JP2009218488A - レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム - Google Patents

レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム Download PDF

Info

Publication number
JP2009218488A
JP2009218488A JP2008062737A JP2008062737A JP2009218488A JP 2009218488 A JP2009218488 A JP 2009218488A JP 2008062737 A JP2008062737 A JP 2008062737A JP 2008062737 A JP2008062737 A JP 2008062737A JP 2009218488 A JP2009218488 A JP 2009218488A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
light
laser
longitudinal mode
signal
mode light
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2008062737A
Other languages
English (en)
Inventor
Hiroki Masuda
裕樹 増田
Kaoru Miyata
薫 宮田
Hisayoshi Sakai
久嘉 境
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitutoyo Corp
Mitsutoyo Kiko Co Ltd
Original Assignee
Mitutoyo Corp
Mitsutoyo Kiko Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Mitutoyo Corp, Mitsutoyo Kiko Co Ltd filed Critical Mitutoyo Corp
Priority to JP2008062737A priority Critical patent/JP2009218488A/ja
Priority to EP09154763A priority patent/EP2101378A1/en
Priority to US12/402,573 priority patent/US7835411B2/en
Publication of JP2009218488A publication Critical patent/JP2009218488A/ja
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/139Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • H01S3/1392Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length by using a passive reference, e.g. absorption cell
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/139Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • H01S3/1396Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length by using two modes present, e.g. Zeeman splitting
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/05Construction or shape of optical resonators; Accommodation of active medium therein; Shape of active medium
    • H01S3/08Construction or shape of optical resonators or components thereof
    • H01S3/08004Construction or shape of optical resonators or components thereof incorporating a dispersive element, e.g. a prism for wavelength selection
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/09Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping
    • H01S3/091Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping
    • H01S3/094Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light
    • H01S3/0941Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode
    • H01S3/09415Processes or apparatus for excitation, e.g. pumping using optical pumping by coherent light of a laser diode the pumping beam being parallel to the lasing mode of the pumped medium, e.g. end-pumping
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/106Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/108Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating by controlling devices placed within the cavity using non-linear optical devices, e.g. exhibiting Brillouin or Raman scattering
    • H01S3/109Frequency multiplication, e.g. harmonic generation
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/136Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity
    • H01S3/137Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling devices placed within the cavity for stabilising of frequency
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/10Controlling the intensity, frequency, phase, polarisation or direction of the emitted radiation, e.g. switching, gating, modulating or demodulating
    • H01S3/13Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude
    • H01S3/139Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length
    • H01S3/1398Stabilisation of laser output parameters, e.g. frequency or amplitude by controlling the mutual position or the reflecting properties of the reflectors of the cavity, e.g. by controlling the cavity length by using a supplementary modulation of the output
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/1601Solid materials characterised by an active (lasing) ion
    • H01S3/1603Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth
    • H01S3/1611Solid materials characterised by an active (lasing) ion rare earth neodymium
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01SDEVICES USING THE PROCESS OF LIGHT AMPLIFICATION BY STIMULATED EMISSION OF RADIATION [LASER] TO AMPLIFY OR GENERATE LIGHT; DEVICES USING STIMULATED EMISSION OF ELECTROMAGNETIC RADIATION IN WAVE RANGES OTHER THAN OPTICAL
    • H01S3/00Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range
    • H01S3/14Lasers, i.e. devices using stimulated emission of electromagnetic radiation in the infrared, visible or ultraviolet wave range characterised by the material used as the active medium
    • H01S3/16Solid materials
    • H01S3/163Solid materials characterised by a crystal matrix
    • H01S3/1671Solid materials characterised by a crystal matrix vanadate, niobate, tantalate
    • H01S3/1673YVO4 [YVO]

Landscapes

  • Physics & Mathematics (AREA)
  • Electromagnetism (AREA)
  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Plasma & Fusion (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Lasers (AREA)

Abstract

【課題】安価に変調による影響を解消したレーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラムを提供する。
【解決手段】レーザ周波数安定化装置は、波長の異なる第1,第2縦モード光を生成し出射するレーザ光生成部10、レーザ光を第1縦モード光L(1)及び第2縦モード光L(2)の分光するレーザ光分光部20、光出力信号Sg1を検出する第1検出部31、第1縦モード光L(1)による第1縦モード信号Sgaを検出する第2検出部41、第2縦モード光L(2)による第2縦モード信号Sgbを検出する第3検出部42、共振器長を変化させるアクチュエータ18、光出力信号Sg1に基づきアクチュエータ18の駆動を制御する第1駆動制御部36、第1縦モード信号Sgaの信号強度及び第2縦モード信号Sgbの信号強度の比が所定値となるようにアクチュエータ18の駆動を制御する第2駆動制御部42を備える。
【選択図】図1

