WO2025204802A1 - 孔洗浄装置および孔洗浄方法 - Google Patents

孔洗浄装置および孔洗浄方法

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WO2025204802A1
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hole
container
liquid
cleaned
cleaning device
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PCT/JP2025/008761
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French (fr)
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拓志 永島
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Sumitomo Electric Industries Ltd
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Pending legal-status Critical Current

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    • B—PERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B08—CLEANING
    • B08B—CLEANING IN GENERAL; PREVENTION OF FOULING IN GENERAL
    • B08B3/00—Cleaning by methods involving the use or presence of liquid or steam
    • B08B3/04—Cleaning involving contact with liquid
    • B08B3/10—Cleaning involving contact with liquid with additional treatment of the liquid or of the object being cleaned, e.g. by heat, by electricity or by vibration

Definitions

  • FIG. 1 is a diagram schematically illustrating a hole cleaning device according to a first embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 2 shows the liquid overflowing from the second end of the through-hole.
  • FIG. 3 is a flow chart illustrating the hole cleaning method.
  • FIG. 4 is a diagram schematically illustrating a hole cleaning device according to a first modified example.
  • FIG. 5 is a diagram showing how the overflowed liquid is collected in a container.
  • FIG. 6 is a diagram schematically illustrating a hole cleaning device according to a second modified example.
  • FIG. 7A is a diagram showing a procedure for placing a clad material on a support base in the second modified example.
  • FIG. 7B is a diagram showing a procedure for placing the clad material on the support base in the second modified example.
  • FIG. 7A is a diagram showing a procedure for placing a clad material on a support base in the second modified example.
  • FIG. 7B is a diagram showing a procedure for placing the
  • FIG. 14A is a diagram showing a procedure for placing a clad material on a support base in the sixth modified example.
  • FIG. 14B is a diagram showing a procedure for placing the clad material on the support base in the sixth modified example.
  • FIG. 14C is a diagram showing a procedure for placing the clad material on the support base in the sixth modified example.
  • FIG. 15A is a diagram showing a procedure for placing a clad material on a support base in the sixth modified example.
  • FIG. 15B is a diagram showing a procedure for placing the clad material on the support base in the sixth modified example.
  • FIG. 15C is a diagram showing a procedure for placing the clad material on the support base in the sixth modified example.
  • One method for manufacturing optical fiber is the drilling method.
  • a through hole is formed in the cladding material, a core material is inserted into the through hole, and the cladding material and core material are heated to integrate them, thereby obtaining a preform for the optical fiber.
  • the preform is then spun to obtain the optical fiber.
  • the present disclosure aims to provide a hole cleaning device and a hole cleaning method that can avoid the need for large-scale equipment required to clean through holes in an object to be cleaned, such as a clad material. [Effects of the present disclosure]
  • This disclosure provides a hole cleaning device and hole cleaning method that can avoid the need to increase the size of the equipment required to clean through-holes in an object to be cleaned.
  • a hole cleaning device cleans a through hole of an object to be cleaned having at least one through hole.
  • the hole cleaning device includes: a support part that supports the object to be cleaned so that a first end of the through hole is positioned lower than a second end of the through hole; a liquid supply part that includes a bubble generator that generates bubbles in the liquid and supplies the liquid containing bubbles into the through hole from the first end of the through hole; and a first container that accommodates the support part and the object to be cleaned and collects the liquid that overflows from the second end of the through hole.
  • a liquid containing bubbles is supplied into the through hole from a first end located below the second end of the through hole.
  • the liquid then moves through the through hole to the second end and overflows from the second end.
  • the liquid contains bubbles and cleans the inside of the through hole.
  • the hole cleaning device of [1] above can be made more compact than conventional devices that clean the inside of through holes using vapor-phase etching and purification gas.
  • the bubble generator may include at least one of an aeration device, a microbubble generator, and a nanobubble generator. In this case, fine bubbles with cleaning properties can be generated inside the liquid.
  • the support unit may have a second container housed in the first container and spaced apart from the bottom surface to house the object to be cleaned, the liquid supply unit may supply liquid containing bubbles between the bottom surface of the second container and the object to be cleaned, and the first container may collect liquid that overflows from the second container. This allows the liquid containing bubbles to be supplied into the through hole from the first end of the through hole.
  • the bubble generator may include at least one of an aeration device, a microbubble generator, a nanobubble generator, and an ultrasonic generator. In this case, fine bubbles with cleaning properties can be generated inside the liquid.
  • the second container may be divisible into two or more parts aligned vertically.
  • the upper part of the second container can be separated and removed from the lower part in advance, thereby lowering the sidewall of the second container and making it easier to place the object to be cleaned in the second container.
  • the first container may be divisible into two or more parts aligned vertically.
  • the worker when a worker manually places a heavy object to be cleaned in the first container, the worker can first separate and remove the upper part of the first container from the lower part, thereby lowering the sidewall of the first container and making it easier to place the object to be cleaned in the first container.
  • the support part may have a first state in which the object to be cleaned is supported in a tilted state, and a second state in which the object to be cleaned is supported so that the position of the first end is lower than the position of the second end.
  • the object to be cleaned when placing an object to be cleaned that is long in the axial direction of the through-hole and heavy on the support part, the object to be cleaned can be first placed in a tilted state (i.e., the first state), and then placed in the state at the time of cleaning (i.e., the second state). In this way, by being able to change the position of the object to be cleaned, an operator can easily place a long and heavy object on the support part by hand.
  • the liquid may be water
  • the liquid supply unit may further include a water treatment device that increases the purity of the water through at least one of ion exchange, distillation, and filtration. In this case, impurities in the liquid can be minimized, thereby improving the cleaning effect.
  • a liquid containing bubbles is supplied into the through hole from a first end located below the second end of the through hole.
  • the liquid in the through hole is then moved to the second end and allowed to overflow from the second end.
  • the liquid contains bubbles and cleans the through hole.
  • the hole cleaning method of [10] above allows for a smaller cleaning device compared to conventional methods that use vapor-phase etching and purification gas to clean the inside of the through hole.
  • FIG. 1 is a schematic diagram illustrating a hole cleaning apparatus 1A according to a first embodiment of the present disclosure.
  • the hole cleaning apparatus 1A is an apparatus for cleaning the through hole 51 of a clad material 50 (object to be cleaned) having at least one through hole 51.
  • the clad material 50 is used to manufacture a single-core fiber.
  • the clad material 50 is used to manufacture a multi-core fiber having two cores or a polarization-maintaining fiber.
  • the clad material 50 is used to manufacture a multi-core fiber having three or more cores.
