WO2025249253A1 - 縦枠部、マスク保持装置及びマスク保持方法 - Google Patents

縦枠部、マスク保持装置及びマスク保持方法

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WO2025249253A1
WO2025249253A1 PCT/JP2025/018262 JP2025018262W WO2025249253A1 WO 2025249253 A1 WO2025249253 A1 WO 2025249253A1 JP 2025018262 W JP2025018262 W JP 2025018262W WO 2025249253 A1 WO2025249253 A1 WO 2025249253A1
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mask
vertical frame
layer
frame portion
mask holding
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PCT/JP2025/018262
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良 米澤
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V Technology Co Ltd
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V Technology Co Ltd
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    • G01B—MEASURING LENGTH, THICKNESS OR SIMILAR LINEAR DIMENSIONS; MEASURING ANGLES; MEASURING AREAS; MEASURING IRREGULARITIES OF SURFACES OR CONTOURS
    • G01B17/00—Measuring arrangements characterised by the use of infrasonic, sonic or ultrasonic vibrations
    • G—PHYSICS
    • G03—PHOTOGRAPHY; CINEMATOGRAPHY; ANALOGOUS TECHNIQUES USING WAVES OTHER THAN OPTICAL WAVES; ELECTROGRAPHY; HOLOGRAPHY
    • G03F—PHOTOMECHANICAL PRODUCTION OF TEXTURED OR PATTERNED SURFACES, e.g. FOR PRINTING, FOR PROCESSING OF SEMICONDUCTOR DEVICES; MATERIALS THEREFOR; ORIGINALS THEREFOR; APPARATUS SPECIALLY ADAPTED THEREFOR
    • G03F1/00—Originals for photomechanical production of textured or patterned surfaces, e.g., masks, photo-masks, reticles; Mask blanks or pellicles therefor; Containers specially adapted therefor; Preparation thereof
    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G—PHYSICS
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    • G03F1/68—Preparation processes not covered by groups G03F1/20 - G03F1/50
    • G03F1/82—Auxiliary processes, e.g. cleaning or inspecting
    • G03F1/84—Inspecting

Definitions

  • the present invention relates to a vertical frame portion, a mask holding device, and a mask holding method.
  • Patent Document 1 discloses a mask holding device that includes a frame for holding a transparent, approximately plate-shaped mask in an approximately vertical direction, the frame having a substantially rod-shaped lower frame portion extending substantially horizontally, and first and second rod-shaped vertical frame portions extending substantially vertically so as to protrude upward from the lower frame portion, and a claw portion that includes a first claw portion provided on the first vertical frame portion and abutting against a first end surface of the mask, and a second claw portion provided on the second vertical frame portion and abutting against a second end surface of the mask.
  • the frame holds the mask by the first claw portion abutting against the first end surface of the mask and the second claw portion abutting against the second end surface of the mask.
  • the vertical frame portion of a mask holding device such as the invention described in Patent Document 1 has generally been manufactured from a metal matrix composite material.
  • the vertical frame portion is manufactured using elongated plate-shaped components.
  • the mask held vertically by the vertical frame, is inspected using a camera.
  • the problem with long, thin plate-shaped components made of metal matrix composite material is that vibrations do not dampen easily. If the vibrations are not damped, the mask will vibrate in the thickness (depth) direction for a long period of time, which means the camera will not be able to focus properly during inspection, making it impossible to capture clear images.
  • the present invention was made in light of these circumstances, and aims to provide a vertical frame and mask holding device with excellent vibration damping characteristics.
  • the vertical frame portion of the present invention is, for example, a vertical frame portion included in a mask holding portion that holds a transparent, approximately plate-shaped mask in an approximately vertical direction, and is characterized in that it is made up of a laminate of a first layer made of a first material, a second layer made of a second material different from the first material, and an elastic layer disposed between the first and second layers, wherein the first material is any of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, and fiber reinforced resin, and the second material is any of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, fiber reinforced resin, and quartz glass.
  • the mask holding device of the present invention is, for example, a mask holding device having a frame and first and second vertical frame portions that are rod-shaped and extend substantially vertically, the first and second vertical frame portions being attached to the frame so as to be movable in the left-right direction, and is equipped with a mask holding portion that holds a transparent, plate-shaped mask in a substantially vertical direction, wherein the first and second vertical frame portions are laminated with a first layer made of a first material, a second layer made of a second material different from the first material, and an elastic layer disposed between the first and second layers, wherein the first material is any one of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, and fiber reinforced resin, and the second material is any one of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, fiber reinforced resin, and quartz glass.
  • the vertical frame of the mask holding unit is laminated with a first layer made of a first material, which is either a metal material, ceramics, metal matrix composite material, or fiber-reinforced resin; a second layer made of a second material different from the first material, which is either a metal material, ceramics, metal matrix composite material, fiber-reinforced resin, or quartz glass; and an elastic layer disposed between the first and second layers.
  • a first material which is either a metal material, ceramics, metal matrix composite material, or fiber-reinforced resin
  • a second layer made of a second material different from the first material, which is either a metal material, ceramics, metal matrix composite material, fiber-reinforced resin, or quartz glass
  • an elastic layer disposed between the first and second layers.
  • the elastic layer may be a layer of hardened elastic adhesive, and may have a thickness of approximately 0.1 mm or more and approximately 0.2 mm or less. This allows the first layer and second layer to be bonded together while providing the elastic layer between the first and second layers.
  • the first material may be aluminum, and the second material may be fine ceramics. This allows the first material to be a material with excellent workability, and the second material to be a material with high rigidity and resistance to deformation.
  • the first layer may also be formed with a recess in which a tab is provided that abuts against the end face of the mask. This is possible by using a material with excellent workability for the first material.
  • the frame may have horizontal frame portions that abut against the rear surfaces of the first vertical frame portion and the second vertical frame portion and are arranged to be movable up and down. This makes it possible to suppress vibration of the upper edge of the mask compared to conventional configurations in which the upper edge is in an open state, allowing for more accurate testing. It is preferable that the horizontal frame portion be made up of the first layer, the elastic layer, and the second layer stacked in that order.
  • the mask holding device of the present invention is, for example, a mask holding device having a frame and rod-shaped first and second vertical frame portions extending approximately vertically, the first and second vertical frame portions being attached to the frame so as to be movable in the left-right direction, and is equipped with a mask holding portion that holds a transparent, plate-shaped mask in an approximately vertical direction, and is characterized in that a first ultrasonic sensor and a second ultrasonic sensor that measure distance using ultrasonic waves are attached near the bottom ends of the first and second vertical frame portions, respectively, and the first ultrasonic sensor transmits ultrasonic waves approximately horizontally toward the second vertical frame portion, and the second ultrasonic sensor transmits ultrasonic waves approximately horizontally toward the first vertical frame portion.
  • the mask holding method of the present invention is characterized by including, for example, the steps of holding a transparent, plate-shaped mask in a substantially vertical direction, by holding the left-right central portions of the upper and lower end faces with arms; bringing the mask held by the arms close to a mask holding unit having a substantially rod-shaped lower frame portion extending substantially horizontally and rod-shaped first and second vertical frame portions extending substantially vertically so as to protrude upward from the lower frame portion; and measuring the position of the mask relative to the mask holding unit by transmitting ultrasonic waves substantially horizontally from a first ultrasonic sensor provided on the first vertical frame portion and a second ultrasonic sensor provided on the second vertical frame portion to measure the distance.
  • the ultrasonic sensor for measuring the mask position was not installed in the mask holder, but in a separate device, making it difficult to measure the mask position. Furthermore, it was necessary to load the mask accurately so that the mask position did not have to be measured.
  • the mask holding device and mask holding method according to the present invention can be simplified by providing an ultrasonic sensor on the vertical frame. For example, when loading a mask into the mask holding device using a device that cannot load the mask accurately, the mask's position can be measured just before it is grasped, allowing the mask to be loaded into the correct position.
  • the mask holding device may include a first claw provided on the first vertical frame and abutting against a first end surface of the mask, and a second claw provided on the second vertical frame and abutting against a second end surface of the mask, wherein a plurality of the first claws and second claws are provided along the vertical direction, the first ultrasonic sensor may be provided between the lower end of the first vertical frame and a third claw provided at the lowest of the plurality of first claws, and the second ultrasonic sensor may be provided between the lower end of the second vertical frame and a fourth claw provided at the lowest of the plurality of second claws.
  • the ultrasonic sensor may be provided near the lower end of the vertical frame. This reduces the impact of misalignment caused by the mask shaking when being loaded.
  • the mask may have a flat or curved chamfered edge, and the first ultrasonic sensor and the second ultrasonic sensor may emit ultrasonic waves toward the end faces of the mask where the chamfered edge is not formed. This is possible by providing ultrasonic sensors on the vertical frame portion. This allows for accurate distance measurement.
  • the present invention makes it possible to provide a frame with excellent vibration damping characteristics.
  • FIG. 1 is a perspective view showing an outline of a mask holding device 1.
