WO2023287015A1

WO2023287015A1 - 홀로그래픽 간섭 패턴 기록 장치 및 이를 이용한 기록 방법

Info

Publication number: WO2023287015A1
Application number: PCT/KR2022/007640
Authority: WO
Inventors: 송민수; 김성연; 유연재; 이준영
Original assignee: 주식회사 엘지화학
Priority date: 2021-07-15
Filing date: 2022-05-30
Publication date: 2023-01-19
Also published as: TW202305347A; EP4369111A1; CN117677904A; KR20230012411A

Abstract

[요약] 본 발명은 홀로그래픽 간섭 패턴 기록 장치 및 이를 이용한 기록 방법에 관한 것으로, 구체적으로 3차원 좌표계에서 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위해 광원과 감광재료를 정렬한 이후 다른 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위하여 상기 광원과 감광재료를 재정렬하는 과정을 단순화시킨 홀로그래픽 간섭 패턴 기록 장치 및 이를 이용한 기록 방법에 관한 것이다. [대표도] 도 2

Description

홀로그래픽 간섭 패턴 기록 장치 및 이를 이용한 기록 방법

본 발명은 2021년 07월 15일에 한국특허청에 제출된 한국 특허출원 제 10-2021-0092621호의 출원일의 이익을 주장하며, 그 내용 전부는 본 발명에 포함된다. 본 발명은 홀로그래픽 간섭 패턴 기록 장치 및 이를 이용한 기록 방법에 관한 것으로, 구체적으로 3차원 좌표계에서 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위해 광원과 감광재료를 정렬한 이후 다른 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위하여 상기 광원과 감광재료를 재정렬하는 과정을 단순화시킨 홀로그래픽 간섭 패턴 기록 장치 및 이를 이용한 기록 방법에 관한 것이다.

홀로그래픽 간섭 패턴을 감광재료에 기록하기 위해서는 일반적으로 상기 감광재료 상에 물체광 및 참조광을 조사하여 상기 물체광과 상기 참조광의 간섭현상에 의하여 구현되는 간섭패턴을 상기 감광재료에 기록하는 것이 일반적이다.

특정한 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위해서는 상기 물체광과 상기 참조광이 상기 감광재료에서 조사되는 조사각을 조절해야 하므로 상기 물체광, 상기 참조광 및 상기 감광재료를 특정한 위치에 정렬해야 하는 것이 필요하였다.

즉, 상기 감광재료가 장치에 적용되기 위해서는 특정한 형상을 가져야 하며, 상기 감광재료가 장치에 적용된 상태를 기준으로, 상기 감광재료에 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 것이 일반적이다. 그러나, 상기 특정한 형상을 갖는 감광재료가 장치에 적용된 상태를 기준으로 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 경우, 대부분 상기 물체광, 상기 참조광 및 상기 감광재료는 3차원 좌표계 상에서 위치시켜야 하고, 상기 각 구성을 3차원 좌표계 상에서 배치하는 것은 용이하기 않은 문제점이 있었다. 나아가, 감광재료에 기록된 홀로그래픽 간섭 패턴을 복제하는 과정에서도 상기 홀로그래픽 간섭 패턴에 의하여 재생광이 회절되는 회절광의 경로가 3차원 상에 구현되므로 이를 파악하기 용이하지 않을 뿐만 아니라 상기 경로를 파악하여 상기 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위한 상기 물체광 및 상기 참조광의 경로를 도출하는 것 역시 용이하지 않은 문제점이 있었다.

나아가, 상기 미세하게 변경된 홀로그래픽 간섭 패턴을 복제하기 위해서 상기 특정한 형상을 갖는 감광재료가 장치에 적용된 상태를 기준으로 상기 물체광, 상기 참조광 및 상기 감광재료의 3차원적인 배치를 변경해야 하므로 상기 물체광, 상기 참조광 및 상기 감광재료의 정렬에 시간이 과도하게 소요되는 문제점이 있었다.

따라서, 홀로그래픽 간섭 패턴을 변경하더라도 용이하게 상기 물체광, 상기 참조광 및 상기 감광재료의 정렬을 용이하게 구현할 수 있는 기술 개발이 시급한 실정이었다.

본 발명이 이루고자 하는 기술적 과제는 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료에 재생광을 조사하여 회절되는 회절광이 형성하는 광경로의 3차원적인 배치를 2차원적인 배치로 변경한 후 상기 재생광과 상기 회절광에 대응하는 참조광과 물체광의 배치를 도출함으로써, 상기 기록되는 홀로그래픽 간섭 패턴을 변경하더라도 용이하게 배치를 변경할 수 있는 홀로그래픽 간섭 패턴 기록 장치 및 이를 이용한 기록 방법을 제공하는 것이다.