Description

本発明は、光出力信号に基づき共振器長を変化させレーザ光の発振周波数を安定化させるレーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラムに関するものである。
半導体レーザにより励起するNd:YAG結晶などを利得媒体として用いた連続波発振の532nm領域の固体レーザの波長は、長さの標準として用いられる。実際に、レーザ光の波長を用いて測長を行うためには、レーザ光が単一周波数、すなわち単一縦モードで発振する必要がある。
さらに、レーザ光の波長を用いて測長を行う場合、測長の不確かさを低減するには、レーザ光の周波数安定度を高くする必要がある。ヨウ素分子の吸収線の分光技術を用いたヨウ素安定化レーザでは、飽和吸収信号の中心に発振周波数を制御することで、高い周波数安定度のレーザ光を得ることができる(例えば、特許文献1参照)。
特開2001−274495号公報
しかしながら、上記特許文献1は、飽和吸収信号を捉えるため、共振器長に変調を与えながら、レーザ光の発振周波数を制御する。したがって、測長等に使用されるレーザ光の発振周波数に変調が生じる。つまり、従来技術においては、飽和吸収信号の測定に伴う変調の影響により、測定精度等が悪化するという問題がある。
上記問題に対して、従来、電気光学変調器(EOM)等の変調器を用いた構成が提案されている。しかしながら、その構成は、高価な光学素子を用いるためコスト高となる。
そこで、本発明は、安価に変調による影響を解消したレーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラムを提供することを目的とする。
本発明に係るレーザ周波数安定化装置は、共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、当該レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号に含まれる飽和吸収信号に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を安定化するレーザ周波数安定化装置であって、波長の異なる第1縦モード光及び第2縦モード光を含むレーザ光を生成し出射するレーザ光生成部と、このレーザ光生成部から出射されたレーザ光を前記第1縦モード光及び前記第2縦モード光に分光する分光部と、前記吸収セルからの光出力信号を検出する第1検出部と、前記第1縦モード光の信号強度を検出する第2検出部と、前記第2縦モード光の信号強度を検出する第3検出部と、前記共振器長を変化させるアクチュエータと、前記第1検出部で検出された光出力信号から飽和吸収信号を検出し、この飽和吸収信号に基づき前記アクチュエータの駆動を制御する第1駆動制御部と、前記第2検出部で検出された第1縦モード光の信号強度と前記第3検出部で検出された第2縦モード光の信号強度との比が所定値となるように前記アクチュエータの駆動を制御する第2駆動制御部と、前記アクチュエータに対する前記第1駆動制御部による制御と前記第2駆動制御部による制御とを切り替える切替部とを備えたことを特徴とする。
このような構成により、レーザ周波数安定化装置は、共振器長に変調を与えることなく周波数を安定化させることができる。
また、前記レーザ光生成部は、ピーク波長が隣り合い、互いの偏光面が直交する第1縦モード光及び第2縦モード光を生成し出射する構成が望ましい。また、前記切替部は、前記第1駆動制御部が検出した飽和吸収信号に前記レーザ光の発振周波数が一致したら、前記アクチュエータに対する制御を前記第1駆動制御部による制御から前記第2駆動制御部による制御に切り替える構成が望ましい。また、前記第1駆動制御部は、前記光出力信号に基づく2次微分信号及び前記光出力信号に基づく3次微分信号の少なくとも一方を基に前記アクチュエータを制御する構成が望ましい。
本発明に係るレーザ周波数安定化方法は、共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、当該レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号の微分信号に含まれる飽和吸収信号に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を安定化するレーザ周波数安定化方法であって、前記吸収セルからの光出力信号に基づき前記共振器長を制御する第1制御ステップと、前記レーザ光に含まれる波長の異なる第1縦モード光及び第2縦モード光を検出し、当該第1縦モード光に基づく信号強度と当該第2縦モード光に基づく信号強度との比が所定値となるように前記共振器長を制御する第2制御ステップとを備えることを特徴とする。
本発明に係るレーザ周波数安定化プログラムは、共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、該レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号の微分信号に含まれる飽和吸収信号に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を安定化させるためのレーザ周波数安定化プログラムであって、コンピュータに、前記吸収セルからの光出力信号に基づき前記共振器長を制御する第1制御ステップと、前記レーザ光に含まれる波長の異なる第1縦モード光及び第2縦モード光を検出し、当該第1縦モード光に基づく信号強度と当該第2縦モード光に基づく信号強度との比が所定値となるように前記共振器長を制御する第2制御ステップとを実行させるためのものである。
本発明によれば、安価に変調による影響を解消したレーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラムを提供することができる。
以下、図面を参照して、本発明の実施形態に係るレーザ周波数安定化装置について説明する。
