WO2024111488A1

WO2024111488A1 - 含フッ素エステル化合物の製造方法及び組成物

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Publication number: WO2024111488A1
Application number: PCT/JP2023/041153
Authority: WO
Inventors: 大地倉田; 亘柳本; 元志青山
Original assignee: Ａｇｃ株式会社
Priority date: 2022-11-21
Filing date: 2023-11-15
Publication date: 2024-05-30

Abstract

フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物を含有する液体中において前記エステル化合物をフッ素化することを含み、前記液体は、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記水酸基を有する化合物の含有量が０．５質量部以下であり、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量が２．０質量部以下であり、前記フッ化ナトリウムの含有量が２．０質量部以下である、含フッ素エステル化合物の製造方法。

Description

含フッ素エステル化合物の製造方法及び組成物

　本開示は、含フッ素エステル化合物の製造方法及び組成物に関する。

　含フッ素エステル化合物には、産業上有用な化合物が多く存在し、従来から様々な製造方法が開発されてきた。例えば、特許文献１には、水酸基を有する化合物とカルボン酸ハロゲン化物との反応により得られたエステル化合物を含有する液体中に、フッ素ガスを供給して前記エステル化合物をフッ素化することで、含フッ素エステル化合物を製造する方法が記載されている。

国際公開第２０００／０５６６９４号

　水酸基を有する化合物とカルボン酸ハロゲン化物とを反応させてエステル化合物を製造すると、未反応の水酸基を有する化合物が残留したり、カルボン酸ハロゲン化物の反応によりカルボキシ基を有する化合物が生成したりすることがある。つまり、水酸基を有する化合物とカルボン酸ハロゲン化物との反応により得られたエステル化合物を含有する組成物は、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物等を不純物として含有することがある。また、エステル化合物を製造する過程で触媒としてフッ化ナトリウムを用いた場合、得られたエステル化合物を含有する組成物にフッ化ナトリウムがそのまま不純物として残留することがある。
　これらの不純物を含有する組成物を含む液体中においてエステル化合物をフッ素化する場合、液体に含有されるこれらの不純物の存在が、フッ素化反応における目的物の収率に影響を与えることがある。

　本発明の一実施形態における課題は、目的物である含フッ素エステル化合物が高い収率で得られる含フッ素エステル化合物の製造方法及び組成物を提供することにある。

　本開示には、以下の態様が含まれる。
＜１＞
　フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物を含有する液体中において前記エステル化合物をフッ素化することを含み、
　前記液体は、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記水酸基を有する化合物の含有量が０．５質量部以下であり、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量が２．０質量部以下であり、前記フッ化ナトリウムの含有量が２．０質量部以下である、含フッ素エステル化合物の製造方法。
＜２＞
　前記エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含み、
　前記液体は、フッ化水素をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記フッ化水素の含有量が３．０質量部以下である、＜１＞に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
＜３＞
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、及び前記フッ化ナトリウムの含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、＜１＞に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
＜４＞
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、前記フッ化ナトリウムの含有量、及び前記フッ化水素の含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、＜２＞に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
＜５＞
　前記エステル化合物は、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞～＜４＞のいずれか１つに記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　Ｒ^Ａ１－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ１　…（１）
　Ｒ^Ｂ２－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ^Ａ２－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ３　…（２）
　式（１）及び（２）中、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３はそれぞれ独立に、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ２は、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。
＜６＞
　前記水酸基を有する化合物は、下記式（３）で表される化合物及び下記式（４）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、＜１＞～＜５＞のいずれか１つに記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　Ｒ^Ａ３－ＯＨ　…（３）
　ＨＯ－Ｒ^Ａ４－ＯＨ　…（４）
　式（３）及び（４）中、
　Ｒ^Ａ３は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ４は、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。
＜７＞
　前記式（３）中のＲ^Ａ３は前記式（１）中のＲ^Ａ１と同じであり、前記式（４）中のＲ^Ａ４は前記式（２）中のＲ^Ａ２と同じである、＜６＞に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
＜８＞
　前記カルボキシ基を有する化合物は、下記式（５）で表される化合物を含む、＜１＞～＜７＞のいずれか１つに記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　Ｒ^Ｂ４－（Ｃ＝Ｏ）－ＯＨ　…（５）
　式（５）中、
　Ｒ^Ｂ４は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基である。
＜９＞
　前記式（５）中のＲ^Ｂ４は前記式（１）中のＲ^Ｂ１又は前記式（２）中のＲ^Ｂ２と同じである、＜８＞に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。

＜１０＞
　フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物と、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種と、を含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記水酸基を有する化合物の含有量が０．５質量部以下であり、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量が２．０質量部以下であり、前記フッ化ナトリウムの含有量が２．０質量部以下である、組成物。
＜１１＞
　前記エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含み、前記組成物がフッ化水素をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記フッ化水素の含有量が３．０質量部以下である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１２＞
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、及び前記フッ化ナトリウムの含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、＜１０＞に記載の組成物。
＜１３＞
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、前記フッ化ナトリウムの含有量、及び前記フッ化水素の含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、＜１１＞に記載の組成物。
＜１４＞
　前記エステル化合物は、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含み、
　前記水酸基を有する化合物は、下記式（３）で表される化合物及び下記式（４）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含み、
　前記カルボキシ基を有する化合物は、下記式（５）で表される化合物を含む、
　＜１０＞～＜１３＞のいずれか１つに記載の組成物。
　Ｒ^Ａ１－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ１　…（１）
　Ｒ^Ｂ２－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ^Ａ２－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ３　…（２）
　Ｒ^Ａ３－ＯＨ　…（３）
　ＨＯ－Ｒ^Ａ４－ＯＨ　…（４）
　Ｒ^Ｂ４－（Ｃ＝Ｏ）－ＯＨ　…（５）
　式（１）～（５）中、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ｂ２、Ｒ^Ｂ３、及びＲ^Ｂ４はそれぞれ独立に、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ４はそれぞれ独立に、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。
＜１５＞
　前記式（３）中のＲ^Ａ３は前記式（１）中のＲ^Ａ１と同じであり、前記式（４）中のＲ^Ａ４は前記式（２）中のＲ^Ａ２と同じであり、前記式（５）中のＲ^Ｂ４は前記式（１）中のＲ^Ｂ１又は前記式（２）中のＲ^Ｂ２と同じである、＜１４＞に記載の組成物。

　本開示によれば、目的物である含フッ素エステル化合物が高い収率で得られる含フッ素エステル化合物の製造方法及び組成物が提供される。

　以下、本開示の実施形態を実施するための形態について詳細に説明する。但し、本開示の実施形態は以下の実施形態に限定されるものではない。以下の実施形態において、その構成要素（要素ステップ等も含む）は、特に明示した場合を除き、必須ではない。数値及びその範囲についても同様であり、本開示の実施形態を制限するものではない。

　本開示において「～」を用いて示された数値範囲は、「～」の前後に記載される数値をそれぞれ最小値及び最大値として含む範囲を意味する。
　本開示に段階的に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、他の段階的な記載の数値範囲の上限値又は下限値に置き換えてもよい。また、本開示に記載されている数値範囲において、ある数値範囲で記載された上限値又は下限値は、実施例に示されている値に置き換えてもよい。
　本開示において、２以上の好ましい態様の組み合わせは、より好ましい態様である。
　本開示において、各成分の量は、各成分に該当する物質が複数種存在する場合には、特に断らない限り、複数種の物質の合計量を意味する。
　本開示において、化合物が特定の式（Ｘ）で表される場合、当該式（Ｘ）で表される化合物を化合物（Ｘ）と記すことがある。

［含フッ素エステル化合物の製造方法］
　本開示の一実施形態に係る含フッ素エステル化合物の製造方法は、フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物を含有する液体中において前記エステル化合物をフッ素化することを含み、前記液体は、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記水酸基を有する化合物の含有量が０．５質量部以下であり、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量が２．０質量部以下であり、前記フッ化ナトリウムの含有量が２．０質量部以下である。
　以下、水酸基を有する化合物を「ＯＨ化合物」、液体中におけるエステル化合物１００質量部に対するＯＨ化合物の含有量を「ＯＨ化合物量」、カルボキシ基を有する化合物を「カルボン酸化合物」、液体中におけるエステル化合物１００質量部に対するカルボン酸化合物の含有量を「カルボン酸量」、フッ化ナトリウムを「ＮａＦ」、液体中におけるエステル化合物１００質量部に対するフッ化ナトリウムの含有量を「ＮａＦ量」ともいう。

　前記の通り、ＯＨ化合物とカルボン酸ハロゲン化物との反応により得られたエステル化合物を含有する組成物は、未反応のＯＨ化合物、未反応のカルボン酸ハロゲン化物が反応して生成したカルボン酸化合物等を不純物として含有することがある。また、エステル化合物を製造する過程で触媒としてＮａＦを用いた場合、得られたエステル化合物を含有する組成物にＮａＦがそのまま不純物として残留することがある。

　そして、これらの不純物を含有する組成物を含む液体中においてエステル化合物をフッ素化する場合、液体に含有されるこれらの不純物の存在が、フッ素化反応における目的物の収率に影響を与えることがある。
　具体的には、ＯＨ化合物の存在下でフッ素化反応を行うと、ＯＨ化合物とフッ素とが大きな反応熱を伴って反応し、その反応熱によって、フッ素化反応の原料であるエステル化合物、目的物である含フッ素エステル化合物等が分解することがある。そして、原料の分解、目的物の分解等が多く起こると、目的物の収率が下がる。
　同様に、カルボン酸化合物の存在下でフッ素化反応を行った場合も、カルボン酸化合物とフッ素とが大きな反応熱を伴って反応し、原料の分解、目的物の分解等が多く起こることで、目的物の収率が下がることがある。
　また、ＮａＦの存在下でフッ素化反応を行うと、ＮａＦの作用により、原料であるエステル化合物及び目的物である含フッ素エステル化合物のエステル結合が分解することがある。そして、原料及び目的物の分解が多く起こると、目的物の収率が下がる。

　これに対して、上記含フッ素エステル化合物の製造方法では、ＯＨ化合物量が０．５質量部以下、カルボン酸量が２．０質量部以下、かつＮａＦ量が２．０質量部以下である。そのため、エステル化合物のフッ素化反応に伴う原料及び目的物の分解が抑制され、目的物の収率が高くなると推測される。

　また、上記含フッ素エステル化合物の製造方法では、エステル化合物を含有する液体が、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有する。そのため、目的物の収率が高くなる。その理由は定かではないが、以下のように推測される。
　ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種を液体が含有することにより、原料及び目的物の少なくとも一方の分解反応がわずかに進行し、ラジカルが生成すると考えられる。そして、わずかに生成したラジカルによって、エステル化合物のフッ素化反応が進行しやすくなるためと推測される。

　ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種を液体に含有させつつ、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量をそれぞれ前記範囲とする方法は、特に限定されるものではい。
　ＯＨ化合物とカルボン酸ハロゲン化物とを反応させてエステル化合物を製造すると、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量がいずれも前記範囲よりも多い組成物が得られることが多い。その場合、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量がいずれも前記範囲よりも多い組成物から、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムを除去してもよい。前記除去により、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種を含有し、かつ、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量がそれぞれ前記範囲である組成物を得る。そして、得られた組成物を含む液体中において、フッ素化反応を行ってもよい。

　組成物からＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムを除去する方法としては、特に限定されず、吸着剤による除去、ろ過による除去、減圧留去による除去、遠心分離による除去、抽出による除去、これらの組み合わせ等が挙げられる。
　吸着剤による除去において、吸着剤が粒子状の固体である場合、例えば、乾いた吸着剤を充填させた充填塔に組成物を流し通すことで、組成物からＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムの少なくとも一部が除去される。
　吸着剤としては、シリカ、ゼオライト、活性炭、活性アルミナ等が挙げられ、その中でも吸着能の観点からシリカが好ましい。シリカとしては、例えば真球状シリカゲル（品名：Ｍ．Ｓ．ＧＥＬ、品番：Ｄ７５－６０Ａ（Ｎ）、製造元：ＡＧＣエスアイテック株式会社）等が挙げられる。