  • FIG. 2 is a schematic view of the claw portion 14 when it is in the abutting position, and is a cross-sectional view taken along line AA in FIG. 1.
  • 2 is a cross-sectional view showing an outline of the vertical frame portion 12.
  • FIG. 1A is a graph showing the vibration characteristics of the vertical frame portion 12
  • FIG. 1B is a graph showing the vibration characteristics of a conventional vertical frame portion made of a metal matrix composite material.
  • FIG. 2 is a block diagram showing the electrical configuration of the mask holding device 1.
  • 10 is a flowchart showing a process flow for holding the mask M in a substantially vertical direction.
  • 10A and 10B are diagrams illustrating a state in which the mask M is held in a substantially vertical direction.
  • FIG. 2 is a perspective view showing an outline of a mask holding device 2.
  • 3 is a cross-sectional view showing an outline of a horizontal frame portion 15.
  • the present invention relates to a mask holding device that holds a mask M in a substantially vertical direction and a vertical frame portion of the mask holding device, which is installed inside a mask inspection machine or the like that inspects the mask M.
  • Mask M is a transparent, roughly plate-shaped member made of quartz glass or the like, and is an exposure mask used to manufacture substrates for display devices such as organic electroluminescence (EL) and liquid crystal display devices.
  • Mask M is a large, roughly rectangular substrate with sides of approximately 1 m, on which one or more transfer patterns for an image device are formed.
  • Mask M also has a chamfered edge to prevent chipping of the mask edge.
  • First Embodiment 1 is a perspective view showing an outline of a mask holding device 1 according to a first embodiment.
  • the direction substantially along the longitudinal direction of a frame 11 is defined as the x-direction
  • the vertical direction is defined as the y-direction
  • the direction perpendicular to the x-direction and y-direction is defined as the z-direction.
  • the mask holding device 1 is placed on a stage (not shown) and mainly comprises a mask holding unit 10, a frame holding unit 20, and an ultrasonic sensor 30.
  • the mask holding portion 10 mainly comprises a frame 11, vertical frame portions 12 and 13 provided on the frame 11, and claw portions 14 for gripping the mask M.
  • the claw portions 14 are provided on the vertical frame portions 12 and 13, etc.
  • the frame 11 is formed in a roughly frame shape so as to surround the periphery of the mask M, which is held vertically.
  • the frame 11 holds the mask M so that the surface m1 of the mask M (the surface on which the pattern is formed) is parallel to the xy plane.
  • the frame 11 is primarily provided with vertical frame portions 12 and 13.
  • the vertical frame portions 12 and 13 are rod-shaped members that extend substantially vertically. To accommodate masks M of different sizes, the vertical frame portions 12 and 13 are movable in the horizontal direction (x direction). The vertical frame portions 12 and 13 will be described in more detail later.
  • the claw portions 14 are provided on each of the vertical frame portions 12, 13 and the second block 21b (described in detail later).
  • the claw portions 14 are movable between a contact position where they contact the mask M and a retracted position where they do not contact the mask M.
  • the tips of the claw portions 14 provided on the vertical frame portions 12, 13 move in an approximately horizontal direction (x direction) between the contact position and the retracted position.
  • the tips of the claw portions 14 provided on the second block 21b move in an approximately vertical direction (y direction) between the contact position and the retracted position.
  • Figure 2 is a schematic diagram of the claw portion 14 when it is in the abutment position, and is a cross-sectional view taken along line A-A in Figure 1.
  • the dotted line indicates the state when the claw portion 14 is in the retracted position
  • the solid line indicates the state when the claw portion 14 is in the abutment position.
  • the claw portion 14 mainly comprises a tip portion 141 and a linear guide 143.
  • the tip portion 141 is a roughly rectangular component that contacts the mask M and is made of a resin with excellent heat resistance and mechanical strength, such as polyether ether ketone resin (PEEK).
  • PEEK polyether ether ketone resin
  • the tip of the tip portion 141 has a contact surface 142 that is cut diagonally when viewed from the y direction.
  • the contact surface 142 contacts the corner l1 between the chamfered portion c1 and the left end face m3 of the mask M.
  • the linear guide 143 mainly includes a rail 143a and a drive portion 143b.
  • the rail 143a is fixed to the vertical frame portion 13 (not shown in FIG. 2).
  • the drive portion 143b is fixed to the rear side (the right side in FIG. 2) of the tip portion 141 and is movable along the rail 143a.
  • the claw portion 14 i.e., the tip portion 141 is movable between a retracted position and an abutting position, as shown by the arrow in FIG. 2.
  • the claw portion 14 When the claw portion 14 is in the abutment position, the claw portion 14 applies a force to the mask M in the leftward direction (+x direction) in Figure 2. As a result, the abutment surface 142 presses the corner l1 from the diagonal front, and the back surface m2 of the mask M abuts against the frame 11, thereby holding the mask M to the frame 11.
  • a frame holding unit 20 is provided below the mask holding unit 10.
  • the frame holding unit 20 is placed on a stage (not shown) and has an adjustment mechanism 21 that changes the position of the lower edge of the mask M in the height direction (y direction).
  • Multiple adjustment mechanisms 21 are formed along the x direction.
  • the adjustment mechanism 21 has a first block 21a whose upper surface is inclined with respect to the xz plane and a second block 21b whose lower surface is inclined with respect to the xz plane, and adjusts the height by changing the relative positional relationship between the first block 21a and the second block 21b.
  • the adjustment mechanism 21 is already publicly known, a detailed explanation will be omitted.
  • the ultrasonic sensor 30 is a sensor that measures distance using ultrasonic waves.
  • the ultrasonic sensor 30 has an ultrasonic sensor 31 provided on the vertical frame portion 12 and an ultrasonic sensor 32 provided on the vertical frame portion 13.
  • the ultrasonic sensors 31 and 32 are small sensors with a diameter of about 10 mm, and can measure objects at a distance of about 40 mm with high accuracy.
  • Ultrasonic sensor 31 transmits ultrasonic waves generally horizontally toward vertical frame portion 13, i.e., in the -x direction.
  • Ultrasonic sensor 32 transmits ultrasonic waves generally horizontally toward vertical frame portion 12, i.e., in the +x direction. Because ultrasonic sensor 30 is already publicly known, detailed description will be omitted.
  • Ultrasonic sensors 31, 32 are provided near the lower ends of vertical frame portions 12, 13, respectively.
  • ultrasonic sensor 31 is provided between the lower end of vertical frame portion 12 and the lowest claw portion 14 of multiple claw portions 14 provided vertically on vertical frame portion 12.
  • ultrasonic sensor 31 is provided between the lower end of vertical frame portion 13 and the lowest claw portion 14 of multiple claw portions 14 provided on vertical frame portion 13.
  • Ultrasonic sensors 31, 32 emit ultrasonic waves toward the end face (e.g., left end face m3) of mask M where chamfered portions c1, c2 (see Figure 2) are not formed. Ultrasonic sensors 31, 32 each emit ultrasonic waves and receive the ultrasonic waves reflected back from the end face of mask M, measuring the time from emission to reception to measure the distance to the end face of mask M. This is possible by providing ultrasonic sensors 31, 32 on vertical frame portions 12, 13.
  • Figure 3 is a cross-sectional view showing an outline of the vertical frame portion 12.
  • the vertical frame portion 12 has a first layer 121, a second layer 122, and an elastic layer 123 disposed between the first layer 121 and the second layer 122.
  • the first layer 121, the second layer 122, and the elastic layer 123 are laminated together.
  • the first layer 121 has a surface 121a facing the +z direction, and a recess 121b is formed in the surface 121a.
  • the recess 121b is provided with a claw portion 14.
  • the first layer 121 is formed from a first material
  • the second layer 122 is formed from a second material.
  • the first material is one of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, and fiber reinforced resin
  • the second material is one of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, fiber reinforced resin, and quartz glass.
  • Metal materials include, for example, iron, iron alloys, aluminum, and non-ferrous alloys.
  • Iron alloys include, for example, stainless steel, low-thermal expansion alloys (Invar, Super Invar, etc.), and chromium-molybdenum steel.
  • Non-ferrous alloys include, for example, copper alloys (beryllium copper), aluminum alloys (duralumin, etc.), magnesium alloys, and titanium alloys.
  • Ceramics include, for example, fine ceramics (aluminum oxide (alumina), cordierite, silicon carbide, ferrite, aluminum nitride, etc.), and zirconium dioxide (zirconia).
  • Metal matrix composites and fiber-reinforced resins are types of composite materials.
  • Metal matrix composites are composite materials that use a metal as the base material (matrix). Examples of base metals include aluminum, silicon metal, copper, magnesium, and brass.
  • the reinforcing material combined with the matrix is, for example, fiber (carbon, etc.) or ceramics (silicon carbide, alumina, aluminum borate, aluminum nitride, etc.).
  • Fiber-reinforced resin is a composite material with a resin as the matrix and fiber as the reinforcing agent.
  • matrix resins include thermosetting resins such as epoxy resin and unsaturated polyester resin, and thermoplastic resins such as methyl methacrylate.