(本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の構成)
本発明の実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の構成を説明する。図1は、本発明の実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の構成概略図である。図1に示すように、レーザ周波数安定化装置は、レーザ光生成部10、レーザ光分光部20、第1制御部30、第2制御部40、及び切替部50を備える。レーザ光生成部10は、レーザ光を生成する機能を有する。レーザ光分光部20は、レーザ光生成部10にて生じたレーザ光を分光する機能を有する。第1制御部30、及び第2制御部40は、レーザ光を検出すると共にレーザ光の発振周波数を制御する機能を有する。切替部50は、レーザ光の周波数制御を第1制御部30の制御、又は第2制御部40の制御に切り替える機能を有する。
レーザ光生成部10は、励起用半導体レーザ11、集光系12、及び筐体13を有する。励起用半導体レーザ11は、所定の電流を与えられることにより波長808nmの光L(0)を放出する。集光系12は、複数の光学部材により構成されている。集光系12は、励起用半導体レーザ11からの光L(0)を筐体13内に導光する。
筐体13は、その内部であって、光L(0)の光路に順次配置されたNd:YVO4結晶14a、KTP結晶14b、波長板15、エタロン16、反射鏡17、及びアクチュエータ18を有する。
Nd:YVO4結晶14aは、ダイオードレーザ励起固体レーザ用の結晶である。Nd:YVO4結晶14aは、光L(0)の照射により、Nd原子が励起され、誘導輻射から波長1064nmの光を発光する。Nd:YVO4結晶14aは、集光系12の側面に、波長1064nmの光を反射するようにコーティングがなされている。
KTP結晶14bは、非線形光学結晶である。KTP結晶14bは、誘導輻射による波長1064nmの光の一部を2次高調波である532nmの光とする。
波長板15は、光L(0)の垂直偏光の軸を位相シフトさせ、その光L(0)の偏光を変える。
エタロン16は、高反射フィルタを向かい合わせに配置した構成を有する。エタロン16は、周波数フィルタの機能を有し、予め、周波数(波長)の異なる2つの光(第1,第2縦モード光)、より具体的にはピーク波長が隣り合う第1及び第2縦モード光を生じさせるように調整されている。
反射鏡17は、波長1064nmの光を反射し、波長532nmの光を透過するようにコーティングがなされている。したがって、波長1064nmの光に対してのみ、Nd:YVO4結晶14aと反射鏡17によって共振器が構成される。
アクチュエータ18は、ピエゾ素子にて構成されている。アクチュエータ18は、筐体13と反射鏡17の間に設けられている。アクチュエータ18は、印加する電圧により変形(膨張、伸縮)する。つまり、アクチュエータ18は、その変形により反射鏡17をNd:YVO4結晶14aに対して相対移動させ、共振器長を変化させる。
レーザ光生成部10は、エタロン16の調整によって、波長方向のピーク位置が隣り合う第1縦モード光L(1)及び第2縦モード光L(2)を生成し出射させる。レーザ光生成部10は、第1縦モード光L(1)及び第2縦モード光L(2)をレーザ光分光部20へと照射する。
第1縦モード光L(1)の偏光の向きは、第2縦モード光L(2)の偏光の向きと直交する。例えば、第1縦モード光L(1)は、π光であり、第2縦モード光L(2)は、σ光である。また、例えば、第1縦モード光L(1)は、σ光であり、第2縦モード光L(2)は、π光である。
レーザ光分光部20は、ビームスプリッタ201、偏光板202、1/2波長板203、第1偏光ビームスプリッタ204、プリズム205、1/2波長板206、第2偏光ビームスプリッタ207、1/4波長板208、ヨウ素セル209、反射鏡210、及び第3偏光ビームスプリッタ211を有する。
ビームスプリッタ201は、レーザ光生成部10からの第1縦モード光L(1)及び第2縦モード光L(2)が入射される位置に設けられている。ビームスプリッタ201は、第1縦モード光L(1)及び第2縦モード光L(2)を分割する。ビームスプリッタ201は、第1縦モード光L(1)の一部を透過して第1縦モード光L(1A)とし、残りを反射して第1縦モード光L(1B)とする。また、ビームスプリッタ201は、第2縦モード光L(2)の一部を透過して第2縦モード光L(2A)とし、残りを反射して第2縦モード光L(2B)とする。
偏光板202、1/2波長板203、及び第1偏光ビームスプリッタ204は、第1縦モード光L(1A)及び第2縦モード光L(2A)の光路に順次配置されている。偏光板202は、第1縦モード光L(1A)のみを透過し、第2縦モード光L(2A)は遮断するように構成されている。1/2波長板203は、直線偏光の第1縦モード光L(1A)の偏光方向を変える。第1偏光ビームスプリッタ204は、偏光された第1縦モード光L(1A)を分割する。第1偏光ビームスプリッタ204は、偏光された第1縦モード光L(1A)の一部を透過して第1縦モード光L(1Aa)を生成し、残りを反射して第1縦モード光L(1Ab)を生成する。ここで、第1偏光ビームスプリッタ204を透過した第1縦モード光L(1Aa)は、測長等に用いられる。
プリズム205は、第1偏光ビームスプリッタ204で反射された第1縦モード光L(1Ab)が照射される位置に設けられている。プリズム205は、第1偏光ビームスプリッタ204からの第1縦モード光L(1Ab)を所定角度に反射する。
1/2波長板206、第2偏光ビームスプリッタ207、1/4波長板208、ヨウ素セル209、及び反射鏡210は、プリズム205にて反射された第1縦モード光L(1Ab)の光路に順次設けられている。
