CN117677904A - 用于记录全息干涉图案的设备和使用其记录全息干涉图案的方法 - Google Patents

Abstract

提出了用于记录全息干涉图案的设备和使用所述设备记录全息干涉图案的方法，所述设备和方法能够简化以下过程：使光源和光敏材料对齐以在三维坐标系上记录全息干涉图案，然后使光源和光敏材料重新对齐以记录不同的全息干涉图案。

Description

用于记录全息干涉图案的设备和使用其记录全息干涉图案的 方法

技术领域

本公开内容要求于2021年7月15日向韩国知识产权局提交的韩国专利申请第10-2021-0092621号的优先权和权益，其全部内容通过引用并入本文。本公开内容涉及用于记录全息干涉图案的设备和使用所述设备记录全息干涉图案的方法，特别地，涉及用于记录全息干涉图案的设备和使用所述设备记录全息干涉图案的方法，所述设备和方法能够简化以下过程：使光源和光敏材料对齐以在三维坐标系上记录全息干涉图案，然后使光源和光敏材料重新对齐以记录不同的全息干涉图案。

背景技术

通常，为了在光敏材料上记录全息干涉图案，向光敏材料发射对象光和参考光，并由此将由于对象光与参考光之间的干涉现象而实现的干涉图案记录在光敏材料上。

为了记录特定的全息干涉图案，需要调节在光敏材料上发射对象光和参考光的发射角度。因此，对象光、参考光和光敏材料分别需要在特定的位置对齐。

即，为了在用于记录全息干涉图案的设备中使用，光敏材料需要具有特定的形状。通常，在其中在所述设备中使用具有特定形状的光敏材料的状态下，全息干涉图案被记录在光敏材料上。然而，在其中在所述设备中使用具有特定形状的光敏材料的状态下记录全息干涉图案的情况下，出现这样的问题：在大多数情况下，对象光、参考光和光敏材料需要定位在三维坐标系上，以及对象光、参考光和光敏材料难以布置在三维坐标系上。此外，在对记录在光敏材料上的全息干涉图案进行复制的过程中，在三维坐标系上还实现了由再现光被全息干涉图案衍射而产生的衍射光的路径。因此，出现这样的问题：衍射光的路径难以确定，以及用于记录全息干涉图案的对象光和参考光的路径也难以通过确定衍射光的路径来得出。

此外，为了复制细微变化的全息干涉图案，在其中在所述设备中使用具有特定形状的光敏材料的状态下，需要改变对象光、参考光和光敏材料的三维布置。因此，出现这样的问题：使对象光、参考光和光敏材料对齐花费过多的时间。

因此，迫切需要开发即使全息干涉图案变化也可以容易地实现对象光、参考光和光敏材料的布置的技术。

发明内容

技术问题

本公开内容的目的是提供用于记录全息干涉图案的设备和使用所述设备记录全息干涉图案的方法，所述设备和方法能够通过向其上将记录全息干涉图案的光敏材料发射再现光来将由衍射光形成的光路的三维布置变为其二维布置，然后得出分别对应于再现光和衍射光的参考光和对象光的布置。使用所述设备和方法，即使待记录的全息干涉图案变化，也可以容易地改变对象光、参考光和光敏材料的布置。

然而，本公开内容不限于上述目的，根据以下描述，未提及的目的对于本领域普通技术人员将是可清楚理解的。

技术方案

根据本公开内容的一个方面，提供了记录全息干涉图案的方法，所述方法包括：通过在预定位置向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品发射再现光来分别确定由再现光的路径和衍射光的路径形成的光路；通过将光敏材料样品旋转来将光路布置在二维坐标系上；以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光的路径和对象光的路径；以及提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料，在参考光的路径和对象光的路径上分别在预定位置提供参考光和对象光，发射参考光和对象光，并由此记录第二全息干涉图案。

