AT152982B - Oberfläche zur Aussendung von Sekundärelektronen und Verfahren zur Herstellung einer solchen Oberfläche. - Google Patents

Oberfläche zur Aussendung von Sekundärelektronen und Verfahren zur Herstellung einer solchen Oberfläche.

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   <Desc/Clms Page number 1> 
 



  Oberfläche zur Aussendung von   Sekundärelektronen   und Verfahren zur Herstellung einer solchen   Oberfläche.   
 EMI1.1 
 

 <Desc/Clms Page number 2> 

 



   Das Verfahren nach der Erfindung kann wie folgt durchgeführt werden :
Eine aus Nickel bestehende Elektrode wird mit einer Magnesiumoxydschicht überzogen, was auf bekannte Weise, z. B. durch Spritzen, erfolgen kann. Eine auf diese Weise behandelte Elektrode wird in eine Acetylenatmosphäre eingeführt und dann die Elektrode durch Hochfrequenzerhitzung mit einer Kohlenstoffschicht überzogen. Die Dauer einer solchen Bearbeitung kann z. B. einige Minuten betragen. Die Elektrode wird dann zusammen mit andern Teilen in den Kolben einer Entladungröhre eingebaut, wonach die Röhre entlüftet wird. Es wird sodann die erhaltene Oberfläche einige Augenblicke auf eine Temperatur von etwa 900  C erhitzt, was ebenfalls durch Hochfrequenzerhitzung erfolgen kann.

   Es hat sich herausgestellt, dass bei einer auf diese Weise hergestellten Oberfläche eine Sekundäremission von der Grössenordnung von sechs Sekundärelektronen je Primärelektron bei einer Spannung von 500 Volt erreicht werden kann. 



   PATENT-ANSPRÜCHE :
1.   Oberfläche   zur Aussendung von Sekundärelektronen, dadurch gekennzeichnet, dass sie aus einer Schichte von reinem Kohlenstoff mit hohem Adsorptionsvermögen besteht, an der ein oder mehrere der Metalle, Magnesium, Kalzium Strontium oder Barium adsorbiert sind.

Claims (1)

  1. 2. Verfahren zur Herstellung einer Oberfläche nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein Kernkörper mit einer reinen Kohlenstoffschicht mit hohem Adsorptionsvermögen überzogen wird und dann auf dieser Schicht eines oder mehrere der Metalle, Magnesium, Kalzium, Strontium oder Barium angebracht werden.
    3. Verfahren nach Anspruch 2, dadurch gekennzeichnet, dass die Kohlenstoffschicht durch Hochfrequenzerhitzung des Kernkörpers in einer Atmosphäre eines einfachen Kohlenwasserstoffes angebracht wird.
    4. Verfahren zur Herstellung einer Oberfläche nach Anspruch 1, dadurch gekennzeichnet, dass ein Kernkörper mit einer aus einem oder mehreren Oxyden eines oder mehrere der Metalle Magnesium, Kalzium, Strontium oder Barium bestehenden Schicht überzogen wird und auf diese Oxydschicht durch Hochfrequenzerhitzung in einer Atmosphäre eines einfachen Kohlenwasserstoffes, eine Kohlenstoffschicht niedergeschlagen wird, worauf der so erhaltene Körper im Hochvakuum einige Zeit erhitzt wird.
    5. Verfahren nach Anspruch 2 oder folgenden, dadurch gekennzeichnet, dass der Kernkörper aus Nickel hergestellt ist.
    6. Verfahren nach Anspruch 2 oder folgenden, dadurch gekennzeichnet, dass die Kohlenwasserstoffatmosphäre in der Hauptsache aus Acetylen besteht.
    7. Elektrische Entladungsröhre mit einer (oder mehreren) Elektroden mit hoher Sekundäremission, welche mit einer Oberfläche entsprechend Anspruch 1 ausgerüstet ist (sind).
AT152982D 1936-02-10 1937-02-06 Oberfläche zur Aussendung von Sekundärelektronen und Verfahren zur Herstellung einer solchen Oberfläche. AT152982B (de)

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