上記構成により、第1縦モード光L(1Ab)は、1/2波長板206、第2偏光ビームスプリッタ207、1/4波長板208、及びヨウ素セル209を介して反射鏡210に照射される。続いて、第1縦モード光L(1Ab)は、ヨウ素セル209、及び1/4波長板208を介して第2偏光ビームスプリッタ207にて反射される。そして、上記光路にて、第1縦モード光L(1Ab)は、ヨウ素セル209を透過することにより、特定周波数領域の光が吸収された吸収光L(1Ab)’となる。
第3偏光ビームスプリッタ211は、第1縦モード光L(1B)、及び第2縦モード光L(2B)の光路に配置されている。第3偏光ビームスプリッタ211は、第1縦モード光L(1B)、及び第2縦モード光L(2B)を分光する。第3偏光ビームスプリッタ211は、第1縦モード光L(1B)を反射させ、第2縦モード光L(2B)を透過させる。
第1制御部30は、第1検出部31、2次微分用ロックインアンプ32、3次微分用ロックインアンプ33、主制御部34、変復調用信号発生器35、及び第1駆動制御部36を有する。
第1検出部31は、第2偏光ビームスプリッタ207からの吸収光L(1Ab)’を検出する。第1検出部31は、検出した吸収光L(1Ab)’に基づき光出力信号Sg1を生成する。第1検出部31は、光出力信号Sg1を2次微分用ロックインアンプ32及び3次微分用ロックインアンプ33へと出力する。
2次微分用ロックインアンプ32は、入力された光出力信号Sg1を周波数2fHzで復調し、2次微分信号Sg2を生成する。2次微分用ロックインアンプ32は、生成した2次微分信号Sg2を主制御部34へと出力する。
3次微分用ロックインアンプ33は、入力された光出力信号Sg1を周波数3fHzで復調し、3次微分信号Sg3を生成する。3次微分用ロックインアンプ33は、生成した3次微分信号Sg3を主制御部34へと出力する。
主制御部34は、例えば、PC(Personal Computer)にて構成されている。主制御部34は、各種プログラムを格納する記憶部を有する。主制御部34は、格納した各種プログラムに従って、レーザ光の周波数を制御する。主制御部34は、入力された2次微分信号Sg2及び3次微分信号Sg3に基づき、切替部50の状態を制御する。主制御部34は、入力された3次微分信号Sg3に基づき、第1アクチュエータ制御信号Sc1を生成する。第1アクチュエータ制御信号Sc1は、第1駆動制御部36に入力され、第1駆動制御部36を制御する。
変復調用信号発生器35は、周波数1fHzの信号を第1駆動制御部36へと出力する。変復調用信号発生器35は、周波数2fHzの信号を2次微分用ロックインアンプ32へと出力する。変復調用信号発生器35は、周波数3fHzの信号を3次微分用ロックインアンプ33へと出力する。
第1駆動制御部36は、第1アクチュエータ制御信号Sc1及び周波数1fHzの信号に基づき、第1制御電圧C1を生成し、この第1制御電圧C1を切換部50へと印加する。第1制御電圧C1は、周波数1fHzにて変調された電圧である。上記構成を換言すると、第1駆動制御部36は、光出力信号Sg1から生成される3次微分信号Sg3に基づきアクチュエータ18を制御する。
第2制御部40は、第2検出部41、第3検出部42、差動アンプ43、及び第2駆動制御部44を有する。
第2検出部41は、第3偏光ビームスプリッタ211からの第1縦モード光L(1B)を検出する。第2検出部41は、検出した第1縦モード光L(1B)に基づき、第1モード信号Sgaを生成する。第2検出部41は、第1モード信号Sgaを差動アンプ43へと出力する。
第3検出部42は、第3偏光ビームスプリッタ211からの第2縦モード光L(2B)を検出する。第3検出部42は、検出した第2縦モード光L(2B)に基づき、第2モード信号Sgbを生成する。第3検出部42は、第2モード信号Sgbを差動アンプ43へと出力する。
差動アンプ43は、第1モード信号Sga、第2モード信号Sgbを差動増幅し、第2アクチュエータ制御信号Sc2を生成する。第2アクチュエータ制御信号Sc2は、第2駆動制御部44を制御するための信号である。第2アクチュエータ制御信号Sc2は、第1モード信号Sgaの信号強度と第2モード信号Sgbの信号強度との比を示す信号である。差動アンプ43は、第2アクチュエータ制御信号Sc2を第2駆動制御部44へと出力する。
第2駆動制御部44は、第2アクチュエータ制御信号Sc2に基づき、第2制御電圧C2を生成し、この第2制御電圧C2を切替部50へと印加する。第2制御電圧C2は、第1モード信号Sgaの信号強度と第2モード信号Sgbの信号強度との比に基づく電圧である。
切替部50は、第1〜第3端子51〜53を有する。第1端子51は、アクチュエータ18に接続されている。第2端子52には、第1制御電圧C1が印加される。第3端子53には、第2制御電圧C2が印加される。
つまり、切替部50において、第1端子51と第2端子52とを接続すると、アクチュエータ18に対して第1制御電圧C1による駆動制御がなされる。また、切替部50において、第1端子51と第3端子53とを接続すると、アクチュエータ18に対して第2制御電圧C2による駆動制御がなされる。また、切替部50は、主制御部34の制御により第1〜第3端子51〜53の間の接続の切り替えを行う。
(本実施形態に係るエタロン16の調整)
次に、上述したレーザ光生成部10から隣り合う2本の縦モード光L(1B)、L(2B)を出射させるためのエタロン16の調整方法について説明する。エタロン16の調整は、例えば、以下のように行う。先ず、ビームスプリッタ201と第3偏光ビームスプリッタ211との間に光スペクトルアナライザを設置する。また、第1偏光ビームスプリッタ204の後に波長計を設置する。そして、設置した光スペクトルアナライザによって隣り合う2本の縦モード光L(1B)、L(2B)を読み取り、これらの縦モード光L(1B)、L(2B)が出射されるように共振器内のエタロン16の回転角度を調整した後、波長計による測定結果に基づき第1縦モード光L(1A)が所望の周波数になるように調整を行う。
(本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の制御)