　上記組成物におけるＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量は、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムの除去量の調整により制御してもよく、除去後に別途添加することで制御してもよい。
　ＯＨ化合物を組成物に別途添加する場合、別途添加するＯＨ化合物は、エステル化合物の製造に用いたＯＨ化合物と同じであってもよく、異なっていてもよい。また、カルボン酸化合物を組成物に別途添加する場合、別途添加するカルボン酸化合物は、エステル化合物の製造に用いたカルボン酸ハロゲン化物の反応により得られるカルボン酸化合物と同じであってもよく、異なっていてもよい。
　つまり、エステル化合物のフッ素化を行う前記液体にＯＨ化合物が含有される場合、前記ＯＨ化合物における水酸基以外の構造は、エステル化合物のアルコール残基と同じであってもよく、異なっていてもよい。また、エステル化合物のフッ素化を行う前記液体にカルボン酸化合物が含有される場合、前記カルボン酸化合物におけるカルボキシ基以外の構造は、エステル化合物のカルボン酸残基と同じであってもよく、異なっていてもよい。

　本開示の一実施形態においては、目的物における高い収率を得る観点から、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量からなる群より選択される少なくとも１つは、０．０１質量部以上が好ましい。
　ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量の一部が０．０１質量部以上であってもよく、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量のすべてが０．０１質量部以上であってもよい。

　本開示の一実施形態においては、フッ素化反応の原料であるエステル化合物が、エーテル結合を有するエステル化合物を含んでもよい。
　エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含む場合、前記液体は、フッ化水素をさらに含有し、液体中に含有されるエステル化合物１００質量部に対し、前記フッ化水素の含有量が、３．０質量部以下が好ましい。
　以下、フッ化水素を「ＨＦ」、液体中におけるエステル化合物１００質量部に対するＨＦの含有量を「ＨＦ量」ともいう。

　ＯＨ化合物とカルボン酸ハロゲン化物との反応によりエステル化合物を製造すると、副生成物としてＨＦが生じる。そのため、ＯＨ化合物とカルボン酸ハロゲン化物との反応により得られたエステル化合物含有する組成物は、ＨＦを不純物として含有することがある。
　ＨＦの存在下において、エーテル結合を有するエステル化合物のフッ素化反応を行うと、ＨＦの作用により、原料であるエーテル結合を有するエステル化合物及び目的物であるエーテル結合を有する含フッ素エステル化合物のエーテル結合が分解することがある。そして、エーテル結合の分解が多く起こると、目的物の収率が下がる。
　そのため、ＨＦ量を前記範囲とすることで、エステル化合物のフッ素化反応に伴うエーテル結合の分解が抑制され、目的物の収率が高くなると推測される。
　また、液体がＨＦを含有することで、エーテル結合の分解反応により生成するラジカルによってエステル化合物のフッ素化反応が進行しやすく、目的物の収率が高くなると推測される。

　ＨＦを液体に含有させつつＨＦ量を前記範囲とする方法は、特に限定されるものではない。
　ＯＨ化合物とカルボン酸ハロゲン化物とを反応させてエステル化合物を製造すると、ＨＦ量が前記範囲よりも多い組成物が得られることが多い。その場合、ＨＦ量が前記範囲よりも多い組成物からＨＦを除去することで、ＨＦを含有しＨＦ量が前記範囲である組成物を得て、得られた組成物を含む液体中においてフッ素化反応を行ってもよい。
　上記組成物におけるＨＦ量は、ＨＦの除去量の調整により制御してもよく、除去後に別途添加することで制御してもよい。組成物からＨＦを除去する方法としては、減圧留去による除去、前述の吸着剤による除去等が挙げられる。

　エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含む場合、目的物における高い収率を得る観点から、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、ＮａＦ量、及びＨＦ量からなる群より選択される少なくとも１つが、０．０１質量部以上が好ましい。
　ＯＨ化合物量、カルボン酸量、ＮａＦ量、及びＨＦ量の一部が０．０１質量部以上であってもよく、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、ＮａＦ量、及びＨＦ量のすべてが０．０１質量部以上であってもよい。

＜液体＞
　液体は、少なくとも、フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物と、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種と、を含有し、必要に応じて溶媒、その他添加剤等をさらに含有してもよい。

（エステル化合物）
　エステル化合物は、フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有し、かつ、エステル結合を有する有機化合物であればよく、特に限定されるものではない。
　エステル化合物は、フッ素化可能な原子を１つのみ有してもよく、２つ以上有してもよい。エステル化合物の１分子中に含まれるフッ素化可能な原子の数としては、例えば１～１，０００が挙げられ、１～５００が好ましく、１～１００がより好ましい。
　エステル化合物は、エステル結合（すなわち、－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－）を１つのみ有してもよく、２つ以上有してもよい。入手しやすさの観点から、エステル化合物に含まれるエステル結合の数は、１つまたは２つが好ましい。すなわち、エステル化合物は、モノエステル化合物又はジエステル化合物が好ましい。

　フッ素化可能な原子としては、水素原子、臭素原子、ヨウ素原子等が挙げられ、その中でも水素原子が好ましい。エステル化合物は、フッ素化可能な原子として水素原子を有することが好ましい。

　エステル化合物としては、例えば、下記式（１）で表される化合物、下記式（２）で表される化合物等が挙げられる。
　Ｒ^Ａ１－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ１　…（１）
　Ｒ^Ｂ２－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ^Ａ２－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ３　…（２）

　式（１）及び（２）中、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３はそれぞれ独立に、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ２は、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。

　本開示において、「１価飽和炭化水素基」は、直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、及びシクロアルキル基のいずれであってもよい。「２価飽和炭化水素基」は、直鎖状アルキレン基、分岐鎖状アルキレン基、及びシクロアルキレン基のいずれであってもよい。直鎖状アルキル基、分岐鎖状アルキル基、直鎖状アルキレン基、及び分岐鎖状アルキレン基には、脂環構造が含まれていてもよい。

　本開示において、「ハロゲノ」とは、フッ素原子、塩素原子、臭素原子、及びヨウ素原子から選ばれる少なくとも１種のハロゲン原子により、基中に存在する水素原子の１個以上が置換されたことを意味する。基中には、水素原子が存在していてもよく、存在しなくてもよい。

　本開示において、「ハロゲノ１価飽和炭化水素基」とは、ハロゲン原子により、１価飽和炭化水素基中に存在する水素原子の１個以上が置換された基を意味する。「ハロゲノ２価飽和炭化水素基」とは、ハロゲン原子により、２価飽和炭化水素基中に存在する水素原子の１個以上が置換された基を意味する。

　本開示において、「ヘテロ原子」とは、炭素原子及び水素原子以外の原子を意味し、例えば、窒素原子、酸素原子、及び硫黄原子が挙げられる。

　本開示において、「ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基」とは、１価飽和炭化水素基中に、２価のヘテロ原子、又はヘテロ原子を含む２価の基が含まれている基を意味する。「ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基」とは、２価飽和炭化水素基中に、２価のヘテロ原子、又はヘテロ原子を含む２価の基が含まれている基を意味する。２価のヘテロ原子としては、例えば、－Ｏ－及び－Ｓ－が挙げられる。また、ヘテロ原子を含む２価の基としては、例えば、－ＮＨ－、－Ｃ（＝Ｏ）－、及び－ＳＯ_２－が挙げられる。

　本開示において、「ハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基」とは、上記ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基中の水素原子の１個以上がハロゲン原子に置換された基を意味する。「ハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基」とは、上記ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基中の水素原子の１個以上がハロゲン原子に置換された基を意味する。

　式（１）において、Ｒ^Ａ１及びＲ^Ｂ１の少なくとも一方が水素原子を含むことが好ましい。また、式（２）において、Ｒ^Ａ２、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３からなる群より選択される少なくとも一つが水素原子を含むことが好ましい。

〔Ｒ^Ａ１〕
　式（１）中、Ｒ^Ａ１は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基である。

　Ｒ^Ａ１で表される１価飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、及びシクロヘキシル基が挙げられる。

　Ｒ^Ａ１で表されるハロゲノ１価飽和炭化水素基としては、ハロゲノアルキル基が好ましい。ハロゲノ１価飽和炭化水素基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましく、フッ素原子がより好ましい。

　Ｒ^Ａ１で表されるヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基は、エーテル性酸素原子（すなわち、－Ｏ－）を含む１価飽和炭化水素基が好ましく、エーテル性酸素原子を含むアルキル基がより好ましい。

　Ｒ^Ａ１で表されるハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基としては、ハロゲノ（ヘテロ原子含有アルキル基）が好ましい。ハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。ハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基は、エーテル性酸素原子を含むハロゲノ１価飽和炭化水素基が好ましく、エーテル性酸素原子を含むハロゲノアルキル基がより好ましい。

　Ｒ^Ａ１の炭素数は、後述する溶媒への溶解性に優れる点から、１～２００が好ましく、３～１００がより好ましい。

　中でも、液体中への溶解性に優れる観点から、Ｒ^Ａ１は、下記式（Ａ１）で表されることが好ましい。つまり、Ｒ^Ａ１は、エーテル結合をさらに有することが好ましく、ポリエーテル鎖及びフルオロポリエーテル鎖からなる群より選択される少なくとも一つを含むことがより好ましい。
　Ｒ^１１Ｏ－（Ｒ^１２Ｏ）_ｍ１－Ｒ^１３－　…（Ａ１）

　式（Ａ１）中、Ｒ^１１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ^１２はそれぞれ独立に、炭素数１～６のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ^１３は、炭素数１～６のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、ｍ１は０～５００の整数である。

　式（Ａ１）中、Ｒ^１１としては、例えば、アルキル基及びフルオロアルキル基が挙げられる。

　Ｒ^１１の炭素数は、後述する溶媒への溶解性に優れる点から、１～１００が好ましく、１～５０がより好ましく、１～１０がさらに好ましく、１～６が特に好ましい。

　Ｒ^１１で表されるアルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよく、環構造を有するアルキル基であってもよい。

　Ｒ^１１で表されるフルオロアルキル基は、直鎖状フルオロアルキル基であってもよく、分岐鎖状フルオロアルキル基であってもよく、環構造を有するフルオロアルキル基であってもよい。

　中でも、Ｒ^１１は、アルキル基であることが好ましく、直鎖状アルキル基であることがより好ましく、炭素数１～６の直鎖状アルキル基であることがさらに好ましい。

　式（Ａ１）中、－（Ｒ^１２Ｏ）_ｍ１－は、下記式（Ａ２）で表されることが好ましい。
　－［（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｋ１（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ２（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｋ３（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｋ４（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｋ５（Ｒ^ｆ６Ｏ）_ｋ６］－　…（Ａ２）
　ただし、
　Ｒ^ｆ１は、炭素数１のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ２は、炭素数２のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ３は、炭素数３のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ４は、炭素数４のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ５は、炭素数５のフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆ６は、炭素数６のフルオロアルキレン基である。
　ｋ１、ｋ２、ｋ３、ｋ４、ｋ５、及びｋ６は、それぞれ独立に０又は１以上の整数を表し、ｋ１＋ｋ２＋ｋ３＋ｋ４＋ｋ５＋ｋ６は０～５００の整数である。

　液体中への溶解性に優れる観点から、ｋ１＋ｋ２＋ｋ３＋ｋ４＋ｋ５＋ｋ６は、１～５００の整数が好ましく、１～３００の整数がより好ましく、５～２００の整数がさらに好ましく、１０～１５０の整数が特に好ましい。

　なお、式（Ａ２）における（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の結合順序は任意である。式（Ａ２）のｋ１～ｋ６は、それぞれ、（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の個数を表すものであり、配置を表すものではない。例えば、（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｋ５は、（Ｒ^ｆ５Ｏ）の数がｋ５個であることを表し、（Ｒ^ｆ５Ｏ）_ｋ５のブロック配置構造を表すものではない。同様に、（Ｒ^ｆ１Ｏ）～（Ｒ^ｆ６Ｏ）の記載順は、それぞれの単位の結合順序を表すものではない。

　Ｒ^ｆ３～Ｒ^ｆ６において、フルオロアルキレン基は、直鎖状フルオロアルキレン基であってもよく、分岐鎖状フルオロアルキレン基であってもよく、環構造を有するフルオロアルキレン基であってもよい。