  • the core density of a multi-core fiber can be improved by arranging multiple cores in a single optical fiber. This makes it possible to increase the number of cores while maintaining a constant outer diameter of an optical fiber cable, or to reduce the outer diameter of the cable while maintaining a constant number of cores incorporated in the optical fiber cable. Furthermore, since the inter-core distance can be made smaller than in a fiber array in which conventional optical fibers are arranged, it is expected that the multi-core fiber will also be used as a high-density optical wiring.
  • the hole cleaning device 1A of this embodiment includes a support unit 14, a liquid supply unit 10A, and a container 15A (first container).
  • the clad material 50 is cylindrical and extends along the central axis.
  • the through-hole 51 penetrates the cylindrical clad material 50 from the first end face to the second end face.
  • the cross section perpendicular to the direction in which the through-hole 51 extends is circular.
  • the clad material 50 is made of, for example, quartz glass.
  • the through-hole 51 has a first end 51a formed on the first end face of the clad material 50 and a second end 51b formed on the second end face of the clad material 50.
  • the support portion 14 supports the clad material 50 so that the position of the first end 51a of the through hole 51 is lower than the position of the second end 51b of the through hole 51.
  • the support portion 14 has a support base 14A.
  • the support base 14A includes a table placed above the bottom surface of the container 15A, and the clad material 50 is placed on the table.
  • the clad material 50 is erected on the support base 14A so that the first end surface faces the support base 14A.
  • the central axis of the clad material 50 is perpendicular to the surface of the table of the support base 14A. In this case, the central axis of the clad material 50 may be along the vertical direction.
  • the liquid supply unit 10A supplies liquid LQ containing bubbles from the first end 51a of the through-hole 51 into the through-hole 51.
  • the liquid LQ is, for example, water, and may be pure water.
  • the liquid supply unit 10A of this embodiment has a water treatment device 11, a bubble generation device 12, and a component 13.
  • the water treatment device 11 receives water as liquid LQ via piping 21 and increases the purity of the water by at least one of ion exchange, distillation, and filtration.
  • the bubble generation device 12 is connected to the water treatment device 11 via piping 22 and generates bubbles within the liquid LQ.
  • a piping 24 is connected to the bubble generation device 12, which introduces gas GS for forming bubbles.
  • the bubble generation device 12 includes, for example, at least one of an aeration device, a microbubble generator, and a nanobubble generator.
  • the component 13 is connected to the bubble generation device 12 via piping 23.
  • the part 13 is placed on the table of the support stand 14A and is connected to the first end surface of the clad material 50, which includes the first end 51a of the through hole 51.
  • the part 13 guides the liquid LQ containing bubbles from the first end 51a of the through hole 51 into the through hole 51.
  • the part 13 is, for example, a coupler or a joint.
  • Liquid LQ containing air bubbles is supplied into the through-hole 51 from the first end 51a, which is located below the second end 51b of the through-hole 51.
  • the liquid LQ then moves through the through-hole 51 to the second end 51b and overflows from the second end 51b.
  • the liquid LQ contains air bubbles, it cleans the inside of the through-hole 51, and foreign matter FM inside the through-hole 51 is expelled from the through-hole 51.
  • the hole cleaning device 1A further includes a waste liquid tank 16 and a pump 17.
  • the waste liquid tank 16 is a container that temporarily stores the liquid LQ discharged from the pipe 151.
  • the liquid LQ in the waste liquid tank 16 is sucked up by the pump 17 through the pipe 25, and then discarded outside the hole cleaning device 1A.
  • FIG. 3 is a flowchart showing the hole cleaning method of this embodiment.
  • This hole cleaning method can be performed using, for example, the hole cleaning device 1A described above.
  • This hole cleaning method is a method for cleaning the through hole 51 of a clad material 50 having at least one through hole 51.
  • This hole cleaning method includes a first step ST1, a second step ST2, and a third step ST3.
  • the first step ST1 the clad material 50 is supported so that the position of the first end 51a of the through hole 51 is lower than the position of the second end 51b of the through hole 51.
  • bubbles are generated inside the liquid LQ, and the liquid LQ containing the bubbles is supplied from the first end 51a of the through hole 51 into the through hole 51.
  • the liquid LQ may be water.
  • the purity of the water may be increased by at least one process of ion exchange, distillation, and filtration.
  • the liquid LQ that has overflowed from the second end 51b of the through-hole 51 is collected.
  • liquid LQ containing bubbles is supplied into the through-hole 51 from the first end 51a, which is located below the second end 51b of the through-hole 51.
  • the liquid LQ then moves within the through-hole 51 to the second end 51b and overflows from the second end 51b.
  • the liquid LQ contains bubbles and cleans the inside of the through-hole 51.
  • the hole cleaning device 1A of this embodiment can be made smaller than conventional devices that clean the inside of the through-hole 51 using vapor-phase etching and purification gas. Therefore, the hole cleaning device 1A of this embodiment can avoid the need for larger equipment to clean the through holes 51 in the cladding material 50 when manufacturing optical fiber preforms using the drilling method.
  • liquid LQ containing bubbles is supplied into the through hole 51 from the first end 51a, which is located below the second end 51b of the through hole 51.
  • the liquid LQ in the through hole 51 is then moved to the second end 51b and allowed to overflow from the second end 51b.
  • the liquid LQ contains bubbles and cleans the inside of the through hole 51.
  • a sufficient amount of liquid LQ can be retained within the through hole 51 for a sufficient period of time, thereby improving the cleaning effect.
  • the hole cleaning method of this embodiment allows for a smaller cleaning device than conventional methods that clean the inside of the through hole 51 using vapor-phase etching and purification gas. Therefore, the hole cleaning method of this embodiment makes it possible to avoid increasing the size of the equipment required to clean the through hole 51 in the cladding material 50 when manufacturing an optical fiber preform by a drilling method.
  • the liquid supply unit 10A may have a component 13 that is connected to the first end surface of the clad material 50, including the first end 51a of the through hole 51, and that guides the liquid LQ containing bubbles from the first end 51a of the through hole 51 into the through hole 51. This allows the liquid LQ containing bubbles to be supplied into the through hole 51 from the first end 51a of the through hole 51.
  • the bubble generator 12 may include at least one of an aeration device, a microbubble generator, and a nanobubble generator. In this case, fine bubbles with a cleaning effect can be generated inside the liquid LQ.
  • the liquid LQ is water
  • the liquid supply unit 10A may further include a water treatment device 11 that increases the purity of the water through at least one of ion exchange, distillation, and filtration.
  • impurities in the liquid LQ can be minimized, thereby improving the cleaning effect.
  • FIG. 4 is a diagram schematically illustrating a hole cleaning apparatus 1B according to a first modified example of the above embodiment.
  • Fig. 5 is a diagram illustrating how the overflowing liquid LQ is collected in a container 15A in the hole cleaning apparatus 1B shown in Fig. 4.
  • the hole cleaning apparatus 1B of this modified example includes a liquid supply unit 10B instead of the liquid supply unit 10A of the above embodiment.