다만, 본 발명이 해결하고자 하는 과제는 상기 언급한 과제로 제한되지 않으며, 언급되지 않은 또 다른 과제들은 하기의 기재로부터 당업자에게 명확하게 이해될 수 있을 것이다.

본 발명의 일 실시상태는 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플에 재생광을 미리 정해진 위치에서 조사하여, 재생광의 경로와 회절광의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계; 상기 감광재료 샘플을 회전시켜 상기 광경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계; 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광의 경로 및 물체광의 경로를 도출하는 단계; 및 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료를 구비하고, 상기 참조광의 경로 및 상기 물체광의 경로 각각의 소정의 위치에 참조광과 물체광을 구비하여 조사함으로써, 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 단계;를 포함하는 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법을 제공한다.

본 발명의 일 실시상태는 감광재료 샘플에 기록된 제1 홀로그래픽 간섭 패턴으로 구현된 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료를 고정하는 감광재료 고정부; 상기 감광재료에 참조광을 조사하는 참조광 조사부; 상기 감광재료에 물체광을 조사하는 물체광 조사부; 상기 감광재료 고정부, 상기 참조광 조사부 및 상기 물체광 조사부가 소정의 위치로 배치되어 고정되는 스테이지부; 및 상기 소정의 위치를 도출하는 연산부;를 포함하며, 상기 참조광과 상기 물체광의 간섭현상에 의하여 형성된 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 상기 감광재료에 기록하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치를 제공한다.

본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법은 기록하고자 하는 홀로그래픽 간섭 패턴 즉, 구현하고자 하는 광경로에 따른 물체광과 참조광의 배치를 2차원적으로 변환하여 상기 홀로그래픽 간섭 패턴을 변경하더라도 용이하게 상기 참조광, 상기 물체광 및 상기 감광재료 각각의 위치를 용이하게 변경할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치는 기록하고자 하는 홀로그래픽 간섭 패턴, 즉 구현하고자 하는 광경로를 변경하더라도 상기 참조광, 상기 물체광 및 상기 감광재료 각각의 위치를 용이하게 변경하여 기록 공정을 단순화할 수 있다.

본 발명의 효과는 상술한 효과로 한정되는 것은 아니며, 언급되지 아니한 효과들은 본원 명세서 및 첨부된 도면으로부터 당업자에게 명확히 이해될 수 있을 것이다.

도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법의 순서도이다.

도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법의 개략도이다.

도 3은 본 발명의 일 실시상태인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치의 평면도이다.

도 4는 본 발명의 일 실시상태인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치의 사시도이다.

[부호의 설명]

1: 감광재료 샘플

1`: 회전된 감광재료 샘플

3: 재생광

3`: 2차원 좌표계로 배치된 재생광

3s: 재생광의 시작점

5: 회절광

5`: 2차원 좌표계로 배치된 회절광

5t: 회절광의 마침점

θ:참조광과 물체광이 이루는 각도

ф: 재생광과 회절광이 이루는 각도

O: 원점

10: 감광재료

10`: 회전된 감광재료

30: 참조광

30s: 참조광의 시작점

50: 물체광

50s: 물체광의 시작점

50t: 물체광의 마침점

100: 감광재료 고정부

300: 참조광 조사부

500: 물체광 조사부

600: 연산부

700: 스테이지부

800: 제어부

900: 마커부

1000: 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치

본 발명은 첨부되는 도면과 함께 상세하게 후술되어 있는 실시예들을 참조하면 명확해질 것이다. 그러나 본 발명은 이하에서 개시되는 실시예들에 한정되는 것이 아니라 서로 다른 다양한 형태로 구현될 것이며, 단지 본 실시예들은 본 발명의 개시가 완전하도록 하며, 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에게 발명의 범주를 완전하게 알려주기 위해 제공되는 것이며, 본 발명은 청구항의 범주에 의해 정의될 뿐이다. 한편, 본 명세서에서 사용된 용어는 실시예들을 설명하기 위한 것이며 본 발명을 제한하고자 하는 것은 아니다.

본 명세서 전체에서, 단수형은 문구에서 특별히 언급하지 않는 한 복수형도 포함한다.

본 명세서 전체에서, 사용되는 "포함한다(comprises)" 및/또는 "포함하는(comprising)"은 언급된 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자는 하나 이상의 다른 구성요소, 단계, 동작 및/또는 소자의 존재 또는 추가를 배제하지 않으며, 이는 특별히 반대되는 기재가 없는 한 다른 구성요소를 제외하는 것이 아니라 다른 구성요소를 더 포함할 수 있음을 의미한다.

본원 명세서 전체에서, 어떤 부재가 다른 부재 "상에" 위치하고 있다고 할 때, 이는 어떤 부재가 다른 부재에 접해 있는 경우뿐 아니라 두 부재 사이에 또 다른 부재가 존재하는 경우도 포함한다.

