AT255510B - Druckempfindliche Halbleiteranordnung - Google Patents
Druckempfindliche HalbleiteranordnungInfo
- Publication number
- AT255510B AT255510B AT113566A AT113566A AT255510B AT 255510 B AT255510 B AT 255510B AT 113566 A AT113566 A AT 113566A AT 113566 A AT113566 A AT 113566A AT 255510 B AT255510 B AT 255510B
- Authority
- AT
- Austria
- Prior art keywords
- tip
- pressure
- semiconductor device
- pressure sensitive
- sensitive semiconductor
- Prior art date
Links
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 title claims description 8
- 230000035945 sensitivity Effects 0.000 description 3
- 230000035515 penetration Effects 0.000 description 2
- 229910052580 B4C Inorganic materials 0.000 description 1
- ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N Molybdenum Chemical compound [Mo] ZOKXTWBITQBERF-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 230000009286 beneficial effect Effects 0.000 description 1
- INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N boron carbide Chemical compound B12B3B4C32B41 INAHAJYZKVIDIZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 238000005530 etching Methods 0.000 description 1
- 230000002349 favourable effect Effects 0.000 description 1
- 239000000463 material Substances 0.000 description 1
- 229910052750 molybdenum Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000011733 molybdenum Substances 0.000 description 1
- 229910001750 ruby Inorganic materials 0.000 description 1
- 239000010979 ruby Substances 0.000 description 1
Landscapes
- Bipolar Transistors (AREA)
- Pressure Sensors (AREA)
Description
<Desc/Clms Page number 1> Druckempfindliche Halbleiteranordnung EMI1.1 <Desc/Clms Page number 2> sich auf eine druckempfindlicheTransistoren, gezogene Transistoren, Epitaxialtransistoren oder Mesatypen verwendet werden. Wesentlich ist es, solche Halbleiteranordnungen zu verwenden, bei denen die pn-Übergänge möglichst dicht unter der Oberfläche liegen. EMI2.1 trode 4 eine Spitze 30 aufgesetzt, die z. B. in einem System bei in Gegentakt arbeitenden Druck- quellen betrieben werden. Als Spitzenmaterial hat sich Rubin bzw. Borkarbid als besonders geeignet erwiesen. Es kann auch Molybdän verwendet werden : dies erweist sich jedoch in den meisten Fällen als zu weich. Um zu gewährleisten, dass die Druckänderung in einem Bereich erfolgt, in der die Druckempfind- lichkeit besonders gross ist, kann durch einen entsprechenden Vordruck der Bereich in dem die Druckände- rung erfolgt entsprechend eingestellt werden. Weiterhin ist auch der Einfluss der Eindringtiefe der pn-Übergänge auf die Druckempfindlichkeit zu erwarten. Ein Wert für die Emittereindringtiefe, die kleiner als 1 lui ist, hat sich als besonders gunstig er- wiesen. Allgemein kann man sagen, dass die pn-Übergänge möglichst dicht unter der Oberfläche liegen sollen. Es muss jedoch dabei immer sichergestellt bleiben, dass der Abstand der pn-Übergänge von der Oberfläche noch so gross ist, dass die pn-Übergänge durch die drückende Spitze nicht zerstört werden. Der geringe Abstand der pn-Übergänge von der Oberfläche muss nur an der Stelle, an der die Spitze aufsitzt, vorhanden sein. Es kann daher auch z. B. durch örtliches Abätzen nur an dieser Stelle der geringe Abstand eingestellt werden. Zur Einstellung von elektrischen Vorspannungen für Transistoren sind Batterien 27 und 28 vorge- sehen. Durch Anlegen einer Modulationsspannung am Emitter des Transistors nach Fig. 1 kann ausserdem auch eine Modulation der Kollektorspannung erzielt werden. Dadurch kann z. B. ein Trägerwechselstrom über das Mikrophon direkt moduliert werden. Es hat sich gezeigt, dass es günstig ist, dem Kollektorstrom einen Anfangswert zu geben, d. h. vor Ausübung des Druckes auf die Basiselektrode bzw. die Basiszone einen Wert für den Kollektorstrom einzu- stellen, der möglichst gering ist, d. h. nur so gross, dass der Transistor richtig arbeitet, d. h. eine merk- liche Stromverstärkung zeigt. Durch die Einstellung eines geringen Kollektorstroms vor Ausübung des Druckes kann die Empfindlichkeit der Anordnung erhöht werden. PATENTANSPRÜCHE : 1. Druckempfindliche Halbleiteranordnung mit drei hintereinanderliegenden, als Emitter, Basis und Kollektor wirksamen, flächenhafte pn-Übergänge bildenden Halbleiterzonen, bei der auf wenigstens einer der Zonen bzw. der mit dieser verbundenen Elektrode eine Spitze mit veränderbarem Auflagedruck auf- sitzt, dadurch gekennzeichnet, dass je eine Spitze auf der Basiszone bzw. Basiselektrode und i der Emitterzone bzw. der Emitterelektrode aufgesetzt ist.