  • the liquid supply unit 10B is the same as the liquid supply unit 10A except that it does not include a component 13.
  • the support unit 14 of this modified example includes a container 20A (second container) in addition to a support base 14A.
  • Container 20A is, for example, a cylindrical, bottomed container with one closed end.
  • Container 20A is housed in container 15A and placed on support stand 14A.
  • Clad material 50 is housed in container 20A at a distance from the bottom surface of container 20A. Specifically, an annular support member 19 is placed on the bottom surface of container 20A, and a mesh material 18 with multiple openings is placed on support member 19. Clad material 50 is then placed on mesh material 18 so that the first end surface of clad material 50 faces mesh material 18.
  • the pipe 23 of the liquid supply unit 10B is connected to the bottom of the container 20A.
  • the liquid supply unit 10B supplies the liquid LQ, which contains bubbles, to the space between the bottom surface of the container 20A and the clad material 50, specifically, to the space formed inside the annular support member 19.
  • the liquid LQ moves from the bottom to the top of the container 20A.
  • the liquid LQ moves through the through-hole 51 to the second end 51b and overflows from the second end 51b.
  • the liquid LQ contains bubbles, so it cleans the inside of the through-hole 51, and foreign matter FM within the through-hole 51 is discharged from the through-hole 51.
  • the container 15A collects the liquid LQ that overflows from the container 20A.
  • the support unit 14 may have a container 20A that contains the clad material 50 housed in the container 15A and spaced apart from the bottom surface.
  • the liquid supply unit 10A may supply the liquid LQ containing bubbles between the bottom surface of the container 20A and the clad material 50, and the container 15A may collect the liquid LQ that overflows from the container 20A. This allows the liquid LQ containing bubbles to be supplied into the through-hole 51 from the first end 51a of the through-hole 51.
  • the bubble generator 12 may also include at least one of an aeration device, a microbubble generator, and a nanobubble generator. In this case, fine bubbles with a cleaning effect can be generated inside the liquid LQ.
  • FIG. 6 is a schematic diagram illustrating a hole cleaning device 1C according to a second modification of the embodiment.
  • the hole cleaning device 1C of this modification includes a container 15B (first container) instead of the container 15A of the embodiment.
  • the container 15B can be separated into two or more vertically aligned portions.
  • the container 15B can be separated into a lower portion 152 and an upper portion 153 that are vertically aligned, and then recombined.
  • Figures 7A, 7B, and 7C are diagrams showing the procedure for placing the clad material 50 on the support table 14A in this modified example.
  • the upper part 153 of the container 15B is separated and removed from the lower part 152 in advance.
  • the clad material 50 is placed on the support table 14A and connected to the part 13.
  • the upper part 153 of the container 15B is reconnected to the lower part 152. After this, liquid LQ is supplied to the clad material 50 via the part 13.
  • the container 15B may be divisible into two or more vertically aligned sections.
  • the upper part 153 of the container 15B can be separated and removed from the lower part 152 in advance, thereby lowering the side walls of the container 15B and making it easier to place the clad material 50 in the container 15B.
  • FIG. 8 is a schematic diagram illustrating a portion of a hole cleaning device 1D according to a third modification of the embodiment.
  • the hole cleaning device 1D of this modification includes a container 15B (first container) instead of the container 15A of the embodiment.
  • the container 15B is the same as that of the second modification.
  • the support unit 14 of the hole cleaning device 1D of this modification includes a support table 14B instead of the support table 14A of the embodiment.
  • the support table 14B includes a base 141, a table 142, and a hinge 143.
  • the base 141 is installed on the bottom surface of the container 15B.
  • the table 142 is connected to the base 141 by the hinge 143 and is rotatable about the hinge 143 relative to the base 141.
  • the support table 14B of this modification further includes a support plate 144 and a support table 145.
  • One end of the support plate 144 is fixed to the table 142, and the support plate 144 supports a support base 145.
  • the support base 145 is in contact with the side surface of the clad material 50.
  • FIG. 9A, 9B, 9C, and 9D are diagrams showing the procedure for placing the clad material 50 on the support table 14B in this modified example.
  • the upper part 153 of the container 15B is separated from the lower part 152 and removed in advance.
  • the table 142 and the support plate 144 are rotated around the hinge 143 so that the surface of the support table 145 that comes into contact with the clad material 50 is horizontal.
  • the clad material 50 with the component 13 connected is placed on the support table 145 in a tilted position, i.e., so that the side of the clad material 50 is in contact with the support table 145.
  • FIG. 9A the upper part 153 of the container 15B is separated from the lower part 152 and removed in advance.
  • the table 142 and the support plate 144 are rotated around the hinge 143 so that the surface of the support table 145 that comes into contact with the clad material 50 is horizontal.
  • the clad material 50 with the component 13 connected is placed on the
  • the support portion 14 may have a first state (see FIG. 9A) in which the clad material 50 is supported in a laid-down state, and a second state (see FIGS. 8 and 9C) in which the clad material 50 is supported so that the position of the first end 51a is lower than the position of the second end 51b.
  • the clad material 50 when installing a clad material 50 that is long in the axial direction of the through hole 51 and heavy, on the support portion 14, the clad material 50 can first be installed in a laid-down state (i.e., the first state), and then in a state for cleaning (i.e., the second state). In this way, the ability to change the position of the clad material 50 allows an operator to easily install a long and heavy clad material 50 on the support portion 14 by hand.
  • FIG. 10 is a schematic diagram illustrating a hole cleaning device 1E according to a fourth modification of the embodiment.
  • the hole cleaning device 1E of this modification includes a container 15B (first container) instead of the container 15A of the first modification.
  • the container 15B is the same as that of the second modification (see FIG. 6 ).
  • the support unit 14 of the hole cleaning device 1E of this modification includes a container 20B (second container) instead of the container 20A of the first modification.
  • the container 20B can be separated into two or more vertically aligned portions. In the illustrated example, the container 20B can be separated into a lower portion 201 and an upper portion 202 vertically aligned and then recombined.
  • FIG. 11A, 11B, 11C, and 11D are diagrams showing the procedure for placing the clad material 50 on the support table 14A in this modified example.
  • the upper part 153 of the container 15B is separated and removed from the lower part 152 in advance.
  • the lower part 201 of the container 20B is placed on the support table 14A together with the mesh material 18 and support part 19.
  • the clad material 50 is placed on the support table 14A (specifically, on the mesh material 18).
  • FIG. 11C the upper part 202 of the container 20B is rejoined to the lower part 201.
  • FIG. 11D the upper part 153 of the container 15B is rejoined to the lower part 152.
  • liquid LQ is supplied into the gap between the bottom surface of the container 20B and the clad material 50.