본원 명세서 전체에서, "A 및/또는 B"는 "A 및 B, 또는 A 또는 B"를 의미한다.

본 명세서 전체에서, '홀로그래픽 격자 패턴'은 소정의 방향을 따라 고굴절부와 저굴절부가 서로 교번하여 배치되는 홀로그래픽 격자 패턴을 의미하며, 홀로그래픽 광학 소자에 도달하는 광은 회절되어 광경로가 변경될 수 있다. 이러한 홀로그래픽 격자 패턴은 포토폴리머(photopolymer)와 같은 감광 재료에 복수의 레이저가 간섭되어 기록될 수 있다. 홀로그래픽 광학 소자는 광가이드의 일면 또는 타면에 배치되어 광가이드 상에서 광을 회절시켜 광경로를 변경하기 위한 구조로 이해될 수 있다.

본 명세서 전체에서, 용어 “홀로그래픽 격자 패턴의 길이 방향”은 고굴절부와 저굴절부의 서로 교번하여 나열되는 방향과 수직한 방향으로 정의될 수 있다.

본 명세서 전체에서, “기록”은 감광재료 샘플에 기록된 홀로그래픽 간섭 패턴을 감광재료에 기록하여 복제하는 것을 포함하는 것일 수 있다.

본 명세서 전체에서, “광경로”는 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 광학소자에 재생광을 조사하는 경우, 상기 재생광;과 상기 재생광이 상기 홀로그래픽 간섭 패턴에 의하여 회절되는 회절광이 이루는 광경로를 의미하는 것일 수 있다.

이하, 본 발명에 대하여 더욱 상세하게 설명한다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 2차원 좌표계에 배치하는 단계는 상기 2차원 좌표계에서 상기 재생광이 상기 감광재료 샘플과 만나는 점을 원점으로 지정하는 것일 수 잇다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 단계는상기 감광재료 샘플이 회전된 배치와 동일하게 정렬되도록 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료를 구비하는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 연산부는 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플에 재생광을 미리 정해진 위치에서 조사하여, 재생광의 경로와 회절광의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계; 상기 감광재료 샘플을 회전시켜 상기 광경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계; 및 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로와 동일한 제2 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광의 경로 및 물체광의 경로를 도출하는 단계;를 수행하여 상기 소정의 위치를 도출하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치를 제공한다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광재료 고정부는 상기 감광재료 샘플이 회전된 배치와 동일하게 정렬되도록 상기 감광재료를 회전시키는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광재료 고정부, 상기 참조광 조사부 및 상기 물체광 조사부 각각에 연결되어 상기 소정의 위치에 배치되도록 이동시키는 제어부를 더 포함하는 것일 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 스테이지부는 상기 재생광 및 상기 회절광 각각의 경로가 표시된 마커부를 더 포함하는 것일 수 있다.

도 1은 본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법의 순서도이다. 상기 도 1을 참고하면, 본 발명의 일 실시상태는 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)을 미리 정해진 위치에서 조사하여, 재생광(3)의 경로와 회절광(5)의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계(S10); 상기 감광재료 샘플(1)을 회전시켜 상기 광경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30); 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로(3`, 5`)와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광(30)의 경로 및 물체광(50)의 경로를 도출하는 단계(S50); 및 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료(10)를 구비하고, 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로 각각의 소정의 위치에 참조광(30)과 물체광(50)을 구비하여 조사함으로써, 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 단계(S70);를 포함하는 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법을 제공한다.

본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법은 기록하고자 하는 홀로그래픽 간섭 패턴 즉, 구현하고자 하는 광경로에 따른 물체광(50)과 참조광(30)의 배치를 2차원적으로 변환하여 상기 홀로그래픽 간섭 패턴을 변경하더라도 용이하게 상기 참조광(30), 상기 물체광(50) 및 상기 감광재료(10) 각각의 위치를 용이하게 변경할 수 있다.

도 2는 본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법의 개략도이다. 상기 도 2를 참고하여 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법을 구체적으로 설명한다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법은 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)을 미리 정해진 위치(3s)에서 조사하여, 재생광(3)의 경로와 회절광(5)의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계(S10)를 포함한다. 구체적으로 상기 재생광(3)을 미리 정해진 위치인 상기 재생광의 시작점(3s)에 위치하여 상기 감광재료 샘플(1)에 조사하고, 상기 재생광(3)의 경로와 상기 감광재료 샘플(1)에 기록된 제1 홀로그래픽 간섭 패턴에 의하여 회절되는 회절광(5)의 경로를 확인한다. 상술한 것과 같이, 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)을 미리 정해진 위치에서 조사하여, 재생광(3)의 경로와 회절광(5)의 경로사 형성하는 광경로를 확인하는 단계(S10)를 포함함으로써 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위하여 대응되는 물체광(50) 경로과 참조광(30)의 경로를 확인할 수 있으며, 이를 통하여 상기 물체광의 시작점(50s) 및 상기 참조광의 시작점(30s)을 확인할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)은 곡면 형상 또는 평면 형상을 갖는 감광재료 샘플일 수 있다. 구체적으로, 형상이 상이하지만 동일한 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플에 대하여, 동일한 위치에서 재생광(3)을 조사하더라도 회절광(5)의 경로가 상이하게 구현된다. 따라서, 상기 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 경우 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)의 형상을 명확하게 특정하여 상기 재생광(3)의 경로 및 회절광(3)의 경로이 형성하는 광경로를 확인하는 것이 바람직하다. 상술한 것과 같이 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)을 곡면 형상 또는 평면 형상을 갖는 감광재료 샘플로 적용함으로써 기록하기 위하여 조사되는 참조광(30) 및 물체광(50)의 경로를 정확하게 도출할 수 있다.

