WO2023190068A1 - 電磁波偏向装置及び電磁波走査装置 - Google Patents

電磁波偏向装置及び電磁波走査装置 Download PDF

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WO2023190068A1
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mirror
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Inventor
浩希 岡田
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京セラ株式会社
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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B81MICROSTRUCTURAL TECHNOLOGY
    • B81BMICROSTRUCTURAL DEVICES OR SYSTEMS, e.g. MICROMECHANICAL DEVICES
    • B81B3/00Devices comprising flexible or deformable elements, e.g. comprising elastic tongues or membranes
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B26/00Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements
    • G02B26/08Optical devices or arrangements for the control of light using movable or deformable optical elements for controlling the direction of light
    • G02B26/10Scanning systems

Definitions

  • the present disclosure relates to an electromagnetic wave deflecting device and an electromagnetic wave scanning device.
  • An electromagnetic wave deflection device includes a mirror that reflects electromagnetic waves, a first drive section, a second drive section, and a weight.
  • the first drive unit tilts the mirror using a first axis as a tilt axis.
  • the second drive unit tilts the mirror using a second axis intersecting the first axis as a tilt axis.
  • the weight is arranged on at least one of the first drive section or the second drive section such that the resonance frequency of the second drive section is different from a natural number multiple of the resonance frequency of the first drive section.
  • An electromagnetic wave scanning device includes the electromagnetic wave deflection device and an irradiation device that makes electromagnetic waves incident on the electromagnetic wave deflection device.
  • FIG. 1 is a plan view showing a configuration example of an electromagnetic wave deflection device according to an embodiment of the present disclosure.
  • FIG. 7 is a plan view showing a configuration example of an electromagnetic wave deflecting device in a case where a mirror overlaps a second driving section.
  • 3 is a sectional view taken along line AA in FIG. 2.
  • FIG. It is a top view which shows the example of a structure of an electromagnetic wave deflection device in case a weight is located around the opening of a 1st drive part. It is a top view which shows the example of a structure of an electromagnetic wave deflection device in case a 2nd drive part has several folding parts.
  • the electromagnetic wave deflection device 1 includes a substrate 40 and a mirror 30.
  • the mirror 30 has a reflective surface that reflects incident electromagnetic waves.
  • the substrate 40 includes a first drive section 10 and a second drive section 20.
  • the first drive section 10 includes a first support section 12 and a first actuator 14.
  • the second drive section 20 includes a second support section 22 and a second actuator 24.
  • the first support part 12 is located between two second support parts 22 arranged in the X-axis direction.
  • the second support section 22 supports the first support section 12 .
  • the substrate 40 has a frame-shaped outer frame portion, and the second support portion 22 is connected to this outer frame portion.
  • the substrate 40 includes an outer frame, the first support section 12 , and the second support section 22 .
  • the outer frame portion of the substrate 40, the first support portion 12, and the second support portion 22 may be formed by a manufacturing process based on MEMS (Micro Electro Mechanical Systems) technology.
  • MEMS Micro Electro Mechanical Systems
  • the X-axis direction corresponds to one of the plane directions of the substrate 40.
  • the Y-axis direction corresponds to a direction perpendicular to the X-axis direction.
  • the Z-axis direction corresponds to a direction perpendicular to the surface of the substrate 40.
  • the first support section 12 supports the mirror 30 and the mirror support section 32 that supports the mirror 30.
  • the first support portion 12 has a rectangular shape, for example, and has an opening inside thereof. In other words, the first support section 12 has a frame shape.
  • the mirror support section 32 is configured as a beam extending in the Y-axis direction within the inner opening of the first support section 12 .
  • the opening inside the first support part 12 may be square.
  • the mirror support portion 32 has an elongated beam-like shape, and its end portion is connected to one side of the inner opening of the first support portion 12 and the side opposite to the side.
  • the mirror 30 is located on the mirror support part 32 via the columnar member 32A, and is configured to be tiltable about the mirror support part 32 as an axis.
  • Mirror 30 may be formed on substrate 40 by a manufacturing process based on MEMS technology.
  • the mirror support portion 32 may be formed on the substrate 40 or integrally with the substrate 40 by a manufacturing process based on MEMS technology.
  • the mirror 30 may be supported by the two mirror supporting parts 32 on the sides forming the opening of the first supporting part 12 without using the columnar member 32A.
  • the axis along which the mirror 30 is tilted about the mirror supporter 32 is expressed as a first axis 16 extending in the Y-axis direction.
  • the first actuator 14 is located on the first support part 12.
  • the first actuators 14 may be located on both sides of the mirror support section 32 in the longitudinal direction thereof.
  • the first actuators 14 may be positioned symmetrically with respect to the longitudinal direction of the mirror support portion 32 as an axis of symmetry.
  • the first actuator 14 may be located along the edge of the inner opening of the first support 12 .
  • the first actuator 14 is configured to be expandable and retractable in the Y-axis direction.
  • the first actuator 14 may be configured as, for example, a piezoelectric element or a motor. When the first actuator 14 expands and contracts in the Y-axis direction, vibration occurs in the side portion of the first support portion 12 that forms the opening.
  • the vibration of the edge of the opening of the first support part 12 is transmitted to the mirror 30 through the mirror support part 32.
  • the vibration transmitted to the mirror 30 causes the mirror 30 to resonate on the mirror support portion 32 in a direction tilted about the first axis 16 .