根据本公开内容的另一个方面，提供了用于记录全息干涉图案的设备，所述设备包括：被配置成固定其上将记录实现与由记录在光敏材料样品上的第一全息干涉图案实现的光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料的光敏材料固定单元；被配置成向光敏材料发射参考光的参考光发射单元；被配置成向光敏材料发射对象光的对象光发射单元；固定有分别在被布置在预定位置之后的光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元的载物台单元；以及被配置成得出预定位置的计算单元，其中由于参考光与对象光之间的干涉现象而形成的第二全息干涉图案被记录在光敏材料上。

有益效果

根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法可以将对象光和参考光的布置根据待记录的全息干涉图案(即，根据待实现的光路)转换成二维布置，因此，即使全息干涉图案变化，也可以容易地改变参考光、对象光和光敏材料的各自位置。

即使待记录的全息干涉图案变化(即，即使待实现的光路变化)，根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备也可以容易地改变参考光、对象光和光敏材料的各自位置，因此可以简化记录全息干涉图案的过程。

本公开内容不限于上述有益效果。根据本说明书和附图，以上未提及的有益效果对于本领域普通技术人员将是明显的。

附图说明

图1是示出根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法的流程图。

图2是示出根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法的示意图。

图3是示出根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备的平面图。

图4是示出根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备的透视图。

[附图标记说明]

1：光敏材料样品

1’：旋转布置的光敏材料样品

3：再现光

3’：布置在二维坐标系上的再现光

3s：再现光的起始位置

5：衍射光

5’：布置在二维坐标系上的衍射光

5t：衍射光的终点

θ：参考光与对象光之间的角度

Φ：再现光与衍射光之间的角度

O：原点

10：光敏材料

10’：旋转布置的光敏材料

30：参考光

30s：参考光的起点

50：对象光

50s：对象光的起点

50t：对象光的终点

100：光敏材料固定单元

300：参考光发射单元

500：对象光发射单元

600：计算单元

700：载物台单元

800：控制器

900：标记物

1000：用于记录全息干涉图案的设备

具体实施方式

参照附图，将充分详细地在以下详细描述本公开内容的实施方案以使本领域技术人员能够实践本公开内容。然而，本公开内容不限于以下将公开并且可以以各种不同的形式实施的实施方案。提供实施方案仅是为了使本公开内容完整并向本公开内容所属领域的普通技术人员提供关于本公开内容的范围的明确告知。本公开内容的范围应仅由权利要求书来限定。在整个本说明书中，用于描述实施方案的术语不对本公开内容施加任何限制。

在整个本说明书中，除非另外说明，否则单数名词或单数名词短语可以具有复数含义。

在整个本说明书中，术语“包括(comprise)”和/或“包含(comprising)”用于表明存在指定的构成要素、步骤、操作和/或元件，而不排除存在或添加一个或更多个其他的构成要素、步骤、操作和/或元件。除非另外明确说明，否则这些术语意指还可以包括另外的构成要素，但不排除另外的构成要素。

在整个本说明书中，当被表示为定位在不同的构件“上”时，构成要素意指与不同的构件接触。当被表示为定位在不同的构件“上方”时，构成要素意指在不同的构件上方，在其间具有第三构件。

在整个本说明书中，表述“A和/或B”意指“A和B、或者A或B”。

在整个本说明书中，“全息点阵图案”意指通过沿预定方向交替地布置高折射部分和低折射部分而产生的全息点阵图案。到达全息光学元件的光被衍射，因此可以改变光路。复数个激光束与光敏材料例如光聚合物干涉，因此可以记录全息点阵图案。全息光学元件可以被理解为布置在光导的一个表面或另一个表面上并通过使光导处的光衍射来改变光路的结构。

在整个本说明书中，术语“全息点阵图案的纵向方向”可以被定义为与其中成行交替地布置有高折射部分和低折射部分的方向垂直的方向。

在整个本说明书中，“记录”可以包括通过将记录在光敏材料样品上的全息干涉图案记录在光敏材料上来复制。

在整个本说明书中，术语“光路”可以意指在其中向其上记录有全息干涉图案的光学元件发射再现光的情况下，再现光和由再现光被全息干涉图案衍射而产生的衍射光沿其行进的路径。