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  • Cleaning By Liquid Or Steam (AREA)

Abstract

孔洗浄装置は、少なくとも1つの貫通孔を有する被洗浄物の貫通孔を洗浄する。孔洗浄装置は、貫通孔の第1端の位置が貫通孔の第2端の位置よりも低くなるように被洗浄物を支持する支持部と、液体の内部に気泡を発生させる気泡発生装置を含み、気泡を含む液体を貫通孔の第1端から貫通孔内に供給する液体供給部と、支持部および被洗浄物を収容し、貫通孔の第2端から溢れた液体を回収する第1の容器と、を備える。

Description

孔洗浄装置および孔洗浄方法
 本開示は、孔洗浄装置および孔洗浄方法に関する。本出願は、2024年3月27日出願の日本出願第2024-050977号に基づく優先権を主張し、前記日本出願に記載された全ての記載内容を援用するものである。
 特許文献1は、光ファイバの製造方法を開示する。特許文献1には、光ファイバのクラッド材に形成されたコア材を挿入するための貫通孔を洗浄する方法として、貫通孔の内壁面を気相エッチングし、貫通孔内に塩素または酸素といった浄化ガスを流しながらクラッド材を加熱することが記載されている。
特開2017-154931号公報
 本開示の一実施形態による孔洗浄装置は、少なくとも1つの貫通孔を有する被洗浄物の貫通孔を洗浄する。孔洗浄装置は、貫通孔の第1端の位置が貫通孔の第2端の位置よりも低くなるように被洗浄物を支持する支持部と、液体の内部に気泡を発生させる気泡発生装置を含み、気泡を含む液体を貫通孔の第1端から貫通孔内に供給する液体供給部と、支持部および被洗浄物を収容し、貫通孔の第2端から溢れた液体を回収する第1の容器と、を備える。
図1は、本開示の第1実施形態に係る孔洗浄装置を模式的に示す図である。 図2は、貫通孔の第2端から液体が溢れた様子を示す。 図3は、孔洗浄方法を示すフローチャートである。 図4は、第1変形例に係る孔洗浄装置を模式的に示す図である。 図5は、溢れた液体が容器に回収される様子を示す図である。 図6は、第2変形例に係る孔洗浄装置を模式的に示す図である。 図7Aは、第2変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図7Bは、第2変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図7Cは、第2変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図8は、第3変形例に係る孔洗浄装置の一部を模式的に示す図である。 図9Aは、第3変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図9Bは、第3変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図9Cは、第3変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図9Dは、第3変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図10は、第4変形例に係る孔洗浄装置を模式的に示す図である。 図11Aは、第4変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図11Bは、第4変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図11Cは、第4変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図11Dは、第4変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図12は、第5変形例に係る孔洗浄装置を模式的に示す図である。 図13は、第6変形例に係る孔洗浄装置を模式的に示す図である。 図14Aは、第6変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図14Bは、第6変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図14Cは、第6変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図15Aは、第6変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図15Bは、第6変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。 図15Cは、第6変形例においてクラッド材を支持台に設置する手順を示す図である。
[本開示が解決しようとする課題]
 光ファイバの製造方法の一つに、穴開け法がある。穴開け法では、クラッド材に貫通孔を形成し、その貫通孔にコア材を挿入し、クラッド材およびコア材を加熱して一体化することにより、光ファイバ用の母材を得る。その後、母材を紡糸することにより光ファイバが得られる。
 穴開け法においては、貫通孔の内側の洗浄が重要である。洗浄が不十分なまま加熱して一体化を行った場合、光ファイバの強度の低下、クラッド径の変動といった品質異常が発生するおそれがある。そのため、特許文献1に記載されているように、貫通孔内を気相エッチングし、塩素または酸素といった浄化ガスを流しながらクラッド材を加熱することによって、貫通孔の内側を清浄化する。作製される母材が大きくなるほどクラッド材も大きくなるので、大型の加熱設備が必要となり、加熱に要する電力が大きくなる。
 本開示は、例えばクラッド材などの被洗浄物の貫通孔の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる孔洗浄装置および孔洗浄方法を提供することを目的とする。
[本開示の効果]
 本開示によれば、被洗浄物の貫通孔の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる孔洗浄装置および孔洗浄方法を提供できる。
[本開示の実施形態の説明]
 最初に、本開示の実施形態の内容を説明する。[1]本開示の一実施形態による孔洗浄装置は、少なくとも1つの貫通孔を有する被洗浄物の貫通孔を洗浄する。孔洗浄装置は、貫通孔の第1端の位置が貫通孔の第2端の位置よりも低くなるように被洗浄物を支持する支持部と、液体の内部に気泡を発生させる気泡発生装置を含み、気泡を含む液体を貫通孔の第1端から貫通孔内に供給する液体供給部と、支持部および被洗浄物を収容し、貫通孔の第2端から溢れた液体を回収する第1の容器と、を備える。
 上記[1]の孔洗浄装置では、貫通孔の第2端よりも下方に位置する第1端から、気泡を含む液体が貫通孔内に供給される。そして、液体は貫通孔内を第2端まで移動し、第2端から溢れ出る。このとき、液体は気泡を含むので、貫通孔内を洗浄する。また、貫通孔の下端である第1端から上端である第2端へ液体が移動することにより、貫通孔内に十分な量の液体を十分な時間にわたって留めることができ、洗浄効果を高めることができる。更に、上記[1]の孔洗浄装置によれば、気相エッチングおよび浄化ガスにより貫通孔内を洗浄する従来の装置と比較して、小型にすることができる。よって、上記[1]の孔洗浄装置によれば、被洗浄物の貫通孔の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる。特に、穴開け法による光ファイバ母材の製造において、クラッド材の貫通孔の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる。