본 명세서 전체에서, “곡면 형상”은 감광재료의 일면, 또는 감광재료의 일면 및 상기 일면의 반대되는 면인 타면을 포함하는 양면이 평평하지 않고 굽은 면을 갖는 것을 의미할 수 있다.

본 명세서 전체에서, “평면 형상”은 감광재료의 일면 및 상기 일면의 반대되는 면인 타면을 포함하는 양면이 평탄하고 무한하게 연장되는 면의 일부분을 의미할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 곡면 형상 또는 평면 형상을 갖는 감광재료일 수 있다. 즉, 상기 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 곡면 형상 또는 평면 형상을 갖는 감광재료일 수 있다. 구체적으로 상기 감광재료가 적용된 장치에 따라 상기 감광재료가 곡면 형상을 갖거나 평면 형성을 갖는 것이 필요하므로 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료가 적용될 장치에 따라 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료의 형상을 선택하는 것이 바람직하다. 상술한 것과 같이 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료의 형상을 곡면 형상 또는 평면 형상으로 구현함으로써, 적용하고자 하는 장치를 다양하게 확장할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플이 곡면 형상을 갖는 경우 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 곡면 형상을 갖는 것이며, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플이 평면 형상을 갖는 경우 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 평면 형상을 갖는 것일 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플의 형상과 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료의 형상을 동일한 것으로 구현함으로써, 상기 감광재료 샘플에서 제1 홀로그래픽 간섭 패턴에 의해 구현되는 광경로를 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료로 광경로를 구현할 수 있도록 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 용이하게 기록할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플이 곡면 형상을 갖는 경우 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 평면 형상을 갖는 것일 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플이 곡면 형상을 갖는 경우 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 평면 형상을 갖는 것으로 이용함으로써, 평면 형상의 감광재료에서 재생광을 조사하더라도 곡면 형상의 감광재료에서 회절되는 회절광을 구현할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플이 평면 형상을 갖는 경우 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 곡면 형상을 갖는 것일 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플이 평면 형상을 갖는 경우 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료는 곡면 형상을 갖는 것으로 이용함으로써, 곡면 형상의 감광재료에서 재생광을 조사하더라도 평면 형상의 감광재료에서 회절되는 회절광을 구현할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법은 상기 감광재료 샘플(1)을 회전시켜 상기 광경로(3`, 5`)를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30)를 포함한다. 즉, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법은 상기 감광재료 샘플(1)을 회전시켜 상기 재생광(3`)의 경로와 상기 회절광(5`)의 경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30)를 포함한다. 구체적으로 상기 재생광(3)의 경로와 상기 회절광(5)의 경로는 상기 감광재료 샘플(1)의 만나는 원점(O)을 형성하며, 상기 원점(O)과 상기 재생광(3)의 경로 및 상기 회절광(5)의 경로가 형성하는 평면을 2차원 좌표계인 평면 상에 배치하는 하는 단계(S30)를 포함한다. 상술한 것과 같이, 상기 감광재료 샘플(1)을 회전시켜 상기 광경로(3`, 5`)를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30)를 포함함으로써, 상기 3차원 좌표계인 공간 상에 배치된 상기 재생광(3)의 경로 및 상기 회절광(5)의 경로를 단순화시킬 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법은 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로(3`, 5`)와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광(30)의 경로 및 물체광(50)의 경로를 도출하는 단계(S50)를 포함한다.