次に、図2及び図3を参照して、本実施形態におけるレーザ周波数を安定化する制御(レーザ周波数安定化制御)について説明する。図2は、本実施形態に係るレーザ周波数安定化制御を説明するフローチャートである。図3は、光出力信号Sg1及び3次微分信号Sg3を示す図である。
図2に示すように、先ず、主制御部34は、切替部50を第1状態に切り替える(ステップS11)。ここで、第1状態とは、第1端子51が、第2端子52に接続された状態とする。つまり、主制御部34は、アクチュエータ18を第1駆動制御部36にて制御するように設定する。
続いて、第1駆動制御部36は、アクチュエータ18の駆動を光出力信号Sg1に基づき制御する(ステップS12)。つまり、第1駆動制御部36は、共振器長を光出力信号Sg1に基づき制御する。
上記ステップS12の制御にて、先ず、第1駆動制御部36は、アクチュエータ18を駆動させ、所定の周波数領域における3次微分信号Sg3を測定する。上記測定により、図3に示すように、所定の周波数領域における3次微分信号Sg3には、ピーク及びバレーにて構成される複数の飽和吸収信号P1〜Pn(nは自然数)が観測される。
そして、第1駆動制御部36は、アクチュエータ18を駆動させ、任意の飽和吸収信号Pkの中心周波数に一致するように、3次微分信号Sg3の発振周波数を設定する。これにより、測長に用いられる第1縦モード光L(1Aa)は、設定した飽和吸収信号Pkの中心周波数と一致する発振周波数となる。ここで、第1駆動制御部36から出力される第1制御電圧C1は、周波数1fHzの信号により変調されたものである。したがって、第1縦モード光L(1Aa)は、変調された光となる。
次に、主制御部34は、切替部50を第2状態に切り替える(ステップS13)。ここで、第2状態とは、第1端子51が第3端子53に接続された状態とする。つまり、主制御部34は、アクチュエータ18を第2駆動制御部44にて制御するように設定する。
続いて、第2駆動制御部44は、アクチュエータ18を第1モード信号Sgaの信号強度、及び第2モード信号Sgbの信号強度に基づき制御する(ステップS14)。つまり、第2駆動制御部44は、共振器長を第1モード信号Sgaの信号強度、及び第2モード信号Sgbの信号強度に基づき制御する。第2駆動制御部44は、第1モード信号Sgaの信号強度と第2モード信号Sgbの信号強度が同等、若しくは両者の比が一定(所定値)となるように制御する。
次に、主制御部34は、制御を終了する終了命令を受け付けたか否かを判断する(ステップS15)。ここで、主制御部34は、終了命令を受け付けたと判断すると(ステップS15,Y)、上記制御を終了する。一方、主制御部34は、終了命令を受け付けていないと判断すると(ステップS15,N)、繰り返しステップS14の処理を実行する。
(本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の効果)
次に、本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の効果を説明する。上記のように、本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置は、第1駆動制御部36にて、共振器長を変調させながら、飽和吸収信号を測定し、任意の飽和吸収信号の中心周波数に3次微分信号Sg3の発振周波数が一致するようにアクチュエータ18を制御する。続いて、レーザ周波数安定化装置は、第2駆動制御部44にて、第1モード信号Sgaの信号強度及び第2モード信号Sgbの信号強度に基づき、アクチュエータ18を制御する。このように、本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置は、最終的に、共振器長を変調させることなく、レーザ周波数を安定化させることができる。すなわち、本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置は、変調されていないレーザ光を安定して生成することができるので、そのレーザ光を用いて、高精度の測長が可能となる。また、本実施形態に係るレーザ周波数安定化装置は、高価な光学素子を必要としないため、安価に製造することができる。
(その他実施形態)
以上、レーザ周波数安定化装置の一実施形態を説明してきたが、本発明は、上記実施形態に限定されるものではなく、発明の趣旨を逸脱しない範囲内において種々の変更、追加、置換等が可能である。
例えば、上記実施形態においては、第1駆動制御部36は、3次微分信号Sg3に基づく主制御部34からの第1アクチュエータ制御信号Sc1にてアクチュエータ18を駆動させるものである。しかしながら、上記構成に限られるものではなく、第1駆動制御部36は、2次微分信号Sg2に基づく主制御部34からの制御信号にてアクチュエータ18を駆動させるものであってもよい。つまり、第1駆動制御部36は、光出力信号Sg1に基づき制御させるものであればよい。
また、例えば、上記実施形態は、エタロン16にて、第1縦モード光L(1)及び第2縦モード光L(2)を生成させる構成である。しかしながら、上記構成に限られるものではなく、エタロン16の代わりに、第1縦モード光L(1)及び第2縦モード光L(2)を生成するように共振器長を調整可能なレーザチューブを用いた構成であってもよい。ここで、レーザチューブは、例えば、その外周にヒータを巻かれ、そのヒータの温度制御により伸縮可能に構成することができる。
本発明の実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の構成概略図である。 本発明の実施形態に係るレーザ周波数安定化装置のレーザ周波数安定化制御を示すフローチャートである。 本発明の実施形態に係るレーザ周波数安定化装置の制御時に検出する光出力信号Sg1、及び3次微分信号Sg3を示す図である。
符号の説明
10…レーザ光生成部、20…レーザ光分光部、30…第1制御部、40…第2制御部、50…切替部。