 [2]上記[1]の孔洗浄装置において、液体供給部は、貫通孔の第1端を含む被洗浄物の端面に接続されて気泡を含む液体を貫通孔の第1端から貫通孔内に導く部品を有してもよい。これにより、気泡を含む液体を貫通孔の第1端から貫通孔内に供給することができる。
 [3]上記[2]の孔洗浄装置において、気泡発生装置は、エアレーション装置、マイクロバブル発生装置、およびナノバブル発生装置のうち少なくとも一つの装置を含んでもよい。この場合、洗浄作用を有する微細な気泡を液体の内部に発生させることができる。
 [4]上記[1]の孔洗浄装置において、支持部は、第1の容器に収容され、底面から間隔をあけて被洗浄物を収容する第2の容器を有し、液体供給部は、気泡を含む液体を、第2の容器の底面と被洗浄物との間に供給し、第1の容器は、第2の容器から溢れた液体を回収してもよい。これにより、気泡を含む液体を貫通孔の第1端から貫通孔内に供給することができる。
 [5]上記[4]の孔洗浄装置において、気泡発生装置は、エアレーション装置、マイクロバブル発生装置、ナノバブル発生装置、および超音波発生装置のうち少なくとも一つの装置を含んでもよい。この場合、洗浄作用を有する微細な気泡を液体の内部に発生させることができる。
 [6]上記[4]または[5]の孔洗浄装置において、第2の容器は、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能であってもよい。この場合、重量が大きい被洗浄物を作業者の手で第2の容器内に設置する際に、予め第2の容器の上部を下部から分割して取り外しておくことにより、第2の容器の側壁を低くして、被洗浄物を第2の容器内に容易に設置することができる。
 [7]上記[1]から[6]のうちいずれか1つの孔洗浄装置において、第1の容器は、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能であってもよい。この場合、重量が大きい被洗浄物を作業者の手で第1の容器内に設置する際に、予め第1の容器の上部を下部から分割して取り外しておくことにより、第1の容器の側壁を低くして、被洗浄物を第1の容器内に容易に設置することができる。
 [8]上記[1]から[7]のうちいずれか1つの孔洗浄装置において、支持部は、被洗浄物を倒した状態で被洗浄物を支持する第1の状態と、第1端の位置が第2端の位置よりも低くなるように被洗浄物を支持する第2の状態とを有してもよい。この場合、貫通孔の軸方向に長尺であり重量が大きい被洗浄物を支持部に設置する際に、まず被洗浄物を倒した状態(すなわち第1の状態)で被洗浄物を設置し、次いで洗浄時の状態(すなわち第2の状態)とすることができる。このように、被洗浄物の姿勢を変化させることが可能であることにより、長尺であり重量が大きい被洗浄物を、作業者の手で支持部に容易に設置することができる。
 [9]上記[1]から[8]のうちいずれか1つの孔洗浄装置において、液体は水であり、液体供給部は、イオン交換処理、蒸留処理、およびフィルタ処理のうち少なくとも一つの処理によって水の純度を高める水処理装置を更に含んでもよい。この場合、液体内の不純物を極力少なくして、洗浄効果を高めることができる。
 [10]本開示の一実施形態による孔洗浄方法は、少なくとも1つの貫通孔を有する被洗浄物の貫通孔を洗浄する孔洗浄方法であって、貫通孔の第1端の位置が貫通孔の第2端の位置よりも低くなるように被洗浄物を支持するステップと、液体の内部に気泡を発生させ、気泡を含む液体を貫通孔の第1端から貫通孔内に供給するステップと、貫通孔の第2端から溢れた液体を回収するステップと、を含む。
 上記[10]の孔洗浄方法では、貫通孔の第2端よりも下方に位置する第1端から、気泡を含む液体を貫通孔内に供給する。そして、貫通孔内の液体を第2端まで移動させ、第2端から溢れ出させる。このとき、液体は気泡を含むので、貫通孔内を洗浄する。また、貫通孔の下端である第1端から上端である第2端へ液体を移動させることにより、貫通孔内に十分な量の液体を十分な時間にわたって留めることができ、洗浄効果を高めることができる。更に、上記[10]の孔洗浄方法によれば、気相エッチングおよび浄化ガスにより貫通孔内を洗浄する従来の方法と比較して、洗浄装置を小型にすることができる。よって、上記[10]の孔洗浄方法によれば、被洗浄物の貫通孔の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる。特に、穴開け法による光ファイバ母材の製造において、クラッド材の貫通孔の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる。
[本開示の実施形態の詳細]
 本開示の具体例を、以下に図面を参照しつつ説明する。本開示はこの例示に限定されるものではなく、請求の範囲によって示され、請求の範囲と均等の意味および範囲内でのすべての変更が含まれることが意図される。以下の説明では、図面の説明において同一の要素には同一の符号を付し、重複する説明を省略する。
[第1実施形態]
 図1は、本開示の第1実施形態に係る孔洗浄装置1Aを模式的に示す図である。孔洗浄装置1Aは、少なくとも1つの貫通孔51を有するクラッド材50(被洗浄物)の貫通孔51を洗浄する装置である。クラッド材50の貫通孔51の数が1である場合、クラッド材50はシングルコアファイバの製造に用いられる。クラッド材50の貫通孔51の数が2である場合、クラッド材50はコアが2つのマルチコアファイバまたは偏波保持ファイバの製造に用いられる。クラッド材50の貫通孔51の数が3以上である場合、クラッド材50はコアが3つ以上のマルチコアファイバの製造に用いられる。マルチコアファイバは1つの光ファイバに複数のコアを配置することでコア密度を向上できる。これにより、光ファイバケーブルの外径を一定に保ったままコア数を増加させたり、光ファイバケーブルに内蔵するコア数を一定に保ったままケーブル外径を細くしたりすることが可能となる。また従来の光ファイバを並べてファイバアレイにするよりもコア間距離を小さくすることができるので、高密度な光配線としての活用も期待される。
 図1に示されるように、本実施形態の孔洗浄装置1Aは、支持部14と、液体供給部10Aと、容器15A(第1の容器)と、を備える。クラッド材50は、中心軸線に沿って延びる円柱状である。貫通孔51は、その円柱状のクラッド材50の第1端面から第2端面まで貫通している。貫通孔51の延びる方向に垂直な断面の形状は円形である。クラッド材50は、例えば石英ガラス製である。貫通孔51は、クラッド材50の第1端面に形成された第1端51aと、クラッド材50の第2端面に形成された第2端51bと、を有する。
 支持部14は、貫通孔51の第1端51aの位置が貫通孔51の第2端51bの位置よりも低くなるようにクラッド材50を支持する。本実施形態では、支持部14は支持台14Aを有する。支持台14Aは、容器15Aの底面の上方に設置されたテーブルを含み、そのテーブル上にクラッド材50が設置される。例えば、クラッド材50は、第1端面と支持台14Aとが対向するように、支持台14A上に立設される。言い換えると、クラッド材50の中心軸線は、支持台14Aのテーブルの面と垂直である。このとき、クラッド材50の中心軸線は、鉛直方向に沿っていてもよい。