  • the mirror 30 swings around the first axis 16 by resonating around the first axis 16 in a tilted direction. If electromagnetic waves are incident on the mirror 30 from the positive direction of the Z-axis, the electromagnetic waves reflected by the mirror 30 swinging around the first axis 16 are scanned in the X-axis direction.
  • the second support portion 22 may have a so-called meander shape (folded shape).
  • the second support portion 22 has a meandering shape, it includes a portion extending in the direction along the Y-axis and a folded portion.
  • the folded portion extends in the direction along the X-axis and connects the portions extending in the direction along the Y-axis.
  • the portion extending in the direction along the Y-axis may be formed longer than the folded portion.
  • the second support portion 22 connects the first support portion 12 to the outer frame portion of the substrate 40 .
  • the second support portion 22 connects one end of the side extending in the Y-axis direction and the substrate 40 .
  • the second support portion 22 is not limited to a meandering shape.
  • the second actuator 24 is located in a portion of the second support portion 22 that extends in the Y-axis direction.
  • the second actuator 24 has a shape that extends long in the Y-axis direction.
  • the second actuator 24 is configured to be expandable and retractable in the Y-axis direction.
  • the second actuator 24 may be configured as, for example, a piezoelectric element or a motor.
  • the portion of the second support portion 22 that extends in the Y-axis direction is tilted around an axis along the X-axis direction.
  • the tilt axis of the second support portion 22 is represented as a second axis 26 . It is assumed that the second axis 26 is an axis that intersects the first axis 16.
  • the first support portion 12 is tilted around the second axis 26 by tilting the portion of the second support portion 22 extending in the Y-axis direction around the second axis 26 .
  • the mirror 30 supported by the mirror support part 32 located in the inner opening of the first support part 12 can rotate around the second axis 26. tilt.
  • the inclination angle of the mirror 30 around the second axis 26 is controlled according to the amount of expansion and contraction of the second actuator 24. If electromagnetic waves are incident on the mirror 30 from the positive direction of the Z-axis, the electromagnetic waves reflected by the mirror 30 whose tilt angle is controlled around the second axis 26 are scanned in the Y-axis direction.
  • the mirror 30 swings around the first axis 16 by resonating with a resonance frequency specific to the first drive unit 10.
  • the mirror 30 deforms the second drive unit 20 by expanding and contracting the second actuator 24 to tilt the first drive unit 10 around the second axis 26, regardless of the resonance of the first drive unit 10. is tilted about the second axis 26 by.
  • the tilt angle of the mirror 30 about the second axis 26 may be controlled by the amount of expansion and contraction of the second actuator 24 .
  • the second drive unit 20 is configured to be tiltable around the second axis 26 in order to tilt the first drive unit 10 and mirror 30 supported by the second drive unit 20 around the second axis 26. Then, the second drive unit 20 swings in a tilted manner around the second axis 26 when it resonates due to the transmission of external vibrations. If the resonance frequency of the second drive unit 20 matches the resonance frequency of the first drive unit 10 or a natural number multiple thereof (1, 2, 3, etc.), the first drive unit 10 The second drive unit 20 is likely to resonate due to the vibration of the resonance frequency of the first drive unit 10 that is transmitted to the second drive unit 20 . The second drive unit 20 swings around the second axis 26 by resonating. When the second drive unit 20 resonates, the electromagnetic wave deflection device 1 cannot control the inclination angle of the second drive unit 20 around the second axis 26 by the amount of expansion and contraction of the second actuator 24 .
  • the resonant frequency of the second driving section 20 is different from a frequency that is a natural number multiple (1, 2, 3, etc.) of the resonant frequency of the first driving section 10, the first driving section 10 Even if vibrations having a resonance frequency of 2 are transmitted to the second drive unit 20, the second drive unit 20 is unlikely to resonate.
  • the resonant frequency of the second driving section 20 is a half of an odd multiple (1.5 times, 2.5 times, 3.5 times...) of the resonant frequency of the first driving section 10.
  • the vibration at the resonant frequency of the first drive section 10 is transmitted to the second drive section 20, the second drive section 20 hardly resonates.
  • the resonance frequency of the second drive section 20 is set to the resonance frequency of the first drive section 10 so that the second drive section 20 is unlikely to resonate due to the vibration of the first drive section 10. is configured to be different from a natural number multiple of .
  • the second drive unit 20 and the first drive unit 10 and mirror 30 supported by the second drive unit 20 are less likely to resonate around the second axis 26.
  • resonance at the sub-axis (second axis 26) that intersects the main axis can be reduced.
  • the mirror 30 may overlap the second drive unit 20. As shown in the cross-sectional view of FIG. 3, the mirror 30 can be tilted clockwise toward the positive direction of the X-axis and moved to the position of the mirror 30A. Further, by the second driving section 20 resonating, the second support section 22 can be displaced in the positive direction of the Z-axis and moved to the position of the second support section 22A. In this case, the mirror 30A and the second support portion 22A may collide.
  • the electromagnetic wave deflecting device 1 By configuring the electromagnetic wave deflecting device 1 so that the second drive section 20 is unlikely to resonate around the second axis 26, the mirror 30 and the second support section 22 are unlikely to collide. As a result, the reliability of the electromagnetic wave deflection device 1 can be improved.
  • the first drive unit 10 that supports the mirror 30 may be affected by resonance around the second axis 26 in the second drive unit 20.