  • fiber-reinforced resins include carbon fiber-reinforced plastics, which use carbon fiber as the reinforcing agent, glass fiber-reinforced plastics, which use glass fiber as the reinforcing agent, and aramid fiber-reinforced plastics, which use aramid fiber as the reinforcing agent.
  • the first layer 121 is made of aluminum
  • the second layer 122 is made of fine ceramics (e.g., alumina sintered body).
  • First layer 121 is preferably formed using a material that is easy to process. Therefore, first layer 121 may be formed using any metal material and is not limited to aluminum. However, to reduce weight, it is preferable to use aluminum for first layer 121.
  • the second layer 122 serves to reinforce the first layer 121, it is desirable to use a material that is highly rigid and resistant to deformation, i.e., a material with a high modulus of longitudinal elasticity (Young's modulus). Therefore, in this embodiment, the second layer 122 is formed using fine ceramics.
  • the thickness t1 of the first layer 121 and the thickness t2 of the second layer 122 are each set to approximately 10 mm.
  • the thicknesses t1 and t2 are not limited to this.
  • the elastic layer 123 is made of a flexible material that can be elastically deformed.
  • the elastic layer 123 is formed using an elastic adhesive, and the layer of elastic adhesive that hardens becomes the elastic layer 123.
  • the elastic adhesive is in a liquid or paste form with dynamic viscosity when applied, and becomes a rubber-like elastic body when hardened.
  • Examples of elastic adhesives that can be used include fluorine-based, silicone-based (silicone resin, modified silicone resin, etc.), and urethane-based (urethane resin, silylated urethane resin, etc.) adhesives.
  • a silicone-based elastic adhesive is used.
  • the elastic adhesive used for the elastic layer 123 has a Shore A hardness of 30 or more and 60 or less after curing.
  • the Shore A hardness is measured in accordance with ISO 7619-1:2010.
  • the vibration can be mitigated by the elastic adhesive. Furthermore, even if the dimensional changes due to temperature or other factors differ between the first layer 121 and the second layer 122, this difference can be absorbed by the elastic layer 123, allowing the adhesive state between the first layer 121 and the second layer 122 to be stably maintained.
  • the elastic layer 123 be thicker, but as the elastic layer 123 becomes thicker, the rigidity of the vertical frame portion 12 decreases. Therefore, in order to strike a balance between these factors, it is preferable that the thickness t3 of the elastic layer 123 be approximately 0.1 mm or more and approximately 0.2 mm or less.
  • Figure 4(A) is a graph showing the vibration characteristics of the vertical frame portion 12
  • Figure 4(B) is a graph showing the vibration characteristics of a conventional vertical frame portion made of metal matrix composite material (metal matrix ceramics, MMC).
  • the vertical frame portion 12 and the conventional vertical frame portion have approximately the same dimensions: length of approximately 1400 mm, width of approximately 200 mm, and thickness of approximately 20 mm.
  • the graph in Figure 4 shows the measurement results obtained by the acceleration sensor when both ends of the vertical frame portion 12 and the conventional vertical frame portion are fixed, an acceleration sensor is attached to the center, and a hammer is applied from the opposite side.
  • the vertical axis of Figure 4 represents the vibration amplitude of the vertical frame portion, i.e., the mask M held by it, in the thickness direction (z direction).
  • the horizontal axis in Figure 4 represents time, with 1 square representing 0.1 seconds in Figure 4(A) and 0.5 seconds in Figure 4(B).
  • the vibration of the vertical frame section 12 decays to approximately zero in approximately 0.5 seconds, whereas the vibration of the conventional vertical frame section continues for approximately 3 to 4 seconds before it decays to approximately zero. In this way, the vibration of the vertical frame section 12, which has the elastic layer 123 disposed between the first layer 121 and second layer 122, decays quickly.
  • the resonant frequency of the vertical frame section 12 is 26 Hz, while the resonant frequency of the conventional vertical frame section is 36 Hz, confirming that both have high rigidity.
  • FIG. 5 is a block diagram showing the electrical configuration of the mask holding device 1.
  • the mask holding device 1 is mainly composed of a control unit 51, a memory unit 52, an input unit 53, and an output unit 54.
  • the control unit 51 is a program-controlled device such as a CPU (Central Processing Unit), which is a computing device, and operates according to the program stored in the memory unit 52. The detailed operation of the control unit 51 will be described later.
  • a CPU Central Processing Unit
  • the storage unit 52 is a non-volatile memory, a volatile memory, etc., and stores programs executed by the control unit 51, and also functions as a work memory for the control unit 51.
  • the input unit 53 includes input devices such as a keyboard and a mouse.
  • the output unit 54 is a display, etc.
  • Figure 6 is a flowchart showing the flow of processing for holding the mask M in a substantially vertical direction.
  • Figure 7 is a diagram showing a schematic diagram of the state in which the mask M is held in a substantially vertical direction. Note that before processing begins, the vertical frame units 12, 13 are at their furthest positions, the second block 21b of the adjustment mechanism 22 is at the bottom end, and the claw unit 14 is in the standby position.
  • Step S1 First, a device (e.g., a transport device) different from the mask holding device 1 holds the mask M in a substantially vertical direction using an arm 101 of the transport device. At this time, the arm 101 holds the center of the upper and lower end faces (end faces on the ⁇ y side) of the mask M in the left-right direction (x direction).
  • a device e.g., a transport device
  • the arm 101 holds the center of the upper and lower end faces (end faces on the ⁇ y side) of the mask M in the left-right direction (x direction).
  • Step S2 the transport device moves the arm 101 in the ⁇ z direction to insert the mask M into the mask holding device 1 and bring the mask M closer to the mask holding part 10.
  • the mask M is positioned on the front side (+z side) of the frame 11 (not shown in FIG. 7).
  • Step S3 the control unit 51 measures the distance by transmitting ultrasonic waves from the ultrasonic sensors 31 and 32 in a substantially horizontal direction, and measures the position of the mask M relative to the mask holding unit 10. In this way, the position of the mask M is measured immediately before the mask M is gripped by the claws 14.
  • Step S4 Next, based on the measurement results of the ultrasonic sensors 31 and 32 in step S3, the control unit 51 uses a drive unit (not shown) to move the vertical frame units 12 and 13 to a position where the mask M can be gripped by the claws 14.
  • the control unit 51 also controls the adjustment mechanism 22 (not shown in FIG. 7) and the drive unit (not shown) to move the second block 21b (not shown in FIG. 7) upward (in the +y direction) so that the second block 21b and the lower end surface of the mask M come into contact with each other.
  • Step S5 the control unit 51 moves the claw portions 14 from the standby position to the abutting position. At this time, all of the claw portions 14 move simultaneously. As a result, the mask holding unit 10 holds the mask M.
  • the vertical frame portions 12, 13 can be made to have excellent vibration damping characteristics. Because vibrations caused by external forces are instantly damped in the vertical frame portions 12, 13, there is no need to move the focal position of the camera to track the vibrations of the mask M in the z direction when performing an inspection, etc., and clear images can be captured, improving inspection performance.
  • the ultrasonic sensors 31, 32 are provided near the lower ends of the vertical frame portions 12, 13, for example, between the lower ends of the vertical frame portions 12, 13 and the lowest of the claw portions 14 provided on the vertical frame portions 12, 13, thereby making the sensors less susceptible to the influence of tilting the mask M.
  • the arm 101 is held at its lower end and is shaped so that the mask M it holds can easily swing around the lower end (see the dotted arrow in Figure 7).
  • the positional deviation near the upper end of the mask M increases.
  • ultrasonic sensors 31 and 32 are provided near the lower ends of the vertical frame portions 12 and 13 to reduce changes in distance during distance measurement and improve measurement accuracy.
  • the first layer 121 is formed using a metal material (the first material is a metal material), and the second layer 122 is formed using fine ceramics (the second material is fine ceramics), but the first and second materials are not limited to this.
  • the first material may be any of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, and fiber reinforced resin
  • the second material may be any of a metal material, ceramics, metal matrix composite material, fiber reinforced resin, and quartz glass.
  • the first material may be a metal (aluminum, iron, etc.) and the second material may be quartz glass or fiber-reinforced resin, or the first material may be a fiber-reinforced resin (e.g., carbon fiber-reinforced plastic) and the second material may be fine ceramics, or the first material may be a metal matrix composite material and the second material may be a metal (aluminum, iron, etc.), or the first and second materials may both be metal matrix composite materials.
  • the first material may be a metal (aluminum, iron, etc.) and the second material may be quartz glass or fiber-reinforced resin
  • the first material may be a fiber-reinforced resin (e.g., carbon fiber-reinforced plastic) and the second material may be fine ceramics
  • the first material may be a metal matrix composite material and the second material may be a metal (aluminum, iron, etc.), or the first and second materials may both be metal matrix composite materials.
  • the elastic layer 123 is formed using an elastic adhesive, but the form of the elastic layer 123 is not limited to this.