 液体供給部10Aは、気泡を含む液体LQを貫通孔51の第1端51aから貫通孔51内に供給する。液体LQは、例えば水であり、純水であってもよい。本実施形態の液体供給部10Aは、水処理装置11、気泡発生装置12および部品13を有する。水処理装置11は、配管21を介して液体LQとしての水を受け、イオン交換処理、蒸留処理、およびフィルタ処理のうち少なくとも一つの処理によって水の純度を高める。気泡発生装置12は、配管22を介して水処理装置11と接続され、液体LQの内部に気泡を発生させる。気泡発生装置12には、気泡を形成するための気体GSを導入する配管24が接続されている。気泡発生装置12は、例えば、エアレーション装置、マイクロバブル発生装置、およびナノバブル発生装置のうち少なくとも一つの装置を含む。部品13は、配管23を介して気泡発生装置12と接続されている。部品13は、支持台14Aのテーブル上に置かれ、貫通孔51の第1端51aを含むクラッド材50の第1端面に接続される。部品13は、気泡を含む液体LQを、貫通孔51の第1端51aから貫通孔51内に導く。部品13は、例えば、カプラあるいはジョイントである。
 貫通孔51の第2端51bよりも下方に位置する第1端51aから、気泡を含む液体LQが貫通孔51内に供給される。そして、液体LQは貫通孔51内を第2端51bまで移動し、第2端51bから溢れ出る。このとき、液体LQは気泡を含むので、貫通孔51内を洗浄し、貫通孔51内の異物FMが貫通孔51から排出される。
 容器15Aは、例えば一端が閉じた円筒状の有底容器である。容器15Aは、例えばフロアレベルFLに設置される。容器15Aは、支持部14およびクラッド材50を収容する。容器15Aの上端の位置は、クラッド材50の第2端の位置よりも高い。容器15Aは、貫通孔51の第2端51bから溢れた液体LQを回収する。図2は、貫通孔51の第2端51bから液体LQが溢れた様子を示す。容器15Aは、底部に溜まった液体LQを排出するための配管151を底面に有する。
 孔洗浄装置1Aは、廃液タンク16およびポンプ17を更に備える。廃液タンク16は、配管151から排出された液体LQを一旦溜めておく容器である。廃液タンク16内の液体LQは、配管25を通ってポンプ17に吸い上げられ、その後、孔洗浄装置1Aの外部へ廃棄される。
 図3は、本実施形態の孔洗浄方法を示すフローチャートである。この孔洗浄方法は、例えば上述した孔洗浄装置1Aを用いて実施可能である。この孔洗浄方法は、少なくとも1つの貫通孔51を有するクラッド材50の貫通孔51を洗浄する方法である。この孔洗浄方法は、第1ステップST1と、第2ステップST2と、第3ステップST3と、を含む。第1ステップST1では、貫通孔51の第1端51aの位置が貫通孔51の第2端51bの位置よりも低くなるようにクラッド材50を支持する。第2ステップST2では、液体LQの内部に気泡を発生させ、気泡を含む液体LQを貫通孔51の第1端51aから貫通孔51内に供給する。第2ステップST2では、エアレーション、マイクロバブル発生、およびナノバブル発生のうち少なくとも一つの方法によって気泡を発生させる。第2ステップST2において、液体LQは水であってもよい。その場合、イオン交換処理、蒸留処理、およびフィルタ処理のうち少なくとも一つの処理によって水の純度を高めてもよい。第3ステップST3では、貫通孔51の第2端51bから溢れた液体LQを回収する。
 以上に説明した本実施形態の孔洗浄装置1Aおよび孔洗浄方法によって得られる効果について説明する。本実施形態の孔洗浄装置1Aでは、貫通孔51の第2端51bよりも下方に位置する第1端51aから、気泡を含む液体LQが貫通孔51内に供給される。そして、液体LQは貫通孔51内を第2端51bまで移動し、第2端51bから溢れ出る。このとき、液体LQは気泡を含むので、貫通孔51内を洗浄する。また、貫通孔51の下端である第1端51aから上端である第2端51bへ液体LQが移動することにより、貫通孔51内に十分な量の液体LQを十分な時間にわたって留めることができ、洗浄効果を高めることができる。更に、本実施形態の孔洗浄装置1Aによれば、気相エッチングおよび浄化ガスにより貫通孔51内を洗浄する従来の装置と比較して、小型にすることができる。よって、本実施形態の孔洗浄装置1Aによれば、穴開け法による光ファイバ母材の製造において、クラッド材50の貫通孔51の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる。
 本実施形態の孔洗浄方法では、貫通孔51の第2端51bよりも下方に位置する第1端51aから、気泡を含む液体LQを貫通孔51内に供給する。そして、貫通孔51内の液体LQを第2端51bまで移動させ、第2端51bから溢れ出させる。このとき、液体LQは気泡を含むので、貫通孔51内を洗浄する。また、貫通孔51の下端である第1端51aから上端である第2端51bへ液体LQを移動させることにより、貫通孔51内に十分な量の液体LQを十分な時間にわたって留めることができ、洗浄効果を高めることができる。更に、本実施形態の孔洗浄方法によれば、気相エッチングおよび浄化ガスにより貫通孔51内を洗浄する従来の方法と比較して、洗浄装置を小型にすることができる。よって、本実施形態の孔洗浄方法によれば、穴開け法による光ファイバ母材の製造において、クラッド材50の貫通孔51の洗浄に必要な設備の大型化を回避できる。
 本実施形態のように、液体供給部10Aは、貫通孔51の第1端51aを含むクラッド材50の第1端面に接続されて気泡を含む液体LQを貫通孔51の第1端51aから貫通孔51内に導く部品13を有してもよい。これにより、気泡を含む液体LQを貫通孔51の第1端51aから貫通孔51内に供給することができる。
 本実施形態のように、気泡発生装置12は、エアレーション装置、マイクロバブル発生装置、およびナノバブル発生装置のうち少なくとも一つの装置を含んでもよい。この場合、洗浄作用を有する微細な気泡を液体LQの内部に発生させることができる。
 本実施形態のように、液体LQは水であり、液体供給部10Aは、イオン交換処理、蒸留処理、およびフィルタ処理のうち少なくとも一つの処理によって水の純度を高める水処理装置11を更に含んでもよい。この場合、液体LQ内の不純物を極力少なくして、洗浄効果を高めることができる。
[第1変形例]
 図4は、上記実施形態の第1変形例に係る孔洗浄装置1Bを模式的に示す図である。図5は、図4に示された孔洗浄装置1Bにおいて、溢れた液体LQが容器15Aに回収される様子を示す図である。本変形例の孔洗浄装置1Bは、上記実施形態の液体供給部10Aに代えて液体供給部10Bを備える。液体供給部10Bは、部品13を有しない点を除いて、液体供給部10Aと同じである。本変形例の支持部14は、支持台14Aに加えて容器20A(第2の容器)を有する。
 容器20Aは、例えば一端が閉じた円筒状の有底容器である。容器20Aは、容器15Aに収容され、支持台14A上に設置される。クラッド材50は、容器20Aの底面から間隔をあけて、容器20Aに収容される。具体的には、容器20Aの底面上には環状の支持部19が設置され、更に、多数の開口を有する網材18が支持部19上に設置される。そして、クラッド材50は、クラッド材50の第1端面が網材18と対向するように、網材18上に設置される。