  • the mirror 30 supported by the first drive unit 10 may vibrate around the second axis 26. If the mirror 30 oscillates about the second axis 26, controlling the tilt angle of the mirror 30 about the second axis 26 becomes difficult. Therefore, by configuring the electromagnetic wave deflection device 1 so that the second drive unit 20 is unlikely to resonate around the second axis 26, the electromagnetic wave deflection device 1 can adjust the inclination angle of the mirror 30 around the second axis 26. Easier to control. As a result, the reliability of the electromagnetic wave deflection device 1 can be improved.
  • the resonant frequency of the second drive section 20 is determined by the elastic modulus of the second support section 22 and the moment of inertia around the second axis 26.
  • the elastic modulus of the second support part 22 may be adjusted by the material of the second support part 22 or may be adjusted by the shape of the second support part 22.
  • the resonant frequency of the second drive part 20 may be adjusted by adjusting the moment of inertia of the second support part 22 about the second axis 26 .
  • the moment of inertia of the second support part 22 around the second axis 26 is determined as the sum of the products of the distance of each part of the second support part 22 from the second axis 26 and the mass of each part.
  • the electromagnetic wave deflection device 1 has a weight attached to a folded portion of the second support portion 22 remote from the second shaft 26 in order to adjust the resonance frequency of the second drive portion 20. 50.
  • the resonance frequency of the second drive unit 20 becomes lower as the mass of the weight 50 is larger or as the position of the weight 50 is farther from the second shaft 26.
  • the weight 50 When the weight 50 is installed in the second drive unit 20, it may be placed so as not to overlap the second actuator 24 in a plan view of the substrate 40. By doing so, the output of the second actuator 24 can easily tilt the first drive unit 10 and the mirror 30. As a result, the energy efficiency when tilting the mirror 30 around the second axis 26 is less likely to be reduced by the weight 50.
  • the electromagnetic wave deflection device 1 may be configured such that the resonant frequency of the second driving section 20 is lower than the resonant frequency of the first driving section 10.
  • the resonant frequency of the second drive section 20 is a value far from any frequency that is a natural number multiple of the resonant frequency of the first drive section 10. By doing so, the second drive section 20 becomes less likely to resonate. In other words, when the main axis resonates, resonance at the sub-axis intersecting the main axis can be reduced.
  • the weight 50 may be installed in the first drive unit 10.
  • the weight 50 is arranged so as to surround the opening of the first support part 12.
  • the weight 50 is not limited to such a position, and may be placed at at least a portion of the first support section 12.
  • the weight 50 may be arranged, for example, along at least one side of the opening of the first support part 12.
  • the weight 50 may be arranged along the side along the first axis 16 of the edge of the opening of the first support part 12, or may be arranged along the side intersecting the first axis 16.
  • the weights 50 may be arranged along each of two opposing sides of the opening.
  • the weights 50 may be arranged along each of the two left and right sides (sides along the first axis 16) of the opening, or along each of the two upper and lower sides (sides intersecting the first axis 16) of the opening. may be arranged along.
  • the weight 50 When the weight 50 is installed in the first drive unit 10, it may be placed so as not to overlap the first actuator 14 in a plan view of the substrate 40. Further, the weight 50 may be arranged farther from the mirror support section 32 than the first actuator 14 . By doing so, the output of the first actuator 14 can be easily transmitted to the mirror 30. As a result, the energy efficiency when vibrating the mirror 30 is less likely to be reduced by the weight 50.
  • the weight 50 may be arranged at each folded part.
  • the weights 50 may not be arranged in all the folded parts, but only in some folded parts.
  • the weight 50 may be arranged only in the folded portion close to the first drive unit 10.
  • the weight 50 may be disposed only in a folded portion of the second drive unit 20 that connects to a portion of the substrate 40 that overlaps with the mirror 30 in a plan view.
  • the weight 50 may be arranged such that the resonance frequency around the second axis 26 of the portion of the second drive unit 20 that is connected to the first drive unit 10 is different from the resonance frequency of the first drive unit 10 .
  • the first drive section 10 or the second drive section 20 can vibrate in various vibration modes.
  • the vibration modes are 1st mode (minor axis sweep), 2nd mode (another form of subaxis sweep), 3rd mode (meander alternating vibration), 4th mode (meander simultaneous vibration), and 5th mode. mode (spindle sweep), or sixth mode (another form of spindle sweep).
  • the first mode is a mode in which the second support portion 22 vibrates around the X axis using the portion connected to the outer frame of the substrate 40 as a fulcrum.
  • the second mode is a mode in which the second support portion 22 vibrates around the X-axis with a portion on the opposite side along the Y-axis from the portion connected to the outer frame of the substrate 40 as a fulcrum.
  • the tertiary mode is a mode in which the parts of the second support part 22 located on the positive and negative sides of the X-axis with the first support part 12 in between vibrate in opposite directions along the Z-axis. It is.
  • the parts of the second support part 22 located on the positive and negative sides of the X-axis with the first support part 12 in between vibrate in the same direction along the Z-axis. mode.
  • the fifth mode is a mode in which the first support section 12 vibrates so that the direction of inclination when the first support section 12 is tilted around the Y-axis coincides with the direction of inclination of the mirror 30.