  • the elastic layer may be configured to include an elastic body such as rubber and adhesive portions provided on both sides of the elastic body.
  • the adhesive portions may or may not be elastic adhesive.
  • the elastic body it is preferable that the elastic body have a Shore A hardness of 30 or more and 60 or less, measured in accordance with ISO 7619-1:2010.
  • ultrasonic sensors 31, 32 are provided on the vertical frame portions 12, 13, but ultrasonic sensors 31, 32 are not required. Furthermore, ultrasonic sensors 31, 32 do not necessarily need to be provided on the vertical frame portions 12, 13, which have a layered structure, and may be provided on vertical frame portions with a conventional structure.
  • the mask M is held using the claws 14 provided on the vertical frame portions 12, 13 and the second block 21b, but the positions at which the claws 14 are provided are not limited to this.
  • the mask holding portion has a horizontal frame portion, and the horizontal frame portion is also provided with a claw portion.
  • the mask holding device 2 according to the second embodiment will be described below.
  • the same parts as those in the first embodiment are designated by the same reference numerals, and their description will be omitted.
  • Figure 8 is a perspective view showing an outline of the mask holding device 2.
  • the mask holding device 2 mainly has a mask holding portion 10A, a frame holding portion 20 (not shown in Figure 9), and an ultrasonic sensor 30.
  • the mask holding unit 10A mainly comprises a frame 11 (not shown in Figure 9), vertical frame portions 12 and 13, a claw portion 14, and a horizontal frame portion 15.
  • the horizontal frame portion 15 is attached to the frame 11 and can be moved up and down by a drive unit (not shown).
  • the horizontal frame portion 15 can abut against the rear surfaces (-z side surfaces) of the vertical frame portions 12, 13.
  • a magnet is provided on one of the front surfaces (+z side surfaces) of the horizontal frame portion 15 and the rear surfaces of the vertical frame portions 12, 13, and a magnetic material is provided on the other.
  • the horizontal frame portion 15 is moved up and down away from the vertical frame portions 12, 13, and when the horizontal frame portion 15 is positioned in the desired position, the horizontal frame portion 15 is brought closer to the vertical frame portions 12, 13, causing the horizontal frame portion 15 to abut against the rear surfaces of the vertical frame portions 12, 13.
  • the horizontal frame portion 15 has claw portions 14. After the horizontal frame portion 15 is abutted against the back surfaces of the vertical frame portions 12 and 13, the mask M is held in place using the claw portions 14 provided on the vertical frame portions 12 and 13, the horizontal frame portion 15, and the second block 21b.
  • Figure 9 is a cross-sectional view showing an outline of the horizontal frame portion 15. Similar to the vertical frame portion 12, the horizontal frame portion 15 has a first layer 151 formed from a first material, a second layer 152 formed from a second material, and an elastic layer 153 disposed between the first layer 151 and the second layer 152. The first layer 151, the second layer 152, and the elastic layer 153 are laminated. Note that the first layer 151 may have recesses or the like formed therein for providing the claw portions 14.
  • the first layer 151 is formed using aluminum
  • the second layer 152 is formed using fine ceramics
  • the elastic layer 153 is formed using an elastic adhesive.
  • the thicknesses of the first layer 151 and the second layer 152 are each approximately 10 mm
  • the thickness of the elastic layer 153 is approximately 0.1 mm or more and approximately 0.2 mm or less. In this way, by disposing the elastic layer 153 between the first layer 151 and the second layer 152, even if a force is applied locally to the horizontal frame portion 15 in the plate thickness direction, the vibration is alleviated and quickly decelerated.
  • the provision of the horizontal frame portion 15 makes it possible to hold the mask M more firmly and further reduce vibration of the mask M in the z direction. For example, if the horizontal frame portion 15 were not provided, the top edge of the mask M would be open and vibrations would occur, but by providing the horizontal frame portion 15, it is possible to suppress vibration of the top edge. Therefore, highly accurate inspections can be performed based on clear images of the mask M.
  • the horizontal frame portion 15 is configured such that an elastic layer 153 is disposed between the first layer 151 and the second layer 152, resulting in a horizontal frame portion 15 with excellent vibration damping characteristics. This allows for clearer images to be captured than when the horizontal frame portion is formed using a conventional configuration (for example, formed from a metal matrix composite material), improving inspection performance.