 液体供給部10Bの配管23は、容器20Aの底部に接続されている。液体供給部10Bは、気泡を含む液体LQを、容器20Aの底面とクラッド材50との間、具体的には環状の支持部19の内側に形成された空間に供給する。容器20A内において、液体LQが供給され続けることにより、液体LQは容器20Aの下部から上部へ移動する。同時に、液体LQは、貫通孔51内を第2端51bまで移動し、第2端51bから溢れ出る。このとき、液体LQは気泡を含むので、貫通孔51内を洗浄し、貫通孔51内の異物FMが貫通孔51から排出される。容器20Aの上端に達した液体LQは、容器20Aから溢れ出る。容器15Aは、容器20Aから溢れた液体LQを回収する。
 本変形例のように、支持部14は、容器15Aに収容されて底面から間隔をあけてクラッド材50を収容する容器20Aを有してもよい。液体供給部10Aは、気泡を含む液体LQを、容器20Aの底面とクラッド材50との間に供給し、容器15Aは、容器20Aから溢れた液体LQを回収してもよい。これにより、気泡を含む液体LQを貫通孔51の第1端51aから貫通孔51内に供給することができる。
 本変形例においても、気泡発生装置12は、エアレーション装置、マイクロバブル発生装置、ナノバブル発生装置のうち少なくとも一つの装置を含んでもよい。この場合、洗浄作用を有する微細な気泡を液体LQの内部に発生させることができる。
[第2変形例]
 図6は、上記実施形態の第2変形例に係る孔洗浄装置1Cを模式的に示す図である。本変形例の孔洗浄装置1Cは、上記実施形態の容器15Aに代えて、容器15B(第1の容器)を備える。容器15Bは、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能である。図示例では、容器15Bは、上下方向に並ぶ下部152および上部153に分割、および再結合が可能である。
 図7A、図7Bおよび図7Cは、本変形例においてクラッド材50を支持台14Aに設置する手順を示す図である。まず、図7Aに示されるように、予め容器15Bの上部153を下部152から分割して取り外しておく。次に、図7Bに示されるように、クラッド材50を支持台14Aに設置し、クラッド材50を部品13に接続する。次に、図7Cに示されるように、容器15Bの上部153を下部152に再結合する。こののち、部品13を介してクラッド材50に液体LQを供給する。
 本変形例のように、容器15Bは、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能であってもよい。この場合、重量が大きいクラッド材50を作業者の手で容器15B内に設置する際に、予め容器15Bの上部153を下部152から分割して取り外しておくことにより、容器15Bの側壁を低くして、クラッド材50を容器15B内に容易に設置することができる。
[第3変形例]
 図8は、上記実施形態の第3変形例に係る孔洗浄装置1Dの一部を模式的に示す図である。本変形例の孔洗浄装置1Dは、上記実施形態の容器15Aに代えて、容器15B(第1の容器)を備える。容器15Bは、第2変形例と同じである。加えて、本変形例の孔洗浄装置1Dの支持部14は、上記実施形態の支持台14Aに代えて、支持台14Bを有する。支持台14Bは、基部141と、テーブル142と、ヒンジ143とを含む。基部141は、容器15Bの底面上に設置されている。テーブル142は、ヒンジ143によって基部141と結合され、基部141に対してヒンジ143回りに回動可能となっている。本変形例の支持台14Bは、支持板144および支持台145を更に含む。支持板144の一端はテーブル142に固定されており、支持板144は支持台145を支える。支持台145は、クラッド材50の側面に接している。
 図9A、図9B、図9Cおよび図9Dは、本変形例においてクラッド材50を支持台14Bに設置する手順を示す図である。まず、図9Aに示されるように、予め容器15Bの上部153を下部152から分割して取り外しておく。更に、ヒンジ143回りにテーブル142および支持板144を回動させることにより、支持台145のクラッド材50と接触する面を水平にする。次に、図9Bに示されるように、部品13が接続されたクラッド材50を、倒した状態で、すなわち、クラッド材50の側面が支持台145に接触するように、支持台145上に設置する。次に、図9Cに示されるように、ヒンジ143回りにテーブル142および支持板144を再び回動させることにより、クラッド材50の姿勢を洗浄時の姿勢にする。こののち、図9Dに示されるように、容器15Bの上部153を下部152に再結合し、部品13を介してクラッド材50に液体LQを供給する。
 本変形例のように、支持部14は、クラッド材50を倒した状態でクラッド材50を支持する第1の状態(図9Aを参照)と、第1端51aの位置が第2端51bの位置よりも低くなるようにクラッド材50を支持する第2の状態(図8および図9Cを参照)とを有してもよい。この場合、貫通孔51の軸方向に長尺であり重量が大きいクラッド材50を支持部14に設置する際に、まずクラッド材50を倒した状態(すなわち第1の状態)でクラッド材50を設置し、次いで洗浄時の状態(すなわち第2の状態)とすることができる。このように、クラッド材50の姿勢を変化させることが可能であることにより、長尺であり重量が大きいクラッド材50を、作業者の手で支持部14に容易に設置することができる。
[第4変形例]
 図10は、上記実施形態の第4変形例に係る孔洗浄装置1Eを模式的に示す図である。本変形例の孔洗浄装置1Eは、上記第1変形例の容器15Aに代えて、容器15B(第1の容器)を備える。容器15Bは、前述した第2変形例(図6を参照)と同じである。本変形例の孔洗浄装置1Eの支持部14は、上記第1変形例の容器20Aに代えて、容器20B(第2の容器)を備える。容器20Bは、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能である。図示例では、容器20Bは、上下方向に並ぶ下部201および上部202に分割、および再結合が可能である。
 図11A、図11B、図11C、および図11Dは、本変形例においてクラッド材50を支持台14Aに設置する手順を示す図である。まず、図11Aに示されるように、予め容器15Bの上部153を下部152から分割して取り外しておく。容器20Bの下部201を、網材18および支持部19とともに支持台14A上に設置しておく。次に、図11Bに示されるように、クラッド材50を支持台14A上(具体的には、網材18上)に設置する。次に、図11Cに示されるように、容器20Bの上部202を下部201に再結合する。次に、図11Dに示されるように、容器15Bの上部153を下部152に再結合する。こののち、容器20Bの底面とクラッド材50との隙間に液体LQを供給する。
 本実施形態のように、容器20Bは、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能であってもよい。この場合、重量が大きいクラッド材50を作業者の手で容器20B内に設置する際に、予め容器20Bの上部202を下部201から分割して取り外しておくことにより、容器20Bの側壁を低くして、クラッド材50を容器20B内に容易に設置することができる。