구체적으로 상기 3차원 좌표계인 공간 상에서 상기 재생광(3)의 경로와 상기 회절광(5)이 형성하는 광경로로부터 상기 참조광(30)의 경로와 물체광(50)의 경로를 도출하는 경우 각 배치를 정렬하는 데 복잡한 문제가 있으므로 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 재생광(3`)을 조사하는 경우 회절되는 상기 회절광(5`)을 확인하여 이에 대응하도록 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광(30)의 경로와 물체광(50)의 경로 각각을 도출하는 단계(S50)를 포함한다. 상술한 것과 같이 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 재생광(3`)의 경로와 상기 회절광(5`)의 경로로부터 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광(30)의 경로 및 물체광(50)의 경로를 도출하는 단계(S50)를 포함함으로써, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 변경되는 경우 상기 도출과정을 통하여 용이하게 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로를 변경할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법은 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료(10)를 구비하고, 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로 각각의 소정의 위치(30s, 50s)에 참조광(30)과 물체광(50)을 구비하여 조사함으로써 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 단계(S70)를 포함한다. 구체적으로 상기 제2 홀로그래픽 격자 패턴은 참조광(30) 및 물체광(50)을 조사하여 발생된 간섭현상에 의하여 형성된 간섭패턴이 기록된 것일 수 있다. 구체적으로 상기 감광재료에 참조광 및 물체광을 조사하고 상기 참조광과 상기 물체광의 간섭현상에 의하여 상쇄간섭 및 보강간섭이 구현됨으로써 상기 감광재료 내에서 보강간섭이 구현되는 부분은 감광재료가 더욱 광중합이 일어나고 상쇄간섭이 구현되는 부분은 감광재료가 보강간섭이 일어나는 부분보다 약하게 광중합이 구현됨으로써 상기 감광재료에서 밀도 차이가 발생한다. 상기 밀도 차이가 발생한 감광재료는 간섭현상에 의하여 구현되는 패턴을 형성하게 되며 이러한 패턴이 홀로그래픽 간섭 패턴에 해당한다. 상술한 것과 같이 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료(10)를 구비하고, 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로 각각의 소정의 위치에 참조광(30)과 물체광(50)을 구비하여 조사함으로써 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하고, 용이하게 홀로그래픽 간섭 패턴을 형성할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30)는 상기 2차원 좌표계에서 상기 재생광(3`)이 상기 감광재료 샘플(1`)과 만나는 점을 원점(O)으로 지정하는 것일 수 있다. 구체적으로 상기 재생광(3)이 조사되어 상기 감광재료 샘플(1)과 만나 회절되는 위치를 원점(O)으로 지정하고 상기 원점(O)을 상기 2차원 좌표계의 원점에 배치할 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 2차원 좌표계에서 상기 재생광(3`)이 상기 감광재료 샘플(1`)과 만나는 점을 원점(O)으로 지정하여 상기 2차원 좌표계에 배치함으로써, 상기 참조광(30), 상기 물체광(50) 및 상기 상기 감광재료(10)의 배치를 단순화하여 상기 홀로그래픽 간섭 패턴을 변경하는 경우 용이하게 각 구성의 배치를 변경할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 단계(S70)는 상기 감광재료 샘플(1)이 회전된 배치(1`)와 동일하게 정렬되도록 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료(10`)를 구비하는 것일 수 있다. 구체적으로 상기 3차원 좌표계에서 2차원 좌표계로 상기 각 구성의 배치를 변경하고 상기 참조광(30)과 상기 물체광(50)에 의하여 구현하고자 하는 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 경우 상기 회전된 감광재료 샘플(1`)의 배치와 같이 상기 회전된 감광재료(10`)를 배치하여 기록하고자 하는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태는 감광재료 샘플(1)에 기록된 제1 홀로그래픽 간섭 패턴으로 구현된 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료(10`)를 고정하는 감광재료 고정부(100); 상기 감광재료(10`)에 참조광(30)을 조사하는 참조광 조사부(300); 상기 감광재료(10`)에 물체광(50)을 조사하는 물체광 조사부(500); 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500)가 소정의 위치로 배치되어 고정되는 스테이지부(700); 및 상기 소정의 위치를 도출하는 연산부(600);를 포함하며, 상기 참조광(30)과 상기 물체광(50)의 간섭현상에 의하여 형성된 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 상기 감광재료(10`)에 기록하하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)를 제공한다.

본 발명의 일 실시상태에 따른 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)는 기록하고자 하는 홀로그래픽 간섭 패턴을 변경하더라도 상기 참조광(30), 상기 물체광(50) 및 상기 감광재료(10`) 각각의 위치를 용이하게 변경하여 기록 공정을 단순화할 수 있다.