  • a layered horizontal frame portion 15 is used in which an elastic layer 153 is disposed between a first layer 151 and a second layer 152, but the configuration of the horizontal frame portion is not limited to this.
  • the horizontal frame portion may be a plate-shaped member formed from a metal matrix composite material or the like, similar to a vertical frame portion of a conventional configuration.
  • a transparent, approximately plate-shaped mask M with a flat chamfered portion (so-called C-surface) formed on the periphery has been described, but the shape of the mask M is not limited to this.
  • a mask with a curved chamfered portion (so-called R-surface) formed on the periphery can also be used.
  • a mask with a different size of chamfer on the periphery on the front and back sides can also be used.
  • the term "approximately” does not only refer to being strictly identical, but also includes errors or deformations that do not result in loss of identity.
  • an approximately cubic shape is not limited to being strictly cubic.
  • something as simply being vertical or coinciding it does not only refer to being strictly vertical or coinciding, but also includes being approximately vertical or approximately coinciding.
  • the term “nearby” refers to, for example, the vicinity of A, and is a concept that indicates that A may or may not be included.

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Abstract

振動の減衰特性に優れた縦枠部及びマスク保持装置を提供する。　透明な略板状のマスクを略鉛直方向に保持するマスク保持部に含まれる縦枠部又は当該縦枠部を有するマスク保持装置である。縦枠部は、第１材料で製造された第１層と、第１材料とは異なる第２材料で製造された第２層と、第１層と第２層との間に配置された弾性層と、とが積層されている。第１材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかであり、第２材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかである。

Description

縦枠部、マスク保持装置及びマスク保持方法
　本発明は、縦枠部、マスク保持装置及びマスク保持方法に関する。
　特許文献１には、周縁に平面又は曲面の面取部が形成された透明な略板状のマスクを略鉛直方向に保持するフレームであって、略水平に延設された略棒状の下枠部と、下枠部から上向きに突出するように、略鉛直に延設された棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部と、を有する略枠状のフレームと、第１縦枠部に設けられ、マスクの第１端面部と当接する第１ツメ部と、第２縦枠部に設けられ、マスクの第２端面部と当接する第２ツメ部と、を有するツメ部と、を備えたマスク保持装置が開示されている。このマスク保持装置では、第１ツメ部がマスクの第１端面部と当接し、第２ツメ部がマスクの第２端面部と当接することでフレームがマスクを保持する。
特開２０１８－０４０８７２号公報
　従来、特許文献１に記載の発明のようなマスク保持装置の縦枠部は、金属マトリックス複合材料で製造されることが一般的であった。縦枠部は、細長い板状の部品を用いて製造されている。
　縦枠部により鉛直方向に沿って保持されたマスクは、カメラを用いて検査が行われる。しかしながら、金属マトリックス複合材料を用いた細長い板状の部品は、振動が発生したときになかなか減衰しないという問題がある。振動が減衰しなければ、マスクが板厚（奥行）方向に長時間振動することになり、検査等を行う時にカメラの焦点が合わず鮮明な画像が撮影できない。
　本発明はこのような事情に鑑みてなされたもので、振動の減衰特性に優れた縦枠部及びマスク保持装置を提供することを目的とする。
　上記課題を解決するために、本発明に係る縦枠部は、例えば、透明な略板状のマスクを略鉛直方向に保持するマスク保持部に含まれる縦枠部であって、第１材料で製造された第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料で製造された第２層と、前記第１層と前記第２層との間に配置された弾性層と、とが積層されており、前記第１材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかであり、前記第２材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかであることを特徴とする。
　また、上記課題を解決するために、本発明に係るマスク保持装置は、例えば、枠状のフレームと、略鉛直に延設された棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部であって、前記フレームに左右方向に移動可能に設けられた第１縦枠部及び第２縦枠部と、を有し、透明な板状のマスクを略鉛直方向に保持するマスク保持部を備えたマスク保持装置であって、前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部は、第１材料で製造された第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料で製造された第２層と、前記第１層と前記第２層との間に配置された弾性層と、とが積層されており、前記第１材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかであり、前記第２材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかであることを特徴とする。
　本発明に係る縦枠部及びマスク保持装置によれば、マスク保持部の縦枠部は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかである第１材料で製造された第１層と、第１材料とは異なる第２材料であって、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかである第２材料で製造された第２層と、第１層と第２層との間に配置された弾性層と、とが積層されている。これにより、振動の減衰特性に優れた縦枠部とすることができる。これにより、縦枠部により保持されたマスクの検査等を行う時にマスクの板厚方向（カメラの焦点方向）の振動を追いかけるようにカメラの焦点位置を移動させる必要がなく、鮮明な画像が撮影でき、検査性能が向上する。
　前記弾性層は、弾性接着剤が硬化した層であり、厚さが略０．１ｍｍ以上かつ略０．２ｍｍ以下であってもよい。これにより、第１層と第２層とを接着しつつ、第１層と第２層との間に弾性層を設けることができる。
　前記第１材料はアルミニウムであり、前記第２材料はファインセラミックスであってもよい。これにより、第１材料を加工性に優れた材料とし、第２材料を剛性が高く変形し難い材料とすることができる。また、前記第１層には、前記マスクの端面と当接するツメ部が設けられる凹部が形成されていてもよい。これは、第１材料を加工性に優れた材料とすることで可能となる。
　前記フレームは、前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部の背面に当接する横枠部であって、上下動可能に設けられた横枠部を有してもよい。これにより、マスクの上端エッジが開放状態である従来の形態に対して上端エッジの振動を抑制することができ、より精度の高い検査を行うことができる。なお、前記横枠部は、前記第１層と、前記弾性層と、前記第２層とが順に積層されていることが好ましい。
　上記課題を解決するために、本発明に係るマスク保持装置は、例えば、枠状のフレームと、略鉛直に延設された棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部であって、前記フレームに左右方向に移動可能に設けられた第１縦枠部及び第２縦枠部と、を有し、透明な板状のマスクを略鉛直方向に保持するマスク保持部を備えたマスク保持装置であって、前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部には、それぞれ、超音波を用いて測距を行う第１超音波センサ及び第２超音波センサが下端近傍に設けられており、前記第１超音波センサは、前記第２縦枠部に向けて略水平に超音波を送信し、前記第２超音波センサは、前記第１縦枠部に向けて略水平に超音波を送信することを特徴とする。
　また、上記課題を解決するために、本発明に係るマスク保持方法は、例えば、透明な板状のマスクを略鉛直方向に保持するステップであって、上下の端面の左右方向中央部をアームで保持するステップと、略水平に延設された略棒状の下枠部と、前記下枠部から上向きに突出するように、略鉛直に延設された棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部と、を有するマスク保持部に、前記アームで保持された前記マスクを近づけるステップと、前記第１縦枠部に設けられた第１超音波センサ及び前記第２縦枠部に設けられた第２超音波センサから略水平に超音波を送信して測距を行って前記マスク保持部に対する前記マスクの位置を測定するステップと、を含むことを特徴とする。