  • the sixth mode is a mode in which the first support section 12 vibrates in such a manner that the direction of inclination when the first support section 12 is tilted around the Y-axis and the direction of inclination of the mirror 30 are opposite to each other.
  • the direction in which the electromagnetic wave deflecting device 1 reflects the electromagnetic waves is determined by the vibration of the mirror 30 in the first drive unit 10. Therefore, the electromagnetic wave deflection device 1 is configured such that the mirror 30 in the first drive unit 10 vibrates in a predetermined vibration mode.
  • the second drive unit 20 may vibrate in a mode that inhibits the mirror 30 from vibrating in a predetermined vibration mode. Therefore, the weight 50 may be placed on the second drive unit 20 so that the second drive unit 20 does not vibrate in a mode that inhibits the mirror 30 from vibrating in a predetermined vibration mode.
  • the fourth mode vibration resonates with the fifth mode vibration and occurs as an inhibiting mode. There is.
  • the weight 50 may be placed on the second drive unit 20 so that fourth-order mode vibration does not occur.
  • the weight 50 may be formed by thickening at least a portion of the first support portion 12 or the second support portion 22.
  • the thicker portion of the first support portion 12 or the second support portion 22 is heavier than the other portions. That is, the weight 50 may be installed as a thick part of the first support part 12 or the second support part 22.
  • the weight 50 may be configured as a separate component from the substrate 40. In this case, the weight 50 may be joined to the first support part 12 or the second support part 22.
  • the weight 50 may be provided on either one surface of the first support section 12 or the second support section 22, or may be provided on both surfaces.
  • the weight 50 can be and the mirror 30 are less likely to interfere with each other.
  • the mirror 30 may have a size that overlaps with the first actuator 14 or the second actuator 24 in the direction perpendicular to the reflective surface of the mirror 30.
  • the weight 50 may be arranged on the surface of the first drive section 10 or the second drive section 20 opposite to the side where the mirror 30 is located.
  • the electromagnetic wave deflection device 1 may be used in combination with an irradiation device that irradiates electromagnetic waves.
  • the electromagnetic waves may be incident on the mirror 30 of the electromagnetic wave deflection device 1 from the irradiation device, and may be scanned by the mirror 30 that rotates about the first axis 16 or the second axis 26 as the rotation axis.
  • a configuration in which the electromagnetic wave deflection device 1 and the irradiation device are combined is also referred to as an electromagnetic wave scanning device.