　Ｒ^ｆ１の具体例としては、－ＣＦ_２－及び－ＣＨＦ－が挙げられる。

　Ｒ^ｆ２の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＦ_２－、及び－ＣＨ_２ＣＨＦ－が挙げられる。

　Ｒ^ｆ３の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨ
_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＦ（ＣＦ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨＦ_２）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨ_２－、－ＣＦ（ＣＨ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＦ_２－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＨ_３）－ＣＨＦ－、－ＣＨ（ＣＦ_３）－ＣＨ_２－、－ＣＨ（ＣＨＦ_２）－ＣＨ_２－、及び－ＣＨ（ＣＨ_２Ｆ）－ＣＨ_２－が挙げられる。

　Ｒ^ｆ４の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦ－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨＦ－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｆ_６－が挙げられる。

　Ｒ^ｆ５の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｆ_８－が挙げられる。

　Ｒ^ｆ６の具体例としては、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨＦＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２－、－ＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦＣＨＦ－、－ＣＨＦＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、－ＣＨ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＨ_２－、及び－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｆ_１０－が挙げられる。
　ここで、－ｃｙｃｌｏＣ_４Ｆ_６－は、ペルフルオロシクロブタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロブタン－１，２－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_５Ｆ_８－は、ペルフルオロシクロペンタンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロペンタン－１，３－ジイル基が挙げられる。－ｃｙｃｌｏＣ_６Ｆ_１０－は、ペルフルオロシクロヘキサンジイル基を意味し、その具体例としては、ペルフルオロシクロヘキサン－１，４－ジイル基が挙げられる。

　中でも、－（Ｒ^１２Ｏ）_ｍ１－は、下記式（Ｆ１）～（Ｆ３）で表される構造からなる群より選択される少なくとも１つを含むことが好ましく、式（Ｆ２）で表される構造を含むことがより好ましい。
　　－（Ｒ^ｆ１Ｏ）_ｋ１－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ２－　…（Ｆ１）
　　－（Ｒ^ｆ２Ｏ）_ｋ２－（Ｒ^ｆ４Ｏ）_ｋ４－　…（Ｆ２）
　　－（Ｒ^ｆ３Ｏ）_ｋ３－　…（Ｆ３）
　ただし、式（Ｆ１）～式（Ｆ３）の各符号は、上記式（Ａ２）と同様である。

　式（Ｆ１）及び式（Ｆ２）において、（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）、（Ｒ^ｆ２Ｏ）と（Ｒ^ｆ４Ｏ）の結合順序は各々任意である。例えば（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）が交互に配
置されてもよく、（Ｒ^ｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆ２Ｏ）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。式（Ｆ２）においても同様である。
　式（Ｆ１）において、ｋ１は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｋ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｆ２）において、ｋ２は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｋ４は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｆ３）において、ｋ３は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。

　式（Ａ１）中、Ｒ^１３としては、上記、Ｒ^ｆ１～Ｒ^ｆ６と同様のものが挙げられる。

　中でも、Ｒ^１３は、炭素数１～４のフルオロアルキレン基が好ましい。

　Ｒ^Ａ１の具体例として、例えば、以下の構造が挙げられる。＊は、－Ｏ－との結合部位を表し、ｎ１は０～６０の整数、ｎ２は０～５００の整数を表す。ｎ１としては例えば１３が挙げられ、ｎ２としては例えば７が挙げられる。

〔Ｒ^Ｂ１〕
　式（１）中、Ｒ^Ｂ１は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基である。

　Ｒ^Ｂ１で表される１価飽和炭化水素基としては、例えば、メチル基、エチル基、ｎ－プロピル基、イソプロピル基、ｎ－ブチル基、ｔｅｒｔ－ブチル基、ペンチル基、ヘキシル基、オクチル基、２－エチルヘキシル基、及びシクロヘキシル基が挙げられる。

　Ｒ^Ｂ１で表されるハロゲノ１価飽和炭化水素基としては、ハロゲノアルキル基が好ましい。ハロゲノ１価飽和炭化水素基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。

　Ｒ^Ｂ１で表されるヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基は、エーテル性酸素原子（すなわち、－Ｏ－）を含む１価飽和炭化水素基が好ましく、エーテル性酸素原子を含むアルキル基がより好ましい。つまり、Ｒ^Ｂ１は、エーテル結合をさらに有することが好ましい。

　Ｒ^Ｂ１で表されるハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基としては、ハロゲノ（ヘテロ原子含有アルキル基）が好ましい。ハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基に含まれるハロゲン原子は、フッ素原子、塩素原子、又は臭素原子が好ましい。ハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基は、エーテル性酸素原子を含むハロゲノ１価飽和炭化水素基が好ましく、エーテル性酸素原子を含むハロゲノアルキル基がより好ましい。

　Ｒ^Ｂ１の炭素数は、後述する溶媒への溶解性に優れる点から、１～１００が好ましく、２～５０がより好ましく、３～２０がさらに好ましい。

　Ｒ^Ｂ１は、後述する溶媒への溶解性に優れる点から、少なくとも１つのフッ素原子を含むことが好ましく、水素原子を含まないことが好ましい。

　中でも、後述する溶媒への溶解性に優れる観点から、Ｒ^Ｂ１は、下記式（Ｂ１）で表されることが好ましい。
　Ｒ^２１Ｏ－（Ｒ^２２Ｏ）_ｍ２－Ｒ^２３－　…（Ｂ１）

　式（Ｂ１）中、Ｒ^２１は、フッ素原子を有していてもよいアルキル基であり、Ｒ^２２はそれぞれ独立に、炭素数１～６のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ^２３は、炭素数１～６のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、ｍ２は０～２０の整数である。

　式（Ｂ１）中、Ｒ^２１としては、例えば、アルキル基及びフルオロアルキル基が挙げられる。

　Ｒ^２１の炭素数は、後述する溶媒への溶解性に優れる点から、１～５０が好ましく、１～１０がより好ましく、１～６がさらに好ましい。

　Ｒ^２１で表されるアルキル基は、直鎖状アルキル基であってもよく、分岐鎖状アルキル基であってもよく、環構造を有するアルキル基であってもよい。
　Ｒ^２１で表されるフルオロアルキル基は、直鎖状フルオロアルキル基であってもよく、分岐鎖状フルオロアルキル基であってもよく、環構造を有するフルオロアルキル基であってもよい。

　中でも、Ｒ^２１は、フルオロアルキル基が好ましく、直鎖状フルオロアルキル基がより好ましく、炭素数１～６の直鎖状フルオロアルキル基がさらに好ましく、炭素数１～６の直鎖状ペルフルオロアルキル基が特に好ましい。

　式（Ｂ１）中、－（Ｒ^２２Ｏ）_ｍ２－は、上記式（Ａ２）で表されることが好ましい。

　式（Ｂ１）中、ｍ２は０～１５が好ましく、０～１０がより好ましく、０～４がさらに好ましく、０～２が特に好ましい。

　式（Ｂ１）中、Ｒ^２３としては、上記、Ｒ^ｆ１～Ｒ^ｆ６と同様のものが挙げられる。

　中でも、Ｒ^２３は、炭素数１～３のフルオロアルキレン基が好ましく、炭素数１～３のペルフルオロアルキレン基がより好ましい。

　Ｒ^Ｂ１の具体例として、例えば、以下の構造が挙げられる。＊は、－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－との結合部位を表す。

〔Ｒ^Ａ２〕
　式（２）中、Ｒ^Ａ２は、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。

　Ｒ^Ａ２で表される２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基としては、式（１）中のＲ^Ａ１で表される１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基から水素原子又はハロゲン原子を１つ除いた基が挙げられる。

　Ｒ^Ａ２の炭素数は、後述する溶媒への溶解性に優れる点から、１～２００が好ましく、３～１００がより好ましい。

　中でも、後述する溶媒への溶解性に優れる観点から、Ｒ^Ａ２は、下記式（Ａ５）で表されることが好ましい。つまり、Ｒ^Ａ２は、エーテル結合をさらに有することが好ましく、ポリエーテル鎖及びフルオロポリエーテル鎖からなる群より選択される少なくとも一つを含むことがより好ましい。
　－Ｒ^３１Ｏ－（Ｒ^３２Ｏ）_ｍ５－Ｒ^３３－　…（Ａ５）

　式（Ａ５）中、Ｒ^３１及びＲ^３３は、それぞれ独立に、炭素数１～６のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、Ｒ^３２はそれぞれ独立に、炭素数１～６のフッ素原子を有していてもよいアルキレン基であり、ｍ５は０～５００の整数である。

　式（Ａ５）中、Ｒ^３１及びＲ^３３としては、それぞれ独立に、式（Ａ１）中のＲ^１３と同様のものが挙げられる。
　式（Ａ５）中、－（Ｒ^３２Ｏ）_ｍ５－としては、式（Ａ１）中の－（Ｒ^１２Ｏ）_ｍ１－と同様のものが挙げられる。

　Ｒ^Ａ２の具体例として、例えば、以下の構造が挙げられる。＊は、－Ｏ－との結合部位を表し、ｎ２は０～５００の整数を表す。

〔Ｒ^Ｂ２及びＲ^Ｂ３〕
　式（２）中、Ｒ^Ｂ２及びＲ^Ｂ３は、それぞれ独立に、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基である。

　Ｒ^Ｂ２又はＲ^Ｂ３で表される１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基としては、式（１）中のＲ^Ｂ１で表される１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基と同様の基が挙げられる。

　エステル化合物の例としては、下記化合物（Ｔ１）等も挙げられる。

　エステル化合物の数平均分子量は、特に限定されるものではなく、例えば１００～１００，０００が挙げられ、液体中への溶解性に優れる観点から、１００～２０，０００が好ましく、３００～１０，０００がより好ましく、４００～６，０００がさらに好ましい。
　上記エステル化合物の数平均分子量は、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲによって特定された分子構造から算出される各分子の分子量の数平均値である。

　液体中に含有されるエステル化合物の含有率は、目的物における高い収率を得る観点から、液体全体に対し、１～１００質量％が好ましく、３～１００質量％がより好ましく、５～１００質量％がさらに好ましく、８～７０質量％が特に好ましく、８～５０質量％が極めて好ましい。

　エステル化合物の製造方法は、特に限定されるものではない。例えば、ＯＨ化合物とカルボン酸ハロゲン化物とを有機溶媒中で反応させることで、エステル化合物を得てもよい。エステル化合物の製造においては、必要に応じて、触媒としてＮａＦを用いてもよい。ＯＨ化合物とカルボン酸ハロゲン化物との反応において、反応時間は例えば０．５～１００時間が挙げられ、０．５～５０時間が好ましい。また、反応温度は例えば０～２００℃が挙げられ、０～１００℃が好ましい。

（ＯＨ化合物）
　液体は、ＯＨ化合物を含有してもよい。
　液体がＯＨ化合物を含有する場合、前記の通り、ＯＨ化合物量は０．５質量部以下である。
　また、ＯＨ化合物量は、目的物の収率を高くする観点から、０．０１質量部以上が好ましい。
　ＯＨ化合物量は、０．０１～０．５質量部が好ましい。

　ＯＨ化合物は、水酸基を有する化合物であれば特に限定されるものではない。ＯＨ化合物は、水酸基を１つのみ有してもよく、２つ以上有してもよい。入手しやすさの観点から、ＯＨ化合物に含まれる水酸基の数は、１つまたは２つが好ましい。
　ＯＨ化合物は、フッ素化可能な原子を有してもよく、有していなくてもよく、有していることが好ましい。ＯＨ化合物は、フッ素化可能な原子を１つのみ有してもよく、２つ以上有してもよい。ＯＨ化合物の１分子中に含まれるフッ素化可能な原子の数としては、例えば１～１，０００が挙げられ、１～５００が好ましく、１～１００がより好ましい。

　ＯＨ化合物としては、例えば、下記式（３）で表される化合物、下記式（４）で表される化合物等が挙げられる。
　Ｒ^Ａ３－ＯＨ　…（３）
　ＨＯ－Ｒ^Ａ４－ＯＨ　…（４）