　従来、マスクの位置を測定する超音波センサはマスク保持部に設けられておらず、別の装置に設けられていたため、マスクの位置測定が容易ではなかった。また、マスクの位置を測定せずに済むように、マスクを正確に搬入する必要があった。
　本発明に係るマスク保持装置及びマスク保持方法によれば、縦枠部に超音波センサを設けることで、単純な構成とすることができる。例えば、マスクを精度よく搬入できない装置を用いてマスクをマスク保持装置に搬入する場合に、マスクを把持する直前でマスクの位置を測定することでマスクを正しい位置に搬入することができる。
　前記第１縦枠部に設けられ、前記マスクの第１端面部と当接する第１ツメ部と、前記第２縦枠部に設けられ、前記マスクの第２端面部と当接する第２ツメ部と、を有するツメ部を備え、前記第１ツメ部及び前記第２ツメ部は、鉛直方向に沿って複数設けられており、前記第１超音波センサは、前記第１縦枠部の下端と、複数の前記第１ツメ部のうちの最も下側に設けられた第３ツメ部との間に設けられており、前記第２超音波センサは、前記第２縦枠部の下端と、複数の前記第２ツメ部のうちの最も下側に設けられた第４ツメ部との間に設けられていてもよい。言い換えれば、超音波センサを縦枠部の下端近傍に設けてもよい。これにより、マスク搬入時にマスクが揺動することによる位置ずれの影響を受けにくくなる。
　前記マスクの周縁には、平面又は曲面の面取部が形成されており、前記第１超音波センサ及び前記第２超音波センサは、前記マスクの前記面取部が形成されていない端面に向けて超音波を照射してもよい。これは、縦枠部に超音波センサを設けることにより可能になる。これにより、正確な距離を測定することができる。
　本発明によれば、振動の減衰特性に優れたフレームを提供することができる。
マスク保持装置１の概略を示す斜視図である。 ツメ部１４が当接位置にあるときの概略を示す図であり、図１のＡ－Ａ断面図である。 縦枠部１２の概略を示す断面図である。 （Ａ）は縦枠部１２の振動特性を示すグラフであり、（Ｂ）は金属マトリックス複合材料で製造した従来の縦枠部の振動特性を示すグラフである。 マスク保持装置１の電気的な構成を示すブロック図である。 マスクＭを略鉛直方向に保持する処理の流れを示すフローチャートである。 マスクＭを略鉛直方向に保持する様子を模式的に示す図である。 マスク保持装置２の概略を示す斜視図である。 横枠部１５の概略を示す断面図である。
　以下、本発明の実施形態を、図面を参照して詳細に説明する。本発明は、マスクＭを略鉛直方向に保持するマスク保持装置及びマスク保持装置が有する縦枠部であり、マスクＭを検査するマスク検査機等の内部に設けられる。
　マスクＭは、石英ガラス等により形成された透明な略板状の部材であり、例えば有機ＥＬや液晶表示装置の表示装置用の基板を製造するために用いられる露光用マスクである。マスクＭは、一辺が１ｍ程度の大型な略矩形形状の基板上に、１個または複数個のイメージデバイス用転写パターンが形成されるものである。また、マスクＭには、マスクエッジが欠けないようにするため、周縁に面取り部が形成されている。
　＜第１の実施の形態＞
　図１は、第１の実施の形態に係るマスク保持装置１の概略を示す斜視図である。本明細書においては、フレーム１１の長手方向に略沿った方向をｘ方向と定義し、鉛直方向をｙ方向とし、ｘ方向及びｙ方向と直交する方向をｚ方向と定義する。
　マスク保持装置１は、ステージ（図示せず）に載置されており、主として、マスク保持部１０と、フレーム保持部２０と、超音波センサ３０と、を有する。
　マスク保持部１０は、主として、フレーム１１と、フレーム１１に設けられた縦枠部１２、１３と、マスクＭを把持するツメ部１４と、を有する。ツメ部１４は縦枠部１２、１３等に設けられている。
　フレーム１１は、鉛直に保持されるマスクＭの外周を囲むように、略枠状に形成される。フレーム１１は、マスクＭの表面ｍ１（パターンが形成される面）がｘｙ平面と平行となるようにマスクＭを保持する。
　フレーム１１には、主として、縦枠部１２、１３が設けられている。縦枠部１２、１３は、略鉛直に延設された棒状の部材である。異なる大きさのマスクＭに対応するため、縦枠部１２、１３は、水平方向（ｘ方向）に移動可能である。縦枠部１２、１３については、後に詳述する。
　ツメ部１４は、縦枠部１２、１３及び第２ブロック２１ｂ（後に詳述）のそれぞれに設けられている。ツメ部１４は、マスクＭと当接する当接位置と、マスクＭと当接しない退避位置との間で移動可能である。縦枠部１２、１３に設けられたツメ部１４は、当接位置と退避位置との間で、先端が略水平方向（ｘ方向）に移動する。第２ブロック２１ｂに設けられたツメ部１４は、当接位置と退避位置との間で、先端が略鉛直方向（ｙ方向）に移動する。
　図２は、ツメ部１４が当接位置にあるときの概略を示す図であり、図１のＡ－Ａ断面図である。図２において、点線は、ツメ部１４が退避位置にある状態を示し、実線は、ツメ部１４が当接位置にある状態を示す。
　ツメ部１４は、主として、先端部１４１と、直動ガイド１４３とを有する。先端部１４１は、マスクＭと当接する略矩形形状の部品であり、ポリエーテルエーテルケトン樹脂（ＰＥＥＫ）等の耐熱性、機械的強度に優れた樹脂で形成される。先端部１４１の先端には、ｙ方向から見て斜めに切断された当接面１４２を有する。当接面１４２は、マスクＭの面取り部ｃ１と左端面ｍ３との間の角ｌ１に当接する。
　直動ガイド１４３は、主として、レール１４３ａと、駆動部１４３ｂと、を有する。
レール１４３ａは、縦枠部１３（図２では図示省略）に固定されている。駆動部１４３ｂは、先端部１４１の後ろ側（図２における右側）に固定されており、レール１４３ａに沿って移動可能である。このように、ツメ部１４（すなわち、先端部１４１）は、図２矢印で示すように、退避位置と当接位置との間で移動可能である。
　ツメ部１４が当接位置にあるときは、ツメ部１４は、図２における左向き（＋ｘ方向）の力をマスクＭに付勢する。その結果、当接面１４２が角ｌ１を斜め前方から押圧し、マスクＭの裏面ｍ２がフレーム１１に当接することで、マスクＭがフレーム１１に保持される。
　図１の説明に戻る。マスク保持部１０の下側には、フレーム保持部２０が設けられる。フレーム保持部２０は、ステージ（図示せず）に載置されており、マスクＭの下辺の高さ方向（ｙ方向）の位置を変更する調整機構２１を有する。調整機構２１は、ｘ方向に沿って複数個形成される。調整機構２１は、上面がｘｚ平面に対して傾いている第１ブロック２１ａと、下面がｘｚ平面に対して傾いている第２ブロック２１ｂとを有し、第１ブロック２１ａと第２ブロック２１ｂとの相対的な位置関係を変えることで高さの調整を行なう。調整機構２１はすでに公知であるため、詳細な説明は省略する。
　超音波センサ３０は、超音波を用いて測距を行うセンサである。超音波センサ３０は、縦枠部１２に設けられた超音波センサ３１と、縦枠部１３に設けられた超音波センサ３２とを有する。例えば、超音波センサ３１、３２は、直径が１０ｍｍ程度の小型のセンサであり、４０ｍｍ程度の距離にある物体を高精度に測定可能である。
　超音波センサ３１は、縦枠部１３に向けて略水平に、すなわち－ｘ方向に向けて超音波を送信する。超音波センサ３２は、縦枠部１２に向けて略水平に、すなわち＋ｘ方向に向けて超音波を送信する。超音波センサ３０は既に公知であるため、詳細な説明は省略する。
　超音波センサ３１、３２は、それぞれ、縦枠部１２、１３の下端近傍に設けられている。例えば、超音波センサ３１は、縦枠部１２の下端と、縦枠部１２に鉛直方向に沿って設けられた複数のツメ部１４のうちの最も下側に設けられたツメ部１４との間に設けられている。また、例えば、超音波センサ３１は、縦枠部１３の下端と、縦枠部１３に設けられた複数のツメ部１４のうちの最も下側に設けられたツメ部１４との間に設けられている。
　超音波センサ３１、３２は、マスクＭの面取り部ｃ１、ｃ２（図２参照）が形成されていない端面（例えば、左端面ｍ３）に向けて超音波を照射する。超音波センサ３１、３２は、それぞれ、超音波を発信すると共にマスクＭの端面で反射して戻ってきた超音波を受信し、発信から受信までの時間を計測することでマスクＭの端面までの距離を測定する。これは、縦枠部１２、１３に超音波センサ３１、３２を設けることにより可能となる。
　ここで、縦枠部１２、１３の構造について説明する。縦枠部１２と縦枠部１３とは、同様の構成を有するため、縦枠部１２を用いて説明を行い、縦枠部１３の説明を省略する。
　図３は、縦枠部１２の概略を示す断面図である。縦枠部１２は、第１層１２１と、第２層１２２と、第１層１２１と第２層１２２との間に配置された弾性層１２３とを有する。第１層１２１と、第２層１２２と、弾性層１２３とは積層されている。第１層１２１は、＋ｚ方向を向く表面１２１ａを有し、表面１２１ａには、凹部１２１ｂが形成されている。凹部１２１ｂには、ツメ部１４が設けられる。
　第１層１２１は第１材料で形成されており、第２層１２２は第２材料で形成されている。第１材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかであり、第２材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかである。
　金属材料とは、例えば、鉄、鉄合金、アルミニウム、非鉄合金である。ここで、鉄合金とは、例えば、ステンレス鋼、低熱膨張合金（インバー、スーパーインバー等）、クロムモリブデン鋼である。また、非鉄合金とは、例えば、銅合金（ベリリウム銅）、アルミニウム合金（ジュラルミン等）、マグネシウム合金、チタン合金である。セラミックスとは、例えば、ファインセラミックス（酸化アルミニウム（アルミナ）、コージライト、炭化ケイ素、フェライト、窒化アルミニウム等）、二酸化ジルコニウム（ジルコニア）である。
　金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂は、複合材料の一種である。金属マトリックス複合材料は、金属を母材（マトリックス）とする複合材料である。母材となる金属は、例えば、アルミニウム、金属シリコン、銅、マグネシウム、真鍮である。また、金属マトリックス複合材料においてマトリックスに組み合わせる強化材は、例えば、繊維（カーボン等）、セラミックス（炭化ケイ素、アルミナ、ホウ酸アルミ、窒化アルミ等）である。
　繊維強化樹脂は、樹脂を母材とする複合材料であり、強化剤に繊維を用いる。母材となる樹脂は、例えば、エポキシ樹脂、不飽和ポリエステル樹脂等の熱硬化性樹脂、メタクリル酸メチル等の熱可塑性樹脂である。繊維強化樹脂は、例えば、強化剤が炭素繊維である炭素繊維強化プラスチック、強化剤がガラス繊維であるガラス繊維強化プラスチック、強化剤がアラミド繊維であるアラミド繊維強化プラスチックである。
　本実施の形態は、第１層１２１はアルミニウムで形成されており、第２層１２２はファインセラミックス（例えば、アルミナ焼結体）で形成されている。
　第１層１２１は、加工性に優れた材料を用いて形成されていることが好ましい。したがって、第１層１２１は金属材料を用いて形成されていればよく、アルミニウムに限定されない。ただし、軽量化のためには第１層１２１にアルミニウムを用いることが好ましい。