  • the irradiation device may be configured as a light source that emits various types of light such as visible light, infrared light, or ultraviolet light.
  • the irradiation device may be configured to emit various electromagnetic waves such as millimeter waves or terahertz waves.
  • descriptions such as “first” and “second” are identifiers for distinguishing the configurations.
  • the numbers in the configurations can be exchanged.
  • the first axis 16 can exchange the identifiers “first” and “second” with the second axis 26. The exchange of identifiers takes place simultaneously. Even after exchanging identifiers, the configurations are distinguished. Identifiers may be removed. Configurations with removed identifiers are distinguished by codes. The description of identifiers such as “first” and “second” in this disclosure should not be used to interpret the order of the configuration or to determine the existence of lower-numbered identifiers.
  • the X-axis, Y-axis, and Z-axis are provided for convenience of explanation, and may be interchanged with each other. Configurations according to the present disclosure have been described using a Cartesian coordinate system comprised of an X-axis, a Y-axis, and a Z-axis. The positional relationship of each component according to the present disclosure is not limited to being in an orthogonal relationship.
  • Electromagnetic wave deflection device 10 First drive section (12: first support section, 14: first actuator, 16: first axis) 20 Second drive section (22: second support section, 24: second actuator, 26: second axis) 30 Mirror (32: Mirror support part, 32A: Column member) 40 board 50 weight

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Abstract

電磁波偏向装置は、電磁波を反射するミラーと、第1駆動部と、第2駆動部と、錘とを備える。第1駆動部は、第1軸を傾斜軸としてミラーを傾斜させる。第2駆動部は、第1軸に交差する第2軸を傾斜軸としてミラーを傾斜させる。錘は、第2駆動部の共振周波数が第1駆動部の共振周波数の自然数倍と異なるように第1駆動部又は第2駆動部の少なくとも一方に配置される。

Description

電磁波偏向装置及び電磁波走査装置 関連出願へのクロスリファレンス
 本出願は、日本国特許出願2022-54373号(2022年3月29日出願)の優先権を主張するものであり、当該出願の開示全体を、ここに参照のために取り込む。
 本開示は、電磁波偏向装置及び電磁波走査装置に関する。
 ミラーを回動させるときに回転軸の位置がずれることを抑制する光偏向器が知られている(例えば、特許文献1参照)。
特開2016-9050号公報
 本開示の一実施形態に係る電磁波偏向装置は、電磁波を反射するミラーと、第1駆動部と、第2駆動部と、錘とを備える。前記第1駆動部は、第1軸を傾斜軸として前記ミラーを傾斜させる。前記第2駆動部は、前記第1軸に交差する第2軸を傾斜軸として前記ミラーを傾斜させる。前記錘は、前記第2駆動部の共振周波数が前記第1駆動部の共振周波数の自然数倍と異なるように前記第1駆動部又は前記第2駆動部の少なくとも一方に配置される。
 本開示の一実施形態に係る電磁波走査装置は、前記電磁波偏向装置と、前記電磁波偏向装置に対して電磁波を入射させる照射装置とを備える。
本開示の一実施形態に係る電磁波偏向装置の構成例を示す平面図である。 ミラーが第2駆動部に重なる場合の電磁波偏向装置の構成例を示す平面図である。 図2のA-A断面図である。 錘が第1駆動部の開口の周囲に位置する場合の電磁波偏向装置の構成例を示す平面図である。 第2駆動部が複数の折り返し部を有する場合の電磁波偏向装置の構成例を示す平面図である。
(電磁波偏向装置1の構成例)
 図1に示されるように、一実施形態に係る電磁波偏向装置1は、基板40と、ミラー30とを備える。ミラー30は入射する電磁波を反射させる反射面を有する。基板40は、第1駆動部10と、第2駆動部20とを備える。第1駆動部10は、第1支持部12と、第1アクチュエータ14とを備える。第2駆動部20は、第2支持部22と、第2アクチュエータ24とを備える。第1支持部12は、X軸方向に並んだ2つの第2支持部22の間に位置する。第2支持部22は、第1支持部12を支持する。基板40は枠状の外枠部分を有し、第2支持部22がこの外枠部分に接続されている。言い換えれば、基板40は、外枠と、第1支持部12と、第2支持部22とを備える。基板40の外枠部分、第1支持部12及び第2支持部22は、MEMS(Micro Electro Mechanical Systems)技術に基づく製造プロセスによって形成されてもよい。なお、X軸方向は、基板40の面方向の一方に対応する。Y軸方向は、X軸方向に直交する方向に対応する。Z軸方向は、基板40の面に垂直な方向に対応する。