Claims (6)

  1. 共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、当該レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号に含まれる飽和吸収信号に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を安定化するレーザ周波数安定化装置であって、
    波長の異なる第1縦モード光及び第2縦モード光を含むレーザ光を生成し出射するレーザ光生成部と、
    このレーザ光生成部から出射されたレーザ光を前記第1縦モード光及び前記第2縦モード光に分光する分光部と、
    前記吸収セルからの光出力信号を検出する第1検出部と、
    前記第1縦モード光の信号強度を検出する第2検出部と、
    前記第2縦モード光の信号強度を検出する第3検出部と、
    前記共振器長を変化させるアクチュエータと、
    前記第1検出部で検出された光出力信号から飽和吸収信号を検出し、この飽和吸収信号に基づき前記アクチュエータの駆動を制御する第1駆動制御部と、
    前記第2検出部で検出された第1縦モード光の信号強度と前記第3検出部で検出された第2縦モード光の信号強度との比が所定値となるように前記アクチュエータの駆動を制御する第2駆動制御部と、
    前記アクチュエータに対する前記第1駆動制御部による制御と前記第2駆動制御部による制御とを切り替える切替部と
    を備えたことを特徴とするレーザ周波数安定化装置。
  2. 前記レーザ光生成部は、ピーク波長が隣り合い、互いの偏光面が直交する第1縦モード光及び第2縦モード光を生成し出射する
    ことを特徴とする請求項1記載のレーザ周波数安定化装置。
  3. 前記切替部は、前記第1駆動制御部が検出した飽和吸収信号に前記レーザ光の発振周波数が一致したら、前記アクチュエータに対する制御を前記第1駆動制御部による制御から前記第2駆動制御部による制御に切り替える
    ことを特徴とする請求項1又は請求項2記載のレーザ周波数安定化装置。
  4. 前記第1駆動制御部は、前記光出力信号に基づく2次微分信号及び前記光出力信号に基づく3次微分信号の少なくとも一方を基に前記アクチュエータを制御する
    ことを特徴とする請求項1乃至請求項3のいずれか1項記載のレーザ周波数安定化装置。
  5. 共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、当該レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号の微分信号に含まれる飽和吸収信号に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を安定化するレーザ周波数安定化方法であって、
    前記吸収セルからの光出力信号に基づき前記共振器長を制御する第1制御ステップと、
    前記レーザ光に含まれる波長の異なる第1縦モード光及び第2縦モード光を検出し、当該第1縦モード光に基づく信号強度と当該第2縦モード光に基づく信号強度との比が所定値となるように前記共振器長を制御する第2制御ステップと
    を備えることを特徴とするレーザ周波数安定化方法。
  6. 共振器により励起光を共振させてレーザ光を生成し、該レーザ光を吸収セルに照射して得られる光出力信号の微分信号に含まれる飽和吸収信号に基づき前記共振器長を変化させ前記レーザ光の発振周波数を安定化させるためのレーザ周波数安定化プログラムであって、
    コンピュータに、
    前記吸収セルからの光出力信号に基づき前記共振器長を制御する第1制御ステップと、
    前記レーザ光に含まれる波長の異なる第1縦モード光及び第2縦モード光を検出し、当該第1縦モード光に基づく信号強度と当該第2縦モード光に基づく信号強度との比が所定値となるように前記共振器長を制御する第2制御ステップと
    を実行させるためのレーザ周波数安定化プログラム。
JP2008062737A 2008-03-12 2008-03-12 レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム Pending JP2009218488A (ja)