　第２層１２２は、第１層１２１を補強する意味を有するため、剛性が高く変形し難い材料、すなわち縦弾性係数（ヤング率）が高い材料を用いることが望ましい。そのため、本実施の形態では、ファインセラミックスを用いて第２層１２２を形成する。
　本実施の形態では、剛性を確保するため、第１層１２１の厚さｔ１及び第２層１２２の厚さｔ２をそれぞれ略１０ｍｍ程度とする。ただし、厚さｔ１、ｔ２はこれに限られない。
　弾性層１２３は、柔軟で弾性変形が可能な材料で形成されている。本実施の形態では、弾性接着剤を用いて弾性層１２３が成形されており、弾性接着剤が硬化した層が弾性層１２３となる。弾性接着剤は、塗布時には動粘性を有する液体状ないしペースト状であり、硬化するとゴム状の弾性体となる。弾性接着剤としては、例えば、フッ素系、シリコン系（シリコン樹脂、変性シリコン樹脂等）、ウレタン系（ウレタン樹脂、シリル化ウレタン樹脂等）の接着剤を使用することができる。本実施の形態では、シリコン系の弾性接着剤を用いる。弾性接着剤を用いることで、第１層１２１と第２層１２２とを接着をしつつ、第１層１２１と第２層１２２との間に弾性層を設けることができる。
　なお、弾性層１２３に用いる弾性接着剤は、硬化後のショアＡ硬度が３０以上かつ６０以下のものであることが好ましい。なお、ショアＡ硬度は、ＩＳＯ　７６１９－１：２０１０に従って測定される。
　第１層１２１と第２層１２２との間に弾性層１２３を配置することで、縦枠部１２に板厚方向の力が局所的に加わったとしても、振動を弾性接着剤により緩和することができる。また、温度等による寸法の変化が第１層１２１と第２層１２２とで異なったとしても、その差異を差異が生じた弾性層１２３で吸収し、第１層１２１と第２層１２２との接着状態を安定して維持することができる。
　振動を緩和するためには弾性層１２３の厚さが厚い方が好ましいが、弾性層１２３が厚くなると縦枠部１２の剛性が低下する。したがって、これらのバランスをとるために、弾性層１２３の厚さｔ３を略０．１ｍｍ以上かつ略０．２ｍｍ以下でとすることが好ましい。
　縦枠部１２、１３の振動特性について、図４を用いて説明する。図４（Ａ）は縦枠部１２の振動特性を示すグラフであり、図４（Ｂ）は金属マトリックス複合材料（メタルマトリックスセラミックス、ＭＭＣ）で製造した従来の縦枠部の振動特性を示すグラフである。縦枠部１２及び従来の縦枠部は、略同一の寸法であり、長さが略１４００ｍｍ、幅が略２００ｍｍ、厚さが略２０ｍｍである。図４のグラフは、縦枠部１２及び従来の縦枠部の両端をそれぞれ固定し、中央に加速度センサを取付けてその反対側からハンマーで打撃を加えたときに、加速度センサで得られた測定結果である。図４の縦軸は、縦枠部、すなわち保持されるマスクＭの板厚方向（ｚ方向）の振動の振幅である。
　図４の横軸は時間であり、図４（Ａ）は１マスが０．１秒であり、図４（Ｂ）は１マスが０．５秒である。縦枠部１２は、略０．５秒で振動が略０になるまで減衰するのに対し、従来の縦枠部は、振動が略０になるまでに３秒～４秒程度継続している。このように、第１層１２１と第２層１２２との間に弾性層１２３を配置した縦枠部１２は、すぐに振動が減衰する。なお、縦枠部１２の共振周波数は２６Ｈｚ、従来の縦枠部の共振周波数は３６Ｈｚであり、いずれも剛性が高いことが確認できた。
　図５は、マスク保持装置１の電気的な構成を示すブロック図である。マスク保持装置１は、主として、制御部５１、記憶部５２、入力部５３、出力部５４を含んで構成される。
　制御部５１は、演算装置であるＣＰＵ（Ｃｅｎｔｒａｌ　Ｐｒｏｃｅｓｓｉｎｇ　Ｕｎｉｔ）等のプログラム制御デバイスであり、記憶部５２に格納されたプログラムにしたがって動作する。制御部５１の詳しい動作の内容については、後に詳述する。
　記憶部５２は、不揮発性メモリ、揮発性メモリ等であり、制御部５１によって実行されるプログラム等を保持するとともに、制御部５１のワークメモリとして動作する。入力部５３は、キーボードやマウス等の入力デバイスを含む。出力部５４は、ディスプレイ等である。
　次に、制御部５１が行う処理の流れについて説明する。図６は、マスクＭを略鉛直方向に保持する処理の流れを示すフローチャートである。図７は、マスクＭを略鉛直方向に保持する様子を模式的に示す図である。なお、処理を始める前には、縦枠部１２、１３は最も離れた位置にあり、調整機構２２の第２ブロック２１ｂは下端に位置し、ツメ部１４は待機位置にある。
　（ステップＳ１）
　まず、マスク保持装置１とは異なる装置（例えば、搬送装置）は、当該搬送装置が有するアーム１０１でマスクＭを略鉛直方向に保持する。この時、アーム１０１は、マスクＭの上下の端面（±ｙ側の端面）の左右方向（ｘ方向）中央部を保持する。
　（ステップＳ２）
　次に、搬送装置は、アーム１０１を－ｚ方向に移動させてマスクＭをマスク保持装置１の内部へと挿入し、マスク保持部１０にマスクＭを近づける。これにより、フレーム１１（図７では図示省略）の手前側（＋ｚ側）にマスクＭが配置される。
　（ステップＳ３）
　次に、制御部５１は、超音波センサ３１、３２から略水平に超音波を送信して測距を行い、マスク保持部１０に対するマスクＭの位置を測定する。このように、マスクＭをツメ部１４で把持する直前にマスクＭの位置を測定する。
　（ステップＳ４）
　次に、制御部５１は、ステップＳ３における超音波センサ３１、３２の測定結果に基づいて、図示しない駆動部を用いて、ツメ部１４でマスクＭが把持可能な位置まで縦枠部１２、１３を移動させる。また、制御部５１は、調整機構２２（図７では図示省略）及び図示しない駆動部を制御して第２ブロック２１ｂ（図７では図示省略）を上方（＋ｙ方向）に移動させ、第２ブロック２１ｂとマスクＭの下端面とを当接させる。
　（ステップＳ５）
　次に、制御部５１は、ツメ部１４を待機位置から当接位置へと移動させる。このときには、全てのツメ部１４を同時に移動させる。これにより、マスク保持部１０がマスクＭを保持する。
　本実施の形態によれば、第１層１２１と第２層１２２との間に弾性層１２３を配置することで、振動の減衰特性に優れた縦枠部１２、１３とすることができる。縦枠部１２、１３においては外力による振動が瞬時に減衰するため、検査等を行う時にマスクＭのｚ方向の振動を追いかけるようにカメラの焦点位置を移動させる必要がなく、鮮明な画像が撮影でき、検査性能が向上する。
　また、本実施の形態では、縦枠部１２、１３に超音波センサ３１、３２を設けることで、単純な構成とすることができる。アーム１０１でマスクＭの上下の端面の左右方向中央部を保持する形態の搬送装置等を用いてマスクＭを搬入する場合には、マスクＭの傾き等によりマスクＭの正しい搬入位置に対してマスクＭの位置がずれることが多々ある。このような場合に、超音波センサ３１、３２でマスクＭの位置を測定する工程を入れることで、搬入されたマスクＭの位置が修正可能であり、マスク保持部１０がマスクＭを正しく保持することができる。
　また、本実施の形態では、超音波センサ３１、３２を縦枠部１２、１３の下端近傍、例えば、縦枠部１２、１３の下端と、縦枠部１２、１３に設けられたツメ部１４のうちの最も下側に設けられたツメ部１４との間に超音波センサ３１、３２を設けることで、マスクＭの傾きの影響を受けにくくすることができる。
　図７に示すように、アーム１０１は、下端が保持されており、把持するマスクＭが下端を中心に揺動しやすい形状となっている（図７の点線矢印参照）。マスクＭが揺動すると、マスクＭの上端近傍の位置ずれが大きくなる。そのため、超音波センサ３１、３２を縦枠部１２、１３の下端近傍に設け、測距時の距離の変化を小さくし、測定精度を高くしている。
　なお、本実施の形態では、金属材料を用いて第１層１２１を形成（第１材料が金属材料）し、ファインセラミックスを用いて第２層１２２を形成（第２材料がファインセラミックス）したが、第１材料、第２材料はこれに限られない。第１材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかであり、第２材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかであればよい。
　ただし、第１材料を加工性に優れた材料とし、第２材料を剛性が高く変形し難い材料とするためには、第１材料と第２材料との組み合わせを以下のようにすることが望ましい。例えば、第１材料を金属（アルミニウム、鉄等）とし、第２材料を石英ガラス又は繊維強化樹脂としてもよいし、第１材料を繊維強化樹脂（例えば、炭素繊維強化プラスチック）とし、第２材料をファインセラミックスとしてもよいし、第１材料を金属マトリックス複合材料とし、第２材料を金属（アルミニウム、鉄等）としてもよいし、第１材料及び第２材料を金属マトリックス複合材料としてもよい。
　また、本実施の形態では、弾性接着剤を用いて弾性層１２３が成形されていたが、弾性層１２３の形態はこれに限られない。例えば、弾性層が、ゴム等の弾性体と、弾性体の両面に設けられた接着部とを含む構成であってもよい。この場合の接着部は、弾性接着剤であってもなくてもよい。また、弾性体は、ＩＳＯ　７６１９－１：２０１０に従って測定されるショアＡ硬度が３０以上かつ６０以下であることが好ましい。
　また、本実施の形態では、縦枠部１２、１３に超音波センサ３１、３２を設けたが、超音波センサ３１、３２は必須ではない。また、超音波センサ３１、３２は、層状の構成である縦枠部１２、１３に設けることは必須ではなく、従来の構成の縦枠部に設けてもよい。
　＜第２の実施の形態＞
　本発明の第１の実施の形態は、縦枠部１２、１３及び第２ブロック２１ｂに設けられたツメ部１４を用いてマスクＭを保持したが、ツメ部１４が設けられる位置はこれに限られない。
　本発明の第２の実施の形態は、マスク保持部が横枠部を有し、横枠部にもツメ部を設ける形態である。以下、第２の実施の形態にかかるマスク保持装置２について説明する。第１の実施の形態と同一の部分については、同一の符号を付し、説明を省略する。
　図８は、マスク保持装置２の概略を示す斜視図である。マスク保持装置２は、主として、マスク保持部１０Ａと、フレーム保持部２０（図９では図示省略）と、超音波センサ３０と、を有する。
　マスク保持部１０Ａは、主として、フレーム１１（図９では図示省略）と、縦枠部１２、１３と、ツメ部１４と、横枠部１５とを有する。横枠部１５は、フレーム１１に設けられており、図示しない駆動部により上下動可能である。
　また、横枠部１５は、縦枠部１２、１３の背面（－ｚ側の面）に当接可能である。横枠部１５の表面（＋ｚ側の面）及び縦枠部１２、１３の背面は、一方に磁石が設けられており、他方に磁性体が設けられている。横枠部１５を縦枠部１２、１３から離して上下動させ、横枠部１５が所望の位置に配置されたときに横枠部１５を縦枠部１２、１３に近づけることにより、横枠部１５が縦枠部１２、１３の背面に当接する。
　横枠部１５にはツメ部１４が設けられている。横枠部１５を縦枠部１２、１３の背面に当接させた後で、縦枠部１２、１３、横枠部１５及び第２ブロック２１ｂに設けられたツメ部１４を用いてマスクＭを保持する。