以下将更详细地描述本公开内容的实施方案。

根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法包括：通过在预定位置向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品发射再现光来分别确定由再现光的路径和衍射光的路径形成的光路；通过将光敏材料样品旋转来将光路布置在二维坐标系上；以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光的路径和对象光的路径；以及提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料，在参考光的路径和对象光的路径上分别在预定位置提供参考光和对象光，发射参考光和对象光，并由此记录第二全息干涉图案。

根据本公开内容的第一实施方案，将光路布置在二维坐标系上是为了将其中再现光在二维坐标系上与光敏材料样品相遇的点指定为原点。

根据本公开内容的第一实施方案，记录第二全息干涉图案是为了以这样的方式提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料：光敏材料以与旋转布置的光敏材料样品相同的方式对齐。

根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的设备包括：被配置成固定其上将记录实现与由记录在光敏材料样品上的第一全息干涉图案实现的光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料的光敏材料固定单元；被配置成向光敏材料发射参考光的参考光发射单元；被配置成向光敏材料发射对象光的对象光发射单元；固定有分别在被布置在预定位置之后的光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元的载物台单元；以及被配置成得出预定位置的计算单元，其中由于参考光与对象光之间的干涉现象而形成的第二全息干涉图案被记录在光敏材料上。

根据本公开内容的第一实施方案，计算单元通过执行以下步骤来得出预定位置：在预定位置向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品发射再现光，并由此确定由再现光的路径和衍射光的路径形成的光路；通过将光敏材料样品旋转来将光路布置在二维坐标系上；以及以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光的路径和对象光的路径。

根据本公开内容的第一实施方案，光敏材料固定单元使光敏材料以这样的方式旋转：光敏材料以与旋转布置的光敏材料样品相同的方式对齐。

根据本公开内容的第一实施方案，还包括：控制器，所述控制器连接至光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元中的每一者并且被配置成使光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元中的每一者以为了分别布置在预定位置的方式移动。

根据本公开内容的第一实施方案，载物台单元包括：其上各自标记有再现光的路径和衍射光的路径的标记物。

发明实施方式

图1是示出根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法的流程图。参照图1，提供了根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法。所述方法包括：步骤S10：通过在预定位置向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1发射再现光3来分别确定由再现光3的路径和衍射光5的路径形成的光路；步骤S30：通过将光敏材料样品1旋转来将光路布置在二维坐标系上；步骤S50：以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路3’和5’相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径；以及步骤S70：提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料10，在参考光30的路径和对象光50的路径上分别在预定位置提供参考光30和对象光50，发射参考光30和对象光50，并由此记录第二全息干涉图案。

在根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法中，根据待记录的全息干涉图案(即，根据待实现的光路)将对象光50和参考光30的布置进行二维转换。因此，即使全息干涉图案变化，也可以容易地改变参考光30、对象光50和光敏材料10的各自位置。

图2是示出根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法的示意图。参照图2，详细地描述了记录全息干涉图案的方法。

根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法包括步骤S10：在预定位置3s向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1发射再现光3，并由此确定由再现光3的路径和衍射光5的路径形成的光路。具体地，再现光3位于再现光的起始位置3s(预定位置)，并被发射至光敏材料样品1，确定再现光3的路径和被记录在光敏材料样品1上的第一全息干涉图案衍射的衍射光5的路径。如上所述，记录全息干涉图案的方法包括步骤S10：在预定位置向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1发射再现光3，并由此确定由再现光3的路径和衍射光5的路径形成的光路。因此，为了记录第一全息干涉图案，可以确定对象光50的对应路径和参考光30的对应路径。因此，可以确定对象光的起点50s和参考光的起点30s。

根据本公开内容的第一实施方案，其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1可以为具有弯曲表面形状或平坦表面形状的光敏材料样品。具体地，即使在相同位置向具有不同形状的其上记录有相同的第一全息干涉图案的光敏材料样品发射再现光3，衍射光5的路径也不同地实现。因此，在其中记录实现与所述光路相同的光路的第二全息干涉图案的情况下，期望准确地指定其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1的形状，并确定由再现光3的路径和衍射光3的路径形成的光路。如上所述，使用具有弯曲表面形状或平坦表面形状的光敏材料样品作为其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1。因此，可以准确地得出为了记录而发射的参考光30和对象光50的路径。