 第1支持部12は、ミラー30と、ミラー30を支持するミラー支持部32とを支持する。第1支持部12は、例えば四角形を有しその内側に開口を有する。言い換えれば、第1支持部12は、枠形状を有する。ミラー支持部32は、第1支持部12の内側の開口の中でY軸方向に延びる梁として構成される。第1支持部12の内側の開口は、四角形であってよい。ミラー支持部32は、細長い梁状の形状を有し、その端部が第1支持部12の内側の開口の一辺と、その辺に対向する辺とに接続される。ミラー30は、柱状部材32Aを介して、ミラー支持部32の上に位置し、ミラー支持部32を軸として傾斜可能に構成される。ミラー30は、MEMS技術に基づく製造プロセスによって基板40の上に形成されてよい。ミラー支持部32は、MEMS技術に基づく製造プロセスによって基板40の上に、又は、基板40と一体に形成されてよい。ミラー30は、柱状部材32Aを介することなく、2つのミラー支持部32によって、第1支持部12の開口を形成する辺に支持されてもよい。ミラー30がミラー支持部32を軸として傾斜するときの軸は、Y軸方向に延びる第1軸16として表される。
 第1アクチュエータ14は、第1支持部12に位置する。第1アクチュエータ14は、ミラー支持部32の長手方向を挟んで両側に位置してよい。第1アクチュエータ14は、ミラー支持部32の長手方向を対称軸として対称に位置してもよい。第1アクチュエータ14は、第1支持部12の内側の開口の縁に沿って位置してよい。第1アクチュエータ14は、Y軸方向に伸縮可能に構成される。第1アクチュエータ14は、例えば圧電素子又はモータ等として構成されてよい。第1アクチュエータ14がY軸方向に伸縮することによって、第1支持部12の開口を形成する辺の部分に振動が生じる。第1支持部12の開口の縁の振動は、ミラー支持部32を通じてミラー30に伝達する。ミラー30に伝達した振動は、ミラー30をミラー支持部32の上で第1軸16を軸として傾斜する方向に共振させる。ミラー30は、第1軸16の周りで傾斜する方向に共振することによって、第1軸16の周りで揺動する。仮に電磁波がZ軸の正の方向からミラー30に入射する場合、第1軸16の周りで揺動するミラー30で反射された電磁波は、X軸方向に走査される。
 第2支持部22は、いわゆるミアンダ形状(折り返す形状)で構成されてよい。第2支持部22は、ミアンダ形状で構成される場合、Y軸に沿った方向に延びる部分と折り返す部分とを含む。折り返す部分は、X軸に沿った方向に延びて、Y軸に沿った方向に延びる部分同士を接続する。Y軸に沿った方向に延びる部分は、折り返す部分よりも長く形成されてよい。第2支持部22は、第1支持部12を基板40の外枠部分と接続する。第1支持部12がX軸方向及びY軸方向に延びる辺を有する四角形の場合、第2支持部22は、Y軸方向に延びる辺の一端と基板40とを接続する。なお、第2支持部22は、ミアンダ形状に限られない。第2アクチュエータ24は、第2支持部22のうちY軸方向に延びる部分に位置する。第2アクチュエータ24は、Y軸方向に長く延びる形状を有する。第2アクチュエータ24は、Y軸方向に伸縮可能に構成される。第2アクチュエータ24は、例えば圧電素子又はモータ等として構成されてよい。第2アクチュエータ24がY軸方向に伸縮することによって、第2支持部22のY軸方向に延びる部分がX軸方向に沿った軸の周りで傾斜する。第2支持部22の傾斜軸は、第2軸26として表される。第2軸26は、第1軸16に交差する軸であるとする。第2支持部22のY軸方向に延びる部分が第2軸26の周りで傾斜することによって、第1支持部12が第2軸26の周りで傾斜する。第1支持部12が第2軸26の周りで傾斜することによって、第1支持部12の内側の開口に位置するミラー支持部32によって支持されているミラー30は、第2軸26の周りで傾斜する。第2アクチュエータ24の伸縮量に応じて第2軸26の周りにおけるミラー30の傾斜角度が制御される。仮に電磁波がZ軸の正の方向からミラー30に入射する場合、第2軸26の周りで傾斜角度が制御されるミラー30で反射された電磁波は、Y軸方向に走査される。
 ミラー30は、第1駆動部10に固有の共振周波数で共振することによって、第1軸16の周りで揺動する。一方で、ミラー30は、第1駆動部10の共振にかかわらず、第2アクチュエータ24の伸縮によって第2駆動部20を変形させて第1駆動部10を第2軸26の周りで傾斜させることによって、第2軸26の周りで傾斜する。ミラー30の第2軸26の周りでの傾斜角度は、第2アクチュエータ24の伸縮量によって制御され得る。
 第2駆動部20は、第2駆動部20が支持する第1駆動部10及びミラー30を第2軸26の周りで傾斜させるために、第2軸26の周りで傾斜可能に構成される。そうすると、第2駆動部20は、外部からの振動の伝達によって共振した場合に第2軸26の周りで傾斜するように揺動する。仮に第2駆動部20の共振周波数が第1駆動部10の共振周波数又はその自然数倍(1倍、2倍、3倍・・・)の周波数に一致する場合、第1駆動部10から第2駆動部20に伝達する第1駆動部10の共振周波数の振動によって第2駆動部20が共振しやすい。第2駆動部20は、共振することによって第2軸26の周りで揺動する。第2駆動部20が共振した場合、電磁波偏向装置1は、第2駆動部20の第2軸26の周りの傾斜角度を、第2アクチュエータ24の伸縮量によって制御できない。
 逆に言えば、第2駆動部20の共振周波数が第1駆動部10の共振周波数の自然数倍(1倍、2倍、3倍・・・)の周波数と異なる場合、第1駆動部10の共振周波数の振動が第2駆動部20に伝達しても第2駆動部20が共振しにくい。例えば、第2駆動部20の共振周波数が第1駆動部10の共振周波数の奇数倍の半分(1.5倍、2.5倍、3.5倍・・・)の周波数である場合、第1駆動部10の共振周波数の振動が第2駆動部20に伝達したときに第2駆動部20がほとんど共振しない。
 そこで、本実施形態に係る電磁波偏向装置1は、第1駆動部10の振動によって第2駆動部20が共振しにくいように、第2駆動部20の共振周波数が第1駆動部10の共振周波数の自然数倍と異なるように構成される。この場合、第2駆動部20及び第2駆動部20が支持する第1駆動部10及びミラー30が第2軸26の周りで共振しにくくなる。つまり、ミラー30を主軸(第1軸16)で共振させる場合に、主軸に交差する副軸(第2軸26)での共振が低減され得る。