　式（３）及び（４）中、
　Ｒ^Ａ３は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ４は、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。

　Ｒ^Ａ３で表される１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基としては、式（１）中のＲ^Ａ１で表される１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基と同様の基が挙げられる。
　Ｒ^Ａ４で表される２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基としては、式（１）中のＲ^Ａ２で表される２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基と同様の基が挙げられる。

　液体が式（１）で表されるエステル化合物と式（３）で表されるＯＨ化合物とを含有する場合、ＯＨ化合物における式（３）中のＲ^Ａ３は、エステル化合物における式（１）中のＲ^Ａ１と同じであってもよく、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。
　液体が式（２）で表されるエステル化合物と式（４）で表されるＯＨ化合物とを含有する場合、ＯＨ化合物における式（４）中のＲ^Ａ４は、エステル化合物における式（２）中のＲ^Ａ２と同じであってもよく、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。

　式（３）で表されるＯＨ化合物の具体例としては、例えば、以下の構造が挙げられる。ｎ１は０～６０の整数、ｎ２は０～５００の整数を表す。ｎ１としては例えば１３が挙げられ、ｎ２としては例えば７が挙げられる。

　式（４）で表されるＯＨ化合物の具体例としては、例えば、以下の構造が挙げられる。ｎ２は０～４９９の整数を表す。

　ＯＨ化合物の例としては、下記化合物（Ｔ２）等も挙げられる。

　ＯＨ化合物の数平均分子量は、特に限定されるものではなく、例えば５０～５０，０００が挙げられ、後述する溶媒への溶解性に優れる観点から、５０～２５，０００が好ましく、５０～１０，０００がより好ましい。
　上記ＯＨ化合物の数平均分子量は、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲによって特定された分子構造から算出される各分子の分子量の数平均値である。

（カルボン酸化合物）
　液体は、カルボン酸化合物を含有してもよい。
　液体がカルボン酸化合物を含有する場合、前記の通り、カルボン酸量は２．０質量部以下である。カルボン酸量は、目的物の収率を高くする観点から、１．７質量部以下が好ましく、１．５質量部以下がより好ましい。
　また、カルボン酸量は、目的物の収率を高くする観点から、０．０１質量部以上が好ましい。
　カルボン酸量は、０．０１～２．０質量部が好ましく、０．０１～１．７質量部がより好ましく、０．０１～１．５質量部がさらに好ましい。

　カルボン酸化合物は、カルボキシ基を有する化合物であれば特に限定されるものではない。カルボン酸化合物は、カルボキシ基を１つのみ有してもよく、２つ以上有してもよく、１つのみ有していることが好ましい。
　カルボン酸化合物は、フッ素化可能な原子を有してもよく、有していなくてもよい。

　カルボン酸化合物としては、例えば、下記式（５）で表される化合物等が挙げられる。
　Ｒ^Ｂ４－（Ｃ＝Ｏ）－ＯＨ　…（５）

　式（５）中、
　Ｒ^Ｂ４は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基である。

　Ｒ^Ｂ４で表される１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基としては、式（１）中のＲ^Ｂ１で表される１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基と同様の基が挙げられる。

　液体が式（１）で表されるエステル化合物と式（５）で表されるカルボン酸化合物とを含有する場合、カルボン酸化合物における式（５）中のＲ^Ｂ４は、エステル化合物における式（１）中のＲ^Ｂ１と同じであってもよく、異なっていてもよく、同じであることが好ましい。
　液体が式（２）で表されるエステル化合物と式（５）で表されるカルボン酸化合物とを含有する場合、カルボン酸化合物における式（５）中のＲ^Ｂ４は、エステル化合物における式（２）中のＲ^Ｂ２及びＲ^Ｂ３の一方と同じであってもよく、両方と同じであってもよく、両方と異なっていてもよく、Ｒ^Ｂ２及びＲ^Ｂ３の少なくとも一方と同じであることが好ましい。

　式（５）で表されるカルボン酸化合物の具体例としては、例えば、以下の構造が挙げられる。

　カルボン酸化合物の分子量は、特に限定されるものではなく、例えば４０～１０，０００が挙げられ、後述する溶媒への溶解性に優れる観点から、４０～５，０００が好ましく、４０～１，０００がより好ましい。
　上記カルボン酸化合物の分子量は、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲによって特定された分子構造から算出される値である。

（ＮａＦ）
　液体は、ＮａＦを含有してもよい。
　液体がＮａＦを含有する場合、前記の通り、ＮａＦ量は２．０質量部以下である。ＮａＦ量は、目的物の収率を高くする観点から、１．５質量部以下が好ましく、１．２質量部以下がより好ましい。
　また、ＮａＦ量は、目的物の収率を高くする観点から、０．０１質量部以上が好ましい。
　ＮａＦ量は、０．０１～２．０質量部が好ましく、０．０１～１．５質量部がより好ましく、０．０１～１．２質量部がさらに好ましい。

（ＨＦ）
　液体は、ＨＦを含有してもよい。
　エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含み、かつ、液体がＨＦを含有する場合、前記の通り、ＨＦ量は３．０質量部以下が好ましい。ＨＦ量は、目的物の収率を高くする観点から、２．８質量部以下がより好ましい。
　また、ＨＦ量は、目的物の収率を高くする観点から、０．０１質量部以上が好ましい。
　ＨＦ量は、０．０１～３．０質量部が好ましく、０．０１～２．８質量部がより好ましい。

（溶媒）
　液体は、必要に応じて溶媒を含有してもよい。溶媒は、エステル化合物を溶解可能な溶媒であれば特に限定されない。

　エステル化合物及びエステル化合物がフッ素化された含フッ素エステル化合物の溶解性に優れる観点から、溶媒は、含塩素溶媒及び含塩素溶媒以外の含フッ素溶媒からなる群より選択される少なくとも一方を含むことが好ましく、含塩素溶媒を含むことがより好ましい。含塩素溶媒は、塩素原子を含む溶媒である。含塩素溶媒は、塩素原子以外にフッ素原子を含むことが好ましい。

　含塩素溶媒としては、例えば、ＣＣｌＦ_２ＣＣｌＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＣｌＦ_２（ＣＦＥ－４１９）、ＣＨ_２ＣｌＣＨＣｌＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＨＦＣｌ（ＨＣＦＥ－４７３）、ＣＦ_２ＣｌＣＦＣｌＣＨＦＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（ＨＣＦＥ－４２８ａ，ｂ）、ＣＦＨＣｌＣＦＣｌＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（ＨＣＦＥ－４２８ｃ，ｄ）、ＣＦ_２ＣｌＣＨＣｌＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（ＨＣＦＥ－４２８ｅ）、１，２，３，４－テトラクロロパーフルオロブタン（Ｒ－１１３）、ＣＦ_２Ｃｌ－ＣＦＣｌ－ＣＦＣｌ－Ｏ－ＣＦ_２－ＣＦ_２Ｃｌ（ＣＦＥ－４１８）、ＣＣｌＨＦＣＣｌＦＣＨＦＯＣＦ_２ＣＣｌＦ_２（ＨＣＦＥ－４３７ａ、ｂ）、ＣＣｌＦ_２ＣＣｌＨＣＨＦＯＣＦ_２ＣＣｌＦ_２（ＨＣＦＥ－４３７ｃ）、ＣＣｌＨＦＣＣｌＦＣＨ_２ＯＣＦ_２ＣＣｌＦ_２（ＨＣＦＥ－４４６ａ）、ＣＦ_２ＣｌＣＣｌ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦＨＣｌ（ＨＣＦＥ－４２７ａ，ｂ）、ＣＦ_２ＨＣＣｌＦＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２Ｃｌ（ＨＣＦＥ－４２９）等が挙げられる。
　含塩素溶媒以外の含フッ素溶媒としては、ペルフルオロアルカン類（ＦＣ－７２等）、ペルフルオロエーテル類（ＦＣ－７５、ＦＣ－７７等）、ペルフルオロポリエーテル類（商品名：クライトックス、フォンブリン、ガルデン、デムナム等）、不活性流体（商品名：フロリナート）、ペルフルオロカルボン酸フッ化物等が挙げられる。

　溶媒の沸点は、含フッ素化合物の収率を向上させる観点から、１０～５００℃が好ましく、３０～２５０℃がより好ましく、５０～１５０℃がさらに好ましい。
　溶媒の炭素数は、含フッ素化合物の収率を向上させる観点から、４以上が好ましく、４～１，０００がより好ましく、４～５００が更に好ましく、４～１００が特に好ましく、４～５０が最も好ましい。
　溶媒の分子量は、含フッ素化合物の収率を向上させる観点から、２００以上が好ましく、２００～５０，０００がより好ましく、２００～２５，０００が更に好ましく、２００～１０，０００が特に好ましく、２００～１，０００が最も好ましい。分子量に分布がある場合、分子量は、質量平均分子量（Ｍｗ）を表す。Ｍｗはテトラヒドロフラン（ＴＨＦ）を溶離液として用いるゲル浸透クロマトグラフィ（ＧＰＣ）測定により、ポリスチレン換算として測定される。

（その他添加剤）
　液体は、必要に応じてその他添加剤を含有してもよい。その他添加剤としては、例えば、エステル化合物のフッ素化を促進する助剤が挙げられる。
　助剤としては、例えば、エステル化合物以外のＣ－Ｈ結合含有化合物及び炭素－炭素二重結合含有化合物が挙げられる。Ｃ－Ｈ結合含有化合物としては、ベンゼン、トルエン等が挙げられる。炭素－炭素二重結合含有化合物としては、ヘキサフルオロプロピレン、ヘキサフルオロブタジエン等が挙げられる。助剤は、その中でも、ベンゼン、トルエン等の芳香族炭化水素が好ましい。

＜フッ素化反応＞
　液体中において原料化合物をフッ素化する方法としては、例えば、ＥＣＦ法、コバルトフッ素化法、及びフッ素と反応させる方法が挙げられる。中でも、原料化合物のフッ素化を有利に進行させることが可能な、フッ素を反応させる方法が好ましい。

　液体中において原料化合物とフッ素とを反応させる方法では、例えば、フッ素ガスを含有する気体を、原料化合物を含有する液体中に導入する。
　以下、フッ素化反応の一例として、フッ素ガスを含有する気体を、原料化合物を含有する液体中に導入する方法について説明するが、これに限定されるものではない。

　液体に導入する気体は、少なくともフッ素ガスを含有していればよい。気体は、フッ素ガスからなるものでもよく、フッ素ガス以外のガスを含有するものでもよい。
　フッ素ガス以外のガスとしては、例えば不活性ガスが挙げられる。不活性ガスとしては、窒素ガス、ヘリウムガス、ネオンガス、アルゴンガス等が挙げられ、窒素ガス又はヘリウムガスが好ましく、コストを低く抑える観点から窒素ガスが好ましい。

　気体全体に対するフッ素ガスの含有率は、目的物の収率を高くする観点から、１０体積％以上が好ましく、１５体積％以上がより好ましく、２０体積％以上がさらに好ましく、２５体積％以上が特に好ましい。また、気体全体に対するフッ素ガスの含有率は、安全性に優れる観点から、６０体積％以下が好ましく、５０体積％以下がより好ましく、４０体積％以下がさらに好ましい。前記観点から、気体全体に対するフッ素ガスの含有率は、１０～６０体積％が好ましく、１５～５０体積％がより好ましく、２０～４０体積％がさらに好ましい。

　エステル化合物のフッ素化の温度は、例えば、－６０℃以上かつエステル化合物の沸点以下の範囲が挙げられ、－５０～１００℃の範囲でもよく、－２０～５０℃の範囲でもよい。
　エステル化合物のフッ素化における圧力としては、例えば、０～２ＭＰａが挙げられる。
　エステル化合物のフッ素化は、バッチ方式であってもよく、連続方式であってもよい。