在整个本说明书中，表述“具有弯曲表面形状”可以意指光敏材料的一个表面是弯曲的(即，非平坦的)，或者可以意指光敏材料的相反表面(包括其一个表面和与所述一个表面相反方向上的另一个表面)是弯曲的(即，非平坦的)。

在整个本说明书中，表述“具有平坦表面形状”可以意指光敏材料的一个表面是平坦且无限延伸的表面的一部分，或者可以意指光敏材料的相反表面(包括其一个表面和与所述一个表面相反方向上的另一个表面)是平坦且无限延伸的表面的相应部分。

根据本公开内容的第一实施方案，其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料可以为具有弯曲表面形状或平坦表面形状的光敏材料。即，其上将记录实现与所述光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料可以为具有弯曲表面形状或平坦表面形状的光敏材料。具体地，根据其中使用光敏材料的设备，光敏材料需要具有弯曲表面形状或平坦表面形状。因此，期望根据其中使用其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料的设备来选择其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料的形状。如上所述，其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料的形状可以实现为弯曲表面形状或平坦表面形状。因此，光敏材料可以在各种设备中获得应用。

根据本公开内容的第一实施方案，在其中其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品具有弯曲表面形状的情况下，其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料可以具有弯曲表面形状。此外，在其中其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品具有平坦表面形状的情况下，其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料可以具有平坦表面形状。如上所述，其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品和其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料以具有相同形状的方式实现。因此，可以以这样的方式容易地记录第二全息干涉图案：由光敏材料样品中的第一全息干涉图案实现的光路是用其上记录有第二全息干涉图案的光敏材料实现的。

根据本公开内容的第一实施方案，在其中其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品具有弯曲表面形状的情况下，其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料可以具有平坦表面形状。如上所述，在其中其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品具有弯曲表面形状的情况下，使用具有平坦表面形状的光敏材料作为其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料。因此，即使在具有平坦表面形状的光敏材料发射再现光，也可以实现将在具有弯曲表面形状的光敏材料中衍射的衍射光。

根据本公开内容的第一实施方案，在其中其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品具有平坦表面形状的情况下，其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料可以具有弯曲表面形状。如上所述，在其中其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品具有平坦表面形状的情况下，使用具有弯曲表面形状的光敏材料作为其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料。因此，即使在具有弯曲表面形状的光敏材料发射再现光，也可以实现将在具有平坦表面形状的光敏材料中衍射的衍射光。

根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法包括步骤S30：通过将光敏材料样品1旋转来将光路3’和5’布置在二维坐标系上。即，记录全息干涉图案的方法包括步骤S30：通过将光敏材料样品1旋转来将再现光3’的路径和衍射光5’的路径布置在二维坐标系上。具体地，记录全息干涉图案的方法包括步骤S30：形成再现光3的路径和衍射光5的路径与光敏材料样品1相遇的原点O，以及将由原点O、再现光3的路径和衍射光5的路径形成的平面布置在二维坐标系的平面上。如上所述，记录全息干涉图案的方法包括步骤S30：通过将光敏材料样品1旋转来将光路3’和5’布置在二维坐标系上。因此，可以简化布置在三维坐标系的空间中的再现光3的路径和衍射光5的路径。

根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法包括步骤S50：以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路3’和5’相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径。具体地，在其中在三维坐标系的空间中，由分别由再现光3的路径和衍射光5的路径形成的光路得出参考光30的路径和对象光50的路径的情况下，出现使参考光和对象光对齐的复杂问题。为了解决该问题，记录全息干涉图案的方法包括步骤S50：以为了在确定在其中发射布置在二维坐标系上的再现光3’的情况下衍射的衍射光5’之后，对应地记录第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径中的每一者。如上所述，记录全息干涉图案的方法包括步骤S50：以为了由布置在二维坐标系中的再现光3’的路径和衍射光5’的路径记录第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径。因此，在其中第一全息干涉图案变化的情况下，可以通过上述得出步骤来改变参考光30的路径和对象光50的路径。