 図2に示されるように、電磁波偏向装置1の基板40の平面視(Z軸の正の方向に見た場合)において、ミラー30は第2駆動部20と重なることがある。図3の断面図に示されるように、ミラー30は、X軸の正の方向に向かって時計回り方向に傾斜してミラー30Aの位置に移動し得る。また、第2駆動部20が共振することによって、第2支持部22は、Z軸の正の方向に変位して第2支持部22Aの位置に移動し得る。この場合、ミラー30Aと第2支持部22Aとが衝突し得る。第2駆動部20が第2軸26の周りで共振しにくいように電磁波偏向装置1が構成されることによって、ミラー30と第2支持部22とが衝突しにくくなる。その結果、電磁波偏向装置1の信頼性が向上し得る。
 また、ミラー30を支持する第1駆動部10は、第2駆動部20における第2軸26の周りでの共振の影響を受け得る。第2駆動部20における第2軸26の周りでの共振が第1駆動部10に伝達した場合、第1駆動部10に支持されているミラー30が第2軸26の周りで振動し得る。ミラー30が第2軸26の周りで振動する場合、ミラー30の第2軸26の周りの傾斜角度の制御が難しくなる。そこで、第2駆動部20が第2軸26の周りで共振しにくいように電磁波偏向装置1が構成されることによって、電磁波偏向装置1は、ミラー30の第2軸26の周りの傾斜角度を制御しやすくなる。その結果、電磁波偏向装置1の信頼性が向上し得る。
 第2駆動部20の共振周波数は、第2支持部22の弾性係数と第2軸26の周りでの慣性モーメントとによって定まる。第2支持部22の弾性係数が小さいほど共振周波数は低くなる。よって、第2支持部22の弾性係数の調整によって第2駆動部20の共振周波数が調整されてもよい。第2支持部22の弾性係数は、第2支持部22の材質によって調整されてもよいし、第2支持部22の形状によって調整されてもよい。
 また、第2支持部22の第2軸26の周りの慣性モーメントが大きいほど共振周波数は低くなる。第2支持部22の第2軸26の周りの慣性モーメントの調整によって第2駆動部20の共振周波数が調整されてもよい。第2支持部22の第2軸26の周りの慣性モーメントは、第2支持部22の各部の第2軸26からの距離と各部の質量との積の総和として定まる。図1に示されるように、本実施形態に係る電磁波偏向装置1は、第2駆動部20の共振周波数を調整するために、第2支持部22の第2軸26から離れた折り返し部分に錘50を備える。第2駆動部20の共振周波数は、錘50の質量が大きいほど、又は、第2軸26から錘50の位置まで遠いほど、低くなる。
 錘50は、第2駆動部20に設置される場合、基板40の平面視において、第2アクチュエータ24に重ならないように配置されてよい。このようにすることで、第2アクチュエータ24の出力が第1駆動部10及びミラー30を傾斜させやすくなる。その結果、ミラー30を第2軸26の周りに傾斜させる際のエネルギー効率が錘50によって低下しにくい。
 電磁波偏向装置1は、第2駆動部20の共振周波数が第1駆動部10の共振周波数よりも低くなるように構成されてもよい。この場合、第2駆動部20の共振周波数は、第1駆動部10の共振周波数の自然数倍のいずれの周波数からも離れた値になる。このようにすることで、第2駆動部20が共振しにくくなる。つまり、主軸で共振させる場合に、主軸に交差する副軸での共振が低減され得る。
 図4に示されるように、錘50は、第1駆動部10に設置されてもよい。図4の例において、錘50は、第1支持部12の開口を囲むように配置されている。錘50は、このような位置に限られず、第1支持部12の少なくとも一部に配置されてよい。錘50は、例えば、第1支持部12の開口の少なくとも1辺に沿って配置されてよい。錘50は、第1支持部12の開口の縁のうち第1軸16に沿った辺に沿って配置されてもよいし、第1軸16に交差する辺に沿って配置されてもよい。錘50は、開口の対向する2辺のそれぞれに沿って配置されてもよい。錘50は、開口の左右の2辺(第1軸16に沿った辺)のそれぞれに沿って配置されてもよいし、開口の上下の2辺(第1軸16に交差する辺)のそれぞれに沿って配置されてもよい。
 錘50は、第1駆動部10に設置される場合、基板40の平面視において第1アクチュエータ14に重ならないように配置されてよい。また、錘50は、第1アクチュエータ14よりもミラー支持部32から遠くなるように配置されてよい。このようにすることで、第1アクチュエータ14の出力がミラー30に伝達しやすくなる。その結果、ミラー30を振動させる際のエネルギー効率が錘50によって低下しにくい。
 図5に示されるように、第2駆動部20が複数の折り返し部を有する場合において、錘50は、各折り返し部に配置されてもよい。錘50は、全ての折り返し部に配置されず、一部の折り返し部だけに配置されてもよい。錘50は、第1駆動部10に近い折り返し部だけに配置されてもよい。錘50は、第2駆動部20のうち基板40の平面視においてミラー30と重なる部分につながる折り返し部分だけに配置されてもよい。錘50は、第2駆動部20のうち第1駆動部10に接続する部分の第2軸26の周りの共振周波数が第1駆動部10の共振周波数と異なるように配置されてもよい。
 基板40において第1駆動部10又は第2駆動部20は、種々の振動モードで振動し得る。振動モードは、第1次モード(副軸掃引)、第2次モード(副軸掃引の別形態)、第3次モード(ミアンダ交互振動)、第4次モード(ミアンダ同時振動)、第5次モード(主軸掃引)、又は、第6次モード(主軸掃引の別形態)等であり得る。第1次モードは、第2支持部22が基板40の外枠に接続している部分を支点としてX軸の周りに振動するモードである。第2次モードは、第2支持部22が基板40の外枠に接続している部分からY軸に沿って反対側の部分を支点としてX軸の周りに振動するモードである。第3次モードは、第2支持部22の、第1支持部12を挟んでX軸の正の側と負の側とにそれぞれ位置する部分が互いにZ軸に沿った逆方向に振動するモードである。第4次モードは、第2支持部22の、第1支持部12を挟んでX軸の正の側と負の側とにそれぞれ位置する部分が両方ともZ軸に沿った同じ方向に振動するモードである。第5次モードは、第1支持部12がY軸の周りに傾斜したときの傾斜方向とミラー30の傾斜方向とが一致するように振動するモードである。第6次モードは、第1支持部12がY軸の周りに傾斜したときの傾斜方向とミラー30の傾斜方向とが互いに逆になるように振動するモードである。電磁波偏向装置1が電磁波を反射する方向は、第1駆動部10におけるミラー30の振動によって定まる。したがって、電磁波偏向装置1は、第1駆動部10においてミラー30が所定の振動モードで振動するように構成される。このとき、ミラー30が所定の振動モードで振動することを、第2駆動部20の振動が阻害しないようにすることが求められる。第2駆動部20は、ミラー30が所定の振動モードで振動することを阻害するモードで振動することがある。したがって、錘50は、ミラー30が所定の振動モードで振動することを阻害するモードで第2駆動部20が振動しないように、第2駆動部20に配置されてよい。電磁波偏向装置1が所定の振動モードとして上述した第1次モードと第5次モードとで振動する場合、第5次モードの振動に共鳴して第4次モードの振動が阻害するモードとして生じることがある。錘50は、第4次モードの振動が生じないように、第2駆動部20に配置されてよい。