　エステル化合物のフッ素化が行われる反応器に、エステル化合物を含有しフッ素ガスが導入された液体が滞留する時間は、目的物の収率を高くする観点から、２００時間以下が好ましく、１９０時間以下がより好ましく、１７０時間以下がさらに好ましく、１５０時間以下が特に好ましく、１００時間以下が極めて好ましい。以下、上記反応器に上記液体が滞留する時間を「滞留時間」ともいう。
　滞留時間は、目的物の収率を高くする観点から、０．３時間以上が好ましく、０．６時間以上がより好ましく、１．０時間以上がさらに好ましい。滞留時間は、０．３～２００時間が好ましく、０．３～１９０時間がより好ましく、０．３～１７０時間がさらに好ましく、０．６～１５０時間が特に好ましく、１．０～１００時間が極めて好ましい。
　上記滞留時間は、エステル化合物のフッ素化を連続方式で行う場合、上記液体の流量及び反応器の容積から算出する。また、滞留時間は、エステル化合物のフッ素化を連続方式で行う場合、上記液体の流量及び反応器の流れ方向の長さ等により調整してもよい。

＜含フッ素エステル化合物＞
　エステル化合物のフッ素化により得られる含フッ素エステル化合物は、エステル化合物が有するフッ素化可能な原子の少なくとも１つがフッ素原子に置き換わった化合物である。
　含フッ素エステル化合物は、エーテル結合をさらに有することが好ましく、ペルフルオロポリエーテル鎖を含むことがより好ましい。

　エステル化合物が前記式（１）で表される化合物である場合、含フッ素エステル化合物は、下記式（６）で表される化合物が好ましい。また、エステル化合物が前記式（２）で表される化合物である場合、含フッ素エステル化合物は、下記式（７）で表される化合物が好ましい。
　Ｒ^ＡＦ１－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^ＢＦ１　…（６）
　Ｒ^ＢＦ２－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ^ＡＦ２－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^ＢＦ３　…（７）
　式（６）及び（７）中、
　Ｒ^ＡＦ１、Ｒ^ＢＦ１、Ｒ^ＡＦ２、Ｒ^ＢＦ２、及びＲ^ＢＦ３は、それぞれ、Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ａ２、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３に対応する基であり、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ａ２、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３がそれぞれ独立に水素原子を含まない基である場合、Ｒ^ＡＦ１、Ｒ^ＢＦ１、Ｒ^ＡＦ２、Ｒ^ＢＦ２、及びＲ^ＢＦ３は、Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ａ２、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３と同一の基であり、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ａ２、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３がそれぞれ独立に水素原子を含む基である場合、Ｒ^ＡＦ１、Ｒ^ＢＦ１、Ｒ^ＡＦ２、Ｒ^ＢＦ２、及びＲ^ＢＦ３は、Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ａ２、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３に存在するすべての水素原子がフッ素原子に置換された基である。

〔Ｒ^ＡＦ１〕
　式（６）中、Ｒ^ＡＦ１はＲ^Ａ１に対応する基である。
　Ｒ^Ａ１が水素原子を含む場合には、Ｒ^ＡＦ１は、Ｒ^Ａ１に存在する全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^Ａ１が水素原子を含まない場合には、Ｒ^ＡＦ１は、Ｒ^Ａ１と同一の基である。
　溶媒への溶解性に優れる観点から、Ｒ^ＡＦ１は、下記式（Ａ３）で表されることが好ましい。
　Ｒ^１４Ｏ－（Ｒ^１５Ｏ）_ｍ３－Ｒ^１６－　…（Ａ３）

　式（Ａ３）中、Ｒ^１４は、ペルフルオロアルキル基であり、Ｒ^１５はそれぞれ独立に、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^１６は、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ３は０～５００の整数である。

　式（Ａ３）中、Ｒ^１４は、式（Ａ１）中のＲ^１１に対応する。Ｒ^１１が水素原子を含む場合、Ｒ^１４は、Ｒ^１１に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^１１が水素原子を含まない場合、Ｒ^１４は、Ｒ^１１と同じである。

　式（Ａ３）中、－（Ｒ^１５Ｏ）_ｍ３－は、式（Ａ１）中の－（Ｒ^１２Ｏ）_ｍ１－に対応する。Ｒ^１２が水素原子を含む場合、Ｒ^１５は、Ｒ^１２に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^１２が水素原子を含まない場合、Ｒ^１５は、Ｒ^１２と同じである。

　式（Ａ３）中、－（Ｒ^１５Ｏ）_ｍ３－は、下記式（Ａ４）で表されることが好ましい。
　－［（Ｒ^ｆｆ１Ｏ）_ｋ７（Ｒ^ｆｆ２Ｏ）_ｋ８（Ｒ^ｆｆ３Ｏ）_ｋ９（Ｒ^ｆｆ４Ｏ）_ｋ１０（Ｒ^ｆｆ５Ｏ）_ｋ１１（Ｒ^ｆｆ６Ｏ）_ｋ１２］－　…（Ａ４）
　ただし、
　Ｒ^ｆｆ１は、炭素数１のペルフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆｆ２は、炭素数２のペルフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆｆ３は、炭素数３のペルフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆｆ４は、炭素数４のペルフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆｆ５は、炭素数５のペルフルオロアルキレン基であり、
　Ｒ^ｆｆ６は、炭素数６のペルフルオロアルキレン基である。
　ｋ７、ｋ８、ｋ９、ｋ１０、ｋ１１、及びｋ１２は、それぞれ独立に０又は１以上の整数を表し、ｋ７＋ｋ８＋ｋ９＋ｋ１０＋ｋ１１＋ｋ１２は０～５００の整数である。

　式（Ａ４）中、Ｒ^ｆｆ１～Ｒ^ｆｆ６は、式（Ａ２）中のＲ^ｆ１～Ｒ^ｆ６に対応する。例えば、Ｒ^ｆ１が水素原子を含む場合、Ｒ^ｆｆ１は、Ｒ^ｆ１に含まれる全ての水素原子がフ
ッ素原子に置換された基である。Ｒ^ｆ１が水素原子を含まない場合、Ｒ^ｆｆ１は、Ｒ^ｆ１と同じである。Ｒ^ｆｆ２～Ｒ^ｆｆ６に関しても、Ｒ^ｆｆ１と同様である。

　溶媒への溶解性に優れる観点から、ｋ７＋ｋ８＋ｋ９＋ｋ１０＋ｋ１１＋ｋ１２は、１～５００の整数が好ましく、１～３００の整数がより好ましく、５～２００の整数がさらに好ましく、１０～１５０の整数が特に好ましい。

　中でも、－（Ｒ^１５Ｏ）_ｍ３－は、下記式（Ｇ１）～（Ｇ３）で表される構造からなる群より選択される少なくとも１つを含むことが好ましく、式（Ｇ２）で表される構造を含むことがより好ましい。
　　－（Ｒ^ｆｆ１Ｏ）_ｋ７－（Ｒ^ｆｆ２Ｏ）_ｋ８－　…（Ｇ１）
　　－（Ｒ^ｆｆ２Ｏ）_ｋ８－（Ｒ^ｆｆ４Ｏ）_ｋ１０－　…（Ｇ２）
　　－（Ｒ^ｆｆ３Ｏ）_ｋ９－　…（Ｇ３）
　ただし、式（Ｇ１）～式（Ｇ３）の各符号は、上記式（Ａ４）と同様である。

　式（Ｇ１）及び式（Ｇ２）において、（Ｒ^ｆｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆｆ２Ｏ）、（Ｒ^ｆｆ２Ｏ）と（Ｒ^ｆｆ４Ｏ）の結合順序は各々任意である。例えば（Ｒ^ｆｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆｆ２Ｏ）が交互に配置されてもよく、（Ｒ^ｆｆ１Ｏ）と（Ｒ^ｆｆ２Ｏ）が各々ブロックに配置されてもよく、またランダムであってもよい。式（Ｇ２）においても同様である。
　式（Ｇ１）において、ｋ７は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｋ８は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｇ２）において、ｋ８は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。またｋ１０は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。
　式（Ｇ３）において、ｋ９は１～３０が好ましく、１～２０がより好ましい。

　式（Ａ３）中、Ｒ^１６は、式（Ａ１）中のＲ^１３に対応する。Ｒ^１３が水素原子を含む場合、Ｒ^１６は、Ｒ^１３に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^１３が水素原子を含まない場合、Ｒ^１６は、Ｒ^１３と同じである。

　Ｒ^１６としては、上記、Ｒ^ｆｆ１～Ｒ^ｆｆ６と同様のものが挙げられる。

　中でも、Ｒ^１６は、炭素数１～３のペルフルオロアルキレン基が好ましい。

　式（Ａ３）中、ｍ３は、式（Ａ１）中のｍ１に対応する。ｍ３はｍ１と同じである。

　Ｒ^ＡＦ１の具体例として、例えば、以下の構造が挙げられる。＊は、－Ｏ－との結合部位を表し、ｎ１は０～６０の整数、ｎ２は０～５００の整数を表す。ｎ１としては例えば１３が挙げられ、ｎ２としては例えば７が挙げられる。

〔Ｒ^ＢＦ１〕
　式（６）中、Ｒ^ＢＦ１はＲ^Ｂ１に対応する基である。
　Ｒ^Ｂ１が水素原子を含む場合には、Ｒ^ＢＦ１は、Ｒ^Ｂ１に存在する全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^Ｂ１が水素原子を含まない場合には、Ｒ^ＢＦ１は、Ｒ^Ｂ１と同一の基である。
　溶媒への溶解性に優れる観点から、Ｒ^ＢＦ１は、下記式（Ｂ２）で表されることが好ましい。
　Ｒ^２４Ｏ－（Ｒ^２５Ｏ）_ｍ４－Ｒ^２６－　…（Ｂ２）

　式（Ｂ２）中、Ｒ^２４は、ペルフルオロアルキル基であり、Ｒ^２５はそれぞれ独立に、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^２６は炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ４は０～２０の整数である。

　式（Ｂ２）中、Ｒ^２４は、式（Ｂ１）中のＲ^２１に対応する。Ｒ^２１が水素原子を含む場合、Ｒ^２４は、Ｒ^２１に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^２１が水素原子を含まない場合、Ｒ^２４は、Ｒ^２１と同じである。

　式（Ｂ２）中、－（Ｒ^２５Ｏ）_ｍ４－は、式（Ｂ１）中の－（Ｒ^２２Ｏ）_ｍ２－に対応する。Ｒ^２２が水素原子を含む場合、Ｒ^２５は、Ｒ^２２に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^２２が水素原子を含まない場合、Ｒ^２５は、Ｒ^２２と同じである。

　式（Ｂ２）中、－（Ｒ^２５Ｏ）_ｍ４－は、上記式（Ａ４）で表されることが好ましい。

　式（Ｂ２）中、Ｒ^２６は、式（Ｂ１）中のＲ^２３に対応する。Ｒ^２３が水素原子を含む場合、Ｒ^２６は、Ｒ^２３に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^２３が水素原子を含まない場合、Ｒ^２６は、Ｒ^２３と同じである。

　式（Ｂ２）中、ｍ４は、式（Ｂ１）中のｍ２に対応する。ｍ４はｍ２と同じである。

　Ｒ^ＢＦ１の具体例として、例えば、以下の構造が挙げられる。＊は、－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－との結合部位を表す。

〔Ｒ^ＡＦ２〕
　式（７）中、Ｒ^ＡＦ２はＲ^Ａ２に対応する基である。
　Ｒ^Ａ２が水素原子を含む場合には、Ｒ^ＡＦ２は、Ｒ^Ａ２に存在する全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^Ａ２が水素原子を含まない場合には、Ｒ^ＡＦ２は、Ｒ^Ａ２と同一の基である。

　溶媒への溶解性に優れる観点から、Ｒ^ＡＦ２は、下記式（Ａ６）で表されることが好ましい。つまり、Ｒ^ＡＦ２は、エーテル結合をさらに有することが好ましい。
　－Ｒ^３４Ｏ－（Ｒ^３５Ｏ）_ｍ６－Ｒ^３６－　…（Ａ６）

　式（Ａ６）中、Ｒ^３４及びＲ^３６は、それぞれ独立に、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、Ｒ^３５はそれぞれ独立に、炭素数１～６のペルフルオロアルキレン基であり、ｍ６は０～５００の整数である。