도 3은 본 발명의 일 실시상태인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)의 평면도이다. 도 4는 본 발명의 일 실시상태인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)의 사시도이다. 상기 도 3 및 도 4를 참고하여 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)를 설명한다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)는 감광재료 샘플에 기록된 제1 홀로그래픽 간섭 패턴으로 구현된 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료(10`)를 고정하는 감광재료 고정부(100)를 포함한다. 구체적으로 상기 감광재료 샘플(1)에 기록된 제1 홀로그래픽 간섭 패턴에 의하여 구현되는 재생광 경로 및 회절광 경로가 형성하는 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위하여 감광재료(10`)는 감광재료 고정부(100)에 고정될 수 있다. 상술한 것과 같이 제1 홀로그래픽 간섭 패턴으로 구현된 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료(10`)를 고정하는 감광재료 고정부(100)를 포함함으로써, 상기 감광재료 고정부(100)의 배치를 용이하게 변경할 수 있으며, 상기 감광재료(10`)의 움직임을 최소화하여 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 명확하게 기록될 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)는 상기 감광재료(10`)에 참조광(30)을 조사하는 참조광 조사부(300)를 포함한다. 구체적으로 참조광(30)을 조사하는 광원, 즉 상기 참조광 조사부(300)를 구비하여 상기 감광재료(10`)에 조사함으로써, 상기 물체광(50)과 간섭을 일으켜 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 형성할 수 있으며, 상기 참조광(30)이 조사되는 위치를 용이하게 변경할 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 감광재료(10`)에 참조광(30)을 조사하는 참조광 조사부(300)를 포함함으로써, 상기 참조광(30)을 조사하는 위치를 용이하게 변경할 수 있으며, 상기 참조광 조사부(300)의 움직임을 최소화하여 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 명확하게 기록될 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)는 상기 감광재료(10`)에 물체광(50)을 조사하는 물체광 조사부(500)를 포함한다. 구체적으로 물체광(50)을 조사하는 광원, 즉 상기 물체광 조사부(500)를 구비하여 상기 감광재료(10`)에 조사함으로써, 상기 참조광(30)과 간섭을 일으켜 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 형성할 수 있으며, 상기 물체광(50)이 조사되는 위치를 용이하게 변경할 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 감광재료(10`)에 물체광(50)을 조사하는 물체광 조사부(500)를 포함함으로써, 상기 물체광(50)을 조사하는 위치를 용이하게 변경할 수 있으며, 상기 물체광 조사부(500)의 움직임을 최소화하여 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 명확하게 기록될 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)는 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500)가 소정의 위치로 배치되어 고정되는 스테이지부(700)를 포함한다. 구체적으로 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500)는 상기 도출단계에서 도출된 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500)의 각각의 배치에 정렬하여 고정시킬 수 있으며, 상기 스테이지부(700)를 평면으로 구비하면서 상기 2차원 좌표계로 도출된 각 구성의 위치를 용이하게 배치시킬 수 있고, 상기 스테이지부(700)가 후술할 제어부(800)와 연동되면서 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500) 각각의 위치를 기록하고자 하는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴에 따라 용이하게 배치할 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500)가 소정의 위치로 배치되어 고정되는 스테이지부(700)를 포함함으로써, 기록하고자 하는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴에 따라 각 구성을 용이하게 배치할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치는 상기 소정의 위치를 도출하는 연산부(600)를 포함한다. 구체적으로 상기 연산부(600)는 상기 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)이 조사되어 회절광(5)이 회절되도록 구현하는 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있는 참조광(30)의 경로 및 물체광(50)의 경로를 도출하여 상기 재생광(3) 및 상기 회절광(5)이 2차원 좌표계에 대응하는 2차원 좌표계 상의 상기 참조광(30)의 경로 및 물체광(50)의 경로를 도출할 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 소정의 위치를 도출하는 연산부(600)를 포함함으로써, 상기 재생광(3) 및 상기 회절광(5)의 3차원 좌표계인 공간 상에 위치한 배치를 용이하게 2차원 좌표계인 평면으로 변환할 수 있으며, 상기 변환된 상기 재생광(3`)의 경로 및 상기 회절광(5`)의 경로를 대응하는 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로로 변환할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치(1000)는 상기 참조광(30)과 상기 물체광(50)의 간섭현상에 의하여 형성된 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 상기 감광재료에 기록하여 복제하는 것이다. 구체적으로 상기 감광재료에 참조광 및 물체광을 조사하고 상기 참조광과 상기 물체광의 간섭현상에 의하여 상쇄간섭 및 보강간섭이 구현됨으로써 상기 감광재료 내에서 보강간섭이 구현되는 부분은 감광재료가 더욱 광중합이 일어나고 상쇄간섭이 구현되는 부분은 감광재료가 보강간섭이 일어나는 부분보다 약하게 광중합이 구현됨으로써 상기 감광재료에서 밀도 차이가 발생한다. 상기 밀도 차이가 발생한 감광재료는 간섭현상에 의하여 구현되는 패턴을 형성하게 되며 이러한 패턴이 홀로그래픽 간섭 패턴에 해당한다. 