　図９は、横枠部１５の概略を示す断面図である。横枠部１５は、縦枠部１２と同様に、第１材料で形成された第１層１５１と、第２材料で形成された第２層１５２と、第１層１５１と第２層１５２との間に配置された弾性層１５３とを有する。第１層１５１と、第２層１５２と、弾性層１５３とは積層されている。なお、第１層１５１には、ツメ部１４を設けるための凹部等が形成されていてもよい。
　本実施の形態では、例えば、アルミニウムを用いて第１層１５１が形成されており、ファインセラミックスを用いて第２層１５２が形成されており、弾性接着剤を用いて弾性層１５３が成形されている。また、例えば、第１層１５１及び第２層１５２の厚さはそれぞれ略１０ｍｍ程度であり、弾性層の１５３の厚さは略０．１ｍｍ以上かつ略０．２ｍｍ以下である。このように、第１層１５１と第２層１５２との間に弾性層１５３を配置することで、横枠部１５に板厚方向の力が局所的に加わったとしても、振動が緩和され、振動がすぐに減速する。
　本実施の形態によれば、横枠部１５を設けることで、マスクＭをより強固に保持すると共に、マスクＭのｚ方向の振動をさらに減らすことができる。例えば、横枠部１５が設けられていない場合には、マスクＭの上端エッジが開放状態であり振動が発生するが、横枠部１５を設けることで上端エッジの振動を抑制することができる。したがって、マスクＭの鮮明な画像に基づいて精度の高い検査を行うことができる。
　本実施の形態によれば、横枠部１５を第１層１５１と第２層１５２との間に弾性層１５３を配置する構成とすることで、振動の減衰特性に優れた横枠部１５とすることができる。そのため、横枠部を従来の構成（例えば、金属マトリックス複合材料で形成）を用いて形成する場合に比べて鮮明な画像が撮影でき、検査性能が向上する。
　なお、本実施の形態では、第１層１５１と第２層１５２との間に弾性層１５３が配置された層状の横枠部１５を用いたが、横枠部の構成はこれに限られない。例えば、横枠部が、従来の構成の縦枠部と同様、金属マトリックス複合材料等で形成された板状の部材であってもよい。
　以上、この発明の実施形態を、図面を参照して詳述してきたが、具体的な構成はこの実施形態に限られるものではなく、この発明の要旨を逸脱しない範囲の設計変更等も含まれる。
　この発明の実施の形態では、周縁に平面の面取部（いわゆるＣ面）が形成された透明な略板状のマスクＭを用いて説明したが、マスクＭの形態はこれに限られない。例えば、周縁に曲面の面取部（いわゆるＲ面）が形成されたマスクを用いることもできる。また、例えば、周縁の面取りの大きさが表側と裏側とで異なるマスクを用いることもできる。
　本発明において、「略」とは、厳密に同一である場合のみでなく、同一性を失わない程度の誤差や変形を含む概念である。例えば、略立方体形状とは、厳密に立方体形状の場合に限られない。また、例えば、単に鉛直、一致等と表現する場合において、厳密に鉛直、一致等の場合のみでなく、略鉛直、略一致等の場合を含むものとする。また、本発明において「近傍」とは、例えばＡの近傍であるときに、Ａの近くであって、Ａを含んでもいても含んでいなくてもよいことを示す概念である。
１、２　　　　　：マスク保持装置
１０、１０Ａ　　：マスク保持部
１１　　　　　　：フレーム
１１ａ　　　　　：下枠部
１１ｅ　　　　　：凸部
１２、１３　　　：縦枠部
１３　　　　　　：縦枠部
１４　　　　　　：ツメ部
１５　　　　　　：横枠部
２０　　　　　　：フレーム保持部
２１　　　　　　：調整機構
２１ａ　　　　　：第１ブロック
２１ｂ　　　　　：第２ブロック
２２　　　　　　：調整機構
３０、３１、３２：超音波センサ
５１　　　　　　：制御部
５２　　　　　　：記憶部
５３　　　　　　：入力部
５４　　　　　　：出力部
１０１　　　　　：アーム
１２１、１５１　：第１層
１２１ａ　　　　：表面
１２１ｂ　　　　：凹部
１２２、１５２　：第２層
１２３、１５３　：弾性層
１４１　　　　　：先端部
１４２　　　　　：当接面
１４３　　　　　：直動ガイド
１４３ａ　　　　：レール
１４３ｂ　　　　：駆動部

Claims (12)

  1. 　透明な略板状のマスクを略鉛直方向に保持するマスク保持部に含まれる縦枠部であって、
    　第１材料で製造された第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料で製造された第２層と、前記第１層と前記第２層との間に配置された弾性層と、とが積層されており、
    　前記第１材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかであり、
    　前記第２材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかである
    　ことを特徴とする縦枠部。
  2. 　前記弾性層は、弾性接着剤が硬化した層であり、厚さが略０．１ｍｍ以上かつ略０．２ｍｍ以下である
    　ことを特徴とする請求項１に記載の縦枠部。
  3. 　前記第１材料はアルミニウムであり、前記第２材料はファインセラミックスである
    　ことを特徴とする請求項１又は２に記載の縦枠部。
  4. 　枠状のフレームと、略鉛直に延設された棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部であって、前記フレームに左右方向に移動可能に設けられた第１縦枠部及び第２縦枠部と、を有し、透明な板状のマスクを略鉛直方向に保持するマスク保持部を備えたマスク保持装置であって、
    　前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部は、第１材料で製造された第１層と、前記第１材料とは異なる第２材料で製造された第２層と、前記第１層と前記第２層との間に配置された弾性層と、とが積層されており、
    　前記第１材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料及び繊維強化樹脂のいずれかであり、
    　前記第２材料は、金属材料、セラミックス、金属マトリックス複合材料、繊維強化樹脂及び石英ガラスのいずれかである
    　ことを特徴とするマスク保持装置。
  5. 　前記フレームは、前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部の背面に当接する横枠部であって、上下動可能に設けられた横枠部を有する
    　ことを特徴とする請求項４に記載のマスク保持装置。
  6. 　前記横枠部は、前記第１層と、前記弾性層と、前記第２層とが順に積層されている
    　ことを特徴とする請求項５に記載のマスク保持装置。
  7. 　前記弾性層は、弾性接着剤が硬化した層であり、厚さが略０．１ｍｍ以上かつ略０．２ｍｍ以下である
    　ことを特徴とする請求項４から６のいずれか一項に記載のマスク保持装置。
  8. 　前記第１層には、前記マスクの端面と当接するツメ部が設けられる凹部が形成されており、
    　前記第１材料はアルミニウムであり、前記第２材料はファインセラミックスである
    　ことを特徴とする請求項４又は６に記載のマスク保持装置。
  9. 　枠状のフレームと、略鉛直に延設された棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部であって、前記フレームに左右方向に移動可能に設けられた第１縦枠部及び第２縦枠部と、を有し、透明な板状のマスクを略鉛直方向に保持するマスク保持部を備えたマスク保持装置であって、
    　前記第１縦枠部及び前記第２縦枠部には、それぞれ、超音波を用いて測距を行う第１超音波センサ及び第２超音波センサが下端近傍に設けられており、
    　前記第１超音波センサは、前記第２縦枠部に向けて略水平に超音波を送信し、
    　前記第２超音波センサは、前記第１縦枠部に向けて略水平に超音波を送信する
    　ことを特徴とするマスク保持装置。
  10. 　前記第１縦枠部に設けられ、前記マスクの第１端面部と当接する第１ツメ部と、前記第２縦枠部に設けられ、前記マスクの第２端面部と当接する第２ツメ部と、を有するツメ部を備え、
    　前記第１ツメ部及び前記第２ツメ部は、鉛直方向に沿って複数設けられており、
    　前記第１超音波センサは、前記第１縦枠部の下端と、複数の前記第１ツメ部のうちの最も下側に設けられた第３ツメ部との間に設けられており、
    　前記第２超音波センサは、前記第２縦枠部の下端と、複数の前記第２ツメ部のうちの最も下側に設けられた第４ツメ部との間に設けられている
    　ことを特徴とする請求項９に記載のマスク保持装置。
  11. 　前記マスクの周縁には、平面又は曲面の面取部が形成されており、
    　前記第１超音波センサ及び前記第２超音波センサは、前記マスクの前記面取部が形成されていない端面に向けて超音波を照射する
    　ことを特徴とする請求項９又は１０に記載のマスク保持装置。
  12. 　透明な板状のマスクを略鉛直方向に保持するステップであって、上下の端面の左右方向中央部をアームで保持するステップと、
    　略水平に延設された略棒状の下枠部と、前記下枠部から上向きに突出するように、略鉛直に延設された棒状の第１縦枠部及び第２縦枠部と、を有するマスク保持部に、前記アームで保持された前記マスクを近づけるステップと、
    　前記第１縦枠部に設けられた第１超音波センサ及び前記第２縦枠部に設けられた第２超音波センサから略水平に超音波を送信して測距を行って前記マスク保持部に対する前記マスクの位置を測定するステップと、
    　を含むことを特徴とするマスク保持方法。
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Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019129267A (ja) * 2018-01-25 2019-08-01 株式会社ブイ・テクノロジー 基板保持装置及び基板検査装置
JP2020011748A (ja) * 2018-07-17 2020-01-23 日本電気硝子株式会社 積層体パレット一体品、及びパレット
JP2020126984A (ja) * 2019-02-06 2020-08-20 株式会社ブイ・テクノロジー マスク検査装置
JP2022101135A (ja) * 2020-12-24 2022-07-06 株式会社ブイ・テクノロジー ペリクルフレーム把持装置

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2019129267A (ja) * 2018-01-25 2019-08-01 株式会社ブイ・テクノロジー 基板保持装置及び基板検査装置
JP2020011748A (ja) * 2018-07-17 2020-01-23 日本電気硝子株式会社 積層体パレット一体品、及びパレット
JP2020126984A (ja) * 2019-02-06 2020-08-20 株式会社ブイ・テクノロジー マスク検査装置
JP2022101135A (ja) * 2020-12-24 2022-07-06 株式会社ブイ・テクノロジー ペリクルフレーム把持装置

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