　式（Ａ６）中、Ｒ^３４及びＲ^３６は、それぞれ式（Ａ５）中のＲ^３１及びＲ^３３に対応する。Ｒ^３１が水素原子を含む場合、Ｒ^３４はＲ^３１に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^３１が水素原子を含まない場合、Ｒ^３４はＲ^３１と同じである。Ｒ^３３が水素原子を含む場合、Ｒ^３６はＲ^３３に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^３３が水素原子を含まない場合、Ｒ^３６はＲ^３４と同じである。

　式（Ａ６）中、－（Ｒ^３５Ｏ）_ｍ６－は、式（Ａ５）中の－（Ｒ^３２Ｏ）_ｍ５－に対応する。Ｒ^３２が水素原子を含む場合、Ｒ^３５は、Ｒ^３２に含まれる全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^３２が水素原子を含まない場合、Ｒ^３５は、Ｒ^３２と同じである。

　式（Ａ６）中、Ｒ^３４及びＲ^３６としては、それぞれ独立に、式（Ａ５）中のＲ^３１及びＲ^３３と同様のものが挙げられる。
　式（Ａ６）中、－（Ｒ^３５Ｏ）_ｍ６－としては、式（Ａ５）中の－（Ｒ^３２Ｏ）_ｍ５－と同様のものが挙げられる。

　Ｒ^ＡＦ２の具体例として、例えば、以下の構造が挙げられる。＊は、－Ｏ－との結合部位を表し、ｎ２は０～５００の整数を表す。

〔Ｒ^ＢＦ２及びＲ^ＢＦ３〕
　式（７）中、Ｒ^ＢＦ２及びＲ^ＢＦ３は、それぞれ、Ｒ^Ｂ２及びＲ^Ｂ３に対応する基である。
　Ｒ^Ｂ２が水素原子を含む場合には、Ｒ^ＢＦ２は、Ｒ^Ｂ２に存在する全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^Ｂ２が水素原子を含まない場合には、Ｒ^ＢＦ２は、Ｒ^Ｂ２と同一の基である。
　Ｒ^Ｂ３が水素原子を含む場合には、Ｒ^ＢＦ３は、Ｒ^Ｂ３に存在する全ての水素原子がフッ素原子に置換された基である。Ｒ^Ｂ３が水素原子を含まない場合には、Ｒ^ＢＦ３は、Ｒ^Ｂ３と同一の基である。

　Ｒ^ＢＦ２又はＲ^ＢＦ３で表される基は、式（６）中のＲ^ＢＦ１で表される基と同様の基が挙げられる。

　含フッ素エステル化合物の数平均分子量は、特に限定されるものではなく、例えば１００～１０１，０００が挙げられ、溶媒への溶解性に優れる観点から、１００～２１，０００が好ましく、３００～１１，０００がより好ましく、４００～７，０００がさらに好ましい。
　上記含フッ素エステル化合物の数平均分子量は、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲによって特定された分子構造から算出される各分子の分子量の数平均値である。

［組成物］
　本開示の一実施形態に係る組成物は、フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物と、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種と、を含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記水酸基を有する化合物の含有量が０．５質量部以下であり、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量が２．０質量部以下であり、前記フッ化ナトリウムの含有量が２．０質量部以下である。
　上記組成物は、例えば、前述の含フッ素エステル化合物の製造方法に用いる。それにより、組成物中に含まれるエステル化合物がフッ素化し含フッ素エステル化合物が得られる。
　上記組成物が液体である場合、前述の含フッ素エステル化合物の製造方法においてフッ素化を行う液体として、上記組成物をそのまま用いてもよい。また、必要に応じて上記組成物に溶媒等を添加したものを、前述の含フッ素エステル化合物の製造方法においてフッ素化を行う液体として用いてもよい。

　上記組成物は、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びＮａＦからなる群より選択される少なくとも一種を含有し、かつ、ＯＨ化合物量が０．５質量部以下、カルボン酸量が２．０質量部以下、かつ、ＮａＦ量が２．０質量部以下である。
　そのため、上記組成物を前述の含フッ素エステル化合物の製造方法に用い、組成物中のエステル化合物をフッ素化反応すると、目的物である含フッ素エステル化合物を高い収率で得られる。

　本開示の一実施形態においては、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量からなる群より選択される少なくとも１つが、０．０１質量部以上が好ましい。それにより、組成物を前述の含フッ素エステル化合物の製造方法に用いたときに、目的物である含フッ素エステル化合物を高い収率で得られる。
　ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量の一部が０．０１質量部以上であってもよく、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、及びＮａＦ量のすべてが０．０１質量部以上であってもよい。

　本開示の一実施形態においては、エステル化合物が、エーテル結合を有するエステル化合物を含んでもよい。
　エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含む場合、前記組成物は、フッ化水素をさらに含有し、液体中に含有されるエステル化合物１００質量部に対し、前記フッ化水素の含有量が３．０質量部以下が好ましい。

　つまり、組成物がエーテル結合を有するエステル化合物を含む場合、前記組成物は、ＨＦをさらに含有し、かつ、ＨＦ量が３．０質量部以下が好ましい。それにより、組成物を前述の含フッ素エステル化合物の製造方法に用いたときに、目的物である含フッ素エステル化合物を高い収率で得られる。

　組成物がエーテル結合を有するエステル化合物を含む場合、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、ＮａＦ量、及びＨＦ量からなる群より選択される少なくとも１つが、０．０１質量部以上が好ましい。それにより、組成物を前述の含フッ素エステル化合物の製造方法に用いたときに、目的物である含フッ素エステル化合物を高い収率で得られる。
　ＯＨ化合物量、カルボン酸量、ＮａＦ量、及びＨＦ量の一部が０．０１質量部以上であってもよく、ＯＨ化合物量、カルボン酸量、ＮａＦ量、及びＨＦ量のすべてが０．０１質量部以上であってもよい。

　ＯＨ化合物量は、０．０１～０．５質量部が好ましい。
　カルボン酸量は、０．０１～２．０質量部が好ましく、０．０１～１．７質量部がより好ましく、０．０１～１．５質量部がさらに好ましい。
　ＮａＦ量は、０．０１～２．０質量部が好ましく、０．０１～１．５質量部がより好ましく、０．０１～１．２質量部がさらに好ましい。
　ＨＦ量は、０．０１～３．０質量部が好ましく、０．０１～２．８質量部がより好ましい。
　組成物は、必要に応じて溶媒、その他添加剤等をさらに含有してもよい。

　上記エステル化合物、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、溶媒、及びその他添加剤の詳細は、前述の含フッ素エステル化合物の製造方法におけるエステル化合物、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、溶媒、及びその他添加剤と同様である。

　組成物は、エステル化合物と、ＯＨ化合物、カルボン酸化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種と、を含有し、エステル化合物が下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含み、ＯＨ化合物が下記式（３）で表される化合物及び下記式（４）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含み、カルボン酸化合物が下記式（５）で表される化合物を含むことが好ましい。
　Ｒ^Ａ１－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ１　…（１）
　Ｒ^Ｂ２－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ^Ａ２－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ３　…（２）
　Ｒ^Ａ３－ＯＨ　…（３）
　ＨＯ－Ｒ^Ａ４－ＯＨ　…（４）
　Ｒ^Ｂ４－（Ｃ＝Ｏ）－ＯＨ　…（５）
　式（１）～（５）中、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ｂ２、Ｒ^Ｂ３、及びＲ^Ｂ４はそれぞれ独立に、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ４はそれぞれ独立に、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。

　また、式（３）中のＲ^Ａ３は式（１）中のＲ^Ａ１と同じであり、式（４）中のＲ^Ａ４は式（２）中のＲ^Ａ２と同じであり、式（５）中のＲ^Ｂ４は式（１）中のＲ^Ｂ１又は式（２）中のＲ^Ｂ２と同じであることが好ましい。

　以下、本開示を実施例によりさらに具体的に説明するが、本開示はその主旨を超えない限り、以下の実施例に限定されるものではない。例１－２、４、６～１１、１２－２、１６～２０、２２－２、２３－２、２４－２、２５－２、及び２６－２は実施例であり、例２、３、５、１３～１５、及び２１は比較例である。

　^１９Ｆ－ＮＭＲの定量には、内部標準試料としてペルフルオロベンゼンを用いた。
　以下、テトラメチルシランをＴＭＳ、１，１，１，２，２，３，３，４，４，５，５，６，６－トリデカフルオロヘキサンをＡＣ－２０００と記す。ＡＣ－２０００はＡＧＣ社製を用いた。
　また、ＮＭＲデータは、みかけの化学シフト範囲として示した。

＜例１－１＞
　フラスコに５０．１ｇの下記アルコール１及び１．３４ｇのＮａＦを添加した。ＮａＦとしては、平均一次粒子径５μｍのもの（関東化学製、鹿特級３７１７４－００）を使用した。そこへ、ＡＣ－２０００を２５．０ｇ、下記（ＨＦＰＯ）_２を２１．１ｇ追加し、混合した。混合後、密閉し、５０℃で１０時間、加熱撹拌を実施した。１０時間の加熱撹拌の後、放冷し、シリカゲル（Ｄ７５－６０Ａ（Ｎ）、ＡＧＣエスアイテック社製）でろ過することでＮａＦを除去した。その後、（ＨＦＰＯ）_２及びＡＣ－２０００を減圧留去により除去した。

　アルコール１：ＣＨ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２Ｏ）_１３ＣＦ_２ＣＨＦＯ（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＯＨ（分子量：３，９２４）
　（ＨＦＰＯ）_２：２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２，３，３，３－へプタフルオロプロポキシ）－プロパノイルフルオライド（化学式：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦ、富士フイルム和光純薬株式会社製、品番：ＱＣ－２７８８）

　シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、エステル化合物を５３．９ｇ（収率９９．９％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲ分析の結果、得られた化合物は下記化合物１－１であることを確認した。また、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲから、上記アルコール１及び下記カルボン酸１が非検出であること、Ｆイオン濃度測定でＨＦ及びＮａＦが非検出であることを確認した。

　化合物１－１：ＣＨ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＨＦＯ（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＨＦＯ（ＣＦ_２）_３ＣＨ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．７（３Ｈ）、４．７（３２Ｈ）、５．２（２Ｈ）、　６．７－６．９（８Ｈ）
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７９．０（１Ｆ）、－８１．１（３Ｆ）、－８１．９（３Ｆ）、－８３．７～－８５．０（２８Ｆ）、－８６．０（１Ｆ）、－８９．０～－９２．０（２８Ｆ）、－１１９．８（２Ｆ）、－１２０．２（２６Ｆ）、－１２６．６（２８Ｆ）、－１２９．３（２Ｆ）、－１３１．５（１Ｆ）、－１４５．０（１４Ｆ）　単位数ｎの平均値：１３
　カルボン酸１：２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（１，１，２，２，３，３，３－ヘプタフルオロプロポキシ）－プロピオン酸（化学式：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＨ）

＜例１－２＞
　オートクレーブ（ニッケル製、内容積５００ｍＬ）を用意し、オートクレーブのガス出口に、０℃に保持した冷却器、ＮａＦペレット充填層、及び－１０℃に保持した冷却器を直列に設置した。また、－１０℃に保持した冷却器から凝集した液をオートクレーブに戻す液体返送ラインを設置した。最終的な出口ガスラインには、ＫＯＨ水溶液を設置した。
　以上のようにして、フッ素化反応装置を準備した。

　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３０２ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、窒素ガスで３０体積％に希釈したフッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。以下、窒素ガスで３０体積％に希釈したフッ素ガスを「３０％フッ素ガス」ともいう。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０４ｇのアルコール１、０．１２ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、下記化合物１－２を９．８５ｇ（収率９９．５％）回収した。

　化合物１－２：ＣＦ_３Ｏ（ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）_ｎＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５５．２（３Ｆ）、－８０．０（１Ｆ）、－８２．０～－８２．５（６Ｆ）、－８４．１（５４Ｆ）、－８６．７～－８７．８（３Ｆ）、－８９．３（５４Ｆ）、－９１．３（２Ｆ）、－１２６．５（５６Ｆ）、－１３０．４（２Ｆ）、－１３２．４（１Ｆ）　単位数ｎの平均値：１３