상술한 것과 같이 상기 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료를 구비하고, 상기 참조광의 경로 및 상기 물체광의 경로 각각의 소정의 위치에 참조광과 물체광을 구비하여 조사함으로써 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록함으로써, 용이하게 홀로그래픽 간섭 패턴을 형성할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 연산부(600)는 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)을 미리 정해진 위치(3s)에서 조사하여, 재생광(3)의 경로와 회절광(5)의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계(S10); 상기 감광재료 샘플(1)을 회전시켜 상기 광경로(3`, 5`)를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30); 및 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로(3`, 5`)와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로를 도출하는 단계(S50);를 수행하여 상기 소정의 위치를 도출하는 것일 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 광경로를 확인하는 단계(S10), 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30) 및 상기 참조광의 경로 및 상기 물체광의 경로를 도출하는 단계(S50)를 포함함으로써, 용이하게 2차원 좌표계로 변환된 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로를 도출할 수 있으며, 기록하고자하는 홀로그팩 간섭 패턴을 변경하더라도 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로를 용이하게 도출할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 연산부(600)는 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)을 미리 정해진 위치(3s)에서 조사하여, 재생광(3)의 경로와 회절광(5)의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계(S10)를 포함한다. 즉, 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)을 미리 정해진 위치(3s)에서 조사하여 회절광(5)의 경로를 확인하는 단계를 포함한다. 구체적으로 상기 재생광(3)을 미리 정해진 위치인 상기 재생광의 시작점(3s)에 위치하여 상기 감광재료 샘플(1)에 조사하고 상기 감광재료 샘플(1)에 기록된 홀로그래픽 간섭 패턴에 의하여 회절되는 회절광(5)의 경로를 확인한다. 상술한 것과 같이, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플(1)에 재생광(3)을 미리 정해진 위치(3s)에서 조사하여, 재생광(3)의 경로와 회절광(5)의 경로가 형성하는 광경로 를 확인하는 단계(S10)를 포함함으로써, 상기 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하기 위하여 대응되는 물체광(50)의 경로과 참조광(30)의 경로를 확인할 수 있으며, 이를 통하여 상기 물체광의 시작점(30s) 및 상기 참조광(50s)의 시작점을 확인할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 연산부(600)는 상기 감광재료 샘플(1)을 회전시켜 상기 광경로(3`, 5`)를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30)를 포함한다. 즉, 상기 연산부(600)는 상기 감광재료 샘플(1)을 회전시켜 상기 재생광(3)의 경로와 상기 회절광(5)의 경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30)를 포함한다. 구체적으로 상기 재생광(3)의 경로와 상기 회절광(5)의 경로는 상기 감광재료 샘플(1)의 만나는 원점(O)을 형성하며, 상기 원점(O)과 상기 재생광(3`)의 경로 및 상기 회절광(5`)의 경로가 형성하는 평면을 2차원 좌표계인 평면 상에 배치하는 하는 단계(S30)를 포함한다. 상술한 것과 같이, 상기 감광재료 샘플(1`)을 회전시켜 상기 재생광(3`)의 경로와 상기 회절광(5`)이 형성하는 광경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계(S30)를 포함함으로써, 상기 3차원 좌표계인 공간 상에 배치된 상기 재생광(3)의 경로 및 상기 회절광(5)의 경로를 단순화시킬 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 연산부(600)는 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로(3`, 5`)와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로를 도출하는 단계(S50)를 포함한다. 상기 연산부(600)는 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로(3`, 5`)와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광(30)의 경로 및 물체광(50)의 경로를 도출하는 단계(S50)를 포함한다. 구체적으로 상기 3차원 좌표계인 공간 상에서 상기 재생광(3)의 경로와 상기 회절광(5)의 경로로부터 상기 참조광의 경로와 물체광의 경로를 도출하는 경우 각 배치를 정렬하는 데 복잡한 문제가 있으므로 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 재생광(3`)을 조사하는 경우 회절되는 상기 회절광(5`)을 확인하여 이에 대응하는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광(30)의 경로와 물체광(50)의 경로 각각을 도출하는 단계(S50)를 포함한다. 상술한 것과 같이 상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 재생광(3`)의 경로와 상기 회절광(5`)의 경로로부터 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광(30)의 경로 및 물체광(50)의 경로를 도출하는 단계(S50)를 포함함으로써, 상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 변경되는 경우 상기 도출과정을 통하여 용이하게 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로를 변경할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광재료 고정부(100)는 상기 감광재료 샘플(1`)이 회전된 배치와 동일하게 정렬되도록 상기 감광재료(10`)를 회전시키는 것일 수 있다. 구체적으로 상기 재생광(3)과 상기 회절광(5)을 2차원 좌표계로 변환하면서 상기 감광재료 샘플(1`)이 회전하게 되면 그와 동일한 배치로 상기 감광재료(10`)를 배치함으로써, 기록 또는 복제하고자 하는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하여 미리 정해진 재생광(3`)의 조사에 의하여 특정한 각으로 회절되는 회절광(5`)을 구현할 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500) 각각에 연결되어 상기 소정의 위치에 배치되도록 이동시키는 제어부(800)를 더 포함하는 것일 수 있다. 구체적으로 기록하고자하는 홀로그래픽 간섭 패턴이 변경되는 경우에 상기 연산부(600)에 의하여 도출된 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로상에 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500)가 위치하도록 제어부(800)에 의하여 이동될 수 있으며, 상기 감광재료 고정부(100) 역시 원점(O)이 상기 2차원 좌표계의 원점에 위치할 수 있도록 제어부(800)에 의하여 이동될 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 제어부(800)에 의하여 상기 감광재료 고정부(100), 상기 참조광 조사부(300) 및 상기 물체광 조사부(500)의 각각의 위치가 제어됨으로써, 정확한 정렬을 구현하여 기록되는 홀로그래픽 간섭 패턴의 정확도를 향상시킬 수 있다.

