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Verfahren und Vorrichtung zur Beseitigung von Algen.
Eine wichtige Aufgabe in der Wasser-und Abwasserreinigungstechnik bildet die Beseitigung von Algen und Pilzen, die vielfach Störungen und Belästigungen verursachen, die teils, wie bei Trinkwasser, in einem unangenehmen Geruche, teils, wie bei Badewasser, darin bestehen, dass durch die Algen das Wasser ein unansehnliches und schmutziges Aussehen erhält, teils, wie in Kondensationsanlagen, zu Verengungen und Verstopfungen von Rohrleitungen und Verminderung der Kühlwirkung, teils, wie in Filteranlagen, zu Verstopfungen der Filter und damit der Notwendigkeit zu deren häufiger Reinigung, teils, wie in Vorfluter, in welche Industrieabwässer, etwa von Zellulose-, Zuckerfabriken usw.
gelangen, zu schweren Pilzwucherungen, die die Fischerei beeinträchtigen, Mühlenbetriebe und sonstige Kraftanlagen schädigen usw., führen kann.
Zur Bekämpfung dieser Übelstände werden derzeit entweder Chlor in Gestalt von freiem oder aktivem Chlor oder Kupfersulfat- angewendet, mit denen man wohl in den leichteren Fällen der Algenbekämpfung, nicht aber in schweren, vor allen Dingen aber nicht in den letztgenannten Fällen, Erfolge gehabt hat.
Auch in verschiedenen der leichteren Fälle sind die Chlor-bzw. Kupfermengen so hoch, dass sich andere unangenehme Begleiterscheinungen zeigen, wie etwa Chlorgeruch oder ein dauernder unerwünscht hoher Kupfergehalt des für Genusszwecke bestimmten Wassers usw.
Gegenstand der vorliegenden Erfindung ist ein Verfahren, bei welchem Chlor und Kupfer gemeinsam zugeführt werden. Es hat sich nämlich die nicht vorauszusehende Tatsache herausgestellt, dass die gleichzeitige Einwirkung beider Substanzen eine erheblich grössere Wirksamkeit entfaltet als jede, selbst in grösserer Menge, für sich allein.
So wurden beispielsweise in einem Wasser, das ein Chlorbindungsvermögen von etwa 20 mg pro Liter besass und das trotz der hiedurch gekennzeichneten ungewöhnlich hohen Verschmutzung als Gebrauchwasser für eine Papierfabrik verwendet werden musste, die Algen mit Mengen von zirka 2'5 mg Chlor und zirka 0'18 mg Kupfer pro Liter beseitigt, während alle früheren Versuche zur Beseitigung der Algen fehlgeschlagen waren.
In einem andern Fall gelang es, eine schwere Verpilzung des Vorfluters mit Sphaerotilus-und Leptomituspilzen mit einem Zusatz von etwa 1 mg Chlor und etwa O'l mg Kupfer pro Liter zu beseitigen und danach mit nur etwa der vorgenannten Mengen den Vorfluter dauernd pilzfrei zu halten.
Die Anwendung des Verfahrens kann in beliebiger Weise geschehen. Eine zweckmässige Vorrichtung soll an Hand der Fig. 1 der Zeichnungen nachstehend beschrieben werden :
Ein von einer Vorratsflasche 21 kommender Chlorgasstrom wird in einer Apparatur 22 abgemessen, einreguliert und in dem zur Apparatur gehörigen, mit einem kleinen fliessenden Wasserstrom gespeisten Absorptionsgefäss 23 zu Chlorwasser gelöst. Von diesem Absorptionsgefäss 23 führen zwei Leitungen zu dem in der Leitung 28 fliessenden zu behandelnden Wasser, u. zw. die Leitung 24 unmittelbar, die Leitung 25 zunächst zu einem mit dem anzuwendenden Kupfer in zerkleinerter Form gefüllten Gefäss 26.
Eine Reguliervorrichtung 27 gestattet die Verteilung des Chlorwasserstromes auf die beiden Leitungen 24 und 25 in beliebiger Weise. In dem Gefäss 26 verbindet sich das Chlor mit dem darin vorhandenen Metall, so dass die abfliessende Lösung eine dem zugeführten Chlor etwa entsprechende Kupfer-Chloridmenge enthält.
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Will man an Stelle von Chlorgas aktives Chlor in Form von freier unterchloriger Säure oder Hypochloritlösung anwenden, so verfährt man in der Weise, dass eine solche Lösung, beispielsweise Natrium-Hypochloritlösung, mittels einer geeigneten Dosierungsvorrichtung dem zu behandelnden Wasser oder Abwasser in einstellbarer Menge zugeführt wird, während man gleichzeitig eine Lösung eines Kupfersalzes, beispielsweise Kupfer-Chlorid, ebenfalls in einstellbarer Weise zuführt, u. zw. ist es zweckmässig, die Vereinigung der beiden Mittel erst in dem zu behandelnden Medium vorzunehmen, um durch die hiebei eintretende Verdünnung unerwünschten Zwischenreaktionen, die bei höherer Konzentration eintreten können, vorzubeugen.