 錘50は、第1支持部12又は第2支持部22の少なくとも一部を厚くすることによって形成されてもよい。第1支持部12又は第2支持部22の厚く形成した部分は、他の部分よりも重くなる。つまり、錘50は、第1支持部12又は第2支持部22の厚い部分として設置されてもよい。錘50は、基板40と別体の部品として構成されてもよい。この場合、錘50は、第1支持部12又は第2支持部22に接合されてよい。錘50は、第1支持部12又は第2支持部22のいずれか一方の面に設けられてもよいし、両方の面に設けられてもよい。ミラー30が、Z軸方向において第1アクチュエータ14又は第2アクチュエータ24に重なる大きさを有する場合、錘50を裏面(すなわち、ミラー30がある側と反対側の面)に設けることで、錘50とミラー30とが干渉しにくくなる。言い換えれば、ミラー30は、ミラー30の反射面に垂直な方向において第1アクチュエータ14又は第2アクチュエータ24に重複する大きさを有してよい。錘50は、第1駆動部10又は第2駆動部20の、ミラー30がある側と反対側の面に配置されてよい。
(電磁波走査装置)
 電磁波偏向装置1は、電磁波を照射する照射装置と組み合わせて用いられてよい。この場合、電磁波が照射装置から電磁波偏向装置1のミラー30に入射し、第1軸16又は第2軸26を回転軸として回動するミラー30によって走査されてよい。電磁波偏向装置1と照射装置とを組み合わせた構成は、電磁波走査装置とも称される。照射装置は、可視光、赤外光又は紫外光等の種々の光を射出する光源として構成されてもよい。照射装置は、ミリ波又はテラヘルツ波等の種々の電磁波を射出するように構成されてもよい。
 本開示に係る実施形態について説明する図は模式的なものである。図面上の寸法比率等は、現実のものとは必ずしも一致していない。
 本開示に係る実施形態について、諸図面及び実施例に基づき説明してきたが、当業者であれば本開示に基づき種々の変形又は改変を行うことが可能であることに注意されたい。従って、これらの変形又は改変は本開示の範囲に含まれることに留意されたい。例えば、各構成部などに含まれる機能などは論理的に矛盾しないように再配置可能であり、複数の構成部などを1つに組み合わせたり、或いは分割したりすることが可能である。本開示の範囲にはこれらも包含されるものと理解されたい。
 本開示において「第1」及び「第2」等の記載は、当該構成を区別するための識別子である。本開示における「第1」及び「第2」等の記載で区別された構成は、当該構成における番号を交換することができる。例えば、第1軸16は、第2軸26と識別子である「第1」と「第2」とを交換することができる。識別子の交換は同時に行われる。識別子の交換後も当該構成は区別される。識別子は削除してよい。識別子を削除した構成は、符号で区別される。本開示における「第1」及び「第2」等の識別子の記載のみに基づいて、当該構成の順序の解釈、小さい番号の識別子が存在することの根拠に利用してはならない。
 本開示において、X軸、Y軸、及びZ軸は、説明の便宜上設けられたものであり、互いに入れ替えられてよい。本開示に係る構成は、X軸、Y軸、及びZ軸によって構成される直交座標系を用いて説明されてきた。本開示に係る各構成の位置関係は、直交関係にあると限定されるものではない。
 1 電磁波偏向装置
 10 第1駆動部(12:第1支持部、14:第1アクチュエータ、16:第1軸)
 20 第2駆動部(22:第2支持部、24:第2アクチュエータ、26:第2軸)
 30 ミラー(32:ミラー支持部、32A:柱状部材)
 40 基板
 50 錘

Claims (7)

  1.  電磁波を反射するミラーと、
     第1軸を傾斜軸として前記ミラーを傾斜させる第1駆動部と、
     前記第1軸に交差する第2軸を傾斜軸として前記ミラーを傾斜させる第2駆動部と、
     前記第2駆動部の共振周波数が前記第1駆動部の共振周波数の自然数倍と異なるように前記第1駆動部又は前記第2駆動部の少なくとも一方に配置される錘と、
    を備える電磁波偏向装置。
  2.  前記錘は、前記第2駆動部の共振周波数が前記第1駆動部の共振周波数より低くなるように前記第1駆動部又は前記第2駆動部の少なくとも一方に配置される、
    請求項1に記載の電磁波偏向装置。
  3.  前記第1駆動部は、前記ミラーを支持する第1支持部と、前記第1支持部に配置される第1アクチュエータとを備え、
     前記錘は、前記第1アクチュエータに重ならないように前記第1支持部に配置される、
    請求項1又は2に記載の電磁波偏向装置。
  4.  前記第2駆動部は、前記第1支持部を支持する第2支持部と、前記第2支持部に配置される第2アクチュエータとを備え、
     前記錘は、前記第2アクチュエータに重ならないように前記第2支持部に配置される、
    請求項3に記載の電磁波偏向装置。
  5.  前記ミラーは、前記ミラーの反射面に垂直な方向において前記第1アクチュエータ又は前記第2アクチュエータに重複する大きさを有し、
     前記錘は、前記第1駆動部又は前記第2駆動部の、前記ミラーがある側と反対側の面に配置される、
    請求項4に記載の電磁波偏向装置。
  6.  前記錘は、前記ミラーが所定の振動モードで振動することを阻害するモードで前記第2駆動部が振動しないように前記第2駆動部に配置される、
    請求項1から5までのいずれか一項に記載の電磁波偏向装置。
  7.  請求項1から6までのいずれか一項に記載の電磁波偏向装置と、前記電磁波偏向装置に対して電磁波を入射させる照射装置とを備える、
    電磁波走査装置。
     
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