＜例２＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３０１ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．５ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０９ｇのアルコール１、０．１３ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を７．０３ｇ（収率７０．２％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例３＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０４ｇのアルコール１、０．１８ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を７．０１ｇ（収率７０．８％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例４＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０４ｇのアルコール１、０．１２ｇのカルボン酸１、０．２７ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を７．１３ｇ（収率７２．０％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例５＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３０１ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．５ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０５ｇのアルコール１、０．１３ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．１８ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を７．１２ｇ（収率７１．１％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例６＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．５ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．００１ｇのアルコール１、０．１３ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を９．９３ｇ（収率９９．１％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例７＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３０１ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１－１で得た化合物１－１及び０．００１ｇのアルコール１を８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を９．８０ｇ（収率９９．０％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例８＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．５ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０４ｇのアルコール１、０．００１ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を９．９１ｇ（収率９８．９％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例９＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．５ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０４ｇのアルコール１、０．１３ｇのカルボン酸１、０．００１ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

＜例１０＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１－１で得た化合物１－１、０．０４ｇのアルコール１、０．１２ｇのカルボン酸１、及び０．２２ｇのＨＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を９．８１ｇ（収率９９．１％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例１１＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１－１で得た化合物１－１及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、５．３時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１－２を９．７９ｇ（収率９８．９％）回収した。
　得られた化合物１－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１－２と同じであった。

＜例１２－１＞
　フラスコに５０．２ｇの下記アルコール２及び１００．９ｇのＮａＦを添加した。ＮａＦとしては、平均一次粒子径５μｍのもの（関東化学製、鹿特級３７１７４－００）を使用した。そこへ、ＡＣ－２０００を２５．２ｇ、前記（ＨＦＰＯ）_２を７９８．１ｇ追加し、混合した。混合後、密閉し、５０℃で１０時間、加熱撹拌を実施した。１０時間の加熱撹拌の後、放冷し、ろ過することでＮａＦを除去した。その後、（ＨＦＰＯ）_２及びＡＣ－２０００を減圧留去により除去した。
　アルコール２：１，５－ペンタンジオール（製品コード：Ｐ００５０、分子量：１０４）

　シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、エステル化合物を３４９．６５ｇ（収率９９．９％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲ分析の結果、得られた化合物は下記化合物１２－１であることを確認した。また、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲから、上記アルコール２及び前記カルボン酸１が非検出であること、Ｆイオン濃度測定でＨＦ及びＮａＦが非検出であることを確認した。

化合物１２－１：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．６（４Ｈ）、１．９（２Ｈ）、４．１（４Ｈ）
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８１．７（６Ｆ）、－８２．０（６Ｆ）、－８５．６（４Ｆ）、－１３０．０（４Ｆ）、－１３１．８（２Ｆ）

＜例１２－２＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．３ｇの例１２－１で得た化合物１２－１、０．０４ｇのアルコール２、０．１２ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、下記化合物１２－２を１０．１５ｇ（収率９８．０％）回収した。

　化合物１２－２：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８１．７（６Ｆ）、－８２．０（６Ｆ）、－８５．６（４Ｆ）、－９２．８（４Ｆ）、－１２２．０（４Ｆ）、－１２２．６（２Ｆ）、－１３０．０（４Ｆ）、－１３１．８（２Ｆ）

＜例１３＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１２－１で得た化合物１２－１、０．０９ｇのアルコール２、０．１３ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を７．４４ｇ（収率７１．０％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例１４＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１２－１で得た化合物１２－１、０．０５ｇのアルコール２、０．１８ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を７．４２ｇ（収率７０．８％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例１５＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．５ｇの例１２－１で得た化合物１２－１、０．０５ｇのアルコール２、０．１３ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．１８ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を７．５８ｇ（収率７１．５％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例１６＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．３ｇの例１２－１で得た化合物１２－１、０．００１ｇのアルコール２、０．１２ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を１０．１６ｇ（収率９８．１％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例１７＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１２－１で得た化合物１２－１及び０．００１ｇのアルコール２を８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を１０．２９ｇ（収率９８．２％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例１８＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１２－１で得た化合物１２－１、０．０４ｇのアルコール２、０．００１ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を１０．２８ｇ（収率９８．１％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例１９＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例１２－１で得た化合物１２－１、０．０４ｇのアルコール２、０．１２ｇのカルボン酸１、及び０．２２ｇのＨＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を１０．３１ｇ（収率９８．４％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例２０＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．５ｇの例１２－１で得た化合物１２－１及び０．０９ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、前記化合物１２－２を１０．４２ｇ（収率９８．３％）回収した。
　得られた化合物１２－２の構造及び^１９Ｆ－ＮＭＲデータは、例１２－２と同じであった。

＜例２１＞
　国際公開第２０００－０５６６９４号の実施例の例２に記載の方法にしたがって、下記化合物２１を収率６９．０％で回収した。
　化合物２１：ＣＦ_３（ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２Ｏ）ＣＦＣＯＯＣＦ_２ＣＦ（ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３）ＣＦ_３

＜例２２－１＞
　フラスコに５０．２ｇの前記アルコール２及び１００．９ｇのＮａＦを添加した。ＮａＦとしては、平均１次粒子径５μｍのもの（関東化学製、鹿特級３７１７４－００）を使用した。そこへ、ＡＣ－２０００を２５．２ｇ、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＯＦを４５７ｇ追加し、混合した。混合後、密閉し、５０℃で１０時間、加熱撹拌を実施した。１０時間の加熱撹拌の後、放冷し、ろ過することでＮａＦを除去した。その後、（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＯＦ及びＡＣ－２０００を減圧留去により除去した。

　シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、エステル化合物を２３７．５９ｇ（収率９６．９％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲ分析の結果、得られた化合物は下記化合物２２－１であることを確認した。また、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲから、上記アルコール２及び下記カルボン酸２が非検出であること、Ｆイオン濃度測定でＨＦ及びＮａＦが非検出であることを確認した。

　化合物２２－１：（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）_２
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．４２～１．５３（２Ｈ）、１．７０～１．８４（４Ｈ）、４．２０～５．２０（４Ｈ）
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７４．３（１２Ｆ）、－８１．９（２Ｆ）
　カルボン酸２：２，３，３，３－テトラフルオロ－２－（トリフルオロメチル）－プロピオン酸（化学式：（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＯＯＨ）

＜例２２－２＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．３ｇの例２２－１で得た化合物２２－１、０．０４ｇのアルコール２、０．１２ｇのカルボン酸２、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．１ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、^１Ｈ－ＮＭＲから原料のＨピークが消失していること（転化率＞９９．９％）を確認し、下記化合物２２－２を１１．３２ｇ（収率９８．９％）回収した。

　化合物２２－２：（ＣＦ_３）_２ＣＦＣＯＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）_２
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－７４．３（１２Ｆ）、－８６．１（４Ｆ）、－１２２．６（２Ｆ）、－１２５．７（４Ｆ）、－１８１．９（２Ｆ）

＜例２３－１＞
　フラスコに５０．１ｇの下記アルコール３及び８８．９ｇのＮａＦを添加した。ＮａＦとしては、平均１次粒子径５μｍのもの（関東化学製、鹿特級３７１７４－００）を使用した。そこへ、ＡＣ－２０００を２５．２ｇ、下記（ＨＦＰＯ）_３を１０５５ｇ追加し、混合した。混合後、密閉し、５０℃で１０時間、加熱撹拌を実施した。１０時間の加熱撹拌の後、放冷し、ろ過することでＮａＦを除去した。その後、（ＨＦＰＯ）_３及びＡＣ－２０００を減圧留去により除去した。

　アルコール３：１，６－ヘキサンジオール（製品コード：Ｈ００９９、分子量：１１８）
　（ＨＦＰＯ）_３：２，３，３，３－テトラフルオロ－２－［１，１，２，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－（１，１，２，２，３，３，３－へプタフルオロプロポキシ）プロポキシ］－プロパノイルフルオライド（化学式：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＦ、東京化成工業製、品番：Ｂ１６９８）

　シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、エステル化合物を４４５．９８ｇ（収率９８．０％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲ分析の結果、得られた化合物は下記化合物２３－１であることを確認した。また、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲから、上記アルコール３及び下記カルボン酸３が非検出であること、Ｆイオン濃度測定でＨＦ及びＮａＦが非検出であることを確認した。

　化合物２３－１：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．２７（４Ｈ）、１．６７（４Ｈ）、４．２０（４Ｈ）
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８０．８（６Ｆ）、－８１．７（１４Ｆ）、－８２．０（６Ｆ）、－１２９．７（４Ｆ）、－１３１．８（２Ｆ）、－１４５．２（２Ｆ）
　カルボン酸３：２，３，３，３－テトラフルオロ－２－［１，１，２，３，３，３－ヘキサフルオロ－２－（１，１，２，２，３，３，３－へプタフルオロプロポキシ）プロポキシ］－プロピオン酸（化学式：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＨ）

＜例２３－２＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例２３－１で得た化合物２３－１、０．０４ｇの前記アルコール３、０．１２ｇの前記カルボン酸３、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、^１Ｈ－ＮＭＲから原料のＨピークが消失していること（転化率＞９９．９％）を確認し、下記化合物２３－２を９．９５ｇ（収率９８．６％）回収した。

　化合物２３－２：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＦ_２ＯＣＦ（ＣＦ_３）ＣＯＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８０．８（６Ｆ）、－８１．７（１４Ｆ）、－８２．０（６Ｆ）、－１２２．０（４Ｆ）、－１２５．３（４Ｆ）、－１２９．７（４Ｆ）、－１３１．８（２Ｆ）、－１４５．２（２Ｆ）

＜例２４－１＞
　フラスコに５０．０ｇの下記アルコール４及び７８．４ｇのＮａＦを添加した。ＮａＦとしては、平均１次粒子径５μｍのもの（関東化学製、鹿特級３７１７４－００）を使用した。そこへ、ＡＣ－２０００を２５．１ｇ、前記（ＨＦＰＯ）_３を９２９ｇ追加し、混合した。混合後、密閉し、５０℃で１０時間、加熱撹拌を実施した。１０時間の加熱撹拌の後、放冷し、ろ過することでＮａＦを除去した。その後、（ＨＦＰＯ）_３及びＡＣ－２０００を減圧留去により除去した。
　アルコール４：ジエチレングリコールモノエチルエーテル（化学式：ＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＨ、製品コード：Ｅ００４８、分子量：１３４）

　シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、エステル化合物を２２４．７ｇ（収率９８．４％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲ分析の結果、得られた化合物は下記化合物２４－１であることを確認した。また、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲから、上記アルコール４及び前記カルボン酸３が非検出であること、Ｆイオン濃度測定でＨＦ，ＮａＦが非検出であることを確認した。

　化合物２４－１：ＣＨ_３ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：１．２０（３Ｈ）、３．５３（２Ｈ）、３．６２（４Ｈ）、３．７１（２Ｈ）、４．５５（２Ｈ）
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８０．８（３Ｆ）、－８１．７（７Ｆ）、－８２．０（３Ｆ）、－１２９．７（２Ｆ）、－１３１．８（１Ｆ）、－１４５．２（１Ｆ）

＜例２４－２＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例２４－１で得た化合物２４－１、０．０４ｇのアルコール４、０．１２ｇのカルボン酸３、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、^１Ｈ－ＮＭＲから原料のＨピークが消失していること（転化率＞９９．９％）を確認し、化合物２４－２を１１．４８ｇ（収率９８．９％）回収した。

　化合物２４－２：ＣＦ_３ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８０．８（３Ｆ）、－８１．７（７Ｆ）、－８２．０（３Ｆ）、－８６．３（２Ｆ）、－８９．６（３Ｆ）、－９１．６（６Ｆ）、－９２．２（２Ｆ）、－１２９．７（２Ｆ）、－１３１．８（１Ｆ）、－１４５．２（１Ｆ）

