafel 3 steht, strömen kann. In der bevorzugten in der Zeichnung schematisch und beispielhaft gezeigten Ausführungsform wird das Gas für die Gaskissen 7 den Gehäusen 11 so zugeführt, daß es durch die Heizeinrichtungen 6 strömen muß, bevor es zu den Löchern 8 in den Heizplatten 1 gelangt. So wird ein besonders wirksames Aufheizen des Gases erreicht. Aus dem Raum 2 zwischen den Heizplatten 1 kann abströmendes Gas im Kreislauf geführt werden. Beispielsweise wird abströmendes Gas durch die Heizplatten 1 oben abgezogen und durch Gebläse od. dgl. dem Gehäuse 11 wieder zugeführt. Um, Verluste an Gas zu vermeiden, ist der Raum 2 zwischen den Heizplatten 1 oben und unten durch längenveränderbare, z.B. elastische oder gefaltete Dichtungen 12 abgeschlossen. Die etwa lotrechten seitlichen Ränder des Raumes 2 sind durch für den Antransport einer aufzuheizenden und für den Abtransport einer aufgeheizten Glastafel 3 wegklapp- oder wegziehbare Dichtungen geschlossen. Mit Vorteil ist die Transport- und Stützeinrichtung 4 am unteren Rand der Heizplatte 1 gekapselt, so daß diese nicht dicht sein braucht. Beispielsweise ist die Transport- und Stützeinrichtung 4 in dem in der Zeichnung gezeigten Ausführungsbeispiel in einem eigenen Raum am unteren Rand der Gehäuse 11 untergebracht. Zusammenfassend kann ein Ausführungsbeispiel der Erfindung wie folgt dargestellt werden: Eine Vorrichtung zum Aufheizen von Glastafeln 3 beim Härten oder Verformen besitzt zwei Keramik-Heizplatten 1, zwischen denen die Glastafel 3 angeordnet wird. Den Heizplatten 1 sind mit Abstand Heizungen 6 zugeordnet. Die Heizungen 6 sind in Gehäusen 11 untergebracht, die auf einer Seite von den Heizplatten 1 begrenzt werden. In den Heizplatten 1 sind Löcher 8 vorgesehen, durch die den Gehäusen 11 zugeführtes Gas, das durch Vorbeiströmen an den Heizeinrichtungen 6 erhitzt worden ist, ausströmt und beidseits der Glastafel 3, diese haltende Gaskissen 7 bildet. So wird die Glastafel 3 durch Strahlung und durch Konvektion erhitzt. PATENTANSPRÜCHE: 1. Vorrichtung zum Aufheizen von Glastafeln (3) mit wenigstens einer auf einer Seite der aufzuheizenden Glastafel (3) angeordneten Platte (1), dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (1) eine beheizte Platte (1) aus keramischem Werkstoff ist.
  2. 2. Vorrichtung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, daß der keramische Werkstoff eine Oxid-Keramik, insbesondere eine Silikat und/oder Aluminiumoxid enthaltende Keramik ist.
  3. 3. Vorrichtung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, daß in der Platte (1) Löcher (8) vorgesehen sind, die zwecks Ausbildung eines Gaskissens (7) zwischen aufeuheizen-der Glastafel (3) und Platte (1) mit Gas beaufschlagt sind.
  4. 4. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, daß auf der von der Glasplatte (3) abgekehrten Rückseite der Platte (1) eine Heizeinrichtung (6) vorgesehen ist.
  5. 5. Vorrichtung nach Anspruch 4, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizeinrichtung (6) in einem an der Rückseite der Platte (1) angeordneten Gehäuse (11) untergebracht ist.
  6. 6. Vorrichtung nach Anspruch 5, dadurch gekennzeichnet, daß das Gehäuse (11) mit Gas (Pfeil 9) beaufschlagt wird, das durch die Löcher (8) in der Platte (1) austritt.
  7. 7. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 6, dadurch gekennzeichnet, daß die Platte (1) 3 AT 410 087 B unter einem spitzen Winkel zur Lotrechten ausgerichtet ist.
  8. 8. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 7, dadurch gekennzeichnet, daß die Neigung der Platte (1) veränderbar ist.
  9. 9. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 8, dadurch gekennzeichnet, daß am unteren Rand der Platte (1) eine Transport- oder Stützvorrichtung (4) für Glastafeln (3) vorgesehen ist.
  10. 10. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 9, dadurch gekennzeichnet, daß zwei einander gegenüberliegende und zueinander parallel ausgerichtete Platten (1) vorgesehen sind, die zwischen sich einen Raum (2) für die aufzuheizende Glastafel (3) begrenzen.
  11. 11. Vorrichtung nach Anspruch 10, dadurch gekennzeichnet, daß wenigstens eine der beiden Platten (1) relativ zur anderen Platte (1) verstellbar ist (Pfeil 5).
  12. 12. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 1 bis 11, dadurch gekennzeichnet, daß die Heizeinrichtung (6) mit Abstand von der Platte (1) angeordnet ist.
  13. 13. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 12, dadurch gekennzeichnet, daß der Raum (2) zwischen den Platten (1) im Bereich der Ränder der Platten (1) abgeschlossen ist.
  14. 14. Vorrichtung nach Anspruch 13, dadurch gekennzeichnet, daß am oberen und am unteren Rand der Platten (1) längenveränderliche Dichtungen, z.B. zick-zack-gefaltete Dichtungen (12), vorgesehen sind.
  15. 15. Vorrichtung nach Anspruch 13 oder 14, dadurch gekennzeichnet, daß die den lotrechten Rändern der Platten (1) zugeordneten Dichtungen verstellbar sind.
  16. 16. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 5 bis 15, dadurch gekennzeichnet, daß Gas für das Ausbilden von Gaskissen (7) durch wenigstens eine auf der Platte (1) abgewendeten Seite der Heizeinrichtung (6) mündende Leitung in das Gehäuse (11) eingeleitet wird.
  17. 17. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 10 bis 16, dadurch gekennzeichnet, daß aus dem Raum (2) abströmendes Gas den Gehäusen (11) wieder zugeführt wird.
  18. 18. Vorrichtung nach Anspruch 17, dadurch gekennzeichnet, daß vom oberen Ende des Raumes (2) zwischen den Platten (1) wenigstens eine Leitung ausgeht, die mit der Leitung zum Zuführen von Gas in das Gehäuse (11) verbunden ist.
  19. 19. Vorrichtung nach einem der Ansprüche 9 bis 18, dadurch gekennzeichnet, daß die Transport- oder Stützeinrichtung (4) innerhalb des Gehäuses (11) angeordnet ist.
  20. 20. Vorrichtung nach Anspruch 19, dadurch gekennzeichnet, daß die Transport- oder Stützeinrichtung (4) in einem Raum am unteren Ende des Gehäuses (11) untergebracht ist. HIEZU 1 BLATT ZEICHNUNGEN 4
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