Claims (1)
- 2. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass die Spitze auf der Basiselektrode etwa in der Mitte zwischen den seitlichen Elektrodenbegrenzungen aufsitzt.3. Halbleiteranordnung nach Anspruch 1 oder 2, dadurch gekennzeichnet, dass Emitter- und Basisübergänge einen Abstand von dem Oberflächenteil auf dem die Spitze aufsitzt, aufweisen, der kleiner als 1 lui ist.4. Halbleiteranordnung nach einem der Ansprüche 1 bis 3, dadurch gekennzeichnet, dass die Dicke der Basisschicht im Bereich unter der Aufsatzstelle der Spitze klein gegen die Dicke der Basis- schicht ausserhalb des Bereiches der Aufsatzstelle der Spitze ist.
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| DE255510X | 1963-07-23 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| AT255510B true AT255510B (de) | 1967-07-10 |
Family
ID=5963782
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| AT113566A AT255510B (de) | 1963-07-23 | 1964-03-11 | Druckempfindliche Halbleiteranordnung |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| AT (1) | AT255510B (de) |
-
1964
- 1964-03-11 AT AT113566A patent/AT255510B/de active
Similar Documents
| Publication | Publication Date | Title |
|---|---|---|
| GB1265204A (de) | ||
| DE1231033B (de) | Druckempfindliches Halbleiterbauelement mit drei Zonen abwechselnd entgegengesetztenLeitungstyps und einem Stempel auf einer Zone | |
| AT255510B (de) | Druckempfindliche Halbleiteranordnung | |
| DE3232336C2 (de) | ||
| AT255509B (de) | Druckempfindliche Halbleiteranordnung | |
| AT244414B (de) | Druckempfindliche Halbleiteranordnung | |
| JPS57160206A (en) | Fine current source circuit | |
| DE1250654B (de) | ||
| DE1215399B (de) | Druckempfindliche Halbleiteranordnung | |
| DE1241150B (de) | Druckempfindliche Halbleiteranordnung | |
| DE963617C (de) | Verstaerkerkaskadenschaltung mit einer Transistor- und einer Roehrenstufe | |
| DE975580C (de) | Transistorverstaerkerstufe | |
| DE1130525B (de) | Flaechentransistor mit einem scheibenfoermigen Halbleiterkoerper eines bestimmten Leitungstyps | |
| AT251652B (de) | Feldeffekttransistor | |
| CH619072A5 (de) | ||
| DE828709C (de) | Membran fuer elektromagnetische Telephone | |
| AT264587B (de) | Halbleiteranordnung | |
| AT253023B (de) | Halbleiteranordnung, insbesondere druckempfindliche Halbleiteranordnung, und Verfahren zur Herstellung derselben | |
| DE1266830C2 (de) | Halbleiter-Anordnung zur Erzeugung und Verstaerkung elektromagnetischer Schwingungen im Mikrowellenbereich | |
| DE1206483B (de) | Elektromechanischer Wandler | |
| DE480941C (de) | Verfahren zur UEbermittlung von Bildern u. dgl. mittels elektrischer Schwingungen | |
| DE1514401C (de) | Verfahren zum Herstellen einer Halbleiteranordnung | |
| GB349237A (en) | Improvements in or relating to apparatus for detecting and amplifying relatively weak electric currents | |
| AT255491B (de) | Halbleiteranordnung mit einer durch Diffusion erzeugten Basiszone und Verfahren Herstellung der Halbleiteranordnung | |
| DE1259598B (de) | Als mechanisch-elektrischer Wandler wirksames Halbleiterbauelement |