根据本公开内容的第一实施方案的记录全息干涉图案的方法包括步骤S70：提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料10，在参考光30的路径和对象光50的路径上分别在预定位置30s和50s提供参考光30和对象光50，发射参考光和对象光，并由此记录第二全息干涉图案。具体地，第二全息干涉图案可以由记录由通过发射参考光30和对象光50而发生的干涉现象形成的干涉图案产生。具体地，向光敏材料发射参考光和对象光，由于参考光与对象光之间的干涉现象而实现相消干涉和相长干涉。因此，光敏材料的其中实现相长干涉的部分被进一步光聚合，与其中实现相长干涉的其部分相比，其中实现相消干涉的其部分被更少地光聚合。因此，在光敏材料中出现密度差。其中出现密度差的光敏材料形成由于干涉现象而实现的图案，该图案对应于全息干涉图案。如上所述，提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料10，在参考光30的路径和对象光50的路径上分别在预定位置提供参考光30和对象光50并发射。因此，可以记录第二全息干涉图案，并且可以容易地形成全息干涉图案。

根据本公开内容的第一实施方案，步骤S30：将光路布置在二维坐标系上可以是为了将再现光3’在二维坐标系上与光敏材料样品1’相遇的点指定为原点O。具体地，发射再现光3，将再现光与光敏材料样品1相遇的点指定为原点O。原点O可以布置在二维坐标系的原点。如上所述，将再现光3’在二维坐标系上与光敏材料样品1’相遇的点指定为原点O，并将再现光和光敏材料样品布置在二维坐标系上。因此，可以简化参考光30、对象光50和光敏材料10的布置。因此，在其中全息干涉图案变化的情况下，可以容易地改变其布置。

根据本公开内容的第一实施方案，步骤S70：记录第二全息干涉图案可以是为了以这样的方式提供其上将记录第二全息干涉图案的光敏材料10’：光敏材料样品1以与旋转布置的光敏材料样品1’相同的方式对齐。具体地，将参考光、对象光和光敏材料在三维坐标系上的布置变为其在二维坐标系上的布置。在其中记录将通过参考光30和对象光50实现的全息干涉图案的情况下，旋转的光敏材料10’以与旋转布置的光敏材料样品1’相同的方式布置。因此，可以记录待记录的第二全息干涉图案。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000包括：被配置成固定其上将记录实现与由记录在光敏材料样品1上的第一全息干涉图案实现的光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料10’的光敏材料固定单元100；被配置成向光敏材料10’发射参考光30的参考光发射单元300；被配置成向光敏材料10’发射对象光50的对象光发射单元500；固定有分别在被布置在预定位置之后的光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500的载物台单元700；以及被配置成得出预定位置的计算单元600，其中由于参考光30与对象光50之间的干涉现象而形成的第二全息干涉图案被记录在光敏材料10’上。

即使待记录的全息干涉图案变化，根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000也可以容易地改变参考光30、对象光50、光敏材料10’的各自位置，因此可以简化记录过程。