[第5変形例]
 図12は、上記実施形態の第5変形例に係る孔洗浄装置1Fを模式的に示す図である。本変形例の孔洗浄装置1Fは、液体供給部10Aに代えて、液体供給部10Cを備える。液体供給部10Cは、気泡発生装置12に代えて、超音波振動子(超音波発生装置)26を有する点において液体供給部10Aと相違し、他の点において液体供給部10Aと一致する。超音波振動子26は、本変形例における気泡発生装置である。超音波振動子26は、容器20Aと支持台14Aとの間に配置され、容器20Aの底部に接触して容器20A内の液体LQに容器20Aの底面から気泡を発生させる。
 本変形例のように、気泡発生装置は、超音波振動子26を含んでもよい。この場合、洗浄作用を有する微細な気泡を液体LQの内部に発生させることができる。
[第6変形例]
 図13は、上記実施形態の第6変形例に係る孔洗浄装置1Gを模式的に示す図である。本変形例の孔洗浄装置1Gは、次の点において第3変形例の孔洗浄装置1Dと相違し、他の点において孔洗浄装置1Dと一致する。すなわち、本変形例の支持台14Bは、支持板144を有しておらず、支持台145は、テーブル142に固定された容器20Aの内面に固定されている。
 図14A、図14Bおよび図14C、並びに図15A、図15Bおよび図15Cは、本変形例においてクラッド材50を支持台14Bに設置する手順を示す図である。まず、図14Aに示されるように、予め容器15Bの上部153を下部152から分割して取り外しておく。更に、支持台145が内面に固定された容器20Aを、テーブル142に固定する。次に、図14Bに示されるように、ヒンジ143回りにテーブル142および容器20Aを回動させることにより、支持台145のクラッド材50と接触する面を水平にする。次に、図14Cに示されるように、クラッド材50を、倒した状態で、すなわち、クラッド材50の側面が支持台145に接触するように、支持台145上に設置する。次に、図15Aに示されるように、ヒンジ143回りにテーブル142および容器20Aを再び回動させることにより、クラッド材50の姿勢を洗浄時の姿勢にする。次に、図15Bに示されるように、容器15Bの上部153を下部152に再結合する。こののち、図15Cに示されるように、容器20Aの底面とクラッド材50との隙間に液体LQを供給する。
 本変形例のように、支持部14は、クラッド材50を倒した状態でクラッド材50を支持する第1の状態(図14Cを参照)と、第1端51aの位置が第2端51bの位置よりも低くなるようにクラッド材50を支持する第2の状態(図13および図15Bを参照)とを有してもよい。この場合、貫通孔51の軸方向に長尺であり重量が大きいクラッド材50を支持部14に設置する際に、まずクラッド材50を倒した状態(すなわち第1の状態)でクラッド材50を設置し、次いで洗浄時の状態(すなわち第2の状態)とすることができる。このように、クラッド材50の姿勢を変化させることが可能であることにより、長尺であり重量が大きいクラッド材50を、作業者の手で支持部14に容易に設置することができる。
 本開示による孔洗浄装置および孔洗浄方法は、上述した実施形態および変形例に限られるものではなく、他に様々な変形が可能である。例えば、上記実施形態および各変形例では、被洗浄物がクラッド材である場合を例示したが、被洗浄物は少なくとも1つの貫通孔を有していればよく、クラッド材に限られない。液体に気泡を発生させる方式は、上記実施形態および各変形例に例示されたものに限られない。
1Aから1G…孔洗浄装置
10A,10B,10C…液体供給部
11…水処理装置
12…気泡発生装置
13…部品
14…支持部
14A,14B…支持台
15A,15B…容器(第1の容器)
16…廃液タンク
17…ポンプ
18…網材
19…支持部
20A,20B…容器(第2の容器)
21から25…配管
26…超音波振動子
50…クラッド材(被洗浄物)
51…貫通孔
51a…第1端
51b…第2端
141…基部
142…テーブル
143…ヒンジ
144…支持板
145…支持台
151…配管
GS…気体
FM…異物
FL…フロアレベル
ST1…第1ステップ
ST2…第2ステップ
ST3…第3ステップ
LQ…液体

Claims (10)

  1.  少なくとも1つの貫通孔を有する被洗浄物の前記貫通孔を洗浄する孔洗浄装置であって、
     前記貫通孔の第1端の位置が前記貫通孔の第2端の位置よりも低くなるように前記被洗浄物を支持する支持部と、
     液体の内部に気泡を発生させる気泡発生装置を含み、前記気泡を含む前記液体を前記貫通孔の前記第1端から前記貫通孔内に供給する液体供給部と、
     前記支持部および前記被洗浄物を収容し、前記貫通孔の前記第2端から溢れた前記液体を回収する第1の容器と、
     を備える、孔洗浄装置。
  2.  前記液体供給部は、前記貫通孔の前記第1端を含む前記被洗浄物の端面に接続された部品を有し、
     前記部品は、前記気泡を含む前記液体を前記貫通孔の前記第1端から前記貫通孔内に導く、請求項1に記載の孔洗浄装置。
  3.  前記気泡発生装置は、エアレーション装置、マイクロバブル発生装置、およびナノバブル発生装置のうち少なくとも一つの装置を含む、請求項2に記載の孔洗浄装置。
  4.  前記支持部は、前記第1の容器に収容され、底面から間隔をあけて前記被洗浄物を収容する第2の容器を有し、
     前記液体供給部は、前記気泡を含む前記液体を、前記第2の容器の前記底面と前記被洗浄物との間に供給し、
     前記第1の容器は、前記第2の容器から溢れた前記液体を回収する、請求項1に記載の孔洗浄装置。
  5.  前記気泡発生装置は、エアレーション装置、マイクロバブル発生装置、ナノバブル発生装置、および超音波発生装置のうち少なくとも一つの装置を含む、請求項4に記載の孔洗浄装置。
  6.  前記第2の容器は、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能である、請求項4または請求項5に記載の孔洗浄装置。
  7.  前記第1の容器は、上下方向に並ぶ二以上の部分に分割可能である、請求項1から請求項6のいずれか1項に記載の孔洗浄装置。
  8.  前記支持部は、前記被洗浄物を倒した状態で前記被洗浄物を支持する第1の状態と、前記第1端の位置が前記第2端の位置よりも低くなるように前記被洗浄物を支持する第2の状態とを有する、請求項1から請求項7のいずれか1項に記載の孔洗浄装置。
  9.  前記液体は水であり、
     前記液体供給部は、イオン交換処理、蒸留処理、およびフィルタ処理のうち少なくとも一つの処理によって前記水の純度を高める水処理装置を更に含む、請求項1から請求項8のいずれか1項に記載の孔洗浄装置。
  10.  少なくとも1つの貫通孔を有する被洗浄物の前記貫通孔を洗浄する孔洗浄方法であって、
     前記貫通孔の第1端の位置が前記貫通孔の第2端の位置よりも低くなるように前記被洗浄物を支持するステップと、
     液体の内部に気泡を発生させ、前記気泡を含む前記液体を前記貫通孔の前記第1端から前記貫通孔内に供給するステップと、
     前記貫通孔の前記第2端から溢れた前記液体を回収するステップと、
     を含む、孔洗浄方法。
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