본 발명의 일 실시상태에 따르면, 상기 스테이지부(700)는 상기 재생광(3`) 및 상기 회절광(5`) 각각의 경로가 표시된 마커부(900)를 더 포함하는 것일 수 있다. 상술한 것과 같이 상기 스테이지부(700)가 상기 재생광(3`) 및 상기 회절광(5`) 각각의 경로 즉, 광경로가 표시된 마커부(900)를 더 포함함으로써, 상기 참조광(30)의 경로 및 상기 물체광(50)의 경로와의 상기 재생광(3`) 및 상기 회절광(5`)의 경로를 확인할 수 있으며, 이를 통하여 각각 경로 간의 관계를 파악하여 기록 또는 복제하고자하는 홀로그래픽 간섭 패턴을 정확하게 구현할 수 있다.

이상에서 본 발명은 비록 한정된 실시예에 의해 설명되었으나, 본 발명은 이것에 의해 한정되지 않으며 본 발명이 속하는 기술분야에서 통상의 지식을 가진 자에 의해 본 발명의 기술사상과 아래에 기재될 특허청구범위의 균등범위 내에서 다양한 수정 및 변형이 가능함은 물론이다.

Claims

제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플에 재생광을 미리 정해진 위치에서 조사하여, 재생광의 경로와 회절광의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계;

상기 감광재료 샘플을 회전시켜 상기 광경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계;

상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광의 경로 및 물체광의 경로를 도출하는 단계; 및

상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료를 구비하고, 상기 참조광의 경로 및 상기 물체광의 경로 각각의 소정의 위치에 참조광과 물체광을 구비하여 조사함으로써, 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 단계;를 포함하는 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법.
청구항 1에 있어서,

상기 2차원 좌표계에 배치하는 단계는

상기 2차원 좌표계에서 상기 재생광이 상기 감광재료 샘플과 만나는 점을 원점으로 지정하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법.
청구항 1에 있어서,

상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록하는 단계는

상기 감광재료 샘플이 회전된 배치와 동일하게 정렬되도록 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료를 구비하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 방법.
감광재료 샘플에 기록된 제1 홀로그래픽 간섭 패턴으로 구현된 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록될 감광재료를 고정하는 감광재료 고정부;

상기 감광재료에 참조광을 조사하는 참조광 조사부;

상기 감광재료에 물체광을 조사하는 물체광 조사부;

상기 감광재료 고정부, 상기 참조광 조사부 및 상기 물체광 조사부가 소정의 위치로 배치되어 고정되는 스테이지부; 및

상기 소정의 위치를 도출하는 연산부;를 포함하며,

상기 참조광과 상기 물체광의 간섭현상에 의하여 형성된 상기 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 상기 감광재료에 기록하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치.
청구항 4에 있어서,

상기 연산부는

상기 제1 홀로그래픽 간섭 패턴이 기록된 감광재료 샘플에 재생광을 미리 정해진 위치에서 조사하여, 재생광의 경로와 회절광의 경로가 형성하는 광경로를 확인하는 단계;

상기 감광재료 샘플을 회전시켜 상기 광경로를 2차원 좌표계에 배치하는 단계; 및

상기 2차원 좌표계로 배치된 상기 광경로와 동일한 광경로가 구현되는 제2 홀로그래픽 간섭 패턴을 기록할 수 있도록 참조광의 경로 및 물체광의 경로를 도출하는 단계;를 수행하여 상기 소정의 위치를 도출하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치.
청구항 5에 있어서,

상기 감광재료 고정부는 상기 감광재료 샘플이 회전된 배치와 동일하게 정렬되도록 상기 감광재료를 회전시키는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치.
청구항 5에 있어서,

상기 감광재료 고정부, 상기 참조광 조사부 및 상기 물체광 조사부 각각에 연결되어 상기 소정의 위치에 배치되도록 이동시키는 제어부를 더 포함하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치.
청구항 5에 있어서,

상기 스테이지부는 상기 재생광 및 상기 회절광 각각의 경로가 표시된 마커부를 더 포함하는 것인 홀로그래픽 간섭 패턴의 기록 장치.