AT359798B - Verfahren und anordnung zur regelung des entladungsvorganges in einer kathodenzer- staeubungsanlage - Google Patents

Verfahren und anordnung zur regelung des entladungsvorganges in einer kathodenzer- staeubungsanlage

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AT359798B AT191179A AT191179A AT359798B AT 359798 B AT359798 B AT 359798B AT 191179 A AT191179 A AT 191179A AT 191179 A AT191179 A AT 191179A AT 359798 B AT359798 B AT 359798B
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Leybold Heraeus Gmbh & Co Kg
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    • C23C—COATING METALLIC MATERIAL; COATING MATERIAL WITH METALLIC MATERIAL; SURFACE TREATMENT OF METALLIC MATERIAL BY DIFFUSION INTO THE SURFACE, BY CHEMICAL CONVERSION OR SUBSTITUTION; COATING BY VACUUM EVAPORATION, BY SPUTTERING, BY ION IMPLANTATION OR BY CHEMICAL VAPOUR DEPOSITION, IN GENERAL
    • C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
    • C23C14/22—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material characterised by the process of coating
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NL (1) NL7902718A (de)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3709177A1 (de) * 1987-03-20 1988-09-29 Leybold Ag Verfahren und vorrichtung zur regelung der reaktiven schichtabscheidung auf substraten mittels magnetronkatoden

Families Citing this family (20)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56152973A (en) * 1980-04-30 1981-11-26 Tokuda Seisakusho Ltd Sputter etching device
DE3047113A1 (de) 1980-12-13 1982-07-29 Leybold-Heraeus GmbH, 5000 Köln Katodenanordnung und regelverfahren fuer katodenzerstaeubungsanlagen mit einem magnetsystem zur erhoehung der zerstaeubungsrate
US4336119A (en) * 1981-01-29 1982-06-22 Ppg Industries, Inc. Method of and apparatus for control of reactive sputtering deposition
US4396478A (en) * 1981-06-15 1983-08-02 Aizenshtein Anatoly G Method of control of chemico-thermal treatment of workpieces in glow discharge and a device for carrying out the method
JPS58161775A (ja) * 1982-03-19 1983-09-26 Anelva Corp 放電装置
JPS58167767A (ja) * 1982-03-26 1983-10-04 Clarion Co Ltd 薄膜形成方法
US4428811A (en) 1983-04-04 1984-01-31 Borg-Warner Corporation Rapid rate reactive sputtering of a group IVb metal
US4496448A (en) * 1983-10-13 1985-01-29 At&T Bell Laboratories Method for fabricating devices with DC bias-controlled reactive ion etching
US4610775A (en) * 1985-07-26 1986-09-09 Westinghouse Electric Corp. Method and apparatus for clearing short-circuited, high-voltage cathodes in a sputtering chamber
US4818357A (en) * 1987-05-06 1989-04-04 Brown University Research Foundation Method and apparatus for sputter deposition of a semiconductor homojunction and semiconductor homojunction products created by same
DE3719616A1 (de) * 1987-06-12 1988-12-29 Leybold Ag Verfahren und vorrichtung zur beschichtung eines substrats
DE8801079U1 (de) * 1988-01-29 1989-06-01 INTERATOM GmbH, 5060 Bergisch Gladbach Beschichtungskammer mit Einrichtung zur Regelung der Zusammensetzung einer Gasatmosphäre
DE3926877A1 (de) * 1989-08-16 1991-02-21 Leybold Ag Verfahren zum beschichten eines dielektrischen substrats mit kupfer
DE4106513C2 (de) 1991-03-01 2002-06-13 Unaxis Deutschland Holding Verfahren zur Regelung eines reaktiven Sputterprozesses und Vorrichtung zur Durchführung des Verfahrens
US5602350A (en) * 1995-05-15 1997-02-11 The Penn State Research Foundation Method for compacting compactable materials and improved lubricant for same
JP3429957B2 (ja) * 1996-08-28 2003-07-28 松下電器産業株式会社 スパッタリング方法及び装置
US6572738B1 (en) * 1999-05-25 2003-06-03 Unaxis Balzers Aktiengesellschaft Vacuum treatment system and process for manufacturing workpieces
CN101921987A (zh) * 2009-06-10 2010-12-22 鸿富锦精密工业（深圳）有限公司 溅镀镀膜装置
TWI503434B (zh) * 2009-06-15 2015-10-11 Hon Hai Prec Ind Co Ltd 濺鍍鍍膜裝置
CN103958723B (zh) 2011-11-30 2017-04-05 应用材料公司 闭环控制

Family Cites Families (10)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE1055132B (de) * 1953-07-11 1959-04-16 Siemens Ag Verfahren und Einrichtung zur Herstellung von Selengleichrichterplatten
FR2232832A1 (en) * 1973-06-06 1975-01-03 Radiotechnique Compelec Discharge control in cathodic sputtering - using voltage variation on auxiliary insulated electrode to adjust gas supply
FR2273408A1 (en) * 1974-05-29 1975-12-26 Cit Alcatel Impedance matching for RF cathodic diode atomiser - by adjusting press. of gas admitted to chamber
US4024291A (en) * 1975-06-17 1977-05-17 Leybold-Heraeus Gmbh & Co. Kg Control of vapor deposition
US4043889A (en) * 1976-01-02 1977-08-23 Sperry Rand Corporation Method of and apparatus for the radio frequency sputtering of a thin film
FR2371009A1 (fr) * 1976-11-15 1978-06-09 Commissariat Energie Atomique Procede de controle du depot de couches par pulverisation reactive et dispositif de mise en oeuvre
DE2715591A1 (de) * 1977-04-07 1978-10-19 Bosch Gmbh Robert Vorrichtung zur regelung einer zerstaeubungsanlage
US4113599A (en) * 1977-09-26 1978-09-12 Ppg Industries, Inc. Sputtering technique for the deposition of indium oxide
US4201645A (en) * 1978-06-26 1980-05-06 Robert J. Ferran Closed-loop sputtering system and method of operating same
JP2934672B2 (ja) * 1989-07-03 1999-08-16 直之 大纒 静電容量型検出装置

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
DE3709177A1 (de) * 1987-03-20 1988-09-29 Leybold Ag Verfahren und vorrichtung zur regelung der reaktiven schichtabscheidung auf substraten mittels magnetronkatoden

Also Published As

Publication number Publication date
DE2821119A1 (de) 1979-11-15
IT1112450B (it) 1986-01-13
US4283260A (en) 1981-08-11
GB2021294A (en) 1979-11-28
FR2425480A1 (fr) 1979-12-07
FR2425480B1 (de) 1984-07-06
GB2021294B (en) 1982-07-28
NL7902718A (nl) 1979-11-15
IT7921700A0 (it) 1979-04-09
DE2821119C2 (de) 1983-08-25
ATA191179A (de) 1980-04-15

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