＜例２５－１＞
　フラスコに５０．０ｇの下記アルコール５及び３０．９ｇのＮａＦを添加した。ＮａＦとしては、平均１次粒子径５μｍのもの（関東化学製、鹿特級３７１７４－００）を使用した。そこへ、ＡＣ－２０００を２５．２ｇ、前記（ＨＦＰＯ）_２を２４４．１ｇ追加し、混合した。混合後、密閉し、５０℃で１０時間、加熱撹拌を実施した。１０時間の加熱撹拌の後、放冷し、ろ過することでＮａＦを除去した。その後、（ＨＦＰＯ）_２及びＡＣ－２０００を減圧留去により除去した。
　アルコール５：ポリオキシエチレン－モノメチルエーテル（化学式：ＣＨ_３－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－Ｈ、ｎ＝７、商品名：ユニオックスＭ－４００、日油社製、分子量：３４０）

　シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、エステル化合物を９４．９４ｇ（収率９９．０％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲ分析の結果、得られた化合物は下記化合物２５－１であることを確認した。また、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲから、上記アルコール５及び前記カルボン酸１が非検出であること、Ｆイオン濃度測定でＨＦ及びＮａＦが非検出であることを確認した。

　化合物２５－１：ＣＨ_３－Ｏ－（Ｃ_２Ｈ_４Ｏ）_ｎ－ＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：３．４（３Ｈ）、３．５（２Ｈ）、３．７（２４Ｈ）、４．９（２Ｈ）　単位数ｎの平均値：７．０
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８１．７（３Ｆ）、－８２．０（３Ｆ）、－８５．６（２Ｆ）、－１３０．０（２Ｆ）、－１３１．８（１Ｆ）

＜例２５－２＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例２５－１で得た化合物２５－１、０．０４ｇのアルコール５、０．１２ｇのカルボン酸１、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、^１Ｈ－ＮＭＲから原料のＨピークが消失していること（転化率＞９９．９％）を確認し、下記化合物２５－２を１４．９８ｇ（収率９６．１％）回収した。

　化合物２５－２：ＣＦ_３－Ｏ－（Ｃ_２Ｆ_４Ｏ）_ｎ－ＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－５９．１（３Ｆ）、－８１．７（３Ｆ）、－８２．０（３Ｆ）、－８５．６（２Ｆ）、－８６．３（２Ｆ）、－８９．８～－９１．６（２２Ｆ）、－９２．２（２Ｆ）、－９３．７（２Ｆ）、－１３０．０（２Ｆ）、－１３１．８（１Ｆ）

＜例２６－１＞
　フラスコに５０．０ｇの下記アルコール６及び１７５ｇのＮａＦを添加した。ＮａＦとしては、平均１次粒子径５μｍのもの（関東化学製、鹿特級３７１７４－００）を使用した。そこへ、ＡＣ－２０００を２５．２ｇ、前記（ＨＦＰＯ）_３を２０７５ｇ追加し、混合した。混合後、密閉し、５０℃で１０時間、加熱撹拌を実施した。１０時間の加熱撹拌の後、放冷し、ろ過することでＮａＦを除去した。その後、（ＨＦＰＯ）_３及びＡＣ－２０００を減圧留去により除去した。
　アルコール６：１－プロパノール（製品コード：Ｐ０４９１、分子量：６０）

　シリカゲルクロマトグラフィ（展開溶媒：ＡＣ－２０００）で高極性の不純物を除去し、エステル化合物を４３９．４ｇ（収率９８．０％）得た。
　^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲ分析の結果、得られた化合物は下記化合物２６－１であることを確認した。また、^１Ｈ－ＮＭＲ及び^１９Ｆ－ＮＭＲから、上記アルコール６及びカルボン酸３が非検出であること、Ｆイオン濃度測定でＨＦ及びＮａＦが非検出であることを確認した。

　化合物２６－１：ＣＨ_３ＣＨ_２ＣＨ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１Ｈ－ＮＭＲ（３００．４ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＴＭＳ）　δ（ｐｐｍ）：０．９５（３Ｈ）、１．７３（２Ｈ）、４．２６（２Ｈ）
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８０．８（３Ｆ）、－８１．７（７Ｆ）、－８２．０（３Ｆ）、－１２９．７（２Ｆ）、－１３１．８（１Ｆ）、－１４５．２（１Ｆ）

＜例２６－２＞
　例１－２と同様にして、フッ素化反応装置を準備した。
　フッ素化反応装置のオートクレーブにＣＦＥ－４１９を３００ｇ投入し、２０℃に保持しながら撹拌した。オートクレーブに窒素ガスを２０℃で１時間吹き込んだ後、３０％フッ素ガスを２０℃、流速２．０Ｌ／時間で１時間吹き込んだ。
　次いで、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、オートクレーブに８．４ｇの例２６－１で得た化合物２６－１、０．０４ｇのアルコール６、０．１２ｇのカルボン酸３、０．２２ｇのＨＦ、及び０．０９ｇのＮａＦを８４．０ｇのＣＦＥ－４１９に溶解した溶液を、３．１時間かけて注入した。

　次いで、オートクレーブ内に、ＣＦＥ－４１９中に０．０１５ｇ／ｍＬのベンゼンを含むベンゼン溶液９ｍＬを注入し、オートクレーブのベンゼン溶液注入口を閉めた。さらに、３０％フッ素ガスを同じ流速で吹き込みながら、１時間撹拌を続けた。次いで、窒素ガスを１時間吹き込んだ。
　オートクレーブの内容物をエバポレータで濃縮後、^１Ｈ－ＮＭＲから原料のＨピークが消失していること（転化率＞９９．９％）を確認し、下記化合物２６－２を１０．００ｇ（収率９６．５％）回収した。

　化合物２６－２：ＣＦ_３ＣＦ_２ＣＦ_２ＯＣＯＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ（ＣＦ_３）ＯＣＦ_２ＣＦ_２ＣＦ_３
　^１９Ｆ－ＮＭＲ（２８２．７ＭＨｚ、溶媒ＣＤＣｌ_３、基準ＣＦＣｌ_３）　δ（ｐｐｍ）：－８０．８（３Ｆ）、－８１．７（７Ｆ）、－８２．０（６Ｆ）、－９２．８（２Ｆ）、－１２９．７（２Ｆ）、－－１３０．０（２Ｆ）、－１３１．８（１Ｆ）、－１４５．２（１Ｆ）

　例１～２６におけるＯＨ化合物量、カルボン酸量、ＨＦ量、ＮａＦ量、及び目的物である含フッ素エステル化合物の収率を下記表に示す。また、例１～２６におけるフッ素化反応の原料であるエステル化合物のエーテル結合の有無を併せて表に示す。

　表１～３に示されるように、実施例では比較例に比べて、高い収率で目的物である含フッ素エステル化合物が得られている。

　本開示の含フッ素エステル化合物の製造方法は、従来よりも高い収率で含フッ素エステル化合物を製造できる。得られた含フッ素エステル化合物は、種々の官能基（例えば、水酸基、エチレン性不飽和基、エポキシ基、カルボキシ基等）を有する含フッ素化合物に誘導できる。また、得られた含フッ素エステル化合物及び含フッ素化合物は、表面処理剤、乳化剤、ゴム、界面活性剤、溶媒、熱媒体、医薬品、農薬、潤滑油、これらの中間体等に利用可能である。

　２０２２年１１月２１日に出願された日本国特許出願２０２２－１８５９８０号の開示は、その全体が参照により本明細書に取り込まれる。本明細書に記載された全ての文献、特許出願、及び技術規格は、個々の文献、特許出願、及び技術規格が参照により取り込まれることが具体的かつ個々に記された場合と同程度に、本明細書中に参照により取り込まれる。

Claims

　フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物を含有する液体中において前記エステル化合物をフッ素化することを含み、
　前記液体は、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記水酸基を有する化合物の含有量が０．５質量部以下であり、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量が２．０質量部以下であり、前記フッ化ナトリウムの含有量が２．０質量部以下である、含フッ素エステル化合物の製造方法。
　前記エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含み、
　前記液体は、フッ化水素をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記フッ化水素の含有量が３．０質量部以下である、請求項１に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、及び前記フッ化ナトリウムの含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、請求項１に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、前記フッ化ナトリウムの含有量、及び前記フッ化水素の含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、請求項２に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　前記エステル化合物は、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項１～４のいずれか１項に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　Ｒ^Ａ１－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ１　…（１）
　Ｒ^Ｂ２－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ^Ａ２－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ３　…（２）
　式（１）及び（２）中、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ｂ２、及びＲ^Ｂ３はそれぞれ独立に、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ２は、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。
　前記水酸基を有する化合物は、下記式（３）で表される化合物及び下記式（４）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含む、請求項５に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　Ｒ^Ａ３－ＯＨ　…（３）
　ＨＯ－Ｒ^Ａ４－ＯＨ　…（４）
　式（３）及び（４）中、
　Ｒ^Ａ３は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ４は、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。
　前記式（３）中のＲ^Ａ３は前記式（１）中のＲ^Ａ１と同じであり、前記式（４）中のＲ^Ａ４は前記式（２）中のＲ^Ａ２と同じである、請求項６に記載の含フッ素エステル化合物
の製造方法。
　前記カルボキシ基を有する化合物は、下記式（５）で表される化合物を含む、請求項５に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　Ｒ^Ｂ４－（Ｃ＝Ｏ）－ＯＨ　…（５）
　式（５）中、
　Ｒ^Ｂ４は、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基である。
　前記式（５）中のＲ^Ｂ４は前記式（１）中のＲ^Ｂ１又は前記式（２）中のＲ^Ｂ２と同じである、請求項８に記載の含フッ素エステル化合物の製造方法。
　フッ素化可能な原子を少なくとも１つ有するエステル化合物と、水酸基を有する化合物、カルボキシ基を有する化合物、及びフッ化ナトリウムからなる群より選択される少なくとも一種と、を含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記水酸基を有する化合物の含有量が０．５質量部以下であり、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量が２．０質量部以下であり、前記フッ化ナトリウムの含有量が２．０質量部以下である、組成物。
　前記エステル化合物がエーテル結合を有するエステル化合物を含み、前記組成物がフッ化水素をさらに含有し、前記エステル化合物１００質量部に対し、前記フッ化水素の含有量が３．０質量部以下である、請求項１０に記載の組成物。
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、及び前記フッ化ナトリウムの含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、請求項１０に記載の組成物。
　前記水酸基を有する化合物の含有量、前記カルボキシ基を有する化合物の含有量、前記フッ化ナトリウムの含有量、及び前記フッ化水素の含有量からなる群より選択される少なくとも１つが、前記エステル化合物１００質量部に対し０．０１質量部以上である、請求項１１に記載の組成物。
　前記エステル化合物は、下記式（１）で表される化合物及び下記式（２）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含み、
　前記水酸基を有する化合物は、下記式（３）で表される化合物及び下記式（４）で表される化合物からなる群より選択される少なくとも一種を含み、
　前記カルボキシ基を有する化合物は、下記式（５）で表される化合物を含む、
　請求項１０～１３のいずれか１項に記載の組成物。
　Ｒ^Ａ１－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ１　…（１）
　Ｒ^Ｂ２－（Ｃ＝Ｏ）－Ｏ－Ｒ^Ａ２－Ｏ－（Ｃ＝Ｏ）－Ｒ^Ｂ３　…（２）
　Ｒ^Ａ３－ＯＨ　…（３）
　ＨＯ－Ｒ^Ａ４－ＯＨ　…（４）
　Ｒ^Ｂ４－（Ｃ＝Ｏ）－ＯＨ　…（５）
　式（１）～（５）中、
　Ｒ^Ａ１、Ｒ^Ａ３、Ｒ^Ｂ１、Ｒ^Ｂ２、Ｒ^Ｂ３、及びＲ^Ｂ４はそれぞれ独立に、１価飽和炭化水素基、ハロゲノ１価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有１価飽和炭化水素）基であり、
　Ｒ^Ａ２及びＲ^Ａ４はそれぞれ独立に、２価飽和炭化水素基、ハロゲノ２価飽和炭化水素基、ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素基、又はハロゲノ（ヘテロ原子含有２価飽和炭化水素）基である。
　前記式（３）中のＲ^Ａ３は前記式（１）中のＲ^Ａ１と同じであり、前記式（４）中のＲ^Ａ４は前記式（２）中のＲ^Ａ２と同じであり、前記式（５）中のＲ^Ｂ４は前記式（１）中のＲ^Ｂ１又は前記式（２）中のＲ^Ｂ２と同じである、請求項１４に記載の組成物。