Priority Applications (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008062737A JP2009218488A (ja) 2008-03-12 2008-03-12 レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム
EP09154763A EP2101378A1 (en) 2008-03-12 2009-03-10 Laser frequency stabilizing device, method and program
US12/402,573 US7835411B2 (en) 2008-03-12 2009-03-12 Laser frequency stabilizing device, method and program

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2008062737A JP2009218488A (ja) 2008-03-12 2008-03-12 レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2009218488A true JP2009218488A (ja) 2009-09-24

Family

ID=40810304

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2008062737A Pending JP2009218488A (ja) 2008-03-12 2008-03-12 レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム

Country Status (3)

Country Link
US (1) US7835411B2 (ja)
EP (1) EP2101378A1 (ja)
JP (1) JP2009218488A (ja)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011108682A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Anritsu Corp 外部共振器型半導体レーザとそれを用いたラマン増幅器
JP2012134371A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Mitsutoyo Corp 安定化判別器、レーザ周波数安定化装置、及び安定化判別方法

Families Citing this family (17)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US20100292581A1 (en) * 2009-05-13 2010-11-18 Peter Guy Howard Dynamic Calibration of an Optical Spectrometer
US8432551B2 (en) 2010-08-06 2013-04-30 Honeywell International Inc. Neon or iodine absorption enhanced hene ring laser gyroscope
US8687198B2 (en) 2011-09-20 2014-04-01 Honeywell International Inc. Coupled cavity dispersion enhanced ring laser gyroscope
JP5859793B2 (ja) 2011-09-28 2016-02-16 株式会社ミツトヨ 光出力信号の安定化判定方法、及びレーザ周波数安定化装置
JP2013152146A (ja) * 2012-01-25 2013-08-08 Techno Echo Kk 水質検査装置及び水質検査方法
US9502856B2 (en) * 2012-04-11 2016-11-22 University Of Central Florida Research Foundation, Inc. Stabilization of an injection locked harmonically mode-locked laser via polarization spectroscopy for frequency comb generation
JP6154657B2 (ja) * 2013-05-02 2017-06-28 株式会社ミツトヨ レーザ装置
JP6300381B2 (ja) * 2013-12-03 2018-04-04 株式会社日立製作所 磁場計測装置
JP6469472B2 (ja) 2015-02-17 2019-02-13 株式会社ミツトヨ レーザ周波数安定化装置、及びレーザ周波数安定化方法
CA2998026A1 (en) * 2017-03-13 2018-09-13 Picomole Inc. Apparatus and method of optimizing laser system
CN106848824B (zh) * 2017-03-31 2019-03-29 中国科学院国家授时中心 一种集成化激光系统及方法
JP2019149400A (ja) 2018-02-26 2019-09-05 株式会社ミツトヨ レーザ光源装置及びレーザ光調整方法
CN109301687B (zh) * 2018-11-26 2020-01-03 中国人民解放军国防科技大学 一种基于饱和吸收谱智能识别技术的激光自动稳频系统
US11035789B2 (en) 2019-04-03 2021-06-15 Picomole Inc. Cavity ring-down spectroscopy system and method of modulating a light beam therein
CN110165547A (zh) * 2019-05-15 2019-08-23 中国航空工业集团公司北京长城计量测试技术研究所 一种激光稳频装置及方法
CN112838898B (zh) * 2019-11-22 2022-08-09 海思光电子有限公司 一种频率锁定装置以及频率锁定的方法
US11506495B2 (en) * 2020-07-27 2022-11-22 Honeywell International Inc. Injection locking resonator fiber optic gyroscope