图3是示出根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000的平面图。图4是示出根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000的透视图。参照图3和图4，描述了用于记录全息干涉图案的设备1000。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000包括被配置成固定其上将记录实现与由记录在光敏材料样品上的第一全息干涉图案实现的光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料10’的光敏材料固定单元100。具体地，第二全息干涉图案实现与由记录在光敏材料样品1上的第一全息干涉图案实现的通过再现光的路径和衍射光的路径形成的光路相同的光路。为了记录第二全息干涉图案，可以将光敏材料10’固定至光敏材料固定单元100。如上所述，用于记录全息干涉图案的设备包括被配置成固定其上将记录实现与由第一全息干涉图案实现的光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料10’的光敏材料固定单元100。因此，可以容易地改变光敏材料固定单元100上的布置，并且可以使光敏材料10’的移动最小化。因此，可以准确地记录第二全息干涉图案。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000包括被配置成向光敏材料10’发射参考光30的参考光发射单元300。具体地，用于记录全息干涉图案的设备包括被配置成发射参考光30的光源(即，参考光发射单元300)。参考光发射单元向光敏材料10’发射参考光，从而与对象光50产生干涉。因此，可以形成第二全息干涉图案，并且可以容易地改变发射参考光30的位置。如上所述，用于记录全息干涉图案的设备包括被配置成向光敏材料10’发射参考光30的参考光发射单元300。因此，可以容易地改变发射参考光30的位置，并且可以使参考光发射单元300的移动最小化。因此，可以准确地记录第二全息干涉图案。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000包括被配置成向光敏材料10’发射对象光50的对象光发射单元500。具体地，用于记录全息干涉图案的设备包括被配置成发射对象光50的光源(即，对象光发射单元500)。对象光发射单元被配置成向光敏材料10’发射对象光，从而与参考光30产生干涉。因此，可以形成第二全息干涉图案，并且可以容易地改变发射对象光50的位置。如上所述，用于记录全息干涉图案的设备包括向光敏材料10’发射对象光50的对象光发射单元500。因此，可以容易地改变发射对象光50的位置，并且可以使对象光发射单元500的移动最小化。因此，可以准确地记录第二全息干涉图案。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000包括固定有分别在被布置在预定位置之后的光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500的载物台单元700。具体地，在与在得出预定位置的步骤中得出的光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500的各自位置对齐之后，可以将光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500固定至载物台单元700。载物台单元具有平坦表面，并且可以容易地将光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元分别布置在对于二维坐标系得出的位置。与以下描述的控制器800结合，载物台单元700可以根据待记录的第二全息干涉图案容易地将光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500布置在其各自位置。如上所述，用于记录全息干涉图案的设备包括固定有分别在被布置在其位置之后的光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500的载物台单元700。因此，根据待记录的第二全息干涉图案，可以容易地布置光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备包括被配置成得出预定位置的计算单元600。具体地，计算单元600可以得出能够记录以为了在向光敏材料样品1发射再现光3时衍射的方式实现衍射光5的全息干涉图案的参考光30的路径和对象光50的路径，并且可以得出分别二维对应于再现光3和衍射光5的参考光30和对象光50在二维坐标系上的路径。如上所述，用于记录全息干涉图案的设备包括被配置成得出预定位置的计算单元600。因此，可以容易地将再现光3和衍射光5在三维坐标系的空间中的布置转换成其在二维坐标系的平面上的布置。可以将由转换产生的再现光3’的路径和衍射光5’的路径分别转换成与其对应的参考光30的路径和对象光50的路径。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备1000将由于参考光30与对象光50之间的干涉现象而形成的第二全息干涉图案记录在用于复制其的光敏材料上。具体地，向光敏材料发射参考光和对象光，由于参考光与对象光之间的干涉现象而实现相消干涉和相长干涉。因此，光敏材料的其中实现相长干涉的部分被进一步光聚合，与其中发生相长干涉的其部分相比，其中实现相消干涉的其部分被更少地光聚合。因此，在光敏材料中出现密度差。其中出现密度差的光敏材料形成由干涉现象实现的图案，该图案对应于全息干涉图案。如上所述，提供其上将记录全息干涉图案的光敏材料，在参考光的路径和对象光的路径上分别在预定位置提供参考光和对象光并发射。因此，可以记录第二全息干涉图案，并因此可以容易地形成全息干涉图案。

根据本公开内容的第二实施方案，计算单元600可以通过执行以下步骤来得出预定位置：步骤S10：通过在预定位置3s向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1发射再现光3来分别确定由再现光3的路径和衍射光5的路径形成的光路；步骤S30：通过将光敏材料样品1旋转来将光路3’和5’布置在二维坐标系上；以及步骤S50：以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路3’和5’相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径。如上所述，计算单元600执行步骤S10：确定光路；步骤S30：将光路布置在二维坐标系上；以及步骤S50：得出参考光的路径和对象光的路径。可以容易地得出转换成二维坐标系的参考光30的路径和对象光50的路径。即使待记录的全息干涉图案变化，也可以容易地得出参考光30的路径和对象光50的路径。

