WO2023169135A1 - Dispositif de génération d'ions pour équipement d'implantation d'ions électromagnétiques carrés à tube droit - Google Patents
Dispositif de génération d'ions pour équipement d'implantation d'ions électromagnétiques carrés à tube droit Download PDFInfo
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- C23C14/00—Coating by vacuum evaporation, by sputtering or by ion implantation of the coating forming material
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Abstract
Dispositif de génération d'ions pour un équipement d'implantation d'ions électromagnétiques carrés à tube droit, qui appartient au domaine technique de l'implantation ionique. Ledit dispositif comprend un boîtier de pulvérisation cathodique d'ions (2) ayant une cavité de forme carrée de tube droit, une extrémité de la cavité de forme carrée de tube droit étant fermée, et l'autre extrémité de la cavité de forme carrée de tube droit étant une sortie d'ions (5) ; deux surfaces de montage (21) formant un certain angle inclus sont disposées à l'extrémité fermée du boîtier de pulvérisation cathodique d'ions (2) ; un ensemble d'ensembles de sources d'arc cathodique (1) est disposé sur chaque surface des deux surfaces de montage (21) ; un ensemble d'extraction d'ions (4), un dispositif d'analyse de masse (6) et un tuyau d'accélération (7) sont agencés séquentiellement sur un côté de la sortie d'ions (5) ; des particules non chargées se déplacent selon leurs propres vitesse et direction et sont déposées sur une paroi interne du boîtier de pulvérisation cathodique d'ions (2), et des ions métalliques chargés sont focalisés et accélérés sous l'action d'un champ magnétique, et passent à travers la sortie d'ions (5). Le taux d'ionisation est amélioré, et également le boîtier de pulvérisation cathodique d'ions (2) ayant la cavité en forme de carré de tube droit est de taille importante, le déplacement est court, et le taux de dépôt est considérablement amélioré.
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| PCT/CN2023/075305 WO2023169135A1 (fr) | 2022-03-07 | 2023-02-10 | Dispositif de génération d'ions pour équipement d'implantation d'ions électromagnétiques carrés à tube droit |
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Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1087128A (zh) * | 1992-11-16 | 1994-05-25 | 四川大学 | 微波等离子体源离子注入装置 |
| CN202246841U (zh) * | 2011-06-09 | 2012-05-30 | 中国科学院金属研究所 | 一种中频磁控溅射法制备纳米硅薄膜的溅射装置 |
| US9761424B1 (en) * | 2011-09-07 | 2017-09-12 | Nano-Product Engineering, LLC | Filtered cathodic arc method, apparatus and applications thereof |
| CN112831759A (zh) * | 2021-02-01 | 2021-05-25 | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 | 一种磁场辅助阴极引弧装置及镀膜方法 |
| CN114481025A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-05-13 | 温州职业技术学院 | 一种ta-C沉积镀膜方法 |
| CN114752909A (zh) * | 2022-03-07 | 2022-07-15 | 上海电子信息职业技术学院 | 一种提高离子离化率的离子注入方法 |
-
2023
- 2023-02-10 WO PCT/CN2023/075305 patent/WO2023169135A1/fr unknown
Patent Citations (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| CN1087128A (zh) * | 1992-11-16 | 1994-05-25 | 四川大学 | 微波等离子体源离子注入装置 |
| CN202246841U (zh) * | 2011-06-09 | 2012-05-30 | 中国科学院金属研究所 | 一种中频磁控溅射法制备纳米硅薄膜的溅射装置 |
| US9761424B1 (en) * | 2011-09-07 | 2017-09-12 | Nano-Product Engineering, LLC | Filtered cathodic arc method, apparatus and applications thereof |
| CN112831759A (zh) * | 2021-02-01 | 2021-05-25 | 江苏徐工工程机械研究院有限公司 | 一种磁场辅助阴极引弧装置及镀膜方法 |
| CN114481025A (zh) * | 2021-12-30 | 2022-05-13 | 温州职业技术学院 | 一种ta-C沉积镀膜方法 |
| CN114752909A (zh) * | 2022-03-07 | 2022-07-15 | 上海电子信息职业技术学院 | 一种提高离子离化率的离子注入方法 |
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