Family Cites Families (15)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US3517330A (en) * 1966-11-09 1970-06-23 Philco Ford Corp Frequency stabilization of laser system which compares the amplitudes of two beat note signals
US3530402A (en) * 1968-04-26 1970-09-22 Philco Ford Corp Laser frequency stabilization system
US5014278A (en) 1988-09-22 1991-05-07 Ushio Denki Kabushiki Kaisha Method for the frequency stabilization of internal mirror type helium-neon laser oscillating at wavelength of 543 nm
JPH0286180A (ja) * 1988-09-22 1990-03-27 Ushio Inc 発振波長が543nmの内部ミラー型ヘリウム・ネオンレーザの周波数の安定化方法
US5068864A (en) * 1990-05-04 1991-11-26 Laser Science, Inc. Laser frequency stabilization
US5428700A (en) * 1994-07-29 1995-06-27 Litton Systems, Inc. Laser stabilization
US6009111A (en) * 1997-04-17 1999-12-28 University Technology Corporation System and a method for frequency-stabilizing a diode laser
US6477190B1 (en) * 1999-02-15 2002-11-05 Fujitsu Limited Optical module
JP3950570B2 (ja) * 1999-03-09 2007-08-01 アンリツ株式会社 周波数安定化光源
US6483956B1 (en) * 1999-08-13 2002-11-19 California Institute Of Technology Fiber frequency locker
JP2001274495A (ja) * 2000-03-27 2001-10-05 Neoark Corp レーザ光発振周波数のオートロック方法
JP4090209B2 (ja) * 2001-03-14 2008-05-28 日本オプネクスト株式会社 光波長安定回路、光送信器および光伝送システム
US7200159B2 (en) * 2004-03-01 2007-04-03 Lucent Technologies Inc. Method and apparatus for temperature stabilization of a wavelength of a laser
JP2007019361A (ja) 2005-07-11 2007-01-25 Mitsutoyo Corp 周波数安定化レーザ
JP4897449B2 (ja) * 2006-12-04 2012-03-14 株式会社ミツトヨ レーザ周波数安定化装置、レーザ周波数安定化方法、及びレーザ周波数安定化プログラム

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2011108682A (ja) * 2009-11-12 2011-06-02 Anritsu Corp 外部共振器型半導体レーザとそれを用いたラマン増幅器
JP2012134371A (ja) * 2010-12-22 2012-07-12 Mitsutoyo Corp 安定化判別器、レーザ周波数安定化装置、及び安定化判別方法

Also Published As

Publication number Publication date
US20090232172A1 (en) 2009-09-17
EP2101378A1 (en) 2009-09-16
US7835411B2 (en) 2010-11-16

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2009218488A (ja) レーザ周波数安定化装置、方法、及びプログラム
US20070008995A1 (en) Frequency-stabilized laser and frequency stabilizing method
JP5042781B2 (ja) 周波数安定化レーザ装置及びレーザ周波数安定化方法
US10505336B2 (en) Laser adjustment method and laser source device
JPWO2005073795A1 (ja) 電磁波発生装置
JP6016086B2 (ja) 紫外レーザ装置、この紫外レーザ装置を備えた露光装置及び検査装置
JP2006330518A (ja) 高調波発生装置
JPWO2007138884A1 (ja) レーザパルス発生装置及び方法並びにレーザ加工装置及び方法
JP6154657B2 (ja) レーザ装置
TWI644491B (zh) 光纖雷射系統以及脈衝雷射光產生方法
JP6508058B2 (ja) 光源装置及び波長変換方法
JP2008130848A (ja) レーザ周波数安定化装置、及びレーザ周波数安定化方法
JP5557601B2 (ja) レーザ光源の調整システム
JP2011249400A (ja) レーザ光源の調整システム、及びレーザ光源の調整方法
KR101937393B1 (ko) 레이저 공진기 및 레이저조사기
US9564732B2 (en) Optical resonator system
JP5213368B2 (ja) レーザ光第2高調波発生装置
JP4882386B2 (ja) 光源装置
JP2005069984A (ja) レーザ光学素子検査装置及びレーザ光学素子検査方法
US20220102931A1 (en) Laser device and method for operating laser device
JP2018006365A (ja) 電流制御装置及びレーザ装置
JP2013258248A (ja) レーザ光調整方法、及びレーザ光源装置
JP2011100812A (ja) レーザ光源装置、及びレーザ光源の調整システム
JP5842496B2 (ja) 固体パルスレーザ装置
JP2006100415A (ja) レーザ装置