根据本公开内容的第二实施方案，计算单元600执行步骤S10：通过在预定位置3s向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1发射再现光3来分别确定由再现光3的路径和衍射光5的路径形成的光路。即，计算单元执行以下步骤：通过在预定位置3s向其上记录有全息干涉图案的光敏材料样品1发射再现光3来确定衍射光5的路径。具体地，再现光3位于再现光的起点3s(即预定位置)，并被发射至光敏材料样品1。确定被记录在光敏材料样品1上的全息干涉图案衍射的衍射光5的路径。如上所述，计算单元执行步骤S10：通过在预定位置3s向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品1发射再现光3来分别确定由再现光3的路径和衍射光5的路径形成的光路。因此，可以确定对象光50的对应路径和参考光30的对应路径以记录全息干涉图案。因此，可以确定对象光的起点30s和参考光的起点50s。

根据本公开内容的第二实施方案，计算单元600执行步骤S30：通过将光敏材料样品1旋转来将光路3’和5’布置在二维坐标系上。即，计算单元600执行步骤S30：通过将光敏材料样品1旋转来将再现光3的路径和衍射光5的路径布置在二维坐标系上。具体地，计算单元执行步骤S30：形成再现光3的路径和衍射光5的路径与光敏材料样品1相遇的原点O，以及将由原点O、再现光3’的路径和衍射光5’的路径形成的平面布置在二维坐标系的平面上。如上所述，计算单元执行步骤S30：通过将光敏材料样品1’旋转来将由再现光3’的路径和衍射光5’的路径形成的光路布置在二维坐标系上。因此，可以简化布置在三维坐标系的空间中的再现光3的路径和衍射光5的路径。

根据本公开内容的第二实施方案，计算单元600执行步骤S50：以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路3’和5’相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径。计算单元600执行步骤S50：以为了记录实现与布置在二维坐标系上的光路3’和5’相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径。具体地，在其中在三维坐标系的空间中，分别由再现光3的路径和衍射光5的路径得出参考光的路径和对象光的路径的情况下，出现使参考光和对象光对齐的复杂问题。为了解决该问题，计算单元执行步骤S50：以为了在确定在其中发射布置在二维坐标系上的再现光3’的情况下衍射的衍射光5’之后，对应地记录第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径中的每一者。如上所述，计算单元执行步骤S50：以为了由布置在二维坐标系中的再现光3’的路径和衍射光5’的路径记录第二全息干涉图案的方式得出参考光30的路径和对象光50的路径。因此，在其中第一全息干涉图案变化的情况下，可以通过得出预定位置的步骤来改变参考光30的路径和对象光50的路径。

根据本公开内容的第二实施方案，光敏材料固定单元100可以使光敏材料10’以这样的方式旋转：光敏材料10’以与旋转布置的光敏材料样品1’相同的方式对齐。具体地，当将再现光3和衍射光5转换成二维坐标系并使光敏材料样品1’旋转时，光敏材料10’以与所述光敏材料样品相同的方式布置。因此，可以记录待记录或复制的第二全息干涉图案，并且可以实现通过发射预定再现光3’而以特定角度衍射的衍射光5’。

根据本公开内容的第二实施方案的用于记录全息干涉图案的设备还可以包括控制器800，所述控制器800连接至光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500中的每一者并且被配置成使光敏材料固定单元、参考光发射单元和对象光发射单元中的每一者以为了分别布置在预定位置的方式移动。具体地，在其中待记录的全息干涉图案变化的情况下，控制器800可以使参考光发射单元300和对象光发射单元500以为了定位在由计算单元600得出的参考光30的路径和对象光50的路径上的方式移动。此外，控制器800还可以使光敏材料固定单元100以为了使原点O定位在二维坐标系的原点的方式移动。如上所述，控制器800控制光敏材料固定单元100、参考光发射单元300和对象光发射单元500中的每一者的位置。因此，可以实现准确对齐，并且可以改善全息干涉图案的准确性。