Zur Vereinfachung der praktischen Ausübung des Verfahrens wird zweckmässig eine Dosierungseinrichtung benutzt, mit welcher beide Flüssigkeiten, nämlich die Kupfer-und die Chlorlösung gleichzeitig von nur einer Regelvorrichtung aus dosiert werden können, so dass bei Änderung der Einstellung der Regelvorrichtung die Menge beider Lösungen gleichzeitig zwangläufig im gleichen Verhältnis geändert wird.
Nachstehend wird an Hand der Fig. 2 eine solche Vorrichtung beschrieben.
Die Vorrichtung besteht aus-einer Wasserzuführung 1, einem einen Heber enthaltendes Gefäss 2, dessen Ableitungsrohr sich in zwei Teile teilt und das abfliessende Wasser zu etwa gleichen Teilen zwei Auffanggefässen 3a und 3b zuführt, zwei anschliessenden, von dem abfliessenden Wasser durchflossenen Injektoren 4a und 4b, mit deren Saugstutzen durch die Leitungen 5a und 5b die Dosierungsheber 6a
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die entsprechenden Lösungen in bestimmten Mengen ansaugen, sowie fernerhin den Auffanggefässen 8a und 8b und den Ablaufleitungen zu dem zu behandelnden Wasser 9a und 9b, welch letzteres in der Leitung 17 fliesst.
Der Dosierungsvorgang gestaltet sich folgendermassen:
Durch das Rohr 1 fliesst ein Wasserstrom, dessen Stärke durch das Regelventil 13 eingestellt werden kann, dem Hebergefäss 2 zu. Ein Schmutzfänger 16 verhütet das Eindringen von Schmutzteilen in die Leitung. Je nach der Stärke des zulaufenden Wasserstromes füllt sich das Hebergefäss in verschiedenen Zeiträumen und schlägt dementsprechend verschieden oft in der Zeiteinheit über.
Das abfliessende Wasser läuft beim Überschlagen zu etwa gleichen Teilen den Gefässen 3a a und 3b zu und erzeugt beim Passieren der Injektoren 4a und 4b in den Rohren Ja und 5b eine Saugung, die sich, da die anschliessenden Ablaufrohre in den Ablaufgefässen 8a und 8b unter Flüssigkeitsniveau enden, auf die beiden Heber 6a und 6b auswirkt und diese somit ebenfalls zum Überschlagen bringt.
Diese beiden Heber besitzen an ihrem tiefsten in den Vorratsbehältern 7a und 7b liegenden Punld ; eine kleine Öffnung, durch welche sie sich in der zwischen zwei Überschlägen des Hebers 2 vergehenden Zeit wieder füllen. Hiedurch sinkt allmählich das Flüssigkeitsniveau in den Behältern 7a und'lb um ein geringes, bis die unteren Öffnungen der Niveauflaschen 10a und 10b frei werden, worauf dann unter Eindringen von Luft in dieselben neue Flüssigkeit in die Vorratsbehälter 7a und 7b einströmt bis die Flaschenöffnungen wieder von der Flüssigkeit bedeckt sind.
Aus den Ablaufgefässen. 8a und 8b laufen die beiden Flüssigkeiten durch die Leitungen 9a und 9b in das zu behandelnde Wasser ab, während das aus der Leitung 1 kommende Triebwasser nachPassieren des Hebergefässes 2 und der Injektoren 4a und 4b durch das Gefäss 14 und die anschliessenden Leitungen 15 in beliebiger Weise, beispielsweise in die Leitung 17 ebenfalls, zur Ableitung gebracht wird.
Auf diese Weise erreicht man, wenn für die Speisung des Hebers 6 a eine Kupfersalzlösung und des Hebers 6b eine Hypochlorlösung benutzt wird, eine zwangsweise proportionale Regelung der beiden Lösungen zueinander, unabhängig von der jeweils eingestellten Zulaufmenge.
Das gleiche Ergebnis lässt sich auch mit andern Dosierungseinrichtungen erreichen, beispielsweise mit einer nach Art eines Schöpfrades arbeitenden Vorrichtung, bei welcher auf der Triebradachse zwei
Schöpfräder befestigt sind, deren eines aus einem Vorratsbehälter Natrium-Hypochloriflösung, das andere aus einem andern Vorratsbehälter Kupferchloritlösung schöpft. Ändert man durch Änderung des Triebwasserstromes die Umdrehungsgeschwindigkeit des Schöpfrades, so ändert sich auch zwangläufig im gleichen Verhältnis die von den beiden Schöpfrädern geschöpfte Menge von Hypochlorit-bzw.
Kupferlösung.
PATENT-ANSPRÜCHE :
1. Verfahren zur Beseitigung von Algen und Pilzen, dadurch gekennzeichnet, dass man auf das von diesen zu befreiende Wasser oder Abwasser Chlor und Kupfer gemeinsam einwirken lässt.