根据本公开内容的第二实施方案，载物台单元700可以包括其上各自标记有再现光3’的路径和衍射光5’的路径的标记物900。如上所述，载物台单元700还包括其上标记有再现光3’的路径和衍射光5’的路径(即，光路)的标记物900。因此，可以确定参考光30的路径、对象光50的路径、再现光3’的路径和衍射光5’的路径。因此，可以认识这些路径之间的关系，并因此可以准确地实现待记录或复制的全息干涉图案。

以上描述了本公开内容的有限数量的实施方案。然而，本公开内容不限于这些实施方案。当然，对于本公开内容所属领域的普通技术人员明显的是，可以在本公开内容的技术构思的范围内以及在以下权利要求书中限定的本公开内容的范围及其等同范围内对本公开内容的实施方案做出各种修改和改变。

Claims (8)

1.一种记录全息干涉图案的方法，所述方法包括：

通过在预定位置向其上记录有第一全息干涉图案的光敏材料样品发射再现光来分别确定由所述再现光的路径和衍射光的路径形成的光路；

通过将所述光敏材料样品旋转来将所述光路布置在二维坐标系上；

以为了记录实现与布置在所述二维坐标系上的所述光路相同的光路的第二全息干涉图案的方式得出参考光的路径和对象光的路径，以及

提供其上将记录所述第二全息干涉图案的光敏材料，在所述参考光的路径和所述对象光的路径上分别在预定位置提供所述参考光和所述对象光，发射所述参考光和所述对象光，并由此记录所述第二全息干涉图案。

2.根据权利要求1所述的方法，其中将所述光路布置在所述二维坐标系上是为了将其中所述再现光在所述二维坐标系上与所述光敏材料样品相遇的点指定为原点。

3.根据权利要求1所述的方法，其中记录所述第二全息干涉图案是为了以这样的方式提供其上将记录所述第二全息干涉图案的所述光敏材料：所述光敏材料以与旋转布置的所述光敏材料样品相同的方式对齐。

4.一种用于记录全息干涉图案的设备，所述设备包括：

被配置成固定其上将记录实现与由记录在光敏材料样品上的第一全息干涉图案实现的光路相同的光路的第二全息干涉图案的光敏材料的光敏材料固定单元；

被配置成向所述光敏材料发射参考光的参考光发射单元；

被配置成向所述光敏材料发射对象光的对象光发射单元；

固定有分别在被布置在预定位置之后的所述光敏材料固定单元、所述参考光发射单元和所述对象光发射单元的载物台单元；以及

被配置成得出所述预定位置的计算单元，

其中由于所述参考光与所述对象光之间的干涉现象而形成的所述第二全息干涉图案被记录在所述光敏材料上。

5.根据权利要求4所述的设备，其中所述计算单元通过执行以下步骤来得出所述预定位置：

在预定位置向其上记录有所述第一全息干涉图案的所述光敏材料样品发射再现光，并由此确定由所述再现光的路径和衍射光的路径形成的光路；

通过将所述光敏材料样品旋转来将所述光路布置在二维坐标系上；以及

以为了记录实现与布置在所述二维坐标系上的所述光路相同的光路的所述第二全息干涉图案的方式得出所述参考光的路径和所述对象光的路径。

6.根据权利要求5所述的设备，其中所述光敏材料固定单元使所述光敏材料以这样的方式旋转：所述光敏材料以与旋转布置的所述光敏材料样品相同的方式对齐。

7.根据权利要求5所述的设备，还包括：

控制器，所述控制器连接至所述光敏材料固定单元、所述参考光发射单元和所述对象光发射单元中的每一者并且被配置成使所述光敏材料固定单元、所述参考光发射单元和所述对象光发射单元中的每一者以为了分别布置在所述预定位置的方式移动。

8.根据权利要求5所述的设备，其中所述载物台单元包括：

其上各自标记有所述再现光的路径和所